JP3498739B2 - 光触媒体の形成方法および光触媒物質の製造方法 - Google Patents

光触媒体の形成方法および光触媒物質の製造方法

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良司 旭
健史 大脇
康訓 多賀
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Description

【発明の詳細な説明】 【技術分野】
【0001】本発明は、紫外光のみならず可視光の照射
によっても光触媒活性を発現することができる光触媒体
の形成方法および光触媒物質の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】従来より、光触媒作用を発現する材料とし
て、TiO2(二酸化チタン),CdS(硫化カドミニウ
ム),WO3(三酸化タングステン),ZnO(酸化亜
鉛)等、数多くのものが知られている。これらの光触媒
材料は半導体であり、光を吸収して電子と正孔を生成
し、種々の化学反応や殺菌作用を呈する。ここで、現在
まで、光触媒として実用化されているものは、酸化チタ
ンのみである。これは、酸化チタンは、毒性がなく、ま
た水や酸に対する安定性の観点から優れているからであ
る。
【0003】ところが、この酸化チタン光触媒の動作光
は、酸化チタンのバンドギャップ(Eg=3.2eV)
の値から、波長λ<380nmの紫外線に限られてい
る。しかし、屋内での使用や触媒活性の向上といった観
点から、波長380nm以上の可視光照射によっても触
媒活性を発現する材料の開発が強く望まれている。
【0004】例えば、特開平9−262482号では、
触媒活性の高いアナターゼ型酸化チタンにCr(クロ
ム),V(バナジウム)等の金属元素をイオン注入して材
料改質を行うことにより、酸化チタンの光吸収端を長波
長側にシフトさせ、可視光での酸化チタン触媒の動作を
可能にしている。なお、Cr,V等のドーピングについ
ては、1970年代前半から数多くの報告があるが、こ
れらの報告例では可視光での動作が可能になっても、本
来の酸化チタンの性能は大幅に低下してしまう。
【発明の開示】 【発明が解決しようとする課題】
【0005】一方、特開平9−262482号は、C
r,V等のドーピングの手法を特別なものとすること
で、酸化チタン本来の性能はそのままに可視光における
動作を可能としたものである。
【0006】このように、上記従来例では、酸化チタン
に金属元素をイオン注入するという手法で、酸化チタン
光触媒の可視光における動作を可能としている。しか
し、金属イオン注入は、高価であるという問題点があ
る。そこで、その他の方法、すなわち溶液中合成した
り、またはスパッタリングのような手法で酸化チタン光
触媒を合成したいという要求がある。ところが、このよ
うな方法で作製した場合には、可視光での動作が可能と
ならない。これは、結晶化過程においてドーパントであ
るCrが凝集してしまったり、あるいはCr2O3等の酸
化物を形成してしまうものと考えられている。このよう
に、従来例においては、金属元素を用い酸化チタンを可
視光における動作を可能とするためには、金属元素のイ
オン注入という手段を採用しなければならない。この方
法には、高価で大規模な装置が必要となり、製造コスト
が非常にかかるという問題点がある。また、3価元素を
ドーピングすることにより、可視光動作の実現をめざし
た技術がある。しかしこれでは、これらの元素のドーピ
ングの、最適な状態が実現できていないという問題点が
ある。
【0007】なお、本件出願の2つの優先権主張の日よ
り後に公開された特開2000−140636号では、
酸化チタンに3価の元素をドーピングする光触媒体の形
成方法が開示され、3価の元素として、アルミニウム、
ホウ素、窒素のうちいずれか1つを用いることが記載さ
れている。この公報の実施例では、酸化チタンと酸化チ
タンの窒素ドープ体とを多層に積層した粉末体におい
て、昼色光蛍光灯より光を照射したとき、酸化チタン粉
末よりも効率的にアセトアルデヒドを分解できることが
示されている。しかし、この公報における3価の元素を
ドーピングした酸化チタンは単に窒素を無意図的にドー
ピング、すなわち混入させたに過ぎず、可視光での光触
媒活性を最大限に引き出せる構成とはなっていない。ま
た、この公報の昼光色蛍光灯を用いた実施例では昼光色
蛍光灯が放射する弱い紫外線の影響が含まれている。こ
のように昼光色蛍光灯を用いる実験方法の場合、触媒体
の構造変化に伴い紫外光光触媒活性が向上したにもかか
わらず、可視光光触媒活性が向上したものと、誤って解
釈されることが問題となる。この酸化チタンの窒素ドー
プ体の真の可視光光触媒活性は、実施例に示されるほど
大きいものとは考えられない。
【課題を解決するための手段】
【0008】本発明は、新規な材料を用いることによ
り、コストのかかるイオン注入等の手法を用いずに酸化
チタン光触媒の可視光動作を実現するとともに、より可
視光吸収効率の高い光触媒体の形成方法および光触媒物
質の製造方法を提供することを目的とする。
【0009】本発明者らは、実験的な検討にとどまら
ず、第一原理計算を用いた半導体の光学特性の理論的な
検討を行った。その結果、本発明の窒素含有酸化チタン
半導体は、酸化チタンのバンドギャップ内に新たな準位
を形成することがわかった。そして、製法を工夫して該
窒素含有酸化チタンを作製することにより、二酸化チタ
ンと比較して、より広い波長域の可視光で強い触媒活性
を有する光触媒体の実現に成功した。
【0010】本発明により製造された光触媒物質は、酸
化チタン結晶に窒素(N)を含有させたTi−O−N構
成を有し、可視光領域において光触媒作用を実現する。
従って、可視光を動作光として、酸化チタンと同様の光
触媒作用を得ることができる。また、窒素は、非常に安
定安全な物質であり、これを含有させても実際に使用面
において、問題が生じない。
【0011】本発明により製造された光触媒物質は、酸
化チタン結晶の酸素サイトの一部を窒素原子で置換する
ことにより酸化チタン結晶に窒素を含有させることによ
り得られる。
【0012】本発明により製造された光触媒物質は、酸
化チタン結晶中に、チタン原子と化学的結合を有する状
態でドーピングされた窒素原子を含むことが好適であ
る。
【0013】これによって、可視光を吸収して、光触媒
機能を発揮する光触媒を得ることができる。このため、
太陽光の下、さらには蛍光灯の光を受ける室内において
も十分な光触媒機能を発揮することができる。
【0014】ここで、従来の酸化チタン光触媒の内部に
も、その製造過程や処理過程で窒素元素が混入すること
は知られている。例えば、特許第2917525号公報
には、表面処理の硝酸に由来するニトロ基(−NO2
が存在することが記されており、また特許第28650
65号公報には、材料となる酸化チタンゾル分散液の硝
酸に由来する窒素が二酸化チタン中に存在することが、
EPMA法により観測されたことが記載されている。
【0015】しかし、従来の認識においては、これらの
窒素はあくまでも混入物であり、この混入窒素による化
合物は、光触媒の性能の観点、特に動作光の波長範囲に
ついては、悪影響を及ぼすことはあってもなんら新規な
効果を生じない。このように、これまで混入窒素がその
光触媒体の動作光の波長範囲に新規な効果を生じなかっ
た原因は以下にある。
【0016】すなわち、これらの混入窒素原子は光触媒
内部で窒素酸化物や有機物等を形成しているだけであ
り、チタン原子と結合していない。そのために、この混
入窒素原子が酸化チタンのバンドギャップ等の半導体と
しての光学特性に効果を有することはなかった。
【0017】これに対し本発明では、酸化チタン結晶の
酸素サイトの一部を窒素原子で置換することを特徴とす
るため、XPSスペクトルが、従来の酸化チタン内に混
入した窒素原子の場合とは異なる。
【0018】本発明の窒素ドープ光触媒体の特徴は、X
PS(X−ray Photoemission Sp
ectroscopy)による、窒素原子の化学的な結
合状態の分析から明らかにできる。
【0019】また、XPSにおける窒素原子の1s殻の
結合エネルギースペクトルにおいて、400eV以下の
領域にピークを有することを特徴とする。
【0020】より好ましくは、XPSにおける窒素原子
の1s殻の結合エネルギースペクトルにおいて、396
〜397eV近傍にピークを有することを特徴とする。
【0021】その結果、酸化チタンの価電子帯と伝導帯
とのバンドギャップの間に酸化チタンの酸素サイトの一
部を窒素原子で置換したことによる不純物準位を有す
る。
【0022】また、窒素の含有量X原子数比%が0<X
<13であることが好適である。窒素の含有率は、特に
限定はされないが、実験によれば、0を超え13%以下
が好ましい。このような範囲の窒素の含有により、上述
のような好適な光触媒機能を得ることができる。
【0023】さらには、窒素が前記のような状態であれ
ば、酸素原子は過剰であっても、不足であってもよい。
特に、酸化チタンよりも酸素が少ない状態でかつ窒素が
含有された場合においては、より波長の長い可視光域で
も光触媒作用を呈する。その組成範囲は、チタン、酸
素、窒素の原子数比Y、Z、Xが0.4<Y/(X+
Z)<0.6の範囲内にあればよい。
【0024】また、これを実現するためのTi−O−N
の結晶相としては、単結晶、多結晶、あるいはアモルフ
ァス+多結晶のいずれでもよい。ただし、単結晶、多結
晶の方がアモルファスより光触媒機能が大きい傾向にあ
