JPH11180736A - 多層膜付きガラス - Google Patents
多層膜付きガラスInfo
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- JPH11180736A JPH11180736A JP9349090A JP34909097A JPH11180736A JP H11180736 A JPH11180736 A JP H11180736A JP 9349090 A JP9349090 A JP 9349090A JP 34909097 A JP34909097 A JP 34909097A JP H11180736 A JPH11180736 A JP H11180736A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/71—Photocatalytic coatings
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガラス基板の膜面側の反射率を低減してグレ
アー感を抑え、透視性を向上し、更に光触媒機能も充分
に発揮できるようにすること。 【解決手段】 ガラス基板上にＣＶＤ法により光触媒作
用を有する酸化チタン膜を形成した膜付きガラスであっ
て、基板と酸化チタン膜の間に屈折率が 2.6〜 2.9の高
屈折率膜を含む下層膜を介在させ、酸化チタン膜、下層
膜、およびガラス基板との間の光干渉作用により膜付け
ガラス表面の反射率を低減した多層膜付きガラス。
アー感を抑え、透視性を向上し、更に光触媒機能も充分
に発揮できるようにすること。 【解決手段】 ガラス基板上にＣＶＤ法により光触媒作
用を有する酸化チタン膜を形成した膜付きガラスであっ
て、基板と酸化チタン膜の間に屈折率が 2.6〜 2.9の高
屈折率膜を含む下層膜を介在させ、酸化チタン膜、下層
膜、およびガラス基板との間の光干渉作用により膜付け
ガラス表面の反射率を低減した多層膜付きガラス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、建築用、車両など
の輸送機用等各種窓材として、光反射によるグレアー感
（ギラツキ感）を抑え、防汚性、親水・防曇性等に優れ
る多層膜付きガラスに関する。
の輸送機用等各種窓材として、光反射によるグレアー感
（ギラツキ感）を抑え、防汚性、親水・防曇性等に優れ
る多層膜付きガラスに関する。
【０００２】
【従来技術および解決すべき課題】紫外線等の照射によ
り化学活性を生じ、防汚性、親水・防曇性等を発現する
酸化チタン（殊にアナターゼ）をはじめとする光触媒物
質は、その特性を利用してガラスやセラミックタイル、
ボード等の被覆材として汎く利用されつつある。
り化学活性を生じ、防汚性、親水・防曇性等を発現する
酸化チタン（殊にアナターゼ）をはじめとする光触媒物
質は、その特性を利用してガラスやセラミックタイル、
ボード等の被覆材として汎く利用されつつある。
【０００３】ところで、窓材として多用されるソーダ石
灰系ガラス等に酸化チタン膜を膜付けしたものは、酸化
チタン自体高い光屈折率によって高い可視光線反射率を
有するため、反射光によるグレアー感が高く、透視性を
阻害するという不都合がある。
灰系ガラス等に酸化チタン膜を膜付けしたものは、酸化
チタン自体高い光屈折率によって高い可視光線反射率を
有するため、反射光によるグレアー感が高く、透視性を
阻害するという不都合がある。
【０００４】特公平８−20569 号公報には、水銀灯や紫
外線照射ランプ等における反射板、透過板等の基板表面
に、屈折率の大きいλ／４膜（TiO2、CeO2、ZrO2、ZnS
等屈折率が 2.0〜2.6 程度のもの）と、屈折率の小さい
λ／４膜（CaF2、MgF2、SiO2、Al2O3 等屈折率が 1.3〜
1.6 程度のもの）とを交互に積層形成し、その最上層に
TiO2等からなる透明な光触媒層を形成したこと、それに
より表面への汚れの付着が殆どなく、初期の反射率ある
いは透過率を長期にわたり維持することが開示されてい
るとおり、光触媒膜の下に多層積層膜を形成することは
公知である。なお、該公知例には、膜付け手段としてＣ
ＶＤ法を採用することについては、開示、示唆されてい
ない。
外線照射ランプ等における反射板、透過板等の基板表面
