JP5556669B2 - ジオキサン構造を有するグリコール化合物及びその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、ジオキサン構造を有するグリコール化合物及びその製造方法に関し、詳しくは、合成樹脂、合成樹脂用添加剤、医薬品、化粧品、食品添加物及び界面活性剤等の原料及び中間体として有用なグリコール化合物、並びに当該化合物を製造する方法に関する。
ジオキサン構造を有するグリコール化合物は、創薬のためのコンビナトリアル合成用中間体等として知られる。特許文献1には、p−アニスアルデヒドとペンタエリスリトールとの縮合により得られるグリコール化合物が、コンビナトリアル合成に使用される基材(タグ)の中間体として開示されている。ジオキサン構造を有するグリコール化合物は、各樹脂への接着性や耐候性、適度な耐熱性等に優れることから、各種合成樹脂原料等として有用である(例えば、特許文献2を参照)。
特許文献1に記載されているp−アニスアルデヒドとペンタエリスリトールとの縮合により得られるグリコール化合物は、コンビナトリアル合成の用途としては、溶解性、反応性、耐熱性等の点で用途が限られることがある。
本発明の課題は、合成樹脂、合成樹脂用添加剤、医薬品、化粧品、食品添加物及び界面活性剤等の原料及び中間体として有用なグリコール化合物、並びに当該化合物を製造する方法を提供することにある。
本発明の課題は、合成樹脂、合成樹脂用添加剤、医薬品、化粧品、食品添加物及び界面活性剤等の原料及び中間体として有用なグリコール化合物、並びに当該化合物を製造する方法を提供することにある。
本発明のグリコール化合物は、合成樹脂、合成樹脂用添加剤、医薬品、化粧品、食品添加物及び界面活性剤等の原料及び中間体として好適に利用できる。特に、本発明のグリコール化合物をポリエステル樹脂の原料として利用することで、成形性及び耐熱性に優れ、アッベ数が低くかつ高屈折率であるポリエステル樹脂を得ることができる。また、本発明のグリコール化合物を原料又は中間体として利用することで、バラエティに富んだ医薬品、化粧品、食品添加物及び界面活性剤等を製造することができる。
前記一般式(1)中、Rは、炭素数1〜12のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数6〜10のアリール基、又はハロゲン原子を表す。
本発明におけるアルキル基は、炭素数1〜12、好ましくは炭素数1〜9、より好ましくは炭素数1〜4の直鎖、分岐又は環状アルキル基であり、具体例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、シクロヘキシル基、プロピルシクロヘキシル基等が挙げられる。本発明におけるアリール基は、置換もしくは無置換の炭素数6〜10、好ましくは6〜8のアリール基であり、具体例としてはフェニル基、ヨードフェニル基、ジヒドロキシフェニル基、メトキシヒドロキシフェニル基、エトキシヒドロキシフェニル基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。Rとしては、原料の入手性の観点から、特にイソプロピル基、又はフェニル基が好ましい。
前記一般式(1)中、nは1〜4の整数を表す。nが2〜4の整数を表す場合、複数のRは、互いに同一でも異なっていてもよいが同一であることがより好ましい。nは、原料の入手性の観点から、1であることが好ましい。
本発明におけるアルキル基は、炭素数1〜12、好ましくは炭素数1〜9、より好ましくは炭素数1〜4の直鎖、分岐又は環状アルキル基であり、具体例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、シクロヘキシル基、プロピルシクロヘキシル基等が挙げられる。本発明におけるアリール基は、置換もしくは無置換の炭素数6〜10、好ましくは6〜8のアリール基であり、具体例としてはフェニル基、ヨードフェニル基、ジヒドロキシフェニル基、メトキシヒドロキシフェニル基、エトキシヒドロキシフェニル基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。Rとしては、原料の入手性の観点から、特にイソプロピル基、又はフェニル基が好ましい。
前記一般式(1)中、nは1〜4の整数を表す。nが2〜4の整数を表す場合、複数のRは、互いに同一でも異なっていてもよいが同一であることがより好ましい。nは、原料の入手性の観点から、1であることが好ましい。
