JP2006245573A - リソグラフィ機器、デバイス製作方法、及び液体を脱気する機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半透膜と、半透膜の第1の側に液体を供給するように適合された液体源と、半透膜の第2の側に、(a)前記液体の蒸気、又は(b)前記液体中で溶解する際に解離するガスを供給するように適合されたガス源とを備えるリソグラフィ機器が提供される。
【選択図】図6
Description
−放射ビームB(例えば、UV放射又はDUV放射)を調整するように構成された照明系(照明器)ILと、
−パターン化装置(例えば、マスク)MAを支持するように構成された支持構造体(例えば、マスク・テーブル)MTであって、ある種のパラメータに従ってパターン化装置を正確に位置決めするように構成された第1位置決め装置PMに結合された支持構造体MTと、
−基板(例えば、レジストを塗布したウエハ)Wを保持するように構成された基板テーブル(例えば、ウエハ・テーブル)WTであって、ある種のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2位置決め装置PWに結合された基板テーブルWTと、
−基板Wの(例えば、1つ又は複数のダイを含む)目標部分Cに、パターン化装置MAによって放射ビームBに付与されたパターンを投影するように構成された投影系(例えば、屈折型投影レンズ系)PSとを備える。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは本質的に固定したまま、放射ビームに付与されたパターン全体を目標部分Cに1回で投影する(即ち、1回の静止露光)。次いで、X方向及び/又はY方向に基板テーブルWTの位置を変えて、異なる目標部分Cを露光することができる。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の静止露光で画像形成される目標部分Cのサイズを制限する。
2.スキャン・モードでは、マスク・テーブルMTと基板テーブルWTとを同期走査しながら、放射ビームに付与されたパターンを目標部分Cに投影する(即ち、1回の動的な露光)。マスク・テーブルMTに対する相対的な基板テーブルWTの速度及び方向は、投影系PSの倍率(縮小率)及び像の反転特性によって決めることができる。スキャン・モードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の動的な露光における目標部分の(非走査方向の)幅を制限し、走査移動長により、目標部分の(走査方向の)高さが決まる。
3.別のモードでは、プログラム可能なパターン化装置を保持するマスク・テーブルMTを本質的に固定したまま、基板テーブルWTを移動又は走査しながら、放射ビームに付与されたパターンを目標部分Cに投影する。このモードでは一般に、パルス化された放射源を使用し、基板テーブルWTの各移動動作後に、或いは走査中に連続放射パルス間で、プログラム可能なパターン化装置を必要に応じて更新する。この動作モードは、上記で言及したタイプのプログラム可能なミラー配列などのプログラム可能なパターン化装置を利用するマスクレス・リソグラフィに容易に適用できる。
120 半透膜
125 チャンバ
140 排出口
150 イオン交換器
240 出口
250 液体気化器
Claims (17)
- リソグラフィ機器において、
半透膜と、
前記半透膜の第1の側に液体を供給するように適合された液体源と、
前記半透膜の第2の側に、
(a)前記液体の蒸気、又は
(b)前記液体中に溶解する際に解離するガス
を供給するように適合されたガス源とを備える、リソグラフィ機器。 - 前記半透膜が、少なくとも1本のチューブの形態である、請求項1に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記液体源が、前記少なくとも1本のチューブ内に液体を供給するように適合されている、請求項2に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記ガス源が、1.0気圧未満、好ましくは0.95気圧未満の圧力で前記蒸気又はガスを供給するように適合されている、請求項1に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記ガス源が、0.5気圧、0.1気圧、又は0.05気圧未満の圧力で蒸気又はガスを供給するように適合されている、請求項4に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記液体源が、前記半透膜を通り過ぎる液体の流れを提供するように適合されている、請求項1に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記ガス源が、前記半透膜を通り過ぎるガスの流れを提供するように適合されている、請求項1に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記第1の側に提供された少なくとも何らかの液体が、基板に放射ビームを投影するように構成された投影系と基板との間の位置に搬送され、そのため、前記放射ビームが前記液体を通過するように構成され配置されている、請求項1に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記液体が水である、請求項1に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記ガスが二酸化炭素である、請求項1に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記液体の蒸気を前記ガス源に提供するように配置された、前記液体を気化させる気化装置をさらに備える、請求項1に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記液体が上部被覆である、請求項1に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記半透膜の第2の側における前記蒸気又はガスの圧力が、前記液体の蒸気圧よりも大きい、請求項1に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記半透膜の下流に前記液体用のイオン交換器をさらに備える、請求項1に記載されたリソグラフィ機器。
- パターン化装置から基板にパターンを転写する段階を含む、デバイスの製作方法において、
半透膜の一方の側に液体を提供し、前記半透膜の別の側にガスを提供し、
前記ガスは、前記液体の蒸気、又は前記液体中に溶解する際に解離するガスである、デバイス製作方法。 - 放射ビームで前記基板を露光する前に、前記半透膜の前記一方の側から前記基板上の位置に前記液体の少なくとも一部を搬送する段階をさらに含む、請求項15に記載されたデバイス製作方法。
- 液体を脱気する機器において、
半透膜と、
前記半透膜の第1の側に前記液体を提供するポンプと、
(i)前記半透膜の第2の側に前記液体の蒸気を提供する気化装置、又は
(ii)前記液体中に溶解する際に解離するガスのガス源、及び前記半透膜の下流の前記液体用のイオン交換ユニットとを備える、液体を脱気する機器。
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