に、屈折率の大きいλ／４膜（TiO2、CeO2、ZrO2、ZnS
等屈折率が 2.0〜2.6 程度のもの）と、屈折率の小さい
λ／４膜（CaF2、MgF2、SiO2、Al2O3 等屈折率が 1.3〜
1.6 程度のもの）とを交互に積層形成し、その最上層に
TiO2等からなる透明な光触媒層を形成したこと、それに
より表面への汚れの付着が殆どなく、初期の反射率ある
いは透過率を長期にわたり維持することが開示されてい
るとおり、光触媒膜の下に多層積層膜を形成することは
公知である。なお、該公知例には、膜付け手段としてＣ
ＶＤ法を採用することについては、開示、示唆されてい
ない。
【０００５】別に、光触媒膜とガラス基体の間に、下層
膜としてSiO2主体の膜を介在させること、それによりガ
ラス基体からの光触媒膜への光触媒活性を損なうような
成分の浸出を抑制することも公知である（例えば特開平
9ー100140号公報）。但し単にSiO2主体の膜を設けたとこ
ろで、ガラス基板の可視光線反射率を低減することはで
きない。
膜としてSiO2主体の膜を介在させること、それによりガ
ラス基体からの光触媒膜への光触媒活性を損なうような
成分の浸出を抑制することも公知である（例えば特開平
9ー100140号公報）。但し単にSiO2主体の膜を設けたとこ
ろで、ガラス基板の可視光線反射率を低減することはで
きない。
【０００６】また、ＰＶＤ法、ゾルゲル法、あるいはＣ
ＶＤ法によってもガラス等の物品上に防曇性の酸化チタ
ン膜（光触媒膜）を形成できることは知られている（例
えば特開平８−313705号公報）。しかし、ＣＶＤ法によ
り酸化チタン膜を形成する際に下層膜を介在させ、ガラ
ス基板の可視光線反射率を低減させたり、酸化チタン膜
（光触媒膜）の光触媒活性を賦活させたりすることにつ
いては開示、示唆されていない。
ＶＤ法によってもガラス等の物品上に防曇性の酸化チタ
ン膜（光触媒膜）を形成できることは知られている（例
えば特開平８−313705号公報）。しかし、ＣＶＤ法によ
り酸化チタン膜を形成する際に下層膜を介在させ、ガラ
ス基板の可視光線反射率を低減させたり、酸化チタン膜
（光触媒膜）の光触媒活性を賦活させたりすることにつ
いては開示、示唆されていない。
【０００７】本発明は、ガラス基板に、光触媒活性の高
いＣＶＤ法による酸化チタン膜を形成し、更に１層以上
の高屈折率膜を含む下層膜を介在させることにより、建
築用、車両などの輸送機用等各種窓材として、光反射に
よるグレアー感を抑え、防汚性、親水・防曇性等に優れ
る多層膜付きガラスを提供するものである。
いＣＶＤ法による酸化チタン膜を形成し、更に１層以上
の高屈折率膜を含む下層膜を介在させることにより、建
築用、車両などの輸送機用等各種窓材として、光反射に
よるグレアー感を抑え、防汚性、親水・防曇性等に優れ
る多層膜付きガラスを提供するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、ガラス基板上
に、光触媒作用を有する酸化チタン膜をＣＶＤ法により
形成した膜付きガラスであって、基板と酸化チタン膜の
間に屈折率が 2.6〜 2.9の高屈折率膜を含む１層以上の
下層膜を介在させ、酸化チタン膜、下層膜、およびガラ
ス基板との間の光干渉作用により膜付きガラス表面の可
視光線反射率を低減した多層膜付きガラスである。
に、光触媒作用を有する酸化チタン膜をＣＶＤ法により
形成した膜付きガラスであって、基板と酸化チタン膜の
間に屈折率が 2.6〜 2.9の高屈折率膜を含む１層以上の
下層膜を介在させ、酸化チタン膜、下層膜、およびガラ
ス基板との間の光干渉作用により膜付きガラス表面の可
視光線反射率を低減した多層膜付きガラスである。
【０００９】なお、高屈折率膜が酸化鉄、酸化コバル
ト、酸化銅のうち少なくとも１種を主成分とするのが好
ましい。
ト、酸化銅のうち少なくとも１種を主成分とするのが好
ましい。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明において、酸化チタン膜を
ＣＶＤ法により膜付けすることを前提とする。前記ＣＶ
Ｄ法によるところの酸化チタン膜（アナターゼ）は、ス
プレー法やゾルゲル法等、他の手段で膜付けした酸化チ
タン膜に比べアナターゼの結晶度が高く、光触媒活性に
