JP2003062403A - 膜脱気装置の運転方法 - Google Patents
膜脱気装置の運転方法Info
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- JP2003062403A JP2003062403A JP2001254530A JP2001254530A JP2003062403A JP 2003062403 A JP2003062403 A JP 2003062403A JP 2001254530 A JP2001254530 A JP 2001254530A JP 2001254530 A JP2001254530 A JP 2001254530A JP 2003062403 A JP2003062403 A JP 2003062403A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 脱気膜の気相側を被処理水の飽和蒸気圧以下
に減圧しつつ、真空ポンプの劣化を防止することができ
る膜脱気装置の運転方法を提供する。 【解決手段】 脱気膜モジュール１と、ドライタイプの
真空ポンプ３と、該１と３とを接続する真空配管４と、
該４に気体を供給する気体供給手段５とを有し、被処理
水中の溶存ガスを除去する膜脱気装置の運転方法におい
て、前記１の液相側１２に被処理水２１を通水し、該１
の気相側１１のガスを前記３によって排出して脱気処理
を行いつつ、該１と３を接続している真空配管４中に、
前記気体供給手段５から気体を断続的もしくは連続的に
供給することとしたものであり、前記４中に５から供給
する気体の量は、該４に取り付けられた圧力測定手段６
１、又は、該５に取り付けられた流量測定手段６２によ
って決定することができる。
に減圧しつつ、真空ポンプの劣化を防止することができ
る膜脱気装置の運転方法を提供する。 【解決手段】 脱気膜モジュール１と、ドライタイプの
真空ポンプ３と、該１と３とを接続する真空配管４と、
該４に気体を供給する気体供給手段５とを有し、被処理
水中の溶存ガスを除去する膜脱気装置の運転方法におい
て、前記１の液相側１２に被処理水２１を通水し、該１
の気相側１１のガスを前記３によって排出して脱気処理
を行いつつ、該１と３を接続している真空配管４中に、
前記気体供給手段５から気体を断続的もしくは連続的に
供給することとしたものであり、前記４中に５から供給
する気体の量は、該４に取り付けられた圧力測定手段６
１、又は、該５に取り付けられた流量測定手段６２によ
って決定することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、膜脱気装置の運転
方法に係り、特に、被処理水中の溶存ガスを除去する脱
気膜モジュールと、その気相側のガスを排出するための
真空ポンプを備えた膜脱気装置の運転方法に関する。
方法に係り、特に、被処理水中の溶存ガスを除去する脱
気膜モジュールと、その気相側のガスを排出するための
真空ポンプを備えた膜脱気装置の運転方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体等の製造ラインでは、その洗浄行
程等において塩類、微粒子等の不純物を低減した純水、
超純水が用いられている。これらの純水、超純水は、塩
類、微粒子等の他に、溶存酸素等の溶存ガスも除去する
必要がある。従来、溶存ガスの除去には、真空脱気塔、
窒素等の不活性ガスのパージ、薬品の注入（例えば溶存
酸素の除去にはヒドラジン等）等の手段で対応してきた
が、近年は脱気膜モジュールを備えた膜脱気装置が用い
られることが多くなっている。これは、気体は透過させ
るが液体は透過させない気体分離膜を用いて、その液相
側に脱気処理を行う被処理水を通水し、気相側を真空ポ
ンプ、スチームエジェクター等の真空装置にて真空に引
くことにより、液相中の溶存ガスを気相中に移動させて
除去する装置である。このような脱気膜モジュールを用
いれば、容易に液相の表面積を増大することが可能とな
り、その大きさに比べ、大容量の溶存ガスの除去を行う