る。
【0025】また、上述した光触媒物質の外部表面側に
酸化チタン結晶を有することが好適である。この構成に
より、内部の光触媒物質により可視光を吸収し電子およ
び正孔を発生し、これによって表面の酸化チタン結晶に
おいて光触媒作用を発現できる。そこで、従来の酸化チ
タン光触媒と同様の機能を維持しつつ、可視光を動作光
として利用できる。例えば、水の接触角を減少させ、親
水性を付与するために、この構成が非常に有利である。
【0026】さらには、Ti−O−NのXPSスペクト
ルにアンモニウム塩由来のスペクトルを有することが好
ましい。
【0027】また、実際の使用状況においては、表面が
主にC軸結晶面方位である場合も、好ましい。
【0028】これらの光触媒は、基体として酸化チタ
ン、シリカ、アルミナやこれら複合体である無機酸化
物、あるいは窒化チタン、窒化珪素、窒化アルミニウム
やこれらの複合窒化物、または複合酸窒化物、フッ素樹
脂等の有機物を用い、それらの表面の全面あるいは一部
の面上に形成されて使用される場合もある。
【0029】また、Ti−O−Nの最表面に、アルミ
ナ、シリカ、ジルコニア、マグネシア、カルシア、リン
酸カルシウム、アモルファスの酸化チタン、フッ素樹脂
や、これらに窒素を含有させたもののうちから選ばれた
少なくとも一つを担持させた形態を有することもある。
【0030】本発明では、下記のような製造方法によっ
て光触媒体または光触媒物質を製造する。 (1)窒酸化チタン、酸化チタン、金属チタンのうち少
なくとも一つをターゲット材料とし、これを窒素ガスを
含む雰囲気中で蒸着又はイオンプレーティングした後、
アンモニアガスを含む雰囲気中で400℃以上700℃
以下の温度で熱処理することで、酸化チタン結晶に窒素
を含有させたTi−O−N構成を有し、可視光領域にお
いて光領域作用を発現する光触媒物質の薄膜を基材上に
形成する。 (2)窒化チタンあるいは酸窒化チタンを酸素ガスを含
む雰囲気中で400℃または550℃で熱処理すること
により、酸化チタン結晶に窒素を含有し、チタン原子と
窒素原子の化学結合を有するTi−O−N構成を含み、
可視光領域において光触媒作用を発現する光触媒物質を
形成する。 (3)酸化チタンあるいは含水酸化チタンをアンモニア
ガスを含む雰囲気、あるいは窒素ガスを含む雰囲気、あ
るいは窒素ガスと水素ガスの混合雰囲気中で熱処理し、
酸化チタン結晶に窒素を含有させたTi−O−N構成を
有し、可視光領域において光触媒作用を発現する光触媒
物質を製造する。 (4)チタンアルコキシド溶液を、アンモニアガスを含
む雰囲気、あるいは窒素ガスを含む雰囲気、あるいは窒
素ガスと水素ガスの混合雰囲気で熱処理することで、 酸化チタン結晶に窒素を含有させたTi−O−N構成を
有し、可視光領域において光触媒作用を発現する光触媒
物質を製造する。 (5)窒化チタン結晶、あるいは窒酸化チタン結晶を、
酸素、オゾン、水分子、あるいはヒドロキシル基を含む
酸化雰囲気中で熱処理あるいはプラズマ処理すること
で、酸化チタン結晶に窒素を含有させたTi−O−N構
成を有し、可視光領域において光触媒作用を発現する光
触媒物質を製造する。
【0031】ここで、本発明の光触媒材料の構造におい
てポイントとなる事項について述べる。
【0032】図6は、Mg−Kα、X線を用いたXPS
解析による窒素原子の1s殻のスペクトルであるが、こ
の図に示すように、従来の酸化チタン光触媒に含まれる
窒素原子と、本発明の光触媒中の窒素原子の化学的な結
合状態が異なる。すなわち、前述のように従来の酸化チ
タン中の窒素原子は酸化物や有機物を形成するのに対
し、本発明の光触媒では、窒素原子がTiとの結合を示
している。このような本発明の窒素は単なる結晶格子間
へのドーピングや粒子間のドーピングではなく、酸化チ
タン結晶中の酸素と置換した窒素であることを示してい
る。
【0033】また、本発明者らは実験と平行して、理論
計算においても本発明の光触媒体の検討を行った。具体
的には、第一原理計算法の一つである。FLAPW(f
ull−potential linearized−
augmented−plane−wave)法によっ
て半導体光触媒の電子状態並びに光学特性を評価した。
モデルには、アナターゼ酸化チタンの酸素の一部をアニ
オンで置換したTiO1.750.25(X=N、B、C、
F、P、S)単位格子を用いた。
【0034】図7は計算した半導体Ti−O−Xの状態
密度(density of state;DOS)で
ある。置換種によって、不純物順位の形成される位置が
異なり、またこれら置換種のイオン性と相関があること
がわかる。ここで、この図7の各状態密度におけるエネ
ルギー0eVよりマイナス側に立ち上がるのが価電子帯
であり、2.5eV近辺からプラス側に立ち上がるのが
酸化チタンの伝導帯であり、その間がバンドギャップに
相当する。水の還元準位が酸化チタンの伝導帯に近いこ
とから、酸化チタンの伝導帯よりも、価電子帯の状態に
より、価電子帯の立ち上がりを酸化チタンの伝導帯に近
づけ狭バンドギャップ化を図ることが望ましい。
【0035】以上より、狭バンドギャップ化並びに不純
物準位と酸化チタンのバンドとのスムーズな混成度の観
点から、可視光照射によっても、動作が可能な置換種X
として、特にN(窒素)、S(イオウ)が有効であること
がわかった。
【0036】図8(a)、図8(b)に、計算により得
られた誘電率関数の虚数部(e2xy,e2z)のエネル
ギーE(eV)依存性を示す。ここで、図8(a)は、
酸化チタン結晶におけるxy方向(C軸に垂直方向)に
ついてのもので、図8(b)がz方向(C軸方向)のも
のである。
【0037】この誘導率関数の虚数部は、光学吸収特性
の波長依存性に対応する。Ti−O−N、Ti−O−S
のいずれにおいても、吸収端が酸化チタンのそれと比較
して低エネルギー側、すなわち長波長側にシフトしてい
る。この結果は、N,Sのいずれか、あるいは双方の置
換を酸化チタンに施すことによって、可視光動作化が可
能であることを示している。また、図8(a)と図8
(b)の差違から、酸化チタン、およびTi−O−X
(X=NまたはS)のいずれにおいても光学的な異方性
が強いことがわかり、この結果より光触媒活性の結晶面
に対する依存性が強いことが分かった。
【0038】特に、Ti−O−NがC軸配向を有する場
合に、より長波長の可視光を吸収することもわかる。な
ぜならば、xy方向の吸収端が可視光方向に顕著にシフ
トしていることから、本発明光触媒体の表面が主にC軸
結晶面方位であることが好適であることがわかる。すな
わち、表面に直接入射する光は、その伝搬方向に垂直方
向(表面に平行な方向)に電場成分を持つため、表面が
C軸結晶方位であれば、図8(a)のxy方向の光吸収
特性により、効率よく可視光吸収を行うことができるか
らである。
【0039】これらアニオンXの置換による酸化チタン
の電子状態の変化は、チタン原子に対する、O,Nまた
はS間の原子準位の差に主に起因している。従って、上
記の計算で用いたモデルのように酸素(O)を他のアニ
オンXで置換した場合のみならず、その他にも、格子を
歪ませる形でアニオンXが結晶格子中に割り込む場合
や、結晶粒界にアニオンXが存在する場合、あるいはこ
れらの組み合わせの場合においても、酸化チタンを基体
とする光触媒体中にTi−X結合が存在すれば、本発明
のアニオンの置換による効果が得られる。
【0040】さて、上述のように酸化チタンの酸素サイ
トを置換し得るアニオンはいくつかある。酸素サイトを
窒素原子で置換した場合、半導体の電子状態が変化し、
バンドギャップ内に新たな吸収帯が形成される。一方た
とえばAl、Cr等のカチオンで酸素サイトを置換する
ことは電荷のバランスから考えて非現実的である。窒
素、フッ素によるチタンサイトの置換も非現実的であ
る。
【0041】一方、炭素、ホウ素等の元素は酸素サイト
のみならず、チタンサイトの置換も可能である。これら
の場合、同じ原子で置換する場合でもどちらのサイトを
置換するのかによってそれらの電子状態は全く異なる。
【0042】また、シリコンなどの半導体とは異なり、
酸化チタンのように2種以上の元素で構成される酸化物
半導体の場合、その位置によって近接原子が異なり電子
状態も異なる。このため、単に不純物をドーピングする
と大まかに述べても、これは現実的には意味をなさな
い。すなわち、どのサイトを置換するのか、あるいは格
子間のどの位置に割り込むか、あるいは粒界に存在する
のか、等を述べなければ、その材料を規定することには
ならない。
【0043】また、従来例ではドーパントのイオン価で
ひとくくりにドーピング効果の傾向を述べることがあっ
たが、上述のようにドーパントの入り込む位置によって
電子状態が全く変わるため、これは意味をなさない。
【0044】したがって、本発明の窒素原子の状態につ
いて論じる場合、5価や3価というように、価数によっ
てその性能を分類することは無意味である。本発明は、
窒素原子の状態として、Ti−O−N中にTi−Nの化
学的な結合を有する場合にのみ、可視光吸収を可能に
し、かつ光触媒特性を発現することを見出し完成したも
のである。その中でも特に、窒素原子が酸化チタンの酸
素サイトを置換する場合の性能がもっとも高い。
【0045】酸化チタン中にTi−N結合が残された場
合のN1s殻のXPSピークの位置は、学術文献から予
測できる「National Institute of Standards and Techn
ology (NIST)」のデータでは、TiNのピークは396
−397eV付近に観察されるとしている。また、「N.