きわめて富むものである。本出願人は、先の特許出願
‘特願平９−233689号’において、１以上の被膜を形成
したガラス板であって、その最上層に、ＣＶＤ法により
膜付けされた酸化チタン被膜を有し、該酸化チタン被膜
は、Ｘ線（Cu kα線）回折において、結晶面間隔ｄ値が
3.5Ａ、 1.9Ａの少なくとも２カ所に夫々回折ピークを
有し、ｄ値 1.9Ａのピーク高さで示す回折強度が 3.5Ａ
の回折強度の１／10以上である光触媒作用を有する被膜
形成ガラス、およびその常圧熱ＣＶＤ法による製法を、
またその酸化チタン被膜は、極めて光触媒活性の高いも
のであることを提起した。本発明における酸化チタン膜
は、前記先の出願の構成からなる酸化チタン膜であるこ
とが望ましい。
ＣＶＤ法により膜付けすることを前提とする。前記ＣＶ
Ｄ法によるところの酸化チタン膜（アナターゼ）は、ス
プレー法やゾルゲル法等、他の手段で膜付けした酸化チ
タン膜に比べアナターゼの結晶度が高く、光触媒活性に
きわめて富むものである。本出願人は、先の特許出願
‘特願平９−233689号’において、１以上の被膜を形成
したガラス板であって、その最上層に、ＣＶＤ法により
膜付けされた酸化チタン被膜を有し、該酸化チタン被膜
は、Ｘ線（Cu kα線）回折において、結晶面間隔ｄ値が
3.5Ａ、 1.9Ａの少なくとも２カ所に夫々回折ピークを
有し、ｄ値 1.9Ａのピーク高さで示す回折強度が 3.5Ａ
の回折強度の１／10以上である光触媒作用を有する被膜
形成ガラス、およびその常圧熱ＣＶＤ法による製法を、
またその酸化チタン被膜は、極めて光触媒活性の高いも
のであることを提起した。本発明における酸化チタン膜
は、前記先の出願の構成からなる酸化チタン膜であるこ
とが望ましい。
【００１１】本発明におけるガラス基板としては、汎用
されるソーダ石灰系ガラスをはじめとするアルカリ苦土
石灰珪酸系ガラス、アルミノ珪酸石灰系ガラス、アルカ
リほう珪酸系ガラス等のガラス組成物が適用できる。こ
れらガラスの屈折率は1.45〜1.55の範囲に入る。
されるソーダ石灰系ガラスをはじめとするアルカリ苦土
石灰珪酸系ガラス、アルミノ珪酸石灰系ガラス、アルカ
リほう珪酸系ガラス等のガラス組成物が適用できる。こ
れらガラスの屈折率は1.45〜1.55の範囲に入る。
【００１２】酸化チタン膜は、前記した如くＣＶＤ法に
より膜付けした光触媒活性の高い膜であり、その屈折率
は略 2.3〜2.5 である。該酸化チタン膜はガラス基板の
片面に膜付けした場合や両面に膜付けした場合でもよ
い。
より膜付けした光触媒活性の高い膜であり、その屈折率
は略 2.3〜2.5 である。該酸化チタン膜はガラス基板の
片面に膜付けした場合や両面に膜付けした場合でもよ
い。
【００１３】例えばソーダ石灰系ガラス（屈折率 1.5〜
1.55程度）の片面に直接酸化チタン膜を膜付けした場
合、膜面側の可視光線反射率は38％に及び、グレアー感
が強く、透視性が著しく阻害される。また、ガラス中の
ナトリウム分が酸化チタン膜中に拡散し、チタン酸ナト
リウムを形成して光触媒機能を失活させる。本発明にお
いては、それら弊害を排除するために、下層膜を介在さ
せるものである。
1.55程度）の片面に直接酸化チタン膜を膜付けした場
合、膜面側の可視光線反射率は38％に及び、グレアー感
が強く、透視性が著しく阻害される。また、ガラス中の
ナトリウム分が酸化チタン膜中に拡散し、チタン酸ナト
リウムを形成して光触媒機能を失活させる。本発明にお
いては、それら弊害を排除するために、下層膜を介在さ
せるものである。
【００１４】なお、酸化チタン膜の膜厚はその光触媒活
性を充分発揮できる膜厚、すなわち40nm以上であればよ
い。膜表裏面での反射光の干渉を考慮し、70nm以下とす
べきである。
性を充分発揮できる膜厚、すなわち40nm以上であればよ
い。膜表裏面での反射光の干渉を考慮し、70nm以下とす
べきである。
【００１５】本発明において、前記可視光線反射率を低
減するうえで、下記の公知の式に基づき、下記ｎ2 に近
い屈折率を有する高屈折率膜を下層膜として採用するも
のである。
減するうえで、下記の公知の式に基づき、下記ｎ2 に近
い屈折率を有する高屈折率膜を下層膜として採用するも
のである。
