JPH0457898A - 水系洗浄剤組成物 - Google Patents

水系洗浄剤組成物

Info

Publication number
JPH0457898A
JPH0457898A JP16889890A JP16889890A JPH0457898A JP H0457898 A JPH0457898 A JP H0457898A JP 16889890 A JP16889890 A JP 16889890A JP 16889890 A JP16889890 A JP 16889890A JP H0457898 A JPH0457898 A JP H0457898A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning composition
cleaning
formulas
parts
water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP16889890A
Other languages
English (en)
Inventor
Kozo Kitazawa
北澤 宏造
Eiji Kashihara
栄二 樫原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kao Corp filed Critical Kao Corp
Priority to JP16889890A priority Critical patent/JPH0457898A/ja
Publication of JPH0457898A publication Critical patent/JPH0457898A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Detergent Compositions (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は水系洗浄剤組成物、更に詳しくは精密部品又は
その組立加工工程に使用される治工具類の固体表面に存
在する、油脂、機械油、切削油、グリース、液晶、ロジ
ン系フラックス等の汚れの除去性に優れ、かつすすぎ性
に優れた水系洗浄剤組成物に関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕従来、
精密部品、治工具類の固体表面に存在する油脂等の有機
物を主体とする汚れの除去には、ケロシン、ベンゼン、
キシレン等の炭化水素系溶剤;トリクロロエチレン、テ
トラクロロエチレン等の塩素系溶剤;トリクロロトリフ
ルオロエタン等のフロン系溶剤;オルソケイ酸ソーダや
苛性ソーダに界面活性剤やビルダーを配合した水系の洗
浄剤等が使用されている。特に電子、電気、機械等の部
品にはその高洗浄性、難燃性という特性を生かしてフロ
ン系溶剤又は塩素系溶剤が使用されている。
しかしながら、塩素系及びフロン系の溶剤を用いる洗浄
剤は、安全性、毒性、環境汚染性等に大きな問題を有し
ている。また、炭化水素系溶剤、特にベンゼン、キシレ
ン等は毒性が高く、労働安全衛生法上の有害物に指定さ
れている化合物であって、これを取り扱う作業の危険性
及び煩雑さを考慮すると、洗浄剤として用いることは好
ましくない。一方、水系洗浄剤は、溶剤系洗浄剤に比較
して危険性と毒性が低い点では好ましいが、洗浄力にお
いて数段劣っている。
そこで、近年、環境汚染が少なくかつ安全性の高い洗浄
剤として、米国特許第4.511488号明細書、同第
4.640.719号明細書、同第4.740.247
号明細書等に見られるようなリモネン、ピネン、ジペン
テン等のテルペン類が提案されている。これらリモネン
に代表されるテルペン類は、安全性と洗浄性を両立させ
得る化合物であるが、引火点が低く、使用時の設備が大
がかりとなる。又、天然物由来のために安定品質の物が
得難く、供給量に限界があり、工業用洗浄剤として実際
的ではない。
一方、洗浄後、洗浄剤が残留するとプラスチック部品等
に悪影響を与えることがあるため、洗浄後のすすぎ性も
問題となっている。
本発明の目的は、上述のような従来洗浄剤のもつ欠点を
改良した、洗浄性、安全性に優れ、かつ環境汚染がなく
、すすぎ性に優れている、精密部品又はその組立加工工
程に用いられる治工具類の固体表面に存在する油脂、機
械油、切削油、グリース、液晶、ロジン系フラックス等
の汚れ成分を除去するための水系洗浄剤組成物を提供す
ることにある。
〔課題を解決するための手段〕
斯かる実情において本発明者らは上記課題を解決すべく
鋭意研究を行った結果、水に特定のアルキレンオキサイ
ド化合物を含有させた水系洗浄剤組成物が前記条件を満
