JP2011159971A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】液浸リソグラフィ装置の液体閉じ込め構造では、細長い連続的な開口が投影システムの下の空間に液体を供給する出口を形成する。この細長いスリットは、イメージフィールドから泡を偏向させる高いせん断力及び圧力勾配の領域を形成する。
【選択図】図7
Description
[0036] − 放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
[0037] − パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構築され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
[0038] − 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
[0039] − パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
である。
上式で、aは同等の泡半径(すなわち、問題の泡と同じ容積を有する球状の泡の半径)、γは表面張力、及びGtotは
である。上式で、Rは泡Tのベースの半径(壁面せん断応力)、及びGrad p(壁面の圧力勾配)はCFOモードで計算され、vはスキャン速度である。毛管数Caは以下のように定義される。
上式で、aは同等の泡半径(すなわち、問題の泡と同じ容積を有する球状の泡の半径)、及びγは表面張力である。
フライトハイト 100〜130μm
スリット幅 20〜30μm
流量 1.5〜2L/分
であると決定した。
フライトハイト 120μm
スリット幅 20μm
流量 2L/分であると決定した。
上式で、Rは気体定数、Tは温度、Diffは拡散率、Solは溶解度、tは時間、Dbubは泡径、Shはシャーウッド数(kd/Diff、但しkは物質移動係数、dは特性寸法)、Phydは液圧、及びσは表面張力である。
基板を保持し、スキャン方向に基板をスキャンするように構成された基板テーブルと、
基板テーブルによって基板がスキャンされている間に基板上に画像を投影するように構成された投影システムと、
投影システムと基板との間の空間に液体を閉じ込めるように構成された液体閉じ込めシステムとを備え、
投影システムが、光軸を有し、光軸及びスキャン方向に垂直の方向に該方向の空間の最大寸法よりも小さい最大寸法を有するイメージフィールド内に画像を投影するように構成され、
液体閉じ込めシステムが、空間と境界を接する液体閉じ込め部材を有し、液体閉じ込め部材が、基板の方へ液体を誘導するように配置された細長い連続的な液体供給開口を画定し、細長い液体供給開口が、方向にイメージフィールドの最大寸法よりも大きく空間の最大寸法よりも小さい寸法を有するリソグラフィ装置が提供される。
20℃、空間に隣接する領域への1気圧の全圧下で液浸液内の溶解度が5×10−3mol/kgより大きいガスを供給するように構成されたガス供給デバイスをさらに備える。このような実施形態では、ガス供給デバイスは、20℃、1気圧の全圧下で、液浸液内の溶解度が5×10−3mol/kgより大きいガス源を備えていてもよい。
液体閉じ込めシステムが液体内のガスの泡を画像から脇にそらすように、液体の塊の内部に比較的高いせん断力及び圧力勾配の領域を作成するように配置された細長い液体供給開口を有する液浸リソグラフィ装置の形態をとってもよい。
投影システムの最終要素と基板及び/又はテーブルとの間の局所空間に液浸液を閉じ込めるように構成された流体ハンドリングシステムと、
20℃、空間に隣接する領域への1気圧の全圧下で液浸液内の溶解度が5×10−3mol/kgより大きいガスを供給するように構成されたガス供給デバイスと、
をさらに備えていてもよい。
基板の表面に接触する空間に液体の塊を閉じ込めるステップと、
基板をスキャン方向に移動させながら液体の塊を通して基板上に画像を投影するステップと、
画像のスキャン方向の先にある液体の塊の内部に液体の塊の内部のガスの泡を画像からそらす効果がある比較的高圧の細長い領域を形成するステップと、
を含む方法の形態をとってもよい。
液体閉じ込めシステムが、基板に対向する面に少なくとも2つの異なる長さの開口を含む複数の液体供給開口を画定する液体閉じ込め部材を有する液浸リソグラフィ装置が提供される。
液体閉じ込めシステムが、スキャン方向に整列した少なくとも1つの角を有し、基板に対向する面に細長い液体供給開口を画定する液体閉じ込め部材を有し、細長い液体供給開口が角に配置される液浸リソグラフィ装置が提供される。
液体閉じ込めシステムが、基板に対向する面を有する液体閉じ込め部材を有し、細長い液体供給開口が表面に画定され、スキャン方向のイメージフィールドの前に配置された液浸リソグラフィ装置が提供される。
Claims (15)
- リソグラフィ装置であって、
基板を保持し、スキャン方向に前記基板をスキャンするように構成された基板テーブルと、