【００１６】ｎ22ｎ0 ＝ｎ12ｎs ただし、ｎ0：大気中の屈折率 ｎ1：酸化チタン膜の屈折率 ｎ2：高屈折率膜の屈折率 ｎS：基板ガラスの屈折率 なお、各層の膜厚の関係は以下に示される。 λ／４＝ｎ1Ｄ1＝ｎ2Ｄ2 （但し、λ：入射波長 Ｄ1:TiO2膜厚 Ｄ2:高屈折率膜
膜厚）
膜厚）
【００１７】上式に従い、高屈折率膜の屈折率を 2.6〜
2.9 とし、好適には、酸化鉄、酸化コバルト、酸化銅の
うち少なくとも１種を主成分とするものを選択するもの
で、例えば、Fe2O3(屈折率ｎ≒ 2.9）、Fe3O4(ｎ≒ 2.
9）、CoO(ｎ≒ 2.7）、2Co3O4・Cr2O3(ｎ≒ 2.6) 、5Co
2O3・Fe2O3(ｎ≒ 2.8）、 Co2O3・CuO(ｎ≒ 2.6) 等が
例示できる。
2.9 とし、好適には、酸化鉄、酸化コバルト、酸化銅の
うち少なくとも１種を主成分とするものを選択するもの
で、例えば、Fe2O3(屈折率ｎ≒ 2.9）、Fe3O4(ｎ≒ 2.
9）、CoO(ｎ≒ 2.7）、2Co3O4・Cr2O3(ｎ≒ 2.6) 、5Co
2O3・Fe2O3(ｎ≒ 2.8）、 Co2O3・CuO(ｎ≒ 2.6) 等が
例示できる。
【００１８】なお、特に光吸収性の下層膜を設けること
により、該下層膜が紫外光を吸収して一時的に電子−正
孔対を形成し、その一部が酸化チタン側に移動して、酸
化チタンのもつ光触媒作用に寄与している電子−正孔対
の数を増大させ、光触媒作用を賦活することが推考され
る。また、光吸収性の下層膜として、概してFe3O4 等ス
ピネル系結晶を呈するものが、酸化チタンの光触媒作用
を賦活するうえで効果が顕著であることが伺える。
により、該下層膜が紫外光を吸収して一時的に電子−正
孔対を形成し、その一部が酸化チタン側に移動して、酸
化チタンのもつ光触媒作用に寄与している電子−正孔対
の数を増大させ、光触媒作用を賦活することが推考され
る。また、光吸収性の下層膜として、概してFe3O4 等ス
ピネル系結晶を呈するものが、酸化チタンの光触媒作用
を賦活するうえで効果が顕著であることが伺える。
【００１９】下層膜は上記高屈折率膜のみであってもよ
いし、更にSnO2や NiO系膜等上記高屈折率膜より低屈折
率の膜との積層構造であってもよい。
いし、更にSnO2や NiO系膜等上記高屈折率膜より低屈折
率の膜との積層構造であってもよい。
【００２０】
【実施例】以下実施例により本発明を詳述する。 <<実施例１>>下層膜として、鉄のアセチルアセトネート
をジクロロメタンに溶解した溶液を、厚み５mmのソーダ
石灰系ガラス（屈折率1.53）基板上に導き、スプレー−
熱分解法により該基板上に酸化鉄膜を成膜した。得られ
た膜は、分光反射率から光学理論に基づいて屈折率と膜
厚を算定したところ、屈折率 2.9、膜厚は65nmであっ
た。
をジクロロメタンに溶解した溶液を、厚み５mmのソーダ
石灰系ガラス（屈折率1.53）基板上に導き、スプレー−
熱分解法により該基板上に酸化鉄膜を成膜した。得られ
た膜は、分光反射率から光学理論に基づいて屈折率と膜
厚を算定したところ、屈折率 2.9、膜厚は65nmであっ
た。
【００２１】また、Ｘ線回折パターンより、コランダム
型結晶の Fe2O3とスピネル型結晶のFe3O4 の混相と同定
された。
型結晶の Fe2O3とスピネル型結晶のFe3O4 の混相と同定
された。
【００２２】上記酸化鉄下層膜付ガラス基板上に、更に
テトライソプロポキシチタネートよりなる蒸気を、キャ
リアーガスとしての加熱窒素ガス、酸素供給源としての
加熱空気とともに導き、常圧−熱ＣＶＤ法により、前記
下層膜上に酸化チタン被膜を成膜した。
テトライソプロポキシチタネートよりなる蒸気を、キャ
リアーガスとしての加熱窒素ガス、酸素供給源としての
加熱空気とともに導き、常圧−熱ＣＶＤ法により、前記
下層膜上に酸化チタン被膜を成膜した。
【００２３】該酸化チタン被膜は、前記同様に分光反射
率測定、算定したところ、屈折率 2.4、膜厚55nmであ
り、Ｘ線回折により、アナターゼ型酸化チタンと同定さ
れた。
率測定、算定したところ、屈折率 2.4、膜厚55nmであ
り、Ｘ線回折により、アナターゼ型酸化チタンと同定さ
れた。
【００２４】上記膜付け調整したガラス基板の膜面側の
可視光反射率を、分光透過率・反射率計で測定した。図
１は本実施例１の分光反射率をあらわすグラフであり、
図中縦軸は反射率（Reflectance:％）、横軸は波長（Wa