ことができる。
程等において塩類、微粒子等の不純物を低減した純水、
超純水が用いられている。これらの純水、超純水は、塩
類、微粒子等の他に、溶存酸素等の溶存ガスも除去する
必要がある。従来、溶存ガスの除去には、真空脱気塔、
窒素等の不活性ガスのパージ、薬品の注入（例えば溶存
酸素の除去にはヒドラジン等）等の手段で対応してきた
が、近年は脱気膜モジュールを備えた膜脱気装置が用い
られることが多くなっている。これは、気体は透過させ
るが液体は透過させない気体分離膜を用いて、その液相
側に脱気処理を行う被処理水を通水し、気相側を真空ポ
ンプ、スチームエジェクター等の真空装置にて真空に引
くことにより、液相中の溶存ガスを気相中に移動させて
除去する装置である。このような脱気膜モジュールを用
いれば、容易に液相の表面積を増大することが可能とな
り、その大きさに比べ、大容量の溶存ガスの除去を行う
ことができる。
【０００３】しかし、脱気膜モジュールの気相側を真空
にして被処理水中の溶存ガスを除去する膜脱気方法は、
真空装置に水封式の真空ポンプやスチームエジェクター
を用いて減圧すると、絶対圧で約６ｋＰａ程度までしか
減圧できず、処理水中のＤＯ（溶存酸素）濃度を例に取
れば、水温が２５℃だとすると、３００〜５００ｐｐｂ
程度までしか低減することができなかった。また、膜脱
気モジュールの気相側の一端に窒素等の不活性ガスを注
入し、他端から真空を引くことによって、溶存ガス濃度
をさらに低減することも可能であるが、別途ユーティリ
ティとして窒素等の不活性ガスが必要となるし、その不
活性ガスの純度によっては、かえって被処理水中の微粒
子などが増加し、被処理水を汚染することがあった。
にして被処理水中の溶存ガスを除去する膜脱気方法は、
真空装置に水封式の真空ポンプやスチームエジェクター
を用いて減圧すると、絶対圧で約６ｋＰａ程度までしか
減圧できず、処理水中のＤＯ（溶存酸素）濃度を例に取
れば、水温が２５℃だとすると、３００〜５００ｐｐｂ
程度までしか低減することができなかった。また、膜脱
気モジュールの気相側の一端に窒素等の不活性ガスを注
入し、他端から真空を引くことによって、溶存ガス濃度
をさらに低減することも可能であるが、別途ユーティリ
ティとして窒素等の不活性ガスが必要となるし、その不
活性ガスの純度によっては、かえって被処理水中の微粒
子などが増加し、被処理水を汚染することがあった。
【０００４】そこで、これらの真空装置に代わり、被処
理水の飽和蒸気圧以下にまで減圧することが可能な、ド
ライタイプの真空ポンプ、例えばスクロール式ドライタ
イプの真空ポンプ等を用いることにより、脱気膜の気相
側を被処理水の飽和蒸気圧以下にまで減圧することが可
能となった。これにより、窒素等の不活性ガスを脱気膜
モジュールに注入することなく、被処理水中の溶存ガス
は、溶存酸素温度を例に取れば、飽和濃度から１０ｐｐ
ｂ以下といった極低濃度まで除去することが可能となっ
た。、また、脱気膜モジュールに不活性ガスを供給する
必要が無いことから、これらのユーティリティの供給設
備も不要となり、また、これに起因する被処理水の汚染
も無くなった。しかし、上述のように、ドライタイプの
真空ポンプを真空装置として用いると、真空ポンプの吸
気側は飽和水蒸気であるために、真空ポンプ内で水蒸気
が凝縮して水滴となり、真空ポンプの寿命が著しく劣化
すると共に、真空ポンプ内のシール部品等の摩耗が進む
につれ、飽和蒸気圧まで真空を引くことができなくな
り、極低濃度の脱気処理ができなくなるという問題が生
じた。
理水の飽和蒸気圧以下にまで減圧することが可能な、ド
ライタイプの真空ポンプ、例えばスクロール式ドライタ
イプの真空ポンプ等を用いることにより、脱気膜の気相
側を被処理水の飽和蒸気圧以下にまで減圧することが可
能となった。これにより、窒素等の不活性ガスを脱気膜
モジュールに注入することなく、被処理水中の溶存ガス
は、溶存酸素温度を例に取れば、飽和濃度から１０ｐｐ
ｂ以下といった極低濃度まで除去することが可能となっ