前記一般式(1)で表されるグリコール化合物は、下記式(2)で表されるグリコール化合物、すなわち2−(ビフェニル−4−イル)−5,5−ジ(ヒドロキシメチル)−1,3−ジオキサンであることが好ましい。また、下記式(3)で表されるグリコール化合物、すなわち2−(イソプロピルフェニル−4−イル)−5,5−ジ(ヒドロキシメチル)−1,3−ジオキサンであることが好ましい。
前記一般式(1)で表されるグリコール化合物の製造方法は特に限定されないが、下記一般式(A)で表される芳香族アルデヒド1モルに対し、ペンタエリスリトールを1〜5モルを反応させることにより製造する方法が好ましい。
前記一般式(A)で表される芳香族アルデヒド1モルに対しペンタエリスリトール1モル未満で脱水反応を行うと、下記一般式(4)で表される化合物が副生成物として生成する。この副生成物は、ペンタエリスリトール1モルに対して前記一般式(A)で表される芳香族アルデヒドが2モル縮合した化合物である。この副生成物は、本発明のグリコール化合物を各種樹脂等に使用する場合に各種樹脂等の各種物性に影響を及ぼすことがあるため、低減することが望まれる。
本発明のグリコール化合物の製造方法では、前記一般式(A)で表される芳香族アルデヒド1モルに対して、ペンタエリスリトールは1〜5モル、好ましくは1.05〜5モル、より好ましくは1.3〜2モルを反応させることにより、前記一般式(4)で表される化合物の生成を著しく低減でき、生産効率を向上させることができる。
本発明のグリコール化合物の製造方法において、反応温度は、好ましくは20〜200℃、より好ましくは100〜180℃、特に好ましくは120〜160℃である。上記範囲温度で製造することにより目的化合物が効率よく製造できる。
本発明のグリコール化合物の製造方法では、ペンタエリスリトールの有機溶剤溶液に酸触媒下で前記芳香族アルデヒドを滴下して反応させることが好ましい。このことにより前記一般式(4)で表される化合物の生成を著しく低減でき、生産効率を向上させることができる。また、反応後、酸触媒下で溶媒中の水を留去することが好ましい。
本発明に使用できる触媒としては、塩酸、硫酸、リン酸、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の酸触媒を使用することが好ましく、パラトルエンスルホン酸が特に好ましい。また、使用する酸触媒量は芳香族アルデヒドに対して0.1〜30質量%が好ましく、特に好ましくは1〜20質量%である。
本発明に使用される反応溶媒は限定されないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、アニソール等の芳香族炭化水素系溶剤;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン等のエーテル系溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒等が挙げられる。特にトルエン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドが好ましい。
本発明のグリコール化合物は、ポリエステル樹脂の原料として利用することができる。例えば、本発明のグリコール化合物を用いて、エチレングリコール及び前記一般式(1)で表されるグリコール化合物に由来するジオール単位と芳香族ジカルボン酸単位とを含み、かつ、全ジオール単位中の40〜99モル%がエチレングリコールに由来する単位であり、全ジオール単位中の1〜60モル%が前記一般式(1)で表されるグリコール化合物に由来する単位であるポリエステル樹脂を製造することができる。当該ポリエステル樹脂は、結晶性が低く、成形性に優れ、アッベ数が低くかつ高屈折率である。このポリエステル樹脂は、射出成形可能であり、成形時に白化せず透明な成形体を得ることができ、また、アッベ数が低くかつ高屈折率であるため、収差補正用レンズの材料として好適に用いることができる。
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
実施例1
[2−(ビフェニル−4−イル)−5,5−ジ(ヒドロキシメチル)−1,3−ジオキサン(以下、MPBPという)の合成]
