JPH11180736A - 多層膜付きガラス - Google Patents
多層膜付きガラスInfo
- Publication number
- JPH11180736A JPH11180736A JP9349090A JP34909097A JPH11180736A JP H11180736 A JPH11180736 A JP H11180736A JP 9349090 A JP9349090 A JP 9349090A JP 34909097 A JP34909097 A JP 34909097A JP H11180736 A JPH11180736 A JP H11180736A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- titanium oxide
- refractive index
- glass
- oxide film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 49
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 59
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 53
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 38
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims abstract description 27
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 8
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 claims description 8
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 5
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 4
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- -1 anatase) Chemical compound 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- FJDJVBXSSLDNJB-LNTINUHCSA-N cobalt;(z)-4-hydroxypent-3-en-2-one Chemical compound [Co].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O FJDJVBXSSLDNJB-LNTINUHCSA-N 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- ZKXWKVVCCTZOLD-UHFFFAOYSA-N copper;4-hydroxypent-3-en-2-one Chemical compound [Cu].CC(O)=CC(C)=O.CC(O)=CC(C)=O ZKXWKVVCCTZOLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 1
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007146 photocatalysis Methods 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- GROMGGTZECPEKN-UHFFFAOYSA-N sodium metatitanate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Ti](=O)O[Ti](=O)O[Ti]([O-])=O GROMGGTZECPEKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005118 spray pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/71—Photocatalytic coatings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
アー感を抑え、透視性を向上し、更に光触媒機能も充分
に発揮できるようにすること。 【解決手段】 ガラス基板上にCVD法により光触媒作
用を有する酸化チタン膜を形成した膜付きガラスであっ
て、基板と酸化チタン膜の間に屈折率が 2.6〜 2.9の高
屈折率膜を含む下層膜を介在させ、酸化チタン膜、下層
膜、およびガラス基板との間の光干渉作用により膜付け
ガラス表面の反射率を低減した多層膜付きガラス。
Description
の輸送機用等各種窓材として、光反射によるグレアー感
(ギラツキ感)を抑え、防汚性、親水・防曇性等に優れ
る多層膜付きガラスに関する。
り化学活性を生じ、防汚性、親水・防曇性等を発現する
酸化チタン(殊にアナターゼ)をはじめとする光触媒物
質は、その特性を利用してガラスやセラミックタイル、
ボード等の被覆材として汎く利用されつつある。
灰系ガラス等に酸化チタン膜を膜付けしたものは、酸化
チタン自体高い光屈折率によって高い可視光線反射率を
有するため、反射光によるグレアー感が高く、透視性を
阻害するという不都合がある。
外線照射ランプ等における反射板、透過板等の基板表面
に、屈折率の大きいλ/4膜(TiO2、CeO2、ZrO2、ZnS
等屈折率が 2.0〜2.6 程度のもの)と、屈折率の小さい
λ/4膜(CaF2、MgF2、SiO2、Al2O3 等屈折率が 1.3〜
1.6 程度のもの)とを交互に積層形成し、その最上層に
TiO2等からなる透明な光触媒層を形成したこと、それに
より表面への汚れの付着が殆どなく、初期の反射率ある
いは透過率を長期にわたり維持することが開示されてい
るとおり、光触媒膜の下に多層積層膜を形成することは