C.Sahaら、J. Appl. Phys., 72 (7),pp.3072 (1992)」
の論文では、Ti−O−NについてのXPSデータが記
載されている。この例における窒素の含有量は、本発明
の光触媒材料よりもかなり多いが、Ti−O−NのN1
s殻ピークはNISTのTiNと同様に396−397
eV付近に観察される。
【0046】一方、本発明のTi−O−Nにおいて、酸
化チタンの格子間に窒素原子が割り込む形でドープされ
た場合のXPSピークの位置は報告例がなく不明であ
る。そこで、もっとも精度の高い第一原理計算手法の一
つであるFLAPWによりXPSピークの位置を解析し
た。これにより準定量的な計算結果が得られる。計算に
は、アナターゼ酸化チタンの24原子モデルを基本とし
て、N置換型(計24原子)、N割り込み型(計25原
子)モデルを用いた。その結果を表1に示す。
【0047】
【表1】
【0048】割り込み型TiO−NのN1s殻XPSピ
ークは、Ti2p3/2ピークから61.38eVだけ
低エネルギー側に得られる。一方置換型のそれは63.
63eVだけ低エネルギー側に得られる。すなわち、割
り込み型のN1s殻ピークは、置換型と比較すると酸素
原子との結合が支配的であるため、置換型のN1s殻ピ
ークより2.25eVだけ高エネルギー側に現れるとい
う結果を得た。
【0049】一方、本発明のTi−O−N光触媒のXP
S実験では、397eV付近のTi−N結合ピークと、
さらにそれよりも約3eVだけ高エネルギー側の400
eV付近にピークが得られている。したがって、これら
の結果から、実験において400eV付近に見られるピ
ークは、酸化チタン格子に割り込んだN原子か、炭素化
合物やニトロ基等を形成する不純物窒素(NISTデー
タによる)であると考えられる。
【0050】上述の実験結果並びに理論計算結果から、
次のような点が、本発明のTi−O−N可視光動作光触
媒において重要な点である。
【0051】本発明のTi−O−N可視光動作光触媒
は、酸化チタン結晶の酸素サイトの一部を窒素原子で置
換すること、または酸化チタン結晶の格子間に窒素原子
をドーピングすること、または酸化チタンの結晶粒界に
窒素原子をドーピングすることのいずれかまたはこれら
の組み合わせにより酸化チタン結晶に窒素原子を含有さ
せた光触媒物質である。このとき、N1s殻のXPSピ
ークは400eV以下にみられる。その中でも特に、窒
素原子が酸化チタンのチタン原子とTi−Nの化学的な
結合を有している場合が好ましい。さらには、窒素原子
が酸化チタンの酸素サイトの一部を置換する状態で存在
することがより好ましい。このとき、N1s殻のXPS
ピークは396−397eV付近にみられる。
【0052】また、上記の計算では、アナターゼ型チタ
ンの結晶格子をベースにアニオンドーピングの効果を検
討したが、ルチル型酸化チタン、ブルッカイト型酸化チ
タン、アモルファス酸化チタンへのアニオンドーピング
においても同様の効果が得られる。
【0053】これら可視光動作光触媒性能を示す粉末な
らびに薄膜の組成比は、後述の実施例中で述べるが、例
えばTi33.964.71.4、Ti34651、Ti3167
2であった。したがって、NがTi−N結合をした状
態で実現されていれば、酸素過剰、酸素欠陥のいずれの
場合においても、可視光動作光触媒となる。チタン、酸
素、窒素の原子数比Y、Z、Xが0.4<Y/(X+
Z)<0.6の範囲内にあればよい。
【発明を実施するための最良の形態】
【0054】以下、本発明の実施形態について、図面に
基づいて説明する。
【0055】(光触媒体の構成) まず、本発明の実施形態に係る形成方法または製造方法
により得られる光触媒体の構成について説明する。 「光触媒体1」 図1は、光触媒体1の構成を示す図であり、SiO2
板10上に、光触媒物質であるTi−O−N膜12が形
成されている。このTi−O−N膜12は、酸化チタン
結晶の酸素サイトの一部が窒素原子で置換された構造を
有している。なお、酸化チタン結晶の格子間に窒素原子
がドープされている構造でもよく、両者が混在していて
もよい。また、Ti−O−N膜12における各元素の組
成比は、例えばTi31672である。従って、Ti−
O−N膜12は、基本的に酸化チタンの結晶であり、酸
化チタン膜中にNが含有された構成となっている。ま
た、酸化チタン結晶の結晶相は、ルチルでもアナターゼ
でもよいが、例えばアナターゼ+ルチルである。
【0056】図2(a)に、ルチル型酸化チタン結晶、
図2(b)にアナターゼ型酸化チタン結晶の結晶単位格
子を示す。図において、小さな○がTi、大きな○がO
を示している。このOの一部がNに置換されたり、結晶
内の空間あるいは酸化チタン結晶粒界にNが入り込み、
Ti−O−Nが構成される。
【0057】また、上述の説明では、光触媒物質として
のTi−O−Nを薄膜形状としたが、薄膜のみではな
く、微粒子Ti−O−Nをベースにそれを塗布用のバイ
ンダ材料、たとえばシリカ、アルミナ、フッ素樹脂やこ
れらに窒素を含有させたものや、これらの複合化合物に
混合させたものや、内部母材がシリカ、アルミナ、フッ
素樹脂あるいはこれらに窒素を含有させたもの、あるい
はこれらの複合化合物を用い、その外部表面側の全面あ
るいは一部にTi−O−Nを形成した場合にも適用され
る。
【0058】なお、Ti−O−Nは、上述の製造法をベ
ースとし、各種微粒子作製法、ゾル・ゲル法、化学反応
法などにより作製することが可能である。具体例につい
ては後述する。
【0059】このようにして得られたTi−O−N光触
媒物質は、可視光の入射により、光触媒機能を発揮す
る。すなわち、Ti−O−N光触媒物質は、紫外光のみ
ならず可視光のみの照射によっても、光触媒機能を発現
し、親水性の向上(水の接触角の減少)や、有機物分解
能が得られる。従って、Ti−O−Nは、単に可視光を
動作光にできるだけでなく、その結果として紫外−可視
域にわたる光照射による光触媒機能を著しく向上させる
ことができる。特に、有機物分解機能においては酸化チ
タン光触媒よりも著しく優れている。
【0060】「光触媒体2」 図3に、光触媒体2の構成を示す。図3(a)におい
て、SiO2基板10上にTi−O−N膜12を形成
し、その上に酸化チタン膜14を形成している。なお、
図2おいては、二層の積層構造としているが、熱処理な
どの過程で両者の境界は明確ではなくなり、表面に向け
てNが徐々に減少していく構成となる。すなわち、表面
に近いほどN原子量が少なく、かつ最表面では酸化チタ
ンが露出した傾斜組成のTi−O/Ti−O−N膜が形
成される。なお、Ti−O−N膜と、酸化チタン膜の界
面をシャープなものに維持してもよい。
【0061】また、傾斜組成は、Ti−O−N膜および
酸化チタン膜の積層形成後の熱処理に限らず、雰囲気の
ガス組成を膜の堆積状態に応じて変更してもよい。すな
わち、雰囲気のN2分圧を徐々に減少することで、表面
側を酸化チタンにすることができる。
【0062】このような構成により、基板10に近いT
i−O−N領域(Ti−O−N膜12)で可視光を吸収
し、電子と正孔が生成される。これらは膜表面の酸化チ
タン(酸化チタン膜14)に供給される。そこで、表面
においては、酸化チタン膜14として光触媒作用を発現
する。
【0063】これによって、従来例と同様の酸化チタン
膜において、可視光を動作光とした光触媒作用を得るこ
とができる。上述のように、Ti−O−N膜とTiO2
膜の親水性(接触角θ)を比較すると、TiO2膜の方
が勝っているので、可視光を動作光として、TiO2
による親水性の向上がはかれる。すなわち、本光触媒体
では、可視光のみの照射により親水性を発現し、かつそ
の性能の保持時間をTiO2膜より向上させることがで
きる。
【0064】なお、傾斜組成のTi−O/Ti−O−N
光触媒は、図3(b)に示すように、内部にTi−O−
N部分22、外側にTiO2部分24を有する粒子状と
することも好適である。このような粒子状の光触媒は、
塗料用のバインダー中、たとえば、シリカ、アルミナ、
フッ素樹脂やこれらに窒素を含有させたもの、あるいは
これらの複合酸化物に混入させておき、塗料のようにし
て利用することが好適である。
【0065】「光触媒体3」 図4(a)、図4(b)に、本発明の光触媒体3の構成
を示す。この光触媒体の内部は酸化チタンTiO2であ
り、外部の最表面側がTi−O−Nとなっている。また
このときのTi−O−N層は、最表面全体を覆いつくし
てもよいし、表面の一部のみに形成してもよい。このよ
うな構成は、主として酸化チタン粉末や薄膜を出発材料
として、熱処理やプラズマ処理などの後処理により、表
面側から窒化処理を行った場合に実現される。
【0066】「光触媒体4」 図5(a)、図5(b)、図5(c)に、本発明の光触媒
体4の構成を示す。
【0067】本発明のTi−O−N光触媒を有機繊維や
プラスチックなどに練り込んで使用する場合、Ti−O
−N光触媒と前記有機繊維やプラスチックが直接接触す
ることにより分解されてしまうという問題が生じる。光
触媒体4は、この問題を解決するために、Ti−O−N
光触媒の表面に、より触媒活性の低いセラミックを島
状、針状あるいは網目状に担持させたものである。図5
(a)では、セラミックが島状に形成され、図5(b)