た。、また、脱気膜モジュールに不活性ガスを供給する
必要が無いことから、これらのユーティリティの供給設
備も不要となり、また、これに起因する被処理水の汚染
も無くなった。しかし、上述のように、ドライタイプの
真空ポンプを真空装置として用いると、真空ポンプの吸
気側は飽和水蒸気であるために、真空ポンプ内で水蒸気
が凝縮して水滴となり、真空ポンプの寿命が著しく劣化
すると共に、真空ポンプ内のシール部品等の摩耗が進む
につれ、飽和蒸気圧まで真空を引くことができなくな
り、極低濃度の脱気処理ができなくなるという問題が生
じた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を解決し、脱気膜の気相側を真空ポンプによって被処理
水の飽和蒸気圧以下にまで減圧し、被処理水中の溶存ガ
スを極低濃度まで除去可能としつつ、真空ポンプの劣化
を防止することができる膜脱気装置の運転方法を提供す
ることを課題とする。
を解決し、脱気膜の気相側を真空ポンプによって被処理
水の飽和蒸気圧以下にまで減圧し、被処理水中の溶存ガ
スを極低濃度まで除去可能としつつ、真空ポンプの劣化
を防止することができる膜脱気装置の運転方法を提供す
ることを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明では、脱気膜モジュールと、ドライタイプの
真空ポンプと、該脱気膜モジュールと該真空ポンプとを
接続する真空配管と、該真空配管に気体を供給する気体
供給手段とを有し、被処理水中の溶存ガスを除去する膜
脱気装置の運転方法において、前記脱気膜モジュールの
液相側に被処理水を通水し、該脱気膜モジュールの気相
側のガスを前記真空ポンプによって排出して脱気処理を
行いつつ、該脱気膜モジュールと真空ポンプを接続して
いる真空配管中に、前記気体供給手段から気体を断続的
もしくは連続的に供給することとしたものである。前記
膜脱気装置の運転方法において、真空配管中に気体供給
手段から供給する気体の量は、該真空配管中に取り付け
られた圧力測定手段、又は、該気体供給手段に取り付け
られた流量測定手段によって決定することができ、ま
た、前記気体供給手段は、真空配管中の圧力測定手段か
ら得られた圧力データ、又は、気体供給手段に取り付け
られた流量測定手段から得られた気体供給量データを元
に、気体の供給量を制御する制御手段を有することがで
きる。
に、本発明では、脱気膜モジュールと、ドライタイプの
真空ポンプと、該脱気膜モジュールと該真空ポンプとを
接続する真空配管と、該真空配管に気体を供給する気体
供給手段とを有し、被処理水中の溶存ガスを除去する膜
脱気装置の運転方法において、前記脱気膜モジュールの
液相側に被処理水を通水し、該脱気膜モジュールの気相
側のガスを前記真空ポンプによって排出して脱気処理を
行いつつ、該脱気膜モジュールと真空ポンプを接続して
いる真空配管中に、前記気体供給手段から気体を断続的
もしくは連続的に供給することとしたものである。前記
膜脱気装置の運転方法において、真空配管中に気体供給
手段から供給する気体の量は、該真空配管中に取り付け
られた圧力測定手段、又は、該気体供給手段に取り付け
られた流量測定手段によって決定することができ、ま
た、前記気体供給手段は、真空配管中の圧力測定手段か
ら得られた圧力データ、又は、気体供給手段に取り付け
られた流量測定手段から得られた気体供給量データを元
に、気体の供給量を制御する制御手段を有することがで
きる。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明では、膜脱気装置を運転す
る際、真空ポンプにて脱気膜モジュールの気相側を減圧
するが、脱気膜モジュールと真空ポンプを接続する配管
中に、気体供給手段から気体、例えば空気を供給しなが
ら真空ポンプの運転を行う。これにより、真空ポンプ内
に導入された水蒸気が、気体供給手段から供給された気
体により凝縮すること無く、また真空ポンプ内にて凝縮
した際にも、気体供給手段から供給された気体の圧力に
よって真空ポンプ機外に排出され、ドライの状態で真空