公知である。なお、該公知例には、膜付け手段としてC
VD法を採用することについては、開示、示唆されてい
ない。
膜としてSiO2主体の膜を介在させること、それによりガ
ラス基体からの光触媒膜への光触媒活性を損なうような
成分の浸出を抑制することも公知である(例えば特開平
9ー100140号公報)。但し単にSiO2主体の膜を設けたとこ
ろで、ガラス基板の可視光線反射率を低減することはで
きない。
VD法によってもガラス等の物品上に防曇性の酸化チタ
ン膜(光触媒膜)を形成できることは知られている(例
えば特開平8−313705号公報)。しかし、CVD法によ
り酸化チタン膜を形成する際に下層膜を介在させ、ガラ
ス基板の可視光線反射率を低減させたり、酸化チタン膜
(光触媒膜)の光触媒活性を賦活させたりすることにつ
いては開示、示唆されていない。
いCVD法による酸化チタン膜を形成し、更に1層以上
の高屈折率膜を含む下層膜を介在させることにより、建
築用、車両などの輸送機用等各種窓材として、光反射に
よるグレアー感を抑え、防汚性、親水・防曇性等に優れ
る多層膜付きガラスを提供するものである。
に、光触媒作用を有する酸化チタン膜をCVD法により
形成した膜付きガラスであって、基板と酸化チタン膜の
間に屈折率が 2.6〜 2.9の高屈折率膜を含む1層以上の
下層膜を介在させ、酸化チタン膜、下層膜、およびガラ
ス基板との間の光干渉作用により膜付きガラス表面の可
視光線反射率を低減した多層膜付きガラスである。
ト、酸化銅のうち少なくとも1種を主成分とするのが好
ましい。
CVD法により膜付けすることを前提とする。前記CV
D法によるところの酸化チタン膜(アナターゼ)は、ス
プレー法やゾルゲル法等、他の手段で膜付けした酸化チ
タン膜に比べアナターゼの結晶度が高く、光触媒活性に
きわめて富むものである。本出願人は、先の特許出願
‘特願平9−233689号’において、1以上の被膜を形成
したガラス板であって、その最上層に、CVD法により
膜付けされた酸化チタン被膜を有し、該酸化チタン被膜
は、X線(Cu kα線)回折において、結晶面間隔d値が
3.5A、 1.9Aの少なくとも2カ所に夫々回折ピークを
有し、d値 1.9Aのピーク高さで示す回折強度が 3.5A
の回折強度の1/10以上である光触媒作用を有する被膜
形成ガラス、およびその常圧熱CVD法による製法を、
またその酸化チタン被膜は、極めて光触媒活性の高いも
のであることを提起した。本発明における酸化チタン膜
は、前記先の出願の構成からなる酸化チタン膜であるこ
とが望ましい。
されるソーダ石灰系ガラスをはじめとするアルカリ苦土
石灰珪酸系ガラス、アルミノ珪酸石灰系ガラス、アルカ
リほう珪酸系ガラス等のガラス組成物が適用できる。こ
れらガラスの屈折率は1.45〜1.55の範囲に入る。
より膜付けした光触媒活性の高い膜であり、その屈折率
は略 2.3〜2.5 である。該酸化チタン膜はガラス基板の
片面に膜付けした場合や両面に膜付けした場合でもよ
い。
1.55程度)の片面に直接酸化チタン膜を膜付けした場
合、膜面側の可視光線反射率は38%に及び、グレアー感
が強く、透視性が著しく阻害される。また、ガラス中の
ナトリウム分が酸化チタン膜中に拡散し、チタン酸ナト
リウムを形成して光触媒機能を失活させる。本発明にお
いては、それら弊害を排除するために、下層膜を介在さ
せるものである。
性を充分発揮できる膜厚、すなわち40nm以上であればよ
い。膜表裏面での反射光の干渉を考慮し、70nm以下とす
べきである。
減するうえで、下記の公知の式に基づき、下記n2 に近
い屈折率を有する高屈折率膜を下層膜として採用するも
のである。
膜厚)
2.9 とし、好適には、酸化鉄、酸化コバルト、酸化銅の
うち少なくとも1種を主成分とするものを選択するもの
で、例えば、Fe2O3(屈折率n≒ 2.9)、Fe3O4(n≒ 2.
9)、CoO(n≒ 2.7)、2Co3O4・Cr2O3(n≒ 2.6) 、5Co
2O3・Fe2O3(n≒ 2.8)、 Co2O3・CuO(n≒ 2.6) 等が
例示できる。
により、該下層膜が紫外光を吸収して一時的に電子−正
孔対を形成し、その一部が酸化チタン側に移動して、酸
化チタンのもつ光触媒作用に寄与している電子−正孔対
の数を増大させ、光触媒作用を賦活することが推考され
る。また、光吸収性の下層膜として、概してFe3O4 等ス
ピネル系結晶を呈するものが、酸化チタンの光触媒作用
を賦活するうえで効果が顕著であることが伺える。
いし、更にSnO2や NiO系膜等上記高屈折率膜より低屈折
率の膜との積層構造であってもよい。
をジクロロメタンに溶解した溶液を、厚み5mmのソーダ
石灰系ガラス(屈折率1.53)基板上に導き、スプレー−
熱分解法により該基板上に酸化鉄膜を成膜した。得られ
た膜は、分光反射率から光学理論に基づいて屈折率と膜
厚を算定したところ、屈折率 2.9、膜厚は65nmであっ
た。
型結晶の Fe2O3とスピネル型結晶のFe3O4 の混相と同定
された。
テトライソプロポキシチタネートよりなる蒸気を、キャ
リアーガスとしての加熱窒素ガス、酸素供給源としての
加熱空気とともに導き、常圧−熱CVD法により、前記
下層膜上に酸化チタン被膜を成膜した。
率測定、算定したところ、屈折率 2.4、膜厚55nmであ
り、X線回折により、アナターゼ型酸化チタンと同定さ
れた。
可視光反射率を、分光透過率・反射率計で測定した。図
1は本実施例1の分光反射率をあらわすグラフであり、
図中縦軸は反射率(Reflectance:%)、横軸は波長(Wa
velength:nm)を示すもので、可視光反射率は 8.4%で
あった。
イン酸を塗布後、紫外光(波長 305nm、照度 0.5mW/cm
2)を照射し、更に所定時間毎に水を滴下して水滴の付着
状況を撮影記録し、接触角を計測して接触角の変化を調
べた。結果は表1に示すとおりであり、後掲比較例1に
比べ、光触媒機能に優れていることが分かる。
電子−正孔対が形成されたとき、その一部が酸化チタン
側に移動し、酸化チタンのもつ光触媒作用に寄与してい
る電子−正孔対の数を増大させたため、結果的に光触媒
作用が賦活されたものと推測される。
チルアセトナートをジクロロメタンに溶解した溶液を実