5000mlフラスコ内にジメチルアセトアミド(以下DMAcと称する、和光純薬工業(株)製、特級)2000ml、トルエン(和光純薬工業(株)製、特級)700ml、ペンタエリスリトール(和光純薬工業(株)製、特級)200g(1.47mol)、パラトルエンスルホン酸二水和物(和光純薬工業(株)製、特級)20gを投入し、100℃で撹拌した。その後、4−ビフェニルアルデヒド(和光純薬工業(株)製、特級)134g(0.74mol)のトルエン700ml溶液を滴下し、145℃まで昇温した。水を含有する留出液を分離し、反応時間5時間で反応を終了した。反応液に水5L投入したところ白色結晶が析出した。濾過水洗後、濃縮することにより白色結晶(収率:98%)を得た。
得られた生成物について1H−NMRスペクトルを測定した。測定には、NMR装置(Hitachi社製、商品名:R−90H)を用い、内部標準物質としてテトラメチルシラン(以下、TMSと称する。)を用いた。得られた生成物の重ジメチルスルホキシド(以下、重DMSOと称する、和光純薬工業(株)製、特級)溶媒中での1H−NMRのケミカルシフト値(δppm,TMS基準)は、3.2−3.4(d,4H)、3.6−4.1(m,4H)、4.4−4.7(q,2H)、5.5(s,1H)、7.3−7.8(m,9H)であり、MPBPであることを同定した。
[2−(ビフェニル−4−イル)−5,5−ジ(ヒドロキシメチル)−1,3−ジオキサン(以下、MPBPという)の合成]
得られた生成物について1H−NMRスペクトルを測定した。測定には、NMR装置(Hitachi社製、商品名:R−90H)を用い、内部標準物質としてテトラメチルシラン(以下、TMSと称する。)を用いた。得られた生成物の重ジメチルスルホキシド(以下、重DMSOと称する、和光純薬工業(株)製、特級)溶媒中での1H−NMRのケミカルシフト値(δppm,TMS基準)は、3.2−3.4(d,4H)、3.6−4.1(m,4H)、4.4−4.7(q,2H)、5.5(s,1H)、7.3−7.8(m,9H)であり、MPBPであることを同定した。
実施例2
[2−(イソプロピルフェニル−4−イル)−5,5−ジ(ヒドロキシメチル)−1,3−ジオキサンの合成]
4−ビフェニルアルデヒドをクミルアルデヒドに変更したこと以外は実施例1と同様にして合成及び分析を行った。収率は98%であった。得られた生成物の重DMSO溶媒中での1H−NMRのケミカルシフト値(δppm,TMS基準)は、1.2(d,6H)、2.9−3.0(m,1H)、3.4−3.5(s,4H)、3.6−3.8(dd,4H)、4.7(s,2H)、5.9(s,1H)、7.2−7.5(m,4H)であった。
[2−(イソプロピルフェニル−4−イル)−5,5−ジ(ヒドロキシメチル)−1,3−ジオキサンの合成]
実施例3
[2−(シクロヘキシルフェニル−4−イル)−5,5−ジ(ヒドロキシメチル)−1,3−ジオキサンの合成]
4−ビフェニルアルデヒドを4−シクロヘキシルベンズアルデヒドに変更したこと以外は実施例1と同様にして合成及び分析を行った。収率は89%であった。得られた生成物の重DMSO溶媒中での1H−NMRのケミカルシフト値(δppm,TMS基準)は、1.3−1.9(m,10H)、2.7−2.8(m、1H)、3.4−3.5(s,4H)、3.6−3.8(dd,4H)、4.7(s,2H)、5.9(s,1H)、7.2−7.5(m,4H)であった。
[2−(シクロヘキシルフェニル−4−イル)−5,5−ジ(ヒドロキシメチル)−1,3−ジオキサンの合成]
実施例4
[2−(ビフェニル−4−イル)−5,5−ジ(ヒドロキシメチル)−1,3−ジオキサンの合成(別法)]
ペンタエリスリトールの添加量を100g(0.74mol)に変更したこと以外は実施例1と同様にして合成及び分析を行った。その結果、白色結晶(収率:83%)を得た。1H−NMRのケミカルシフト値より、本実施例で得られた化合物が実施例1で得られた化合物と同じ化合物であることが同定された。
[2−(ビフェニル−4−イル)−5,5−ジ(ヒドロキシメチル)−1,3−ジオキサンの合成(別法)]
ペンタエリスリトールの添加量を100g(0.74mol)に変更したこと以外は実施例1と同様にして合成及び分析を行った。その結果、白色結晶(収率:83%)を得た。1H−NMRのケミカルシフト値より、本実施例で得られた化合物が実施例1で得られた化合物と同じ化合物であることが同定された。
実施例5
[2−(ビフェニル−4−イル)−5,5−ジ(ヒドロキシメチル)−1,3−ジオキサンの合成(別法)(一括仕込み方法)]