velength：nm）を示すもので、可視光反射率は 8.4％で
あった。
可視光反射率を、分光透過率・反射率計で測定した。図
１は本実施例１の分光反射率をあらわすグラフであり、
図中縦軸は反射率（Reflectance:％）、横軸は波長（Wa
velength：nm）を示すもので、可視光反射率は 8.4％で
あった。
【００２５】上記ガラス基板の酸化チタン被膜上にオレ
イン酸を塗布後、紫外光（波長 305nm、照度 0.5mW／cm
2)を照射し、更に所定時間毎に水を滴下して水滴の付着
状況を撮影記録し、接触角を計測して接触角の変化を調
べた。結果は表１に示すとおりであり、後掲比較例１に
比べ、光触媒機能に優れていることが分かる。
イン酸を塗布後、紫外光（波長 305nm、照度 0.5mW／cm
2)を照射し、更に所定時間毎に水を滴下して水滴の付着
状況を撮影記録し、接触角を計測して接触角の変化を調
べた。結果は表１に示すとおりであり、後掲比較例１に
比べ、光触媒機能に優れていることが分かる。
【００２６】これは下層膜が紫外光を吸収し、一時的に
電子−正孔対が形成されたとき、その一部が酸化チタン
側に移動し、酸化チタンのもつ光触媒作用に寄与してい
る電子−正孔対の数を増大させたため、結果的に光触媒
作用が賦活されたものと推測される。
電子−正孔対が形成されたとき、その一部が酸化チタン
側に移動し、酸化チタンのもつ光触媒作用に寄与してい
る電子−正孔対の数を増大させたため、結果的に光触媒
作用が賦活されたものと推測される。
【００２７】<<実施例２>>下層膜として、コバルトアセ
チルアセトナートをジクロロメタンに溶解した溶液を実
施１同様のガラス基板上に導き、スプレー−熱分解法に
より該基板上に酸化コバルト膜を成膜した。該下層膜は
実施１同様の測定、算定によれば、屈折率2.7、膜厚50n
mであり、Ｘ線回折パターンより CoO（酸化コバルト）
と同定された。
チルアセトナートをジクロロメタンに溶解した溶液を実
施１同様のガラス基板上に導き、スプレー−熱分解法に
より該基板上に酸化コバルト膜を成膜した。該下層膜は
実施１同様の測定、算定によれば、屈折率2.7、膜厚50n
mであり、Ｘ線回折パターンより CoO（酸化コバルト）
と同定された。
【００２８】その上に、実施例１と全く同様に常圧−熱
ＣＶＤ法により酸化チタン被膜を成膜し、実施例１同様
の屈折率、膜厚のアナターゼ型酸化チタン膜を得た。
ＣＶＤ法により酸化チタン被膜を成膜し、実施例１同様
の屈折率、膜厚のアナターゼ型酸化チタン膜を得た。
【００２９】得られた積層膜形成ガラス基板の膜付け面
側の可視光線反射率は約10％であった。
側の可視光線反射率は約10％であった。
【００３０】実施例１と同様に、ガラス基板の酸化チタ
ン被膜上にオレイン酸を塗布し、紫外光を照射して、水
滴の接触角を計り、その変化を調べたところ、表１に示
すとおり光触媒機能に優れていることが分かった。
ン被膜上にオレイン酸を塗布し、紫外光を照射して、水
滴の接触角を計り、その変化を調べたところ、表１に示
すとおり光触媒機能に優れていることが分かった。
【００３１】<<実施例３>>下層膜として、銅アセチルア
セトナートを原料とし、加熱空気をキャリアーガスとし
て実施例１同様のガラス基板上に導き、常圧−熱ＣＶＤ
法により該基板上に酸化銅膜を成膜した。該下層膜は実
施１同様の測定、算定によれば、屈折率2.8 、膜厚40nm
であり、Ｘ線回折パターンより CuO（酸化銅）と同定さ
れた。
セトナートを原料とし、加熱空気をキャリアーガスとし
て実施例１同様のガラス基板上に導き、常圧−熱ＣＶＤ
法により該基板上に酸化銅膜を成膜した。該下層膜は実
施１同様の測定、算定によれば、屈折率2.8 、膜厚40nm
であり、Ｘ線回折パターンより CuO（酸化銅）と同定さ
れた。
【００３２】その上に、実施例１と全く同様に常圧−熱
ＣＶＤ法により酸化チタン被膜を成膜し、実施例１同様
の屈折率、膜厚のアナターゼ型酸化チタン膜を得た。
ＣＶＤ法により酸化チタン被膜を成膜し、実施例１同様
の屈折率、膜厚のアナターゼ型酸化チタン膜を得た。
【００３３】得られた積層膜形成ガラス基板の膜付け面
側の可視光線反射率は約６％であった。
側の可視光線反射率は約６％であった。
【００３４】実施例１と同様に、ガラス基板の酸化チタ