前記基板テーブルによって前記基板がスキャンされている間に前記基板上に画像を投影するように構成された投影システムと、
前記投影システムと前記基板との間の空間に液体を閉じ込めるように構成された液体閉じ込めシステムとを備え、
前記投影システムが、光軸を有し、前記光軸及び前記スキャン方向に対して垂直方向の最大寸法を有するイメージフィールド内に、前記画像を投影するように構成され、前記最大寸法は前記空間の前記垂直方向の最大寸法よりも小さく、
前記液体閉じ込めシステムが、前記空間と境界を接する液体閉じ込め部材を有し、前記液体閉じ込め部材が、前記基板に向けて液体を誘導するように配置された細長い連続的な液体供給開口を画定し、前記細長い液体供給開口が、前記垂直方向に前記イメージフィールドの最大寸法よりも大きくかつ前記空間の最大寸法よりも小さい寸法を有するリソグラフィ装置。 - 前記液体閉じ込めシステムが、複数の別の液体供給開口をさらに画定し、前記別の液体供給開口が、少なくとも1つの線上に配置され、前記細長い液体供給開口の最大寸法と比較して小さい最大寸法を有する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記液体閉じ込め部材が、前記空間をはさんで前記細長い液体供給開口の反対側に第2の細長い液体供給開口をさらに画定する、請求項1又は2に記載の液体装置。
- 前記細長い液体供給開口が、V字形である、請求項1、2又は3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記細長い液体供給開口が、湾曲している、請求項1、2又は3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記液体閉じ込めシステムが、液体を前記空間に供給するように構成された液体供給源と、約1L/分以上、約1.25L/分以上、約1.5L/分以上又は約2L/分以上の流量とをさらに備える、請求項1から5のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記細長い液体供給開口が、約100μm以下、約70μm以下、約50μm以下、約30μm以下、又は約20μm以下の幅を有する、請求項1から6のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記液体閉じ込め部材が、細長い液体供給開口を画定する対向面を有する、請求項1から7のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記対向面が、前記装置の動作中、前記基板から約200μm以下、約180μm以下、又は約150μm以下の距離に配置される、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 液体閉じ込めシステムによって基板の表面上に閉じ込められた液体を通して前記基板がスキャン方向にスキャンされている間に前記基板上に画像を投影する液浸リソグラフィ装置であって、
前記液体閉じ込めシステムが、前記液体内のガスの泡を前記画像から脇にそらすように前記液体の内部に比較的高いせん断力及び圧力勾配の領域を作成するように配置された細長い液体供給開口を有する液浸リソグラフィ装置。 - 前記液体閉じ込めシステムが、使用時に前記基板に対向する面を有する液体閉じ込め部材と、前記面が前記基板から所定の距離だけ離れるように前記液体閉じ込め部材を位置決めするように構成された位置決めシステムとを備え、前記前記液体供給開口が、前記面に形成され、前記所定の距離が約120μm〜約180μmの範囲内であるリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置を用いるデバイス製造方法であって、
基板の表面に接触する空間に液体を閉じ込めるステップと、
前記基板をスキャン方向に移動させながら液体を通して前記基板上に画像を投影するステップと、
前記画像のスキャン方向の先にある液体の内部に前記液体の塊の内部のガスの泡を前記画像からそらす効果がある比較的高圧の細長い領域を形成するステップと、
を含む方法。 - 前記高圧領域は、約30μm以上、約20μm以上、約15μm以上、又は約12μm以上のサイズを有する泡を誘導する効果がある、請求項12に記載の方法。
- 前記基板が、約90°以上、約100°以上、又は約110°以上の液体への接触角を有するか、又は前記基板が、約20°以下、約15°以下、又は約10°以下の液体への接触角のヒステリシスを有する、請求項12又は13に記載の方法。
- 前記形成ステップが、約20μm〜約30μmの範囲内の幅を有する細長い開口を通して液体を供給するステップを含み、及び/又は前記形成ステップが、約1.25L/m〜2.0L/mの範囲内の流量で液体を供給するステップを含む、請求項12から14のいずれか1項に記載の方法。
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