では、セラミックが網目(河)状に形成され、図5
(c)では、針状に形成されている。このように表面に
活性の低いセラミックを配置することによって、有機繊
維やプラスチックと直接接触する材料をセラミックとし
て、有機繊維やプラスチックの分解を抑制することがで
きる。
【0068】セラミックとしては、アルミナ、シリカ、
ジルコニア、マグネシア、カルシア、リン酸カルシウ
ム、アモルファス酸化チタン、フッ素樹脂や、これらに
窒素を含有させたもの、あるいはこれらの複合化合物が
あげられる。
【0069】(光触媒体の製造における工夫) 上述の光触媒体1〜4に記載した構造の特徴に示した結
果から、本発明の光触媒体の製法にも工夫が必要とな
る。すなわち、窒素原子が負のイオン価を有しやすいよ
うな条件を選択する必要がある。
【0070】その具体例としては、 1. 還元雰囲気を用いる。 2. 材料を構成するTi,O,N原子を熱、イオンビ
ームやプラズマ照射により分離したのち窒素含有酸化チ
タンを再結合、再構成させるため、真空槽内での反応を
用いる。等の点が挙げられる。
【0071】本発明の製造方法においては、これらの観
点から、可視光領域においても高い光触媒活性を呈する
窒素ドープ酸化チタンの製法について記述する。
【0072】また、本発明において作製する、窒素ドー
プ酸化チタンの基本となる結晶構造については、アナタ
ーゼ、ルチル、ブルッカイトのいずれでもよい。
【0073】なお、具体例な製造方法については、後述
する。
【0074】(光触媒の具体例および参考例) 以下に、本発明の可視光動作型光触媒の具体例およびこ
れに関連する参考例をあげる。
【0075】「参考例1」 この参考例1は、上記光触媒体1に対応するTi−O−
N膜である。RFマグネトロンスパッタリング装置を使
用して、酸化チタンターゲットを(N2+Ar)プラズ
マ中でスパッタすることによりTi−O−N膜を基板上
に形成した。基板はSiO2とした。スパッタリング中
の全ガス圧は0.52Paとし、N2分圧を0%〜10
0%の間で変更した。堆積速度は3〜8nm/minで
あった。成膜後に、窒素雰囲気中で550℃で2時間熱
処理し、Ti−O−N膜を結晶化させた。Ti−O−N
膜中の結晶相はアナターゼ+ルチルであり、TiNは観
察されなかった。また、40%N2+Ar中でスパッタ
した膜の熱処理後の組成比をXPS(X線電子分光法)
で分析したところ、Ti31672であった。また窒素
のN1s殻スペクトルのピークは、397eV付近と4
00eV付近の双方に観察され、Ti−O−N相中には
Ti−N結合が存在することも確認された。
【0076】このTi−O−N膜の光学特性を調べるた
めに、吸光度の波長依存性を計測した。その結果を図9
に示す。同じ粒径D〜15nmのアナターゼ+ルチルT
iO2(Ti−O)膜とTi−O−N膜を比較したとこ
ろ、Ti−O−N膜は、Ti−Oより長波長の光を吸収
できることがわかる。すなわち、波長400nm程度の
光もかなり吸収する。このことから、Ti−O−N膜
は、可視光を吸収して電子と正孔を生成する半導体であ
る。
【0077】このTi−O−N膜の可視光照射のみによ
る光触媒活性を調べるために、表面における水の接触角
θの光照射依存性を測定した。
【0078】図10に、N2分圧を0%〜100%の間
で変化させて作製し、550℃で熱処理したTi−O−
N膜に対し、Xeランプを1時間照射したときの膜表面
の水の接触角θを示す(図におけるシンボルは□であ
る)。純粋な酸化チタン(N2分圧0%)の場合には、
波長200nm以上の紫外線による光触媒作用によっ
て、接触角θ<10゜の親水性が発現する。一方、N2
を存在させて作製したTi−O−N膜のθは、Nの影響
によりスパッタ時のN2分圧の増大とともに大きくなっ
ている。これらのθ値は、それぞれの組成のTi−O−
N膜の持つ本質的な最適なθの値である。
【0079】一方、これらTi−O−N膜に対し、可視
光成分のみ(波長λ>400nm)を1時間照射したと
きの特性の図におけるシンボルは○で示す。ここでは、
波長光のうち400nm以下の紫外線領域を光学フィル
タによりカットした。これより、N2分圧20−60%
中で作製した膜の特性は、可視光照射のみによっても、
ほぼ最適値にまで低下している。一方、純粋な酸化チタ
ン膜では、可視光のみの照射では、θがかなり大きくな
っている。Ti−O−N膜は可視光照射で光触媒作用が
生じる材料である。
【0080】「参考例2」 参考例1では、Ti−O−N膜表面の接触角が可視光の
みの照射により小さくなることから、可視光のみの照射
でも動作する光触媒であることを明らかにした。しか
し、この膜の接触角θを、ミラー、窓等の親水性を利用
した応用の観点に着目し、接触角の絶対値のみを比較す
ると、本発明のTi−O−N膜は酸化チタン膜より劣
る。そこで、この参考例2では、上記光触媒体2に対応
するTi−O−N膜と酸化チタン膜の積層型の膜構成を
有する光触媒を作製した。
【0081】参考例2の構成は、図3(a)に示すとお
りであり、SiO2基板上10に、Ti−O−N膜12
を2200Å、酸化チタン膜14を1000Åの順で堆
積し、酸素雰囲気中で550℃、90分の熱処理を行っ
て形成した。このプロセスにより、膜の表面に近いほど
N原子量が少なく、かつ最表面では酸化チタンが露出し
た傾斜組成のTi−O/Ti−O−N膜が形成される。
XPSにより窒素原子の分布を膜の深さ方向へ50光触
媒体毎に見たところ、最表面から50光触媒体の深さま
では窒素原子は全く存在せず、それより深いところで
は、深さとともに窒素原子数比が上昇することがわかっ
た。基板のSiが観察されはじめる直前での窒素原子数
比は2.9%であった。また、100光触媒体よりも深
いところでの窒素のN1s殻スペクトルのピークは、3
97eVと400eVの双方に観察され、Ti−O−N
相中にはTi−N結合が存在することも確認された。
【0082】図11に、水の接触角θの測定例を示す。
400nm以上の可視光域照射では、酸化チタン膜にお
ける接触角の低下は見られない。一方、傾斜組成のTi
−O/Ti−O−N膜膜の場合には、400nm以上の
可視光の照射によっても接触角が低下し、酸化チタン膜
の接触角θよりも小さな値となる。また、この効果は長
時間維持される。すなわち、Xeランプ照射で一旦酸化
チタン膜と同等の小さな接触角θを示した後は、蛍光灯
下の机上で7日放置した場合にも、蛍光灯の可視光成分
により光触媒作用が維持される。酸化チタン膜のような
水接触角の大きな劣化はみられない。
【0083】なお、本参考例2は、総膜厚が1600光
触媒体および2500光触媒体の場合にも同等な特性を
有することを確認しており、また傾斜組成ではなくシャ
ープな界面を形成し、組成を段階的に変化させた場合に
おいても同様な効果を示す。
【0084】また、本参考例2は、紫外および可視光を
吸収するため、親水性の発現のみでなく、酸化チタンと
同様に、殺菌や、ダイオキシン、窒素酸化物などの有害
物質の分解などの機能も有している。そして、これら機
能も、酸化チタン膜よりも高効率に実現する。
【0085】「参考例3」 この参考例3では、前記参考例1、2の膜の表面におけ
る有機物の分解性能の比較例を示す。図12に、各触媒
膜の表面に塗布した有機物の、光照射による分解量を示
す。比較のため、ゾル・ゲル法により作製された、同等
の膜厚の酸化チタン光触媒膜の市販品の結果もあわせて
示す。光源は、Xeランプであり、照射波長域はシャー
プカットフィルタで調節し、さらに試料の温度上昇を防
ぐために熱線吸収フィルタを用いた。照射光量は、紫外
光域のみの値で約13mW/cm2である。
【0086】波長λ>400nmの可視光のみを照射し
た場合、参考例1、2のTi−O−N膜の有機物分解性
能が優れており、とくに傾斜組成膜の性能は、酸化チタ
ン膜の4倍であり、著しく優れていることがわかる。さ
らには、λ>200nmの紫外光−可視光照射では、参
考例1のTi−O−N膜の有機物分解性能は、酸化チタ
ン膜に比べて非常に大きい。N2分圧40%で作製した
Ti−O−N膜の有機物分解性能は、酸化チタン膜(N
2分圧0%)のそれに比べ、4倍以上になっている。こ
れより、本発明のTi−O−N膜は、光触媒作用のうち
の有機物分解性能について、非常に優れた能力を有して
いることがわかる。
【0087】さらには、40%N2−Ar中で作製した
スパッタ膜では、夏の晴天時と同等の5mW/cm2
射においても、市販品酸化チタン膜と比較してλ>40
0nmの可視光領域において4倍、λ>200nmの光
照射において8倍の分解性能を有するという結果を得て
いる。
【0088】「実施例1」 実施例1では、酸化チタン粉末を初期材料として窒化処
理をした具体例について述べる。市販のルチル型酸化チ
タン粉末(石原産業、TTO−55(N))をアンモニ
アとアルゴンの混合ガス中で600℃、3時間処理した
ものを用いた。光触媒性能は、可視光を10時間照射後
のλ=670nmにおけるメチレンブルー水溶液の吸光
度の変化で評価した。光源には、10W蛍光管(松下電
工、FL10N)の周囲に紫外線カットフィルタ(富士
フィルム、SC42)を取り付けたものを用い、ほぼλ
≧400nmの可視光領域とした。紫外線強度は、0.