ポンプを連続的に運転することが可能となる。これによ
って、被処理水の飽和蒸気圧以下にまで脱気膜モジュー
ルの気相側を減圧しつつ、真空ポンプの劣化を防止する
ことが可能となる。本発明によれば、被処理水中の溶存
ガスを極低濃度まで除去することができると共に、真空
ポンプの著しい劣化を防止することができ、長期間安定
した脱気処理が可能となる。
る際、真空ポンプにて脱気膜モジュールの気相側を減圧
するが、脱気膜モジュールと真空ポンプを接続する配管
中に、気体供給手段から気体、例えば空気を供給しなが
ら真空ポンプの運転を行う。これにより、真空ポンプ内
に導入された水蒸気が、気体供給手段から供給された気
体により凝縮すること無く、また真空ポンプ内にて凝縮
した際にも、気体供給手段から供給された気体の圧力に
よって真空ポンプ機外に排出され、ドライの状態で真空
ポンプを連続的に運転することが可能となる。これによ
って、被処理水の飽和蒸気圧以下にまで脱気膜モジュー
ルの気相側を減圧しつつ、真空ポンプの劣化を防止する
ことが可能となる。本発明によれば、被処理水中の溶存
ガスを極低濃度まで除去することができると共に、真空
ポンプの著しい劣化を防止することができ、長期間安定
した脱気処理が可能となる。
【０００８】次に、本発明を図１に示す概略構成図に基
づいて説明する。図１において、１は脱気膜モジュール
であり、密閉容器内部に多数の中空糸（気体分離膜）を
束ねた形状のものである。図示はしていないが、脱気膜
モジュール１の両端側には、中空糸の内部空間と連通す
る１対の排気室が形成されており、この１対の排気室と
中空糸の内側の空間とで気相室１１を形成している。ま
た、両排気室に挟まれた中空糸の外部空間は液相室１２
を形成しており、液相室１２の入口側から被処理水２１
が導入され、出口側からは脱気処理された処理水２２が
排出される。３はドライタイプの真空ポンプであり、４
の真空配管を介して、脱気膜モジュール１の気相室１１
に接続されている。５は気体供給手段であり、真空配管
４中に接続されている。
づいて説明する。図１において、１は脱気膜モジュール
であり、密閉容器内部に多数の中空糸（気体分離膜）を
束ねた形状のものである。図示はしていないが、脱気膜
モジュール１の両端側には、中空糸の内部空間と連通す
る１対の排気室が形成されており、この１対の排気室と
中空糸の内側の空間とで気相室１１を形成している。ま
た、両排気室に挟まれた中空糸の外部空間は液相室１２
を形成しており、液相室１２の入口側から被処理水２１
が導入され、出口側からは脱気処理された処理水２２が
排出される。３はドライタイプの真空ポンプであり、４
の真空配管を介して、脱気膜モジュール１の気相室１１
に接続されている。５は気体供給手段であり、真空配管
４中に接続されている。
【０００９】６１は真空配管４中の真空を測定する圧力
測定手段であり、６２は気体供給手段５によって真空配
管４中に供給される気体の流量を測定する流量測定手段
である。また、７は逆流防止手段であり、真空ポンプ３
の運転停止時に、真空ポンプ３から、もしくは気体供給
手段５から脱気膜モジュール１の気相室１１に気体が拡
散しないようにするためのもので、真空配管４中に備え
ることが望ましい。この逆流防止手段としては、手動
弁、電動弁、電磁弁、逆止弁等が選択できる。８は気体
供給手段の制御装置であり、圧力測定手段６１の圧力デ
ー夕、流量測定手段６２の流量データ、真空ポンプの運
転時間等の値から最適な気体供給量となるように気体供
給手段５を制御するものである。この場合、気体供給手
段５には電動弁、電磁弁等を用いることができる。気体
供給手段５の制御方法は、断続的にある時間気体を供給
したり、連続的に真空配管４の圧力データや気体の流量
データを元に気体供給手段５の気体供給量を変更したり
することができる。また、この制御装置８には、逆流防
止手段７の開閉タイミングを制御する機能をもたせても
よい。
測定手段であり、６２は気体供給手段５によって真空配
管４中に供給される気体の流量を測定する流量測定手段