足することを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は次の成分(A)及び(B)(A) 
 次の一般式(I)、(II)及び(II[)R’−O
n”O+R’0+−rY    (I )It’−[’
00÷ll”[])−1’[])−r−Y   (H)
c式中、R1は炭素数1〜8の炭化水素残基を示し、R
2及びR3はそれぞれ炭素数2〜4のアルキレン基を示
し、Yは水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基若しく
はアシル基を示し、mは1〜7、nは0〜3、lは0〜
5、pはO〜5の整数を示す〕で表わされる化合物から
なる群より選ばれるアルキレンオキサイド化合物   
 5〜50重量%(B)  水           
50〜95重量%を含有する精密部品又は治工具類用水
系洗浄剤組成物を提供するものである。
本発明の水系洗浄剤組成物における(A)成分のアルキ
レンオキサイド化合物は前記一般式(I)、(Ir)又
は(Iff)で表わされる。
一般式(I)、(II)及び(III)中、R’は炭素
数1〜8の炭化水素残基であることが必要であるが、特
に炭素数2〜6の炭化水素残基であることが好ましい。
R’が炭化水素残基でなかった場合、フラックスや鉱油
等の有機系汚れとの親和性が低下し、またR1の炭化水
素残基の炭素数が8を超えると水に対する溶解性が悪く
なり、洗浄液自体の粘度も上昇するため精密部品等の洗
浄には不適当である。
また、山は1〜7、nはO〜3、矛はO〜5、pは0〜
5の整数であることが必要である。また、a++nは1
〜10の範囲であり、p+iは0〜10の範囲となるが
、特にm+nが2〜4の範囲であり、1+pが0〜4の
範囲のものが好ましい。
m+nが0であると水に対する溶解性が不充分であり、
またm+nが11を超えると水に対する親和性が強くな
りすぎ、有機系の汚れの洗浄性が低下する。
斯かる(A)成分のアルキレンオキサイド化合物の具体
例としては、メチルアルコール、エチルアルコール、プ
ロピルアルコール、メチルアルコール、イソブチルアル
コール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコール等の
直鎮又は分岐鎖のアルキル基を有するアルコール類;フ
ェノール、クレゾール等のフェノール類;シクロヘキサ
ノール等の脂環族のアルコール類;酢酸、プロピオン酸
、ヘキサン酸、イソオクチル酸等の直鎖又は分岐鎖のア
ルキル基を有する脂肪酸;メタアクリル酸、安息香酸等
の有機カルボン酸;エチルアミン、ジエチルアミン、ヘ
キシルアミン、ジブチルアミン、オクチルアミン、ベン
ジルアミン、シクロヘキシルアミン等の直鎮、分岐鎖、
芳香族又は脂環族の炭化水素残基を有するアミン類など
にアルキレン(エチレン、プロピレン、ブチレン)オキ
サイドを単独又は配合付加させたものが挙げられ、更に
、これらのアルキレンオキサイド付加物の末端水酸基を
アルキルクロライド等によりメチル化、エチル化又はブ
チル化したり、酢酸やプロピオン酸等でエステル化した
化合物が挙げられる。
(A)成分のアルキレンオキサイド化合物は1種を単独
で又は2種以上を組み合わせて配合することができ、洗
浄性を維持し、かつその持続性を確保する目的で本発明
の水系洗浄剤組成物中に5〜50重量%(以下、単に「
%」で示す)、好ましくは10〜40%配合される。配
合量が5%未満では洗浄性及びその持続性が充分でなく
、また50%を超えて配合してもコストバイパフォーマ
ンスの観点より有効とはいえない。
本発明の水系洗浄剤組成物には、水CB>が50〜95
%、好ましくは60〜90%配合される。
本発明の水系洗浄剤組成物には、更にアミン系化合物(
0を併用することにより、洗浄性を向上させることがで
きる。
(C)成分のアミン系化合物としては、窒素原子数が1
〜5で分子量が50〜300の範囲のものが用いられる
。分子量が50未満では得られる洗浄剤組成物の臭いが
強くなりすぎ、また、分子量が300を超えると洗浄性
改善効果が少なくなる。
斯かる(C)成分のアミン系化合物の具体例としては、
モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、トリエタ
ノールアミン、ジメチルエタノールアミン、ジブチルエ
タノールアミン、メチルジェタノールアミン等のアルカ
ノールアミン類;モルホリン、エチルモルホリン等のモ
ルホリン類;ピペラジン、トリエチルジアミン、ペンタ
メチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレン
ジアミン等が挙げられる。
これらのアミン系化合物(C)は、本発明の水系洗浄剤