0μW/cm2であった(トプコン製の光強度計、UV
R−2及UD−36使用)。また光触媒の計測時には、
光触媒がないときのメチレンブルーの光分解、ならびに
暗所での吸着、あるいは光吸着による吸光度変化の影響
を除去した。
【0089】XPSによるN1s殻のスペクトルは、M
g−Kα、X線を用いて分析した。図13(a)、図13
(b)、図13(c)の横軸はそれぞれ、397eV付
近にピークが見られる、Ti−N結合したNの組成比、
400eV付近にピークを持つN組成比、そして光触媒
粉末中の全N組成比中のうち、Ti−N結合したNの割
合である。図13(a)、図13(c)をみると、Ti
−N結合したNが増大すると、可視光照射下での触媒性
能が向上する。その一方で、図13(b)のTi−N結
合していないNは、可視光照射下での触媒性能に効果が
ない。この図13(b)の窒素は、前述のように、主に
有機化合物やニトロ基を形成する窒素原子と考えられ
る。これらの結果から、Ti−O−N中に、397eV
付近にピークが観察されるTi−N結合した状態のNを
形成することが、光触媒の可視光動作に必要であること
がわかる。
【0090】同様な効果は、アナターゼ型酸化チタン
(石原産業、ST−01)を初期材料に用いた場合でも
得られた。さらには、アモルファス酸化チタン粉末を用
いて同様な処理を施した場合においても、同様な効果が
得られた。この場合、アナターゼやルチルの結晶粉末を
初期材料として用いる場合よりも、N原子の状態を制御
しやすいという効果もある。
【0091】また、室温より高い温度で窒素原子を含む
プラズマ中で酸化チタン粉末を処理した場合でも、同様
の効果が得られる。室温でプラズマ処理した場合は光触
媒性能が劣る。
【0092】「実施例2」 実施例1で、酸化チタン粉末を後処理することにより本
発明の光触媒体を実現できることを述べた。しかし粒径
の大きな酸化チタン粒子、あるいは酸化チタンの厚い膜
を後で窒化する場合、処理条件によっては触媒体の内部
は酸化チタンで、外部の最表面側がTiO−Nとなる場
合もある。
【0093】市販の酸化チタン粉末(石原産業、ST−
01)にコロイダルシリカと添加剤を混ぜることにより
簡易なコーティング液を作製した。これをガラス基板状
に塗布し乾燥させた後、大気中で150℃、30分間の
熱処理をした。SEM(走査型電子顕微鏡)により断面
観察したところ、膜厚は約500nmであった。その
後、この膜をアンモニアガス75sccm、アルゴンガ
ス100sccmの流中において、550℃で30分間
処理した。この処理により、やや白色がかった透明膜
は、黄色の透明膜となった。これをX線回折により構造
解析し、かつXPSにより深さ方向分析したところ、膜
表面はTi−O−NとSi−O−N、ガラス基板に近い
ところは酸化チタンと酸化珪素であり、窒素組成比は、
膜の最表面から内部にわたって減少していく傾斜組成を
有する。この膜の光触媒特性を評価した。膜の光透過特
性を400−750nmの波長範囲で測定した後、膜を
500μMメチレンブルー水溶液に15分間浸し、暗所
で乾燥させた。再び光透過特性を測定した後、10W蛍
光管(松下電工、FL10N)の周囲に紫外線カットフ
ィルタ(富士フィルム、SC42)を取り付けた可視光
を18時間照射した。再度光透過特性を測定することに
より求めた18時間照射後のメチレンブルー(MB)分
解率は、酸化チタンコーティング膜の場合8%に対し、
傾斜組成Ti−O−N膜は46%であった。
【0094】粉末でも同様の実験を行った。平均一次粒
子径が0.118μmのアナターゼ酸化チタン粉末(古
河機械金属、FA−55W)を、アンモニアガス400
sccm、アルゴンガス200sccmのガス流中にお
いて、550℃で30分間熱処理した。この処理によ
り、白色であった粉末は、やや黄色がかかった粉末とな
った。このように粒径の大きな粒子を後処理により部分
窒化すると、図4(a)のように粒子内部は窒素を含有し
ない酸化チタン、最表面側はTi−O−Nとなってお
り、またその窒素組成比は、粒子の径方向に連続的に変
化している。この粉末を用いて、メチレンブルー水溶液
の可視光による分解特性を測定した。試験管に入れた約
5ccの10μMメチレンブルー水溶液中に、約0.0
5gの酸化チタン粉末、ならびにTi−O−N粉末をい
れた物をそれぞれ用意し、撹拌しながら可視光照射を行
った。光源には、10W蛍光管(松下電工、FL10
N)の周囲に紫外線カットフィルタ(富士フィルム、S
C42)を取り付けたものを用い、ほぼλ≧400nm
の可視光とした。光源との距離は1cmとした。紫外線
強度は、0.0μW/cm2であった(トプコン製の光
強度計、UVR−2及びUD−36使用)。72時間照
射後、酸化チタン粉末を入れた溶液はわずかに脱色した
だけであったが、Ti−O−N粉末を入れた溶液はほぼ
無色透明に脱色された。
【0095】なお、本実施例の処理によって形成される
TiO−N相は、処理条件に応じて、粒子の最表面全体
を覆い尽くす場合もあれば、表面の一部のみに形成され
る場合もある。
【0096】「実施例3」 本発明のTi−O−N光触媒を有機繊維やプラスチック
などに練り込んで使用する場合、Ti−O−N光触媒と
前記有機繊維やプラスチックが直接接触することにより
分解されてしまうという問題が生じる。そこでこの問題
を解決するために、Ti−O−N光触媒の表面に、より
触媒活性の低いセラミックを担持させるのが有効である
ことがわかった。ただし、この場合、Ti−O−Nの表
面全体をセラミックで覆ってしまうと、光触媒反応によ
り酸化、あるいは還元させるべき物質とTi−O−Nの
直接接触が妨げられるため、光触媒効果が低下してしま
う。したがって、担持されるセラミックは、図5
(a)、図5(b)、図5(c)に示すように島状、針状
あるいは網目状に担持させる。
【0097】その作成例を以下に述べる。まず、金属ア
ルコキシドの加水分解法を用いる場合について述べる。
メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロ
パノール、n−ブタノール等アルコールを添加してある
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系炭化水素、
ケロシンまたはヘキサン等の石油留分などの疎水性有機
溶媒中に、水を表面に吸着させたTi−O−N粒子を分
散させ、アルミニウム、珪素、ジルコニウム、マグネシ
ウム、カルシウム、チタンなどの金属アルコキシドを溶
解した疎水性有機溶媒を加え、該粒子表面で金属アルコ
キシドの局部的な加水分解を起こさせる。この後、必要
に応じて乾燥、焼成することにより、表面に、Ti−O
−Nよりも光触媒活性の低いセラミックスを島状、針状
あるいは網目状に形成できる。
【0098】それ以外の方法としては、Ti−O−N粉
末、薄膜、あるいは基材にTi−O−Nをコーティング
したものに、スパッタ、真空蒸着、イオンプレーティン
グ、CVDなどの方法により、アルミニウム、珪素、ジ
ルコニウム、マグネシウム、カルシウム、チタンなどの
酸化物、あるいはこれらに窒素を含有させたものを島
状、針状あるいは網目状に担持させることができる。
【0099】また、上記アルコキシドの加水分解法やス
パッタ、真空蒸着、イオンプレーティング、CVD法
で、酸化チタン表面にアルミニウム、珪素、ジルコニウ
ム、マグネシウム、カルシウム、チタンなどの酸化物セ
ラミックやフッ素樹脂を島状、針状あるいは網目状に担
持させ、その後、アンモニアガスや窒素ガスを含む雰囲
気下で熱処理、あるいはプラズマ処理を行うことによ
り、Ti−O−Nの表面に、より活性の低い窒素含有セ
ラミックを島状、針状あるいは網目状に形成することが
できる。
【0100】こうして得られた光触媒粒子は、チタニア
粒子の表面に光触媒として、活性の低いセラミックスが
島状、針状あるいは網目状に付着している。このため、
有機繊維やプラスチックなどに練り込んで使用する場
合、有機繊維やプラスチックと接触している部分が活性
の低いセラミックスになる。そこで、繊維やプラスチッ
クス自身の分解を生じることなく、悪臭やNOxなどの
空気中の有害物質あるいは水中に溶解している有機溶剤
や農薬などの環境を汚染している有機化合物を吸着し、
紫外光のみならず波長500nm程度までの可視光照射
によっても、連続的に分解除去することができる。
【0101】(製造方法の実施例) 以下では、本発明の光触媒についての各種製造方法の実
施例および参考例について述べる。
【0102】「参考例4」 本参考例では、スパッタリングにより、石英基板上にT
i−O−N薄膜光触媒薄膜を作成する光触媒体の製造例
を示す。
【0103】石英基板および酸化チタンターゲットをス
パッタリング装置の真空チャンバ内にセットする。そし
て、真空チャンバ内に窒素ガスおよび不活性ガス(例え
ばArガス、Neガス)を所定量導入し、この混合ガス
プラズマ中でスパッタリングする。これによって、石英
基板上にTi−O−N膜を膜厚10μm以下の厚さで堆
積する。
【0104】スパッタリングガスを導入する前の到達真
空度は、2×10-5Pa(1.5× 10-7Torr)
である。到達真空度は、真空中で本発明の光触媒を作製
する上で重要な要素である。9×10-5Pa、4×10
-4Paの背圧での成膜を行い可視光動作性能を比較した
が、到達真空度が悪いほど、Ti−N結合量は減少し、
可視光活性は低下する。
【0105】スパッタリング中の全ガス圧は、例えば
0.52Pa、窒素分圧は、0%<N2分圧≦100%
の範囲で設定すればよいが、20〜60%程度が好適で
ある。さらに、スパッタリングによるTi−O−N膜1
2の成膜後に熱処理(アニール)を行い、結晶化する。
例えば、窒素雰囲気中で550℃、2時間程度熱処理す
ることで、結晶化させることができる。すなわち、単に
成膜しただけでは、アモルファス中に多結晶が混在する
ような構造であるが、熱処理を行うことで多結晶化、単
結晶化を図ることができる。なお、石英基板を400〜
900℃の範囲内の温度で加熱しながらTi−O−N膜
を形成することで、成膜後の熱処理を省略することもで
きるが、成膜後アニールと比較して性能が劣る。
【0106】上記の方法でTi−O−N膜を形成するこ
とで、窒素原子Nは、酸化チタン結晶の酸素サイトの一
部を置換したTi−O−N光触媒膜を形成することがで
きる。
【0107】さらに、Ti−O−N膜の窒素原子数比%
は、窒素ガス分圧20%による成膜では熱処理前6.6
%、熱処理後1.4%、窒素分圧100%の成膜では熱
処理前12.7%、熱処理後0.5%であった。また、
窒素ガス分圧40%、60%における成膜では、熱処理
後のTi−O−N膜中の窒素原子数比%がそれぞれ1.