5000mlフラスコ内にDMAc2000ml、トルエン1400ml、ペンタエリスリトール200g(1.47mol)、ビフェニルアルデヒド134g(0.74mol)、パラトルエンスルホン酸二水和物20gを投入し、100℃で撹拌した。その後、145℃まで昇温した。水を含有する留出液を分離し、反応時間5時間で反応を終了した。反応液に水5L投入したところ白色結晶が析出した。濾過水洗後、濃縮することにより白色結晶(収率:90%)を得た。1H−NMRのケミカルシフト値より、本実施例で得られた化合物が実施例1で得られた化合物と同じ化合物であることが同定された。
[2−(ビフェニル−4−イル)−5,5−ジ(ヒドロキシメチル)−1,3−ジオキサンの合成(別法)(一括仕込み方法)]
5000mlフラスコ内にDMAc2000ml、トルエン1400ml、ペンタエリスリトール200g(1.47mol)、ビフェニルアルデヒド134g(0.74mol)、パラトルエンスルホン酸二水和物20gを投入し、100℃で撹拌した。その後、145℃まで昇温した。水を含有する留出液を分離し、反応時間5時間で反応を終了した。反応液に水5L投入したところ白色結晶が析出した。濾過水洗後、濃縮することにより白色結晶(収率:90%)を得た。1H−NMRのケミカルシフト値より、本実施例で得られた化合物が実施例1で得られた化合物と同じ化合物であることが同定された。
実施例6
[ポリエステル樹脂の製造]
実施例1で得られたグリコール化合物(MPBP)を用いてポリエステル樹脂の製造を行った。
加熱装置、撹拌翼、分縮器、トラップ、温度計及び窒素ガス導入管を備えたガラス製フラスコに、表1に記載された種類及び量の原料モノマーを仕込み、ジカルボン酸成分に対し酢酸マンガン四水和物0.03モル%の存在下、窒素雰囲気下で215℃まで昇温してエステル交換反応を行った。ジカルボン酸成分の反応転化率を90%以上とした後、ジカルボン酸成分100モル%に対して、酸化アンチモン(III)0.02モル%及びリン酸トリエチル0.06モル%を加え、昇温と減圧を徐々に行い、最終的に250〜270℃、0.1kPa以下で重縮合を行った。適度な溶融粘度となった時点で反応を終了し、ポリエステル樹脂を回収した。
[ポリエステル樹脂の製造]
実施例1で得られたグリコール化合物(MPBP)を用いてポリエステル樹脂の製造を行った。
加熱装置、撹拌翼、分縮器、トラップ、温度計及び窒素ガス導入管を備えたガラス製フラスコに、表1に記載された種類及び量の原料モノマーを仕込み、ジカルボン酸成分に対し酢酸マンガン四水和物0.03モル%の存在下、窒素雰囲気下で215℃まで昇温してエステル交換反応を行った。ジカルボン酸成分の反応転化率を90%以上とした後、ジカルボン酸成分100モル%に対して、酸化アンチモン(III)0.02モル%及びリン酸トリエチル0.06モル%を加え、昇温と減圧を徐々に行い、最終的に250〜270℃、0.1kPa以下で重縮合を行った。適度な溶融粘度となった時点で反応を終了し、ポリエステル樹脂を回収した。
比較例1及び2
(ポリエステル樹脂の製造)
充填塔式精留塔、分縮器、全縮器、コールドトラップ、撹拌機、加熱装置及び窒素導入管を備えたポリエステル製造装置に、表1に記載された種類及び量の原料モノマーを仕込み、ジカルボン酸成分に対し酢酸マンガン四水和物0.03モル%の存在下、窒素雰囲気下で215℃まで昇温してエステル交換反応を行った。ジカルボン酸成分の反応転化率を90%以上とした後、ジカルボン酸成分100モル%に対して、酸化アンチモン(III)0.02モル%及びリン酸トリエチル0.06モル%を加え、昇温と減圧を徐々に行い、最終的に250〜270℃、0.1kPa以下で重縮合を行った。適度な溶融粘度となった時点で反応を終了し、ポリエステル樹脂を回収した。
(ポリエステル樹脂の製造)
充填塔式精留塔、分縮器、全縮器、コールドトラップ、撹拌機、加熱装置及び窒素導入管を備えたポリエステル製造装置に、表1に記載された種類及び量の原料モノマーを仕込み、ジカルボン酸成分に対し酢酸マンガン四水和物0.03モル%の存在下、窒素雰囲気下で215℃まで昇温してエステル交換反応を行った。ジカルボン酸成分の反応転化率を90%以上とした後、ジカルボン酸成分100モル%に対して、酸化アンチモン(III)0.02モル%及びリン酸トリエチル0.06モル%を加え、昇温と減圧を徐々に行い、最終的に250〜270℃、0.1kPa以下で重縮合を行った。適度な溶融粘度となった時点で反応を終了し、ポリエステル樹脂を回収した。