組成物のp)Iを6.5〜11とする量配合するのが好
ましい。本発明の水系洗浄剤組成物のpH調整はナトリ
ウムやカリウム等のアルカリ金属やカルシウム等のアル
カリ土類金属などによっても行うことができるが、残留
時の発錆性や電気特性等を考慮すると(C)成分のアミ
ン系化合物によって行うことが好ましい。
本発明の水系洗浄剤組成物は更に(D)成分の界面活性
剤を配合することにより、更に洗浄力が増大する。
(D)成分の界面活性剤としては、アニオン性活性剤、
カチオン性活性剤、非イオン性活性剤、両イオン性活性
剤のいずれも使用することができる。
より具体的には、脂肪酸塩類、高級アルコール硫酸エス
テル塩類、液体脂肪油硫酸エステル塩類、脂肪族アミン
及び脂肪族アマイドの硫酸塩類、脂肪アルコールリン酸
エステル塩類、二塩基性脂肪酸エスルテのスルホン塩類
、脂肪酸アミドスルホン酸塩類、アルキルアリルスルホ
ン酸塩類、ホルマリン縮合のナフタリンスルホン酸塩類
等のアニオン性活性剤;脂肪族アミン塩類、第4級アン
モニウム塩類、アルキルピリジニウム塩類等のカチオン
性活性剤;ポリオキシアルキレンアルキルエ−チル類、
ポリオキシアルキレンアルキルフェノールエーテル類、
ポリオキシアルキレンアルキルアミン類、ポリオキシア
ルキレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエス
テル類ポリオキシソルビタンアルキルエステル類等の非
イオン性活性剤;あるいはアルキルベタイン、アルキル
ジメチルアミンオキサイド、アルキルアラニン等の両イ
オン性活性剤等が主だった物として挙げられる。
尚、ここでポリオキシアルキレンとはエチレンオキサイ
ド、プロピレンオキサイド又はブチレンオキサイドの重
合体を示す。これらの界面活性剤の中でも、特に平均1
1LB 4〜18の非イオン性活性剤が優れた効果を発
現する。
これら(D)成分の界面活性剤は本発明の水系洗浄剤組
成物中に0.01〜20%、特に0.5〜10%配合さ
れることが好ましい。配合量が0.01%未満では界面
活性剤を加えたことによる特別の効果は発現せず、また
配合量が20%を超えてもそれ以上添加した効果は得ら
れにくい。
また、本発明の水系洗浄剤組成物には、本発明の効果を
損わない範囲で、必要に応じて更にヒドロキシエチルイ
ミノ2酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸等のアミノカ
ルボン酸塩等のキレート力を持つ化合物や防腐剤、酸化
防止剤、防錆剤などを配合することができる。
本発明の水系洗浄剤は、精密部品及びその組立加工工程
に使用される治工具類の洗浄に特に優れた効果を有する
が、ここで精密部品とは、例えば電子部品、電機部品、
精密機械部品、樹脂加工部品、光学部品等をいう。ここ
で、電子部品とは、例えば電算機及びその周辺機器、家
電機器、通信機器、OA機器、その他電子応用機器等に
用いられるプリント配線基板;■Cリードフレーム、抵
抗器、コンデンサー リレー等接点部材に用いられるフ
ープ材;○A機器、時計、電算機器、玩具、家電機器等
に用いられる液晶表示器;映像・音声記録/再生部品、
その関連部品等に用いられる磁気記録部品;シリコンや
セラミックスのウェハ等の半導体材料;水晶振動子等の
電歪用部品;CD。
FD、複写機器、光記録機器等に用いられる光電変換部
品などをいう。電機部品とは例えばブラシ、ロータ、ス
テータ、ハウジング等の電動機部品;販売機や各種機器
に用いられる発券用部品;販売機、キャッシュデイスペ
ンサ等に用いられる貨幣検査用部品などをいう。精密機
械部品とは、例えば精密駆動機器、ビデオレコーダー等
に用いられるベアリング;超硬チップ等の加工用部品な
どをいう。樹脂加工部品とは、例えばカメラ、自動車等
に用いられる精密樹脂加工部品などをいう。更に、光学
部品としては、カメラ、眼鏡、光学機器等に用いられる
レンズがあり、また、その他部品としてメガネフレーム
、時計ケース、時計ベルト等が例示される。
本発明において、組立加工工程に使用される治工具類と
は、上述の各種部品例で示したような精密部品を製造、
成形、加工、組立、仕上げ等の各種工程において取り扱
う治具、工具の他、これらの精密部品を取り扱う各種機
器、その部品等をいう。
本発明の水系洗浄剤組成物は、特に上述のうち、フラッ
クスの残存したプリント配線基板に対し好適な性能を発
揮するが、本発明の対象となる精密部品類及び治工具類
は、これらの例に限られるものではなく、組立加工工程
において各種の加工油やフラックス等の後工程の妨害物
質、又は製品の特性を低下させる各種の油性汚染物質を
付着している一定形状の固体表面を持つ精密部品類及び
治工具類であれば、本発明水系洗浄剤組成物が適用でき