ン被膜上にオレイン酸を塗布し、紫外光を照射して、水
滴の接触角を計り、その変化を調べたところ表１に示す
とおり光触媒機能に優れていることが分かった。
ン被膜上にオレイン酸を塗布し、紫外光を照射して、水
滴の接触角を計り、その変化を調べたところ表１に示す
とおり光触媒機能に優れていることが分かった。
【００３５】<<比較例１>>下層膜として、珪酸エチルを
エチルアルコールに溶解した溶液を、ソーダ石灰系ガラ
ス基板上に塗布後、ガラス基板を 500℃に加熱して酸化
珪素膜を成膜した。得られた膜は、屈折率 1.4、膜厚は
100nmであった。その上に実施例１と全く同様に酸化チ
タン被膜を成膜した。
エチルアルコールに溶解した溶液を、ソーダ石灰系ガラ
ス基板上に塗布後、ガラス基板を 500℃に加熱して酸化
珪素膜を成膜した。得られた膜は、屈折率 1.4、膜厚は
100nmであった。その上に実施例１と全く同様に酸化チ
タン被膜を成膜した。
【００３６】なお積層膜形成ガラス基板の膜付け面側の
可視光線反射率は36％であった。実施例１と同様に、ガ
ラス基板の酸化チタン被膜上にオレイン酸を塗布し、紫
外光を照射して、水滴の接触角を計り、その変化を調べ
たところ、表１に示すとおり、各実施例に比べ光触媒機
能に劣るものであった。
可視光線反射率は36％であった。実施例１と同様に、ガ
ラス基板の酸化チタン被膜上にオレイン酸を塗布し、紫
外光を照射して、水滴の接触角を計り、その変化を調べ
たところ、表１に示すとおり、各実施例に比べ光触媒機
能に劣るものであった。
【００３７】 〔表１〕 照射時間(hr) ０ １ ３ ６ 10 試料 膜構成(厚み） 実施例１ 酸化チタン(55nm)/酸化鉄(65nm) 31.5゜ 22.0゜ 19.0゜ 5.5゜ 2.5゜ 実施例２ 酸化チタン(55nm)/酸化コハ"ルト(50nm) 31.5゜ 23.0゜ 20.0゜ 9.5゜ 2.5゜ 実施例３ 酸化チタン(55nm)/酸化銅(40nm) 31.5゜ 28.0゜ 19.5゜ 8.5゜ 2.0゜ 比較例１ 酸化チタン(55nm)/酸化珪素(100nm) 31.5゜ 33.0゜ 22.5゜ --- 4.0゜
【００３８】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、酸
化チタン被膜の下に特定屈折率の下層膜を介在させるこ
とにより、膜面側の反射率を低減してグレアー感を抑
え、透視性を向上し、更に光触媒機能も充分に発揮でき
るという効果を奏する。
化チタン被膜の下に特定屈折率の下層膜を介在させるこ
とにより、膜面側の反射率を低減してグレアー感を抑
え、透視性を向上し、更に光触媒機能も充分に発揮でき
るという効果を奏する。
【図１】多層膜付けガラスの分光反射率曲線の一例を示
すグラフである。
すグラフである。
Claims (2)
- 【請求項１】 ガラス基板上に、ＣＶＤ法により光触媒
作用を有する酸化チタン膜を形成した膜付きガラスであ
って、基板と酸化チタン膜の間に屈折率が 2.6〜 2.9の
高屈折率膜を含む１層以上の下層膜を介在させ、酸化チ
タン膜、下層膜、およびガラス基板との間の光干渉作用
により膜付きガラス表面の可視光線反射率を低減したこ
とを特徴とする多層膜付きガラス。 - 【請求項２】 高屈折率膜が酸化鉄、酸化コバルト、酸
化銅のうち少なくとも１種を主成分とする請求項１記載
の多層膜付きガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9349090A JPH11180736A (ja) | 1997-12-18 | 1997-12-18 | 多層膜付きガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9349090A JPH11180736A (ja) | 1997-12-18 | 1997-12-18 | 多層膜付きガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11180736A true JPH11180736A (ja) | 1999-07-06 |
Family
ID=18401432