4%、1.5%であった。
【0108】ここで、本参考例の方法で製造したTi−
O−N光触媒を構成する窒素原子の状態を、従来の酸化
チタン粉末と比較して説明する。X線回折による測定で
は、アナターゼ型酸化チタンとルチル型酸化チタンの回
折線が観察されたが、窒化チタン(TiNやTi2N)
結晶に由来する回折線は観察されなかった。また、前述
の図6に示すMg−Kα、X線を用いたXPS(X−r
ay Photoemission Spectros
copy)による窒素Nの1s殻の測定結果から窒素原
子の化学的な結合状態を判断したところ、本実施形態の
Ti−O−N中の窒素原子は、396〜397eV付近
に、Ti−N結合に由来するピークを示す。これにより
窒素原子が酸化チタンの酸素原子を置換していることが
わかる。
【0109】上記のように、本発明のTi−O−N光触
媒のX線回折とXPSの二つの測定結果から、アナター
ゼ+ルチル結晶構造を有するTi−O−N中にTiとN
原子の間の化学的結合が存在する。
【0110】一般に光触媒用の酸化チタンとして市販さ
れている粉末や膜中にも、製造過程で窒素原子が混入す
る場合があるが、図6に示すようにこれらの窒素原子の
ピークは400eV付近に現れる。すなわち、従来の酸
化チタンに混入する窒素原子は有機化合物やニトロ基を
形成しているため、Ti−N結合は観察されない。この
ように、製造過程に混入したり後処理で表面修飾される
酸化チタンに存在する窒素とは、化学的な性質が異な
る。
【0111】また、この参考例4における膜厚が160
nmのTi33.964.71.4について触媒活性を測定し
た結果を図14(b)に○印で示す。この測定は、光触
媒チェッカー(真空理工(株)製)の光源を図14
(a)に示すようなスペクトルを持つ、波長λ≧410
nmの可視光源に代えて、メチレンブルーの分解速度を
光の透過率から測定することで行った。
【0112】本参考例のスパッタ法の場合、同じ方法で
製造したアナターゼ型酸化チタン(図14(b)に黒の
菱形で示す)と比較して、波長λ≧410nmでの触媒
活性が著しく向上していることがわかる。
【0113】また、実験によれば、窒素ガス分圧20
%、40%、60%、100%で製造したTi−O−N
膜のすべてにおいて、光触媒機能が発現した。たとえ
ば、Ti32662の組成比の膜でも同様な光触媒活性
を示した。従って、Ti−O−N膜の窒素含有量は、そ
の原子数比%をX%とした場合、0<X<13とするこ
とが好適であることがわかった。なお、Ti−O−N膜
の光触媒機能としては、熱処理後のものが優れており、
熱処理後の窒素濃度としては、5%以下、がより好まし
い。
【0114】なお、この試料最表面においてXPSで観
察されるアンモニウム塩の効果について述べる。図6の
参考例では、397eV付近に、Ti−N結合に由来す
るピークが観察される。このような本発明の可視光動作
型光触媒において、402eV付近にピークがある場合
とない場合を比較すると、ある場合の方がより活性が高
い。このピークはアンモニウム塩に由来するピークと考
えられ、従来技術のニトロ基(−NO2)由来のピーク
とは明らかに結合エネルギーが異なる。
【0115】上述の説明では、酸化チタンターゲットを
用いて、窒素ガスを含むアルゴンガスのプラズマ中でT
i−O−N膜を成膜したが、窒化チタンターゲットを酸
素を含むガスのプラズマ中で成膜してもよい。さらに、
ターゲットに酸化チタンと窒化チタンの2つを用いた
り、酸化チタンと窒化チタンの混合物ターゲットを用い
ることもできる。
【0116】なお、基板は、本石英基板以外にもガラ
ス、セラミック、金属、活性炭等の有機物、シリカ、ア
ルミナ、フッ素樹脂等の材料の板材や、ハニカム構造の
多孔体など各種のものが利用可能である。
【0117】「実施例4」 酸化チタン(III)(Ti23)を、ガラス基板上に電
子ビーム蒸着により蒸着する。この時、窒素ガスを、総
圧力が0.0266Pa(0.2mTorr)となるよ
うに真空チャンバに導入する。製造した膜を、500℃
の100%窒素ガス雰囲気中で2時間熱処理することに
より、アナターゼ+ルチル構造のTi−O−N膜が製造
する。この膜のXPS分析の結果、TiとN原子間の結
合が確認され、またX線回折結果からはTiNあるいは
Ti2N結晶が見られないことから、窒素原子が、酸化
チタン結晶の酸素サイトの一部を置換すること、または
酸化チタン結晶の格子間にドーピングされること、また
酸化チタンの結晶粒界にドーピングされることのいずれ
かまたはこれらの組み合わせを有するTi−O−N光触
媒を形成したと判断できる。
【0118】なお、蒸着材料は、本実施例の酸化チタン
(III)に限らず、組成比の異なる酸化チタンや金属チ
タンでもよい。また基板は、本実施形態以外にもガラ
ス、セラミック、金属、活性炭等の有機物、シリカ等の
材料の板材や、ハニカム構造の多孔体など各種のものが
利用可能である。
【0119】また、蒸着時の雰囲気であるが、窒素ガス
と酸素ガスの混合雰囲気でもよい。ただし、この場合に
は、酸素ガス分圧が高いほど膜中に窒素原子が入りにく
くなり、膜中の窒素組成比が低くなるので、熱処理時に
アンモニアガスを用いると熱処理効果が高くなる。この
時の処理温度は400℃から700℃の温度範囲にあれ
ばよい。これを超える温度における処理では窒化チタン
が形成されるので好ましくない。また、蒸着時に真空雰
囲気内でプラズマ状態をつくり、蒸着粒子をイオン化、
励起粒子として活性化するイオンプレーティング法やア
ークイオンプレーティング法、電子ビーム励起プラズマ
を用いれば、基材との密着性の高いTi−O−N光触媒
膜が形成できる。また、その他にもクラスターイオンビ
ーム法によっても条件を選択することにより製造でき
る。
【0120】さらには、酸素雰囲気中で成膜することに
より酸化チタン膜を形成し、この膜をアンモニアガスを
含む雰囲気、あるいは窒素と水素の両方を含む雰囲気
で、400℃から700℃の温度範囲で熱処理すること
によってもTi−O−N光触媒が得られる。
【0121】「参考例5」 本参考例では、アルコキシドを用いたゾルゲル法での製
造例を示す。チタニアゾルは、超微粒子の酸化チタンを
水に懸濁させたり、アルコールと四塩化チタンや金属チ
タンとの反応などによって得られるチタンのアルコキシ
ドを加水分解したりすることによって調製される。その
際、モノエタノールアミンやジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N
−エチルジエタノールアミン、N,N−ジメチルジアミ
ノエタノール、ジイソプロパノールアミンなどのアルコ
ールアミン類やジエチレングリコールなどのグリコール
類を添加すると均一で透明なチタニアゾルが得られる。
【0122】これらのチタニアゾルを、滴下法、塗布
法、スプレー法などによってコーティングし、アンモニ
アあるいは窒素を含む雰囲気で熱処理することによっ
て、紫外光のみならず可視光照射によっても光触媒活性
を呈するTi−O−N光触媒膜を製造することができ
る。処理温度は、300℃から800℃の範囲が好まし
い。より好ましくは、450℃から700℃の温度範囲
がよい。
【0123】「実施例5」 本実施例では、ガス中処理によりTi−O−Nを担体の
表面にコーティングする方法を示す。チタン酸化物粒子
を分散懸濁させた溶液中に、ハニカム構造体を30分浸
すことにより、構造体の表面に上記チタン酸化物分散溶
液をコーティングする。これをアンモニアガス、あるい
は窒素を含む雰囲気中で550℃において熱処理を行う
ことにより、溶液分は蒸発し、その結果ハニカム構造体
の表面にTi−O−Nが形成される。熱処理温度は45
0℃以上700℃以下の範囲内であればよい。
【0124】また、この場合、反応ガスにはアンモニア
ガスとアルゴンガス等の不活性ガスの混合ガスを用いる
と、窒化チタンを形成することなく本発明のTi−O−
N相を形成するための条件範囲が広くなり、製造の再現
性が向上する。またガスの取り扱いも容易となり都合が
よい。また、アンモニアガス、あるいは窒素を含む雰囲
気中で熱処理する前に、予備熱処理をすることにより、
ハニカム構造体と光触媒粒子との密着性が向上する。
【0125】図15に、上記ハニカム構造体にコーティ
ングするのと同様に、(窒素+アルゴン)混合ガス流中で
熱処理することによりガラス板上に製造した膜状Ti−
O−Nの光透過スペクトルを示す。処理時間が30分、
60分と長くなるのに伴って可視光透過率が減少してい
ることから、アンモニア雰囲気中での熱処理により可視
光吸収性能が向上していると判断できる。
【0126】図16は、これらの膜のXPSによる分析
結果である。396〜397eV付近に、Ti−N結合
に由来するピークが観察される。X線回折においては窒