である。また、７は逆流防止手段であり、真空ポンプ３
の運転停止時に、真空ポンプ３から、もしくは気体供給
手段５から脱気膜モジュール１の気相室１１に気体が拡
散しないようにするためのもので、真空配管４中に備え
ることが望ましい。この逆流防止手段としては、手動
弁、電動弁、電磁弁、逆止弁等が選択できる。８は気体
供給手段の制御装置であり、圧力測定手段６１の圧力デ
ー夕、流量測定手段６２の流量データ、真空ポンプの運
転時間等の値から最適な気体供給量となるように気体供
給手段５を制御するものである。この場合、気体供給手
段５には電動弁、電磁弁等を用いることができる。気体
供給手段５の制御方法は、断続的にある時間気体を供給
したり、連続的に真空配管４の圧力データや気体の流量
データを元に気体供給手段５の気体供給量を変更したり
することができる。また、この制御装置８には、逆流防
止手段７の開閉タイミングを制御する機能をもたせても
よい。
【００１０】脱気膜モジュール１に被処理水２１を導入
し、真空ポンプ３を用いて脱気膜モジュール１の気相側
を減圧する際、気体供給手段５から、圧力測定手段６１
によって脱気膜モジュール１の気相室圧力が目標値にな
るように気体を供給するか、流量測定手段６２によって
所定量の気体を真空配管４を通じて真空ポンプ３に供給
することにより、真空ポンプ３内で脱気膜モジュール１
からの水蒸気が凝縮することなく、また凝縮した際にも
真空ポンプ機外に排出することが可能となり、これによ
り真空ポンプ３への凝縮水による悪影響を防止すること
が可能となる。また、図１においては、脱気膜モジュー
ル１は１本であるが、被処理水２１の流量、脱気処理水
２２の溶存ガス除去設計値等によっては、これを並列、
もしくは直列に複数本使用してもかまわない。また、真
空ポンプ３も必要な排気量によっては複数台設置しても
かまわない。
し、真空ポンプ３を用いて脱気膜モジュール１の気相側
を減圧する際、気体供給手段５から、圧力測定手段６１
によって脱気膜モジュール１の気相室圧力が目標値にな
るように気体を供給するか、流量測定手段６２によって
所定量の気体を真空配管４を通じて真空ポンプ３に供給
することにより、真空ポンプ３内で脱気膜モジュール１
からの水蒸気が凝縮することなく、また凝縮した際にも
真空ポンプ機外に排出することが可能となり、これによ
り真空ポンプ３への凝縮水による悪影響を防止すること
が可能となる。また、図１においては、脱気膜モジュー
ル１は１本であるが、被処理水２１の流量、脱気処理水
２２の溶存ガス除去設計値等によっては、これを並列、
もしくは直列に複数本使用してもかまわない。また、真
空ポンプ３も必要な排気量によっては複数台設置しても
かまわない。
【００１１】気体供給手段５は、手動のバルブ、オリフ
ィス等の手段を用いて気体を供給してもかまわないし、
圧力測定手段６１、流量測定手段６２等の値から、気体
供給手段５の気体供給量を制御する制御装置を設け、気
体供給量を制御してもかまわない。この際、気体供給手
段５には、電動弁、電磁弁等の機器を用いることができ
る。圧力測定手段６１は、図１においては真空ポンプ３
と逆流防止手段７の間に取り付けられているが、逆流防
止手段７と脱気膜モジュール１の気相室１１との間に取
り付けられてもかまわない。気体供給手段５から供給さ
れる気体は、通常の空気でも良いし、窒素等の不活性ガ
スを用いてもかまわない。供給気体として空気を使用す
る場合は、気体供給手段５としての弁、オリフィス等を
介して、膜脱気装置の外気を供給すればよい。この場
合、必要によっては、気体供給手段５にエアフィルタを
介して空気を供給することもある。
ィス等の手段を用いて気体を供給してもかまわないし、
圧力測定手段６１、流量測定手段６２等の値から、気体
供給手段５の気体供給量を制御する制御装置を設け、気
体供給量を制御してもかまわない。この際、気体供給手
段５には、電動弁、電磁弁等の機器を用いることができ
る。圧力測定手段６１は、図１においては真空ポンプ３
と逆流防止手段７の間に取り付けられているが、逆流防