(光学レンズの作製)
実施例6並びに比較例1及び2で得られたポリエステル樹脂を、樹脂のガラス転移温度より20℃低い温度で10時間真空乾燥した後、射出成型機(住友重機械工業(株)製、商品名:SH50)にて、シリンダー温度260℃、金型温度を樹脂のガラス転移温度より35℃低い温度に設定して射出成形することで、直径が28mm、両凸面の曲率半径が20mmの両凸レンズを得た。
実施例6並びに比較例1及び2で得られたポリエステル樹脂を、樹脂のガラス転移温度より20℃低い温度で10時間真空乾燥した後、射出成型機(住友重機械工業(株)製、商品名:SH50)にて、シリンダー温度260℃、金型温度を樹脂のガラス転移温度より35℃低い温度に設定して射出成形することで、直径が28mm、両凸面の曲率半径が20mmの両凸レンズを得た。
実施例6並びに比較例1及び2で得られたポリエステル樹脂の組成及び物性について以下の方法で測定した。また、実施例6並びに比較例1及び2で得られたレンズについて以下の方法で評価した。結果を表2に示す。
<ポリエステル樹脂の組成及び物性の測定方法>
(1)樹脂組成
ポリエステル樹脂中のジオール単位及びジカルボン酸単位の割合は、1H−NMR測定にて算出した。測定は、NMR装置(日本電子(株)製、商品名:JNM−AL400)を用い、400MHzで行った。溶媒には重クロロホルムを用いた。
(1)樹脂組成
ポリエステル樹脂中のジオール単位及びジカルボン酸単位の割合は、1H−NMR測定にて算出した。測定は、NMR装置(日本電子(株)製、商品名:JNM−AL400)を用い、400MHzで行った。溶媒には重クロロホルムを用いた。
(2)ガラス転移温度(Tg)
ポリエステル樹脂のガラス転移温度は、示差走査熱量計((株)島津製作所製、商品名:DSC/TA−60WS)を使用して測定した。ポリエステル樹脂約10mgをアルミニウム製非密封容器に入れ、窒素ガス(30ml/min)気流中、昇温速度20℃/minで280℃まで加熱、溶融したものを急冷して測定用試料とした。該試料を同条件で測定し、JIS規格K7121に基づき中間点ガラス転移温度を算出した。
ポリエステル樹脂のガラス転移温度は、示差走査熱量計((株)島津製作所製、商品名:DSC/TA−60WS)を使用して測定した。ポリエステル樹脂約10mgをアルミニウム製非密封容器に入れ、窒素ガス(30ml/min)気流中、昇温速度20℃/minで280℃まで加熱、溶融したものを急冷して測定用試料とした。該試料を同条件で測定し、JIS規格K7121に基づき中間点ガラス転移温度を算出した。
(3)極限粘度(IV)
ポリエステル樹脂の極限粘度は、毛細管粘度計自動測定装置((株)柴山科学器械製作所製、商品名:SS−300−L1)を使用して25℃で測定した。ポリエステル樹脂0.5gをフェノール/1,1,2,2−テトラクロロエタンの混合溶媒(質量比=6:4)120gに加熱溶解し、濾過後、25℃まで冷却して測定用試料を調製した。
ポリエステル樹脂の極限粘度は、毛細管粘度計自動測定装置((株)柴山科学器械製作所製、商品名:SS−300−L1)を使用して25℃で測定した。ポリエステル樹脂0.5gをフェノール/1,1,2,2−テトラクロロエタンの混合溶媒(質量比=6:4)120gに加熱溶解し、濾過後、25℃まで冷却して測定用試料を調製した。
(4)屈折率及びアッベ数
ポリエステル樹脂の屈折率及びアッベ数は、アッベ屈折計((株)アタゴ製、商品名:NAR−4T)を用いて25℃で測定した。ポリエステル樹脂を、樹脂のガラス転移温度より約20℃低い温度で10時間真空乾燥した後、射出成型機(住友重機械工業(株)製、商品名:SH50)にて、シリンダー温度280℃、金型温度を樹脂のガラス転移温度より20〜50℃低い温度として射出成形し、直角を挟む二辺の長さがそれぞれ20mmの直角二等辺三角形(3mm厚)に成形した。この成形片を樹脂のガラス転移温度より約20℃低い温度のオーブンで10時間アニール処理したものを測定用試料とした。屈折率は、589nm(d線)で測定した。アッベ数は、656nm(C線)、486nm(F線)、及びd線で測定した屈折率から算出した。