化チタン(TiN)結晶に由来する回折線は観察されな
いことから、本実施例の処理により、酸化チタン結晶の
酸素サイトの一部を窒素原子で置換することにより酸化
チタン結晶を窒素を含有させた光触媒体が形成されてい
ることがわかる。
【0127】また、XPSにより分析した組成比は、い
ずれの処理条件の場合においてもTi34651であっ
た。
【0128】ここで、ハニカム構造体の表面にTi−O
−Nをコーティングするためのゾルは、通常チタニア膜
を形成するのに使われるチタンアルコキシドでもよい。
塩化チタン、有機チタン化合物などの溶液でもよい。ま
た、チタンイソプロポキシドのエタノール溶液中に、塩
酸とエタノールを溶解させた水溶液を混合する。この混
合溶液を、40〜50℃の温度で撹拌すると、ゾルが形
成されるが、これを用いてもよい。
【0129】また、ハニカム構造体の代わりにグラスフ
ァイバー、ゼオライト、FSM多孔体、活性炭、繊維等
を用いて、Ti−O−N光触媒を形成してもよい。
【0130】「参考例6」 本参考例では、超微粒子光触媒Ti−O−N膜の作製例
を示す。製造した装置は、図17に示す装置であり、超
微粒子生成室10、差動排気室12、膜形成室14から
なり、超微粒子生成室10は差動排気室12と管16に
より接続され、差動排気室12と膜形成室14が弁20
を有する管18によって連結されている。また、超微粒
子生成室10、差動排気室12、膜形成室14には、真
空ポンプ22がそれぞれ弁を介し接続されている。さら
に、超微粒子生成室10には、抵抗加熱可能なコンポジ
ットECポート24が設けられており、またヘリウムガ
スおよび窒素+酸素混合ガスが導入できるようになって
いる。また、膜形成室14には、成膜台26が設けられ
ている。
【0131】まず、超微粒子生成室10、差動排気室1
2、膜形成室14ともに10-4Pa(10-6Torr)
程度の真空にする。その後、超微粒子生成室10にHe
ガスを13.3kPa(100Torr)になるまで導
入する。それから超微粒子生成室10内の窒素ガス噴出
孔を通して、所定の流量の窒素+酸素混合ガスを流し始
める。その後、コンポジットECボート24に通電し、
ボート24上の金属チタンが所定の蒸発温度となるよう
にコントロールする。蒸発したTiは窒素ならびに酸素
と反応して、Ti−O−Nを形成する。この時の反応ガ
スの流量比は窒素:酸素=99.99:0.01から9
0:10である。
【0132】反応生成した粒子を成膜する際には、差動
排気室12から膜形成室14に流れる弁20を開け、T
i−O−N粒子の混入したガスを、Heガス200ml
/minの流量で超微粒子生成室10に流す。膜形成室
14では、ガラス、セラミック、金属、活性炭等の有機
物、シリカ等の材料の板材や、ハニカム構造の多孔体を
成膜台26に載せておき、この成膜台26を所定の速度
で動かすことにより、超微粒子を混入させたガスを吹き
つけ、超微粒子膜を順次形成させていく。
【0133】なお、この手法では、蒸発材として金属チ
タンを用いたが、蒸発材に窒化チタンや酸化チタンを用
いてもよい。
【0134】またその他に本発明の光触媒を微粒子化す
る方法として、金属蒸気合成法、流動油状真空蒸発法等
の物理的手法が、またコロイド法、アルコキシド法など
の液相での化学的な方法、あるいは有機金属化合物の熱
分解法、チタン塩化物、酸化物・含水酸化物や酸窒化
物、窒化物の、アンモニアあるいは窒素を含むガス中で
の還元法のような気相中での化学的な方法によっても製
造できる。
【0135】「参考例7」 本参考例では、エマルジョン燃焼法を用いた、大きな比
表面積のTi−O−N光触媒粉末の製造方法を示す。本
発明の製造方法は、チタン、あるいはチタンと窒素原子
の両方を含む物質、あるいはチタンを含む物質と窒素原
子を含む物質の両方を可燃性液体中に懸濁させたサスペ
ンション、または上記物質を溶解した溶液を、可燃性液
体中に乳濁させたエマルションのうちの一方または双方
を噴霧するとともに該サスペンションまたはエマルショ
ンを窒素雰囲気、アンモニアガス雰囲気のいずれはある
いはこれらの組み合わせで加熱するものである。
【0136】金属そのもの、あるいは金属塩等が挙げら
れる。従って、チタンの塩化物、錯塩等が挙げられる。
すなわち、チタン原子を含み上記サスペンションまたは
エマルションを作製できるものであれば、その形状のい
かんによらず原料として用いることができる。また、チ
タンアルコキシドを用いてもよい。
【0137】また、サスペンションの調製は、チタン、
あるいはチタンと窒素原子の両方を含む物質、あるいは
チタンを含む物質と窒素原子を含む物質の両方をそのま
ま可燃性液体中に懸濁させる。エマルションの調製は、
チタン、あるいはチタンと窒素原子の両方を含む物質、
あるいはチタンを含む物質と窒素原子を含む物質の両方
を溶媒中に溶解させた溶液を可燃性液体中に乳濁させ
る。従って、必ずしも溶媒に溶解しない物質でも可燃性
液体中に乳濁させることにより、光触媒粉末の製造原料
として用いることができる。
【0138】なお、サスペンションの場合、可燃性液体
中に懸濁させる物質の形状としては、粒子状等、どのよ
うなものでもよいが、微細なものほど微細な粉末が得ら
れる。また、エマルションの場合、チタン、あるいはチ
タンと窒素原子の両方を含む物質、あるいはチタンを含
む物質と窒素原子を含む物質の両方を溶解させる溶媒と
しては、水が望ましい。
【0139】可燃性液体は、サスペンションまたはエマ
ルションの媒体となるものであり、灯油、ケロシン、ガ
ソリン等が挙げられ、それらのうちの1種または2種以
上で使用する。
【0140】サスペンションまたはエマルションの作製
時、液体状態で混合するため、該サスペンションまたは
エマルションは均質なものとなる。この均質性により、
窒酸化物の製造の際、サスペンションまたはエマルショ
ンの噴霧および加熱時に温度分布が生じないため、組成
の均一性が損なわれない。
【0141】なお、チタン、あるいはチタンと窒素原子
の両方を含む物質、あるいはチタンを含む物質と窒素原
子を含む物質の両方を溶解した溶液を可燃性液体中に乳
濁させる場合、乳化剤の添加、あるいはホモミキサ等に
よる攪拌を行うのがよい。乳化剤としては、金属イオン
を含まないものが望ましく、特にノニオン系界面活性剤
を用いるのが望ましい。
【0142】また、エマルションを作製する際、適切な
乳化剤を用いることにより、径がほぼ均一な球が分散し
た懸濁液が得られる。この分散球の径の均一性が得られ
る光触媒粉末の粒径に反映される。分散球の径が均一な
エマルションを作製することは容易であり、従って、粒
径の均一な酸化物粉末を製造することは容易である。ま
た、噴霧粒子の凝集もないためより粒径の均一な酸化物
粉末が得られる。
【0143】サスペンションまたはエマルションを噴霧
する方法としては、圧縮空気を用いる噴霧器に、定量ポ
ンプによりサスペンションまたはエマルションを供給
し、噴霧する方法等が挙げられる。噴霧量は多いほど生
産効率がよいが、燃焼温度が高くなりすぎるために、噴
霧に上限が存在することがある。
【0144】本参考例では、サスペンションまたはエマ
ルションを噴霧するとともに該サスペンションまたはエ
マルションを窒素雰囲気、アンモニアガス雰囲気のいず
れかあるいはこれらの組み合わせで加熱する。これによ
り、サスペンションまたはエマルション中の可燃性液体
を燃焼させる。
【0145】加熱方法としては、噴霧液滴をバーナ等に
より加熱する、あるいは噴霧液滴を火災または高温に加
熱した部分を通過させる方法等がある。加熱する際の雰
囲気としては、窒素雰囲気、アンモニアガス雰囲気のい
ずれはあるいはこれらの組み合わせが必要である。
【0146】製造した光触媒粉末は、飛散しないように
捕集する。このようにして、粉末を製造する。本発明で
は、従来のような仮焼、粉砕工程がないため、不純物の
混入がなく、少ない工程で行える。
【0147】本参考例の方法では、初期材料としてTi
膜としてはTiCl4、N源としてはNH4Clを用いた
ときに、Ti−O−N光触媒中のN組成比が4.5%で
あり、その後大気雰囲気中で500℃熱処理した後に
2.1%となった。また、大気雰囲気中で800℃熱処
理したときには1.4%となった。前者2つの結晶相は
アナターゼ、後者はルチルであったが、いずれも可視光
領域において光触媒活性を示した。
【0148】また、初期材料として、Ti源としてはT
iCl4、N源として、液中にNH4 +イオンを含ませる
かわりに、アンモニアガスを導入しつつ製造した場合に
おいてもTi−O−N光触媒中のN組成比0.9%の光
触媒体が得られた。
【0149】「実施例6」 本発明の光触媒を実現する方法として、窒化チタン、あ
るいは酸窒化チタンを酸化する方法も有効である。ここ
では、窒化チタン粉末を酸素雰囲気中で酸化する実施例