止手段７と脱気膜モジュール１の気相室１１との間に取
り付けられてもかまわない。気体供給手段５から供給さ
れる気体は、通常の空気でも良いし、窒素等の不活性ガ
スを用いてもかまわない。供給気体として空気を使用す
る場合は、気体供給手段５としての弁、オリフィス等を
介して、膜脱気装置の外気を供給すればよい。この場
合、必要によっては、気体供給手段５にエアフィルタを
介して空気を供給することもある。
【００１２】
【実施例】以下実施例をもって、本発明をさらに具体的
に説明する。 実施例１ 脱気処理を行う被処理水２１として、水温２５℃、ＤＯ
飽和（８．１１ｐｐｍ）のＲＯ処理水を用い、脱気膜モ
ジュール１に１７００Ｌ／ｈの流量で供給した。真空ポ
ンプは、ドライ真空ポンプで、到達圧力１００Ｐａ ａ
ｂｓ．、排気量２００Ｌ／ｍｉｎ以上のものを採用すれ
ば、脱気膜モジュール１の気相室側圧力を被処理水２１
の飽和蒸気圧以下に維持することができ、被処理水中の
溶存ガスを極低濃度まで除去可能となる。また、圧力測
定手段６１として、水銀マノメータを使用した。
に説明する。 実施例１ 脱気処理を行う被処理水２１として、水温２５℃、ＤＯ
飽和（８．１１ｐｐｍ）のＲＯ処理水を用い、脱気膜モ
ジュール１に１７００Ｌ／ｈの流量で供給した。真空ポ
ンプは、ドライ真空ポンプで、到達圧力１００Ｐａ ａ
ｂｓ．、排気量２００Ｌ／ｍｉｎ以上のものを採用すれ
ば、脱気膜モジュール１の気相室側圧力を被処理水２１
の飽和蒸気圧以下に維持することができ、被処理水中の
溶存ガスを極低濃度まで除去可能となる。また、圧力測
定手段６１として、水銀マノメータを使用した。
【００１３】気体供給手段５と逆流防止手段７には手動
弁を使用し、真空ポンプ３を運転しながら逆流防止手段
７を閉じ、その時点で圧力測定手段６１の絶対圧が０．
４ｋＰａ ａｂｓ．となるように気体供給手段５を調整
した後、逆流防止手段７の手動弁を全開とし、連続的に
空気を真空配管４中に供給しながら、被処理水２１の脱
気を行った。この状態で、真空配管４の絶対圧は約３．
１ｋＰａ ａｂｓ．であり、得られた脱気処理水３のＤ
Ｏは約９．９ｐｐｂ、ＤＯ除去率約９９．８８％と、１
０ｐｐｂ以下にまで脱気処理を行うことができた。ま
た、気体の供給量を流量測定手段６２にて決定する場合
は、真空ポンプの排気量と、脱気するのに必要な排気量
との差分だけ、真空配管４中に空気を供給してやればよ
い。
弁を使用し、真空ポンプ３を運転しながら逆流防止手段
７を閉じ、その時点で圧力測定手段６１の絶対圧が０．
４ｋＰａ ａｂｓ．となるように気体供給手段５を調整
した後、逆流防止手段７の手動弁を全開とし、連続的に
空気を真空配管４中に供給しながら、被処理水２１の脱
気を行った。この状態で、真空配管４の絶対圧は約３．
１ｋＰａ ａｂｓ．であり、得られた脱気処理水３のＤ
Ｏは約９．９ｐｐｂ、ＤＯ除去率約９９．８８％と、１
０ｐｐｂ以下にまで脱気処理を行うことができた。ま
た、気体の供給量を流量測定手段６２にて決定する場合
は、真空ポンプの排気量と、脱気するのに必要な排気量
との差分だけ、真空配管４中に空気を供給してやればよ
い。
【００１４】比較例１
比較例としては、機器の構成を本発明の実施例１と同一
とし、気体供給用の手動弁のみを全閉として運転を行っ
た。図２に本発明の実施例と比較例の運転結果を示す。
比較例の条件で膜脱気装置を運転しても、運転初期は実
施例１と同様の性能が得られたが、図２に示すように、
運転時間が１０００時間を越えた辺りから、真空配管４
中の絶対圧が増加するとと共に、処理水のＤＯ濃度が高
くなった。これは、真空ポンプ３内にたまった凝縮水の
影響で、真空ポンプ内のシール部分が摩耗したためと思
われ、それによって被処理水の飽和蒸気圧まで真空を引
けなくなり、当然脱気処理水３のＤＯ濃度も増加してい
る。比較例のような状況下で、所定の脱気処理を行うた
めには、真空ポンプ３内のシール部分を交換する等のメ
ンテナンスが必要となる。それに対し、本発明の実施例
１では、真空ポンプの運転時間が３０００時間を越えて
も安定して運転しており、脱気処理水３中のＤＯ濃度