施1同様のガラス基板上に導き、スプレー−熱分解法に
より該基板上に酸化コバルト膜を成膜した。該下層膜は
実施1同様の測定、算定によれば、屈折率2.7、膜厚50n
mであり、X線回折パターンより CoO(酸化コバルト)
と同定された。
CVD法により酸化チタン被膜を成膜し、実施例1同様
の屈折率、膜厚のアナターゼ型酸化チタン膜を得た。
側の可視光線反射率は約10%であった。
ン被膜上にオレイン酸を塗布し、紫外光を照射して、水
滴の接触角を計り、その変化を調べたところ、表1に示
すとおり光触媒機能に優れていることが分かった。
セトナートを原料とし、加熱空気をキャリアーガスとし
て実施例1同様のガラス基板上に導き、常圧−熱CVD
法により該基板上に酸化銅膜を成膜した。該下層膜は実
施1同様の測定、算定によれば、屈折率2.8 、膜厚40nm
であり、X線回折パターンより CuO(酸化銅)と同定さ
れた。
CVD法により酸化チタン被膜を成膜し、実施例1同様
の屈折率、膜厚のアナターゼ型酸化チタン膜を得た。
側の可視光線反射率は約6%であった。
ン被膜上にオレイン酸を塗布し、紫外光を照射して、水
滴の接触角を計り、その変化を調べたところ表1に示す
とおり光触媒機能に優れていることが分かった。
エチルアルコールに溶解した溶液を、ソーダ石灰系ガラ
ス基板上に塗布後、ガラス基板を 500℃に加熱して酸化
珪素膜を成膜した。得られた膜は、屈折率 1.4、膜厚は
100nmであった。その上に実施例1と全く同様に酸化チ
タン被膜を成膜した。
可視光線反射率は36%であった。実施例1と同様に、ガ
ラス基板の酸化チタン被膜上にオレイン酸を塗布し、紫
外光を照射して、水滴の接触角を計り、その変化を調べ
たところ、表1に示すとおり、各実施例に比べ光触媒機
能に劣るものであった。
化チタン被膜の下に特定屈折率の下層膜を介在させるこ
とにより、膜面側の反射率を低減してグレアー感を抑
え、透視性を向上し、更に光触媒機能も充分に発揮でき
るという効果を奏する。
すグラフである。
Claims (2)
- 【請求項1】 ガラス基板上に、CVD法により光触媒
作用を有する酸化チタン膜を形成した膜付きガラスであ
って、基板と酸化チタン膜の間に屈折率が 2.6〜 2.9の
高屈折率膜を含む1層以上の下層膜を介在させ、酸化チ
タン膜、下層膜、およびガラス基板との間の光干渉作用
により膜付きガラス表面の可視光線反射率を低減したこ
とを特徴とする多層膜付きガラス。 - 【請求項2】 高屈折率膜が酸化鉄、酸化コバルト、酸
化銅のうち少なくとも1種を主成分とする請求項1記載
の多層膜付きガラス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9349090A JPH11180736A (ja) | 1997-12-18 | 1997-12-18 | 多層膜付きガラス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9349090A JPH11180736A (ja) | 1997-12-18 | 1997-12-18 | 多層膜付きガラス |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11180736A true JPH11180736A (ja) | 1999-07-06 |
Family
ID=18401432
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9349090A Pending JPH11180736A (ja) | 1997-12-18 | 1997-12-18 | 多層膜付きガラス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11180736A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004000988A (ja) * | 1999-08-05 | 2004-01-08 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 光触媒物質、光触媒体およびこれらの製造方法 |
JP3498739B2 (ja) * | 1999-08-05 | 2004-02-16 | 株式会社豊田中央研究所 | 光触媒体の形成方法および光触媒物質の製造方法 |
US6743749B2 (en) | 2000-01-27 | 2004-06-01 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Photocatalyst |
JP2008104899A (ja) * | 2006-10-23 | 2008-05-08 | Sharp Corp | 光触媒膜、光触媒膜の製造方法およびこれを用いた水素発生装置 |
JP2009050827A (ja) * | 2007-08-29 | 2009-03-12 | Sharp Corp | 半導体酸化物膜およびその製造方法、ならびに半導体酸化物膜を用いた水素発生装置 |
JP2017167557A (ja) * | 2017-05-22 | 2017-09-21 | 旭硝子株式会社 | 光吸収体及びこれを用いた撮像装置 |
-
1997
- 1997-12-18 JP JP9349090A patent/JPH11180736A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004000988A (ja) * | 1999-08-05 | 2004-01-08 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 光触媒物質、光触媒体およびこれらの製造方法 |
JP3498739B2 (ja) * | 1999-08-05 | 2004-02-16 | 株式会社豊田中央研究所 | 光触媒体の形成方法および光触媒物質の製造方法 |
US6794065B1 (en) | 1999-08-05 | 2004-09-21 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Photocatalytic material and photocatalytic article |
