JP2011049524A - 固体撮像素子および固体撮像素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】CMOSからなる撮像素子における、フローティングディフュージョンFDを形成する第1導電型半導体層である層n2の転送ゲートTGの端部付近に、第2導電型半導体層である層p11を形成する。これにより、転送ゲートがオフ時に、フローティングディフュージョン領域FDにおいて、結晶欠陥が生じ易い転送ゲートTG端付近への電界集中を防ぎ、リーク電流を抑制する。本発明は、CMOSからなる撮像素子に適用することができる。
【選択図】図4
Description
1.第1の実施の形態(基本例)
2.第2の実施の形態(素子分離領域の周囲が第2導電型半導体層に囲まれた例)
3.第3の実施の形態(リセットトランジスタのソース領域にフローティングディフュージョンが接続された例)
4.第4の実施の形態(転送ゲートとフローティングディフュージョンを複数有する例)
[固体撮像素子を含む1画素分の回路構成]
本発明を適用した固体撮像素子の構成についての説明にあたり、まず、固体撮像素子を含む1画素分の回路構成について説明する。
図4は、本発明を適用した一実施の形態の構成例を示す固体撮像素子である。
このp型不純物層p11が形成されることにより、図5(b)で示されるように、フローティングディフュージョンFDの転送ゲートTG端部に発生していた電界集中を抑制することが可能となっている。図5(a)は、図4の本発明の固体撮像素子における不純物濃度分布を示し、図5(b)は、その電界強度分布を示している。ここで、図5(b)においては、転送ゲートはオフ時を想定し負電位が印加され、フローティングディフュージョンFD領域は正電位となっているまた、図5(a)の不純物濃度分布においては、白色に近くなるほどn型不純物の濃度が高く、黒色に近くなるほどp型不純物の濃度が高いことを示している。また、図5(b)の電界強度分布においては、白色に近いほど電界強度が高く、黒色に近いほど電界強度が低いことを示している。さらに、図5(a),図5(b)においては、いずれも同図内に転送ゲートTGが存在し、フローティングディフュージョンFDが配置される場合を示している。換言すれば、図5は、いずれも、図4の転送ゲートTGおよびフローティングディフュージョンFD付近を拡大した範囲の分布が示されている。
例えば、ローリングシャッタ方式(フォーカルプレーンシャッタ方式、またはライン露光方式とも称する)においては、図6で示されるように、行単位でフォトダイオードの露光が開始され、露光終了と同時に読み出しが開始される。すなわち、図6においては、第1行目においては、時刻t1で露光が開始され、露光期間Teが経過した時刻t101に露光が終了すると読出期間Trが開始される。第2行目においては、時刻t2で露光が開始され、露光期間Teが経過した時刻t102に露光が終了すると読出期間Trが開始される。時刻t3で露光が開始され、露光期間Teが経過した時刻t103に露光が終了すると読出期間Trが開始される。そして、第1行目においては、時刻t103で再び露光が開始され、露光期間Teが経過したとき、露光が終了し、同時に読出期間Trが開始され、この処理が順次繰り返される。このため、ローリングシャッタ方式においては、撮像された画像は、行単位で露光期間がずれるため、行単位で異なるタイミングの画像が撮像されることになり、行単位の画像を組み合わせて1枚の画像を構成すると歪が生じやすい。しかしながら、ローリングシャッタ方式では、信号電荷の保持時間がないため、リーク電流に起因するノイズが比較的生じ難い。
一方、グローバルシャッタ方式においては、図7で示されるように、全行が同時に露光を開始し、露光期間Teが終了すると、行単位で順次読み出しがなされていく。すなわち、図7においては、時刻t201において、全行のフォトダイオードの露光が一斉に開始され、露光期間Teが終了する時刻t301に一斉に露光が終了すると、行単位で読出期間Trで順次信号電荷が読み出されていく。この結果、先頭行に近い行は保持期間Tk1に近く短い期間で済むが、最終行に近い行は、保持期間Tknに近く期間が長くなる。尚、Tknの「n」は行番号である。
次に、図8のフローチャートを参照して、図4で示される固体撮像素子の製造処理について説明する。
[素子分離領域の周囲が第2導電型半導体層に囲まれた構成例]
