JP2016023338A - 成膜用金属溶液およびこれを用いた成膜方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[実施例1]
塩化ニッケル(金属塩)をメタノール(溶媒)中に溶解させ、0.1Mニッケル溶液(金属溶液)を作製した。金基材上に固体電解質(デュポン社製:ナフィオンN117)及び多孔質ニッケル板を重ね合せた後、0.1Mニッケル溶液を多孔質ニッケル板上に滴下した。その後、多孔質ニッケルと銅基板を電気接続し、2.4Vの一定電位を60秒印可し、銅基材上にニッケルを成膜した。
実施例1と同じように、ニッケル皮膜を成膜した。実施例1と相違する点は、溶媒をエタノールに変更した点である。
実施例1と同じように、ニッケル皮膜を成膜した。実施例1と相違する点は、溶媒をプロパノール(1−プロパノール)に変更した点である。
実施例1と同じように、ニッケル皮膜を成膜した。実施例1と相違する点は、溶媒をメタノールと水との混合液体(メタノール90体積%:水10体積%)に変更した点である。
実施例1と同じように、ニッケル皮膜を成膜した。実施例1と相違する点は、溶媒をメタノールと水との混合液体(メタノール85体積%:水15体積%)に変更した点である。
実施例1と同じように、ニッケル皮膜を成膜した。実施例1と相違する点は、溶媒を水に変更した点である。
実施例1と同じように、ニッケル皮膜を成膜した。実施例1と相違する点は、溶媒をブタノール(1−ブタノール)に変更した点である。
実施例1〜4および比較例1〜3のニッケル皮膜を目視観察した。この結果を表1に示す。また、表1には、実施例1〜4および比較例1〜3において、25℃時における成膜用金属溶液(溶媒)の水素イオン濃度を算出した値(理論値)も合わせて示した。
実施例1〜4の場合には、得られたニッケル皮膜を目視確認したところ、ニッケルの析出が確認されると同時にその色調は一様であり、均一なニッケル皮膜が得られたことを確認した。なお、図3(a)は、実施例2に係るニッケル皮膜の写真である。
Claims (5)
- 陽極と、陰極となる基材との間に固体電解質膜を配置し、該固体電解質膜を基材に接触させると共に、前記陽極と前記基材との間に電圧を印加し、該固体電解質膜の内部に含有された金属イオンから金属を前記基材の表面に析出することにより、前記金属からなる金属皮膜を前記基材の表面に成膜する際に、前記固体電解質膜に前記金属イオンを供給するための成膜用金属溶液であって、
前記成膜用金属溶液は、溶媒と、該溶媒中にイオンの状態で溶解した前記金属を含み、
前記成膜用金属溶液の水素イオン濃度は、25℃において0〜10−7.85mol/Lの範囲にあることを特徴とする成膜用金属溶液。 - 前記溶媒は、メタノール、エタノール、およびプロパノールから選択される少なくとも1種からなるアルコール系溶媒、または、該アルコール系溶媒に水が添加された溶媒であることを特徴とする請求項1に記載の成膜用金属溶液。
- 前記金属は、水素よりもイオン化傾向が大きい金属であることを特徴とする請求項1または2に記載の成膜用金属溶液。
- 前記金属は、ニッケルであることを特徴とする請求項3に記載の成膜用金属溶液。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の成膜用金属溶液を用いた金属皮膜の成膜方法であって、
前記成膜用金属溶液を前記固体電解質膜に接触させることにより、前記固体電解質膜に前記金属イオンを供給しながら、
前記陽極と前記基材との間に電圧を印加して、前記基材の表面に前記金属皮膜を成膜することを特徴とする金属皮膜の成膜方法。
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