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9349090A Pending JPH11180736A (ja) | 1997-12-18 | 1997-12-18 | 多層膜付きガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11180736A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004000988A (ja) * | 1999-08-05 | 2004-01-08 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 光触媒物質、光触媒体およびこれらの製造方法 |
| JP3498739B2 (ja) * | 1999-08-05 | 2004-02-16 | 株式会社豊田中央研究所 | 光触媒体の形成方法および光触媒物質の製造方法 |
| US6743749B2 (en) | 2000-01-27 | 2004-06-01 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Photocatalyst |
| JP2008104899A (ja) * | 2006-10-23 | 2008-05-08 | Sharp Corp | 光触媒膜、光触媒膜の製造方法およびこれを用いた水素発生装置 |
| JP2009050827A (ja) * | 2007-08-29 | 2009-03-12 | Sharp Corp | 半導体酸化物膜およびその製造方法、ならびに半導体酸化物膜を用いた水素発生装置 |
| JP2017167557A (ja) * | 2017-05-22 | 2017-09-21 | 旭硝子株式会社 | 光吸収体及びこれを用いた撮像装置 |
-
1997
- 1997-12-18 JP JP9349090A patent/JPH11180736A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004000988A (ja) * | 1999-08-05 | 2004-01-08 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 光触媒物質、光触媒体およびこれらの製造方法 |
| JP3498739B2 (ja) * | 1999-08-05 | 2004-02-16 | 株式会社豊田中央研究所 | 光触媒体の形成方法および光触媒物質の製造方法 |
| US6794065B1 (en) | 1999-08-05 | 2004-09-21 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Photocatalytic material and photocatalytic article |
| US6835688B2 (en) | 1999-08-05 | 2004-12-28 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Photocatalytic material, photocatalyst, photocatalytic article, and method for the preparation thereof |
| US6743749B2 (en) | 2000-01-27 | 2004-06-01 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Photocatalyst |
| JP2008104899A (ja) * | 2006-10-23 | 2008-05-08 | Sharp Corp | 光触媒膜、光触媒膜の製造方法およびこれを用いた水素発生装置 |
| JP2009050827A (ja) * | 2007-08-29 | 2009-03-12 | Sharp Corp | 半導体酸化物膜およびその製造方法、ならびに半導体酸化物膜を用いた水素発生装置 |
| JP2017167557A (ja) * | 2017-05-22 | 2017-09-21 | 旭硝子株式会社 | 光吸収体及びこれを用いた撮像装置 |
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