る。
これらの汚染物質が例えば油脂1、機械油、切削油、グ
リース、液晶、ロジン系フラックス等の、主として有機
油分の汚れである場合、本発明の水系洗浄剤組成物が特
に有効であり、これに金属粉、無機物粉、水分等が混入
した汚れも充分洗浄除去することができる。
本発明の水系洗浄剤組成物は、浸漬法、超音波洗浄法、
揺動法、スプレー法、蒸気洗浄法、手拭法、水置換乾燥
法等の各種の洗浄方法において使用でき、かつ好ましい
結果を得ることができる。
本発明の洗浄剤を、例えばフラックスの付着したプリン
ト配線基板の洗浄工程に用いる場合、例えば、本発明の
水系洗浄剤組成物をいれた超音波洗浄槽を用いて超音波
洗浄を行えばよい。
洗浄後は、水等により簡単に本発明水系洗浄剤組成物を
除去することができる。
〔実施例〕
以下、実施例を挙げて更に詳細に説明するが、本発明は
これらに限定されるものではない。
実施例1〜14及び比較例1〜4 表1に示す組成の洗浄剤組成物を調製し、その洗浄性及
びフラックス除去性を評価した。結果を表1に示す。
(1)洗浄性試験 70nonX 150+++mの鋼製テストピースに5
00■/m′の割合でナフテン系鉱油(40℃、350
cst)を塗布する。このテストピースを、40℃に保
った洗浄液に浸漬し、超音波で5分間洗浄した。
次いで30℃のイオン交換水に10秒浸漬し、乾燥後、
目視によりその洗浄性を評価した。
(評価基準) 洗浄性 ◎:裏表面めて清浄 ○:裏表面鉱油残着はとんどなし △:裏表面鉱油残着わずかにあり ×:表面に鉱油残着あり (2) フラックス除去性試験 ICチップを装着したプリント配線板をフラックス処理
し、続いてハンダ処理してテストピースとした。このテ
ストピースを50℃に保った洗浄液(新液:フラックス
汚れの混入していない洗浄液、劣化液:フラックス汚れ
を5%混入した洗浄液)に浸漬し、3分間超音波洗浄後
、30℃のイオン交換水でリンスし、乾燥後、プリント
配線板からのスラックスの除去性を目視で評価した。
(評価基準) ◎:フラックス残着なく、洗浄力極めて大○:フラック
ス残着がほとんどなく、洗浄力大△:フラックス残着か
わずかにあるが、洗浄力あり ×:フラックスが残着し、洗浄力に乏しい<aき) 注) (PO8)、:ポリオキシエチレン(FDP)I
、:ポリオキシプロピレン(POB) h:ポリオキシ
ブチレン nは付加モル数の平均値を示す。
〔発明の効果〕
畝上の如く、本発明の水系洗浄剤組成物は、優れた洗浄
性、耐劣化性を有すると共に安全性がよく環境汚染の心
配もないので、精密部品又はその組立加工工程に用いら
れる治工具類用の洗浄剤として有利に使用できるもので
ある。
以上

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.次の成分(A)及び(B) (A)次の一般式( I )、(II)及び(III)▲数式、
    化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 〔式中、R^1は炭素数1〜8の炭化水素残基を示し、
    R^2及びR^3はそれぞれ炭素数2〜4のアルキレン
    基を示し、Yは水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基
    若しくはアシル基を示し、mは1〜7、nは0〜3、l
    は0〜5、pは0〜5の整数を示す〕で表わされる化合
    物からなる群より選ばれるアルキレンオキサイド化合物
    5〜50重量% (B)水50〜95重量% を含有する精密部品又は治工具類用水系洗浄剤組成物。
  2. 2.R^1が、炭素数2〜6の脂肪族炭化水素残基であ
    り、m+nが2〜4、l+pが4以下である請求項1記
    載の水系洗浄剤組成物。
  3. 3.更に次の成分(C) (C)窒素原子数が1〜5で分子量が50〜300の範
    囲であるアミン系化合物 を含有する請求項1記載の水系洗浄剤組成物。
  4. 4.更に次の成分(D) (D)界面活性剤0.01〜20重量% を含有する請求項1又は2記載の水系洗浄剤組成物。
JP16889890A 1990-06-27 1990-06-27 水系洗浄剤組成物 Pending JPH0457898A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16889890A JPH0457898A (ja) 1990-06-27 1990-06-27 水系洗浄剤組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16889890A JPH0457898A (ja) 1990-06-27 1990-06-27 水系洗浄剤組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0457898A true JPH0457898A (ja) 1992-02-25