US6835688B2 (en) | 1999-08-05 | 2004-12-28 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Photocatalytic material, photocatalyst, photocatalytic article, and method for the preparation thereof |
US6743749B2 (en) | 2000-01-27 | 2004-06-01 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Photocatalyst |
JP2008104899A (ja) * | 2006-10-23 | 2008-05-08 | Sharp Corp | 光触媒膜、光触媒膜の製造方法およびこれを用いた水素発生装置 |
JP2009050827A (ja) * | 2007-08-29 | 2009-03-12 | Sharp Corp | 半導体酸化物膜およびその製造方法、ならびに半導体酸化物膜を用いた水素発生装置 |
JP2017167557A (ja) * | 2017-05-22 | 2017-09-21 | 旭硝子株式会社 | 光吸収体及びこれを用いた撮像装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5101789B2 (ja) | 可視光応答性の光活性の被膜、被覆物品およびその製法 | |
JP6247141B2 (ja) | 光誘導親水性物品及びその製造法 | |
US20050158591A1 (en) | Anti-reflection UV-blocking multilayer coatings having a thin film layer having cerium oxide, silicon dioxide and transition metal oxides | |
KR100498219B1 (ko) | 질화규소또는옥시질화물을원료로한적어도하나의얇은층을구비한투명기판과그제조방법및상기기판을이용한창유리조립체의제조방법 | |
KR101265729B1 (ko) | 광촉매 코팅을 구비한 기판 | |
EP1861339B1 (en) | Coating composition with solar properties | |
JP5121002B2 (ja) | 光触媒機能および熱線反射機能を有するガラス部材、ならびに、それを用いた複層ガラス | |
EP0901991A2 (en) | Photocatalytic glass pane and method for producing same | |
JP2005507974A6 (ja) | 可視光応答性の光活性の被膜、被覆物品およびその製法 | |
EP1453771B1 (en) | Self-cleaning glazing sheet | |
JP2013523494A (ja) | 不連続金属層を備えた日射制御コーティング | |
EP1554611B1 (en) | Hydrophilic reflective article | |
JP2005225758A (ja) | 光触媒コーティングを備えた基材 | |
KR20020026874A (ko) | 광촉매적 피막을 기판 위에 제조하는 방법 | |
JP5678058B2 (ja) | 光触媒材料 | |
AU2004245290B2 (en) | Coated glass | |
JP2000239047A (ja) | 親水性光触媒部材 | |
JPH11180736A (ja) | 多層膜付きガラス | |
EP1315681A1 (en) | Process for coating glass | |
JP2011149712A (ja) | 時計用カバーガラス、および時計 | |
HU224059B1 (hu) | Napfényszabályozó bevonattal ellátott, nagy reflexiós tényezőjű szubsztrátumok, eljárás előállításukra és alkalmazásuk | |
JP2000335940A (ja) | 低反射ガラス物品 | |
JP5991794B2 (ja) | 光誘導親水性物品及びその製造法 | |
JPH11302036A (ja) | 酸化チタン膜付き基板および酸化チタン膜の形成法 | |
JPH0656479A (ja) | 紫外線遮蔽膜および紫外線遮蔽ガラス |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090108 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 10 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090108 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 11 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100108 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 11 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100108 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 12 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110108 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110108 Year of fee payment: 12 |