ポリエステル樹脂の屈折率及びアッベ数は、アッベ屈折計((株)アタゴ製、商品名:NAR−4T)を用いて25℃で測定した。ポリエステル樹脂を、樹脂のガラス転移温度より約20℃低い温度で10時間真空乾燥した後、射出成型機(住友重機械工業(株)製、商品名:SH50)にて、シリンダー温度280℃、金型温度を樹脂のガラス転移温度より20〜50℃低い温度として射出成形し、直角を挟む二辺の長さがそれぞれ20mmの直角二等辺三角形(3mm厚)に成形した。この成形片を樹脂のガラス転移温度より約20℃低い温度のオーブンで10時間アニール処理したものを測定用試料とした。屈折率は、589nm(d線)で測定した。アッベ数は、656nm(C線)、486nm(F線)、及びd線で測定した屈折率から算出した。
(5)メルトマスフローレート(MFR)
ポリエステル樹脂のメルトマスフローレートは、メルトインデクサー((株)東洋精機製作所製、商品名:C−5059D)を使用して測定した。測定温度260℃、荷重2.16kgfの条件下でJIS規格K7210に基づき測定を行った。
ポリエステル樹脂のメルトマスフローレートは、メルトインデクサー((株)東洋精機製作所製、商品名:C−5059D)を使用して測定した。測定温度260℃、荷重2.16kgfの条件下でJIS規格K7210に基づき測定を行った。
<光学レンズの評価方法>
(6)外観評価
光学レンズの外観を目視観察し、透明性及びヒケ・ソリ等の歪みの有無について評価した。
(6)外観評価
光学レンズの外観を目視観察し、透明性及びヒケ・ソリ等の歪みの有無について評価した。
実施例1のグリコール化合物を用いて製造した実施例6のポリエステル樹脂は、比較例1及び2のポリエステル樹脂(PEN及びPET)に比べて、極限粘度が低くかつメルトマスフローレートが高く射出成形性に優れ、アッベ数が低くかつ高屈折率であった。この実施例6のポリエステル樹脂を射出成形して得た光学レンズは、比較例1及び2のポリエステル樹脂に比べて、透明性に優れ、ヒケやソリによる歪みが生じることがなく、しかもアッベ数が低くかつ高屈折率であるため収差補正用レンズとして優れるものであった。
また、実施例6のポリエステル樹脂のガラス転移温度は、単独のPEN(比較例1)より若干低下しているものの単独のPET(比較例2)よりは十分に高い。通常、PETやPENの結晶性を改善しようとすると、ガラス転移温度が低下するため耐熱性が低下してしまう。これに対し、本発明のグリコール化合物を用いることで、成形材料として十分な低結晶性及び成形性を保持しつつ、かつ単独のPET以上、PENと同等程度のガラス転移温度を有するポリエステル樹脂を得ることができる。
なお、実施例6において実施例1のグリコール化合物を実施例2又は3のグリコール化合物に変更したこと以外は上記と同様にしてポリエステル樹脂及び光学レンズを製造したところ、実施例6のポリエステル樹脂及び光学レンズと同様に優れた性質を示した。
また、実施例6のポリエステル樹脂のガラス転移温度は、単独のPEN(比較例1)より若干低下しているものの単独のPET(比較例2)よりは十分に高い。通常、PETやPENの結晶性を改善しようとすると、ガラス転移温度が低下するため耐熱性が低下してしまう。これに対し、本発明のグリコール化合物を用いることで、成形材料として十分な低結晶性及び成形性を保持しつつ、かつ単独のPET以上、PENと同等程度のガラス転移温度を有するポリエステル樹脂を得ることができる。
なお、実施例6において実施例1のグリコール化合物を実施例2又は3のグリコール化合物に変更したこと以外は上記と同様にしてポリエステル樹脂及び光学レンズを製造したところ、実施例6のポリエステル樹脂及び光学レンズと同様に優れた性質を示した。
本発明のグリコール化合物は、合成樹脂、合成樹脂用添加剤、医薬品、化粧品、食品添加物及び界面活性剤等の原料及び中間体として好適に利用でき、工業的価値が高い。特に、本発明のグリコール化合物をポリエステル樹脂の原料として利用することで、成形性に優れ、アッベ数が低くかつ高屈折率であるポリエステル樹脂を得ることができる。このポリエステル樹脂は、収差補正用レンズの材料として好適に用いることができる。また、従来のグリコール化合物がコンビナトリアル合成における原料又は中間体として利用できない場合であっても、本発明のグリコール化合物を原料又は中間体として利用することができ、種々の医薬品、化粧品、食品添加物及び界面活性剤等を製造することができ、技術を豊富化することができる。
Claims (5)
- 前記ペンタエリスリトールの有機溶剤溶液に酸触媒下で前記芳香族アルデヒドを滴下させて反応させる、請求項4に記載のグリコール化合物の製造方法。
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