Family

ID=15876612

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16889890A Pending JPH0457898A (ja) 1990-06-27 1990-06-27 水系洗浄剤組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0457898A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0611680A (ja) * 1992-06-26 1994-01-21 Kao Corp 液晶セルの洗浄方法
JPH06228593A (ja) * 1993-02-01 1994-08-16 Kaken Tec Kk フラックス洗浄用組成物
DE4332594A1 (de) * 1993-09-21 1995-03-30 Asahi Chemical Ind Propylenglykolcyclohexylether-Derivate, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
JPH11116995A (ja) * 1997-10-17 1999-04-27 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd 工業用精密部品洗浄剤組成物および洗浄方法
JP2001507073A (ja) * 1996-12-24 2001-05-29 アドバンスド ケミカル システムズ インターナショナル,インコーポレイテッド 半導体基板から残留物をストリッピングするための1,3−ジカルボニル化合物キレート剤を含む処方物
JP2013032499A (ja) * 2011-06-30 2013-02-14 Kawaken Fine Chem Co Ltd 増泡剤及びそれを含有する洗浄剤組成物
JP2013122047A (ja) * 2011-11-11 2013-06-20 Sanyo Chem Ind Ltd 洗浄剤組成物
JP2014122331A (ja) * 2012-11-21 2014-07-03 Sanyo Chem Ind Ltd 液体洗浄剤組成物

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3886099A (en) * 1972-03-13 1975-05-27 Griffin Bros Inc Water soluble flux remover
JPS6488548A (en) * 1987-09-30 1989-04-03 Nagase Denshi Kagaku Kk Toner composition
JPH0328387A (ja) * 1989-03-13 1991-02-06 Safety Kleen Corp 洗浄組成物および洗浄方法
JPH0397792A (ja) * 1989-09-11 1991-04-23 Lion Corp 半田フラックス用液体洗浄剤
JPH03203981A (ja) * 1989-12-29 1991-09-05 Nikka Seiko Kk ウエハーの仮着用接着剤およびその洗浄剤
JPH03227400A (ja) * 1989-11-08 1991-10-08 Arakawa Chem Ind Co Ltd ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤及び洗浄方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3886099A (en) * 1972-03-13 1975-05-27 Griffin Bros Inc Water soluble flux remover
JPS6488548A (en) * 1987-09-30 1989-04-03 Nagase Denshi Kagaku Kk Toner composition
JPH0328387A (ja) * 1989-03-13 1991-02-06 Safety Kleen Corp 洗浄組成物および洗浄方法
JPH0397792A (ja) * 1989-09-11 1991-04-23 Lion Corp 半田フラックス用液体洗浄剤