も、１０ｐｐｂ以下まで低減することができた。
とし、気体供給用の手動弁のみを全閉として運転を行っ
た。図２に本発明の実施例と比較例の運転結果を示す。
比較例の条件で膜脱気装置を運転しても、運転初期は実
施例１と同様の性能が得られたが、図２に示すように、
運転時間が１０００時間を越えた辺りから、真空配管４
中の絶対圧が増加するとと共に、処理水のＤＯ濃度が高
くなった。これは、真空ポンプ３内にたまった凝縮水の
影響で、真空ポンプ内のシール部分が摩耗したためと思
われ、それによって被処理水の飽和蒸気圧まで真空を引
けなくなり、当然脱気処理水３のＤＯ濃度も増加してい
る。比較例のような状況下で、所定の脱気処理を行うた
めには、真空ポンプ３内のシール部分を交換する等のメ
ンテナンスが必要となる。それに対し、本発明の実施例
１では、真空ポンプの運転時間が３０００時間を越えて
も安定して運転しており、脱気処理水３中のＤＯ濃度
も、１０ｐｐｂ以下まで低減することができた。
【００１５】
【発明の効果】本発明により、脱気膜モジュールの気相
側を真空ポンプで減圧するだけで、脱気膜モジュールの
液相側に導入した被処理水中の溶存ガスを極低濃度ま
で、安定して除去することが可能となった。
側を真空ポンプで減圧するだけで、脱気膜モジュールの
液相側に導入した被処理水中の溶存ガスを極低濃度ま
で、安定して除去することが可能となった。
【図１】本発明の膜脱気装置の運転方法の用いる装置の
概略構成図。
概略構成図。
【図２】運転時間による真空圧力の変化を示すグラフ。
１：脱気膜モジュール、
１１：脱気膜モジュール気相室、
１２：脱気膜モジュール液相室、
２１：被処理水、
２２：脱気処理水.、
３：真空ポンプ、
４：真空配管、
５：気体供給手段、
６１：圧力測定手段、
６２：流量測定手段、
７：逆流防止手段、
８：制御装置
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 川本 孝善
東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社
荏原製作所内
(72)発明者 中西 收
東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社
荏原製作所内
Ｆターム(参考） 4D006 GA32 KA12 KA17 KA64 KE09P
KE09Q MB03 PA01 PB02
PC02
4D011 AA17 AB10
4D037 AA03 AB18 BA23 BB07 CA03
Claims (3)
- 【請求項１】 脱気膜モジュールと、ドライタイプの真
空ポンプと、該脱気膜モジュールと該真空ポンプとを接
続する真空配管と、該真空配管に気体を供給する気体供
給手段とを有し、被処理水中の溶存ガスを除去する膜脱
気装置の運転方法において、前記脱気膜モジュールの液
相側に被処理水を通水し、該脱気膜モジュールの気相側
のガスを前記真空ポンプによって排出して脱気処理を行
いつつ、該脱気膜モジュールと真空ポンプを接続してい
る真空配管中に、前記気体供給手段から気体を断続的も
しくは連続的に供給することを特徴とする膜脱気装置の
運転方法。 - 【請求項２】 前記真空配管中に気体供給手段から供給
する気体の量は、該真空配管中に取り付けられた圧力測
定手段、又は、該気体供給手段に取り付けられた流量測
定手段によって決定することを特徴とする請求項１に記
載の膜脱気装置の運転方法。 - 【請求項３】 前記気体供給手段は、真空配管中の圧力
測定手段から得られた圧力データ、又は、気体供給手段
に取り付けられた流量測定手段から得られた気体供給量
データを元に、気体の供給量を制御する制御手段を有す
ることを特徴とする請求項２に記載の膜脱気装置の運転
方法。
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|---|---|---|---|
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