以上においては、フローティングディフュージョンFDの転送ゲート端部に第2導電型半導体層として層p11が形成される例について説明してきたが、この位置関係が維持されていれば、層p11は、他の範囲に存在する構成としてもよい。例えば、図10で示されるように、層p11に代えて構成される層p21を設けるようにしてもよい。この層p21は、フローティングディフュージョンFDを表面で囲み、さらに、素子分離領域DVを積層状に囲い込む構成となっている。尚、図10(a)は、平面図であり、図10(b)は、図10(a)のA-A’の断面図である。
[リセットトランジスタのソース領域にフローティングディフュージョンが接続された構成例]
以上は、フローティングディフュージョンFDにおいて、結晶欠陥の生じ易い転送ゲートTG端部付近に層p11または層p21を形成する例について説明してきたが、結晶欠陥の生じ易い位置であれば、転送ゲートTG端部でなくとも同様の効果が得られる。
[転送ゲートとフローティングディフュージョンが複数に接続された構成例]
以上においては、転送ゲートとフローティングディフュージョンがそれぞれ1個の場合、または、リセットゲートとソース領域がそれぞれ1個の場合の例について説明してきたが、複数の構成であってもよいものである。
次に、図13を参照して、本発明の固体撮像素子を適用した電子機器の構成例について説明する。尚、図13において、図13(a)は、本発明を適用した固体撮像素子からなる固体撮像装置101の概略構成図であり、図13(b)は、電子機器131の概略断面図である。
Claims (9)
- 光信号を信号電荷に変換するフォトダイオードと、
前記フォトダイオードから信号電荷を転送する転送ゲートと、
前記信号電荷が転送されるフローティングディフュージョンと、
ゲートが前記フローティングディフュージョンに接続されるMOSトランジスタとを備え、
前記フローティングディフュージョンを形成する第1導電型半導体層の転送ゲート端部に、第2導電型半導体層が形成されてなることを特徴とした
固体撮像素子。 - 前記第1導電型半導体層および前記第2導電型半導体層は、相互に一部が接するように形成される
請求項1に記載の固体撮像素子。 - 前記第2導電型半導体層は、前記第1導電型半導体層の素子分離領域の周囲に形成された第2導電型半導体層と繋がっている
請求項1に記載の固体撮像素子。 - 前記フローティングディフュージョンに接続されたリセット用トランジスタのソース領域を形成する前記第1導電型半導体層において、リセットゲート端部に、前記第2導電型半導体層が形成されてなることを特徴とする
請求項1乃至3のいずれかに記載の固体撮像素子。 - 1つの画素内に、複数の前記フローティングディフュージョンと複数の前記転送ゲートとを有する固体撮像素子のうち、少なくとも1つ以上の前記フローティングディフュージョン形成する第1導電型半導体層の転送ゲート端部に、第2導電型半導体層が形成されてなることを特徴とした
請求項1乃至3のいずれかに記載の固体撮像素子。 - 少なくとも1つ以上の前記フローティングディフュージョンにおいて、前記フローティングディフュージョンを形成する第1導電型半導体層の表面が、第2導電型半導体層で覆われている
請求項5に記載の固体撮像素子。 - 複数の画素全てが同時に撮像動作を行うグローバルシャッタ方式をとる固体撮像素子であって、
前記フォトダイオードから前記フローティングディフュージョンへ全画素が同時に信号電荷の転送を行い、転送後から読み出しまでの間に前記フローティングディフュージョンで信号電荷を保持する
請求項1乃至6の何れかに記載の固体撮像素子。 - シリコン基板上にフォトダイオードを構成する第1導電型半導体層を形成する第1の工程と、前記フォトダイオードから信号電荷の転送を行う転送ゲートを形成する第2の工程と、
前記第1導電型半導体層を覆うと共に、フローティングディフュージョン領域の前記転送ゲート端部に、第2導電型半導体層を形成する第3の工程と、
前記フローティングディフュージョンを構成する第1導電型半導体層を形成する第4の工程と
を含む固体撮像素子の製造方法。 - 光信号を信号電荷に変換するフォトダイオードと、
前記フォトダイオードから信号電荷を転送する転送ゲートと、
前記信号電荷が転送されるフローティングディフュージョンと、
ゲートが前記フローティングディフュージョンに接続されるMOSトランジスタとを備え、
前記フローティングディフュージョンを形成する第1導電型半導体層において、転送ゲート端部に、第2導電型半導体層が形成されてなることを特徴とした
請求項1乃至7の何れかに記載の固体撮像素子を用いた電子機器。
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