JPH03227400A (ja) * 1989-11-08 1991-10-08 Arakawa Chem Ind Co Ltd ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤及び洗浄方法
JPH03203981A (ja) * 1989-12-29 1991-09-05 Nikka Seiko Kk ウエハーの仮着用接着剤およびその洗浄剤

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0611680A (ja) * 1992-06-26 1994-01-21 Kao Corp 液晶セルの洗浄方法
JPH06228593A (ja) * 1993-02-01 1994-08-16 Kaken Tec Kk フラックス洗浄用組成物
DE4332594A1 (de) * 1993-09-21 1995-03-30 Asahi Chemical Ind Propylenglykolcyclohexylether-Derivate, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
FR2710338A1 (fr) * 1993-09-21 1995-03-31 Asahi Chemical Ind Oxydes de propylèneglycol cyclohexyle, leur procédé de préparation et leur utilisation.
US5414144A (en) * 1993-09-21 1995-05-09 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Propylene glycol cyclohexyl ether derivatives, method of producing same and uses thereof
CN1043882C (zh) * 1993-09-21 1999-06-30 旭化成工业株式会社 丙二醇环己基醚衍生物及其制备方法和用途
JP2001507073A (ja) * 1996-12-24 2001-05-29 アドバンスド ケミカル システムズ インターナショナル,インコーポレイテッド 半導体基板から残留物をストリッピングするための1,3−ジカルボニル化合物キレート剤を含む処方物
JPH11116995A (ja) * 1997-10-17 1999-04-27 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd 工業用精密部品洗浄剤組成物および洗浄方法
JP2013032499A (ja) * 2011-06-30 2013-02-14 Kawaken Fine Chem Co Ltd 増泡剤及びそれを含有する洗浄剤組成物
JP2013122047A (ja) * 2011-11-11 2013-06-20 Sanyo Chem Ind Ltd 洗浄剤組成物
JP2014122331A (ja) * 2012-11-21 2014-07-03 Sanyo Chem Ind Ltd 液体洗浄剤組成物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2652298B2 (ja) 精密部品又は治工具類用洗浄剤組成物
US5853489A (en) Cleaning process
JP3229712B2 (ja) 洗浄剤組成物
JPH0457898A (ja) 水系洗浄剤組成物
JPH0457897A (ja) 洗浄剤組成物
JPH03162496A (ja) 洗浄剤組成物
JP2639733B2 (ja) 洗浄剤組成物
JP3229711B2 (ja) 洗浄剤組成物
JP2819156B2 (ja) 洗浄剤組成物
JP2610552B2 (ja) 洗浄方法
JPH0931490A (ja) 物品の洗浄方法
JP4603289B2 (ja) 硬質表面用洗浄剤組成物
JPH07195044A (ja) 洗浄方法
JP2899784B2 (ja) 洗浄剤組成物
JPH0768551B2 (ja) 洗浄剤組成物
JP2651643B2 (ja) 洗浄剤組成物
JPH09151399A (ja) 洗浄剤組成物
JPH10298587A (ja) 精密部品用又は治工具類用洗浄剤組成物
JP3294907B2 (ja) 金属洗浄方法
JP2979276B2 (ja) 洗浄剤組成物
JP2732229B2 (ja) 洗浄方法および洗浄剤
JP2878862B2 (ja) 精密部品又は治工具類用洗浄剤組成物
JP2893497B2 (ja) 精密部品又は治工具類用洗浄剤組成物
JPH09241686A (ja) 工業用脱脂洗浄剤
JPH07305093A (ja) 洗浄剤組成物