について述べる。
【0150】窒化チタン粉末(高純度科学製、平均一次
粒子径33nm)を、石英管中におき、酸素雰囲気中で
400℃、90分熱処理した。この処理により、粉末は
黄色の焼結体を形成した。これを乳鉢で粉砕することに
より黄色の微粉末が作製された。この粉末について、X
線回折分析を行ったところ、ルチル型酸化チタンの強い
(110),(101),(200),(111),(21
0),(211),(220)回折線と、非常に弱いTi
N(200)回折線が観察された。(100)回折線の半
値幅から見積もったルチル酸化チタンの平均一次粒子径
は42nmであった。またXPSによって、粉末中にT
i−Nの化学的結合が存在することも明らかとなった。
【0151】この粉末の拡散反射スペクトルを図18に
示す。図中の符号111で示す曲線が本実施例の光触媒
粉末の反射スペクトル、符号112で示す曲線が平均一
次粒子径19nmのルチル型酸化チタンの反射スペクト
ルである。この結果から、本実施例のTiO−Nは、通
常のルチル型酸化チタンよりも光吸収端が長波長側にシ
フトしており、可視光を吸収する。
【0152】この粉末を用いて、メチレンブルー水溶液
の可視光照射による分解を行った。約5ccの10μM
メチレンブルー水溶液中に、約0.05gの粉末をい
れ、撹拌しながら可視光照射を行った。光源には、10
W蛍光管(松下電工、FL10N)の周囲に紫外線カッ
トフィルタ(富士フィルム、SC42)を取り付けたも
のを用い、ほぼλ≧400nmの可視光とした。光源と
の距離は1cmとした。紫外線強度は、0.0μW/c
2であった(トプコン製の光強度計、UVR−2及び
UD−36使用)。48時間照射後、溶液はほぼ無色透
明に脱色された。
【0153】このように、初めからTi−N結合を有す
る材料を用いれば、容易にTiO−N光触媒が形成でき
る。また、処理条件を選ぶことにより、粉末内部にTi
−O−N、最表面に酸化チタンの構造を有する光触媒体
を形成できる。
【0154】この方法では、550℃で処理した場合に
おいても、同様にルチル型可視光触媒粉末が得られた。
この方法に限らず、処理雰囲気としては酸化雰囲気であ
れば、酸素ガス、オゾン、水分子、ヒドロキシル基を含
む雰囲気等どのような雰囲気でもよく、熱処理に限ら
ず、プラズマ処理によっても同様の効果が得られる。ま
た、酸化雰囲気中でのエマルジョン燃焼法によっても同
様に本発明の光触媒体が作製できる。これらの方法にお
いても、処理条件を選ぶことにより、粉末内部にTi−
O−N、最表面に酸化チタンの構造を有する光触媒体を
形成できる。
【0155】(光触媒の性能) 上記実施例に示した光触媒体を膜構造にした場合の、図
14(a)に示す波長λ≧410nmの可視光照射にお
けるメチレンブルーの分解性能を図14(b)に示す。
測定したサンプルは、薄膜形状にしやすい実施例の実験
結果を示した。具体的には、図中○で示したのが既に説
明した参考例4のスパッタリングにより作成したTi−
O−N膜、□(白抜きの四角)で示したのが実施例4の
蒸着膜、黒塗りの四角で示したのが実施例4のイオンプ
レーティング膜、△(白抜きの三角)で示したのが実施
例5の酸化チタンのアンモニア処理膜、についての実験
結果である。また、比較例として、酸化チタン膜の特性
も図に◆(黒塗りの菱形)で示した。これらの結果か
ら、本発明の光触媒体、ならびに製造方法は、紫外光の
みならず可視光の照射によっても高い活性を呈する光触
媒の実現に有効であることが明らかである。
【0156】さらに、光触媒体1の光触媒薄膜を白色蛍
光灯の下で評価した場合の結果を図19に示す。輝度2
000cd/m2の蛍光管から15mm離れた位置から
光を照射した。本発明の光触媒は、蛍光灯下でも光触媒
活性が高い。白色蛍光灯は太陽光と比較して紫外線の含
有量がきわめて低い。従って、従来の酸化チタン光触媒
では、一般の室内住環境下では、光触媒性能が発揮でき
なかった。これに対し、本発明の光触媒は室内環境下に
おいても十分に効果を発揮することがわかる。
【0157】(その他) なお、本発明のTi−O−Nの結晶系であるが、材料内
部に窒化チタンTiN結晶を形成することは好ましくな
い。本発明にかかわるTi−O−NではN原子は、上述
したように、酸化チタン結晶の格子間に窒素原子をドー
ピングすること、または酸化チタンの結晶粒界に窒素原
子をドーピングすること、より好ましくは酸化チタン結
晶の酸素サイトの一部を窒素原子で置換すること、のい
ずれかまたはこれらの組み合わせによるため、X線回折
法による解析では酸化チタンの回折線のみが現れる。一
般に従来技術の酸化チタン光触媒では、アナターゼ型の
活性が高いため望ましいとされているが、本発明のTi
−O−N光触媒では、その基本結晶としてアナターゼ、
ルチル、ブルッカイトのいずれの結晶系でもよい。
【0158】なお本発明の光触媒は、還元触媒としても
使用できる。また、ある物質を原料にして他の物質を合
成する触媒としての使用も可能である。
【産業上の利用可能性】
【0159】本発明による光触媒は、可視光により動作
する。このため、可視光が照射される状況下に置かれる
各種材料の表面に形成することなどにより、防曇や有機
物除去などが行える。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 多賀 康訓 愛知県愛知郡長久手町大字長湫字横道41 番地の1 株式会社豊田中央研究所内 (56)参考文献 特開 平11−180736(JP,A) 特開 平10−152396(JP,A) 特開 平8−134630(JP,A) 特開2000−70709(JP,A) 特開2000−143241(JP,A) 特開2000−140636(JP,A) 特開2001−347162(JP,A) 特開2001−354422(JP,A) 特開2001−72419(JP,A) S. Sato,Photocata lytic Activity of NOx−Doped TiO2 in the Visible Light Region,Chemical Ph ysics Letters,1986年, Vol. 123, No. 1,2,p. 126−128 野田博行,及川和夫,尾杉健明,松木 健三,鎌田仁,酸化チタン(IV)の調 製法とキャラクタリゼーション,日本化 学会誌,1986年,No. 8,p.1084 −1090 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01J 21/00 - 37/36 CA(STN)

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 窒酸化チタン、酸化チタン、金属チタン
    のうち少なくとも一つをターゲット材料とし、これを窒
    素を含む雰囲気中で蒸着又はイオンプレーティングした
    後、アンモニアガスを含む雰囲気中で400℃以上70
    0℃以下の温度で熱処理することで、酸化チタン結晶に
    窒素を含有させたTi−O−N構成を有し、可視光領域
    において光触媒作用を発現する光触媒物質の薄膜を基材
    上に形成する光触媒体の形成方法。
  2. 【請求項2】 窒化チタンあるいは酸窒化チタンを酸素
    ガスを含む雰囲気中で400℃または550℃で熱処理
    することにより、酸化チタン結晶に窒素を含有し、チタ
    ン原子と窒素原子の化学結合を有するTi−O−N構成
    を含み、可視光領域において光触媒作用を発現する光触
    媒物質の形成方法。
  3. 【請求項3】 酸化チタンあるいは含水酸化チタンをア
    ンモニアガスを含む雰囲気、あるいは窒素ガスを含む雰
    囲気、あるいは窒素ガスと水素ガスの混合雰囲気で熱処
    理し、酸化チタン結晶に窒素を含有させたTi−O−N
    構成を有し、可視光領域において光触媒作用を発現する
    光触媒物質の製造方法。
  4. 【請求項4】 チタンアルコキシド溶液を、アンモニア
    ガスを含む雰囲気、あるいは窒素ガスを含む雰囲気、あ
    るいは窒素ガスと水素ガスの混合雰囲気で熱処理する、
    酸化チタン結晶に窒素を含有させたTi−O−N構成を
    有し、可視光領域において光触媒作用を発現する光触媒
    物質の製造方法。
  5. 【請求項5】 窒化チタン結晶、あるいは窒酸化チタン
    結晶を、酸素、オゾン、水分子、あるいはヒドロキシル
    基を含む酸化雰囲気中で熱処理あるいはプラズマ処理す
    ることで、酸化チタン結晶に窒素を含有させたTi−O
    −N構成を有し、可視光領域において光触媒作用を発現
    する光触媒物質の製造方法。
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