JP2002169010A - 回折光学素子 - Google Patents
回折光学素子Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板上に設けられた薄膜に回折格子が形成さ
れた回折光学素子であって、回折性能の安定したものを
提供する。 【解決手段】 薄膜の厚さを回折格子の凹凸の高低差よ
りも大きくして、凹凸の形成時にその高低差を厳密に設
定する。薄膜は真空蒸着やスパッタリングで作製し、そ
の厚さを大まかに設定する。凹凸を形成するための薄膜
の加工は、加工量の調節が容易なエッチングにより行
う。また、屈折率の高い材料で薄膜を作製することによ
り回折格子の凹凸の高低差を小さくし、回折効率を高め
る。
れた回折光学素子であって、回折性能の安定したものを
提供する。 【解決手段】 薄膜の厚さを回折格子の凹凸の高低差よ
りも大きくして、凹凸の形成時にその高低差を厳密に設
定する。薄膜は真空蒸着やスパッタリングで作製し、そ
の厚さを大まかに設定する。凹凸を形成するための薄膜
の加工は、加工量の調節が容易なエッチングにより行
う。また、屈折率の高い材料で薄膜を作製することによ
り回折格子の凹凸の高低差を小さくし、回折効率を高め
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は回折光学素子に関
し、特に、基板とその上に設けられた薄膜を備え、薄膜
に回折格子が形成されている回折光学素子に関する。
し、特に、基板とその上に設けられた薄膜を備え、薄膜
に回折格子が形成されている回折光学素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】回折格子は、結合器、偏向器、分波器、
反射器、波長フィルタ、モード変換器、光ピックアップ
用レンズ等の種々の受動素子として、また、光波制御用
の機能素子として利用されており、きわめて重要な光学
素子の１つとなっている。近年では、特に回折効率の高
い回折格子が求められており、このため、光の波長程度
あるいはそれ以下のきわめて高度な加工精度が必要にな
っている。
反射器、波長フィルタ、モード変換器、光ピックアップ
用レンズ等の種々の受動素子として、また、光波制御用
の機能素子として利用されており、きわめて重要な光学
素子の１つとなっている。近年では、特に回折効率の高
い回折格子が求められており、このため、光の波長程度
あるいはそれ以下のきわめて高度な加工精度が必要にな
っている。
【０００３】一般に、回折格子の凹凸の形成にはエッチ
ングが用いられる。従来は、ガラス製の基板の表面をエ
ッチングにより加工して、基板自体に回折格子を作製し
ていたが、最近では、凹凸の高低差が小さい回折格子を
作製するために、基板の表面に薄膜を設けて、薄膜を回
折格子とすることが行われている。
ングが用いられる。従来は、ガラス製の基板の表面をエ
ッチングにより加工して、基板自体に回折格子を作製し
ていたが、最近では、凹凸の高低差が小さい回折格子を
作製するために、基板の表面に薄膜を設けて、薄膜を回
折格子とすることが行われている。
【０００４】薄膜を回折格子とする場合、凹凸の高低差
を薄膜の厚さで規定する。つまり、薄膜が選択的にエッ
チングされる条件で、基板の表面に達するまでエッチン
グを行って、凹凸の高低差を薄膜の厚さに等しくする。
例えば、回折格子の凹凸の高低差を０．５μｍとする場
合、基板上に厚さ０．５μｍの薄膜を設けておけばよい
ことになる。
を薄膜の厚さで規定する。つまり、薄膜が選択的にエッ
チングされる条件で、基板の表面に達するまでエッチン
グを行って、凹凸の高低差を薄膜の厚さに等しくする。
例えば、回折格子の凹凸の高低差を０．５μｍとする場
合、基板上に厚さ０．５μｍの薄膜を設けておけばよい
ことになる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】薄膜の形成には半導体
技術で確立されている蒸着、スパッタリング等の手法が
用いられる。ところが、薄膜の厚さは、原料ガスの供給
速度をはじめとする成膜条件の変動の影響を受け易い。
このため、常時一定の厚さの薄膜を得ることは困難であ
り、回折格子の凹凸の高低差がロットごとに変動する。
その結果、回折格子の性能にばらつきが生じる。
技術で確立されている蒸着、スパッタリング等の手法が
用いられる。ところが、薄膜の厚さは、原料ガスの供給
速度をはじめとする成膜条件の変動の影響を受け易い。
このため、常時一定の厚さの薄膜を得ることは困難であ
り、回折格子の凹凸の高低差がロットごとに変動する。
その結果、回折格子の性能にばらつきが生じる。
【０００６】本発明は、このような問題点に鑑みてなさ
れたもので、基板上に設けられた薄膜に回折格子が形成
された回折光学素子であって、回折性能の安定したもの
を提供することを目的とする。
れたもので、基板上に設けられた薄膜に回折格子が形成
された回折光学素子であって、回折性能の安定したもの
を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、基板と、基板上に設けられた薄膜を備
え、薄膜に回折格子が形成されている回折光学素子にお
いて、薄膜の厚さが回折格子の最上部と最下部との高低
差よりも大きいものとする。
に、本発明では、基板と、基板上に設けられた薄膜を備
え、薄膜に回折格子が形成されている回折光学素子にお
いて、薄膜の厚さが回折格子の最上部と最下部との高低
差よりも大きいものとする。
【０００８】この回折光学素子では、薄膜に形成された
回折格子が基板に達する深さの凹部を有していない。す
なわち、回折格子の凹凸の高低差は、薄膜の厚さ自体で
規定されるのではなく、薄膜の加工量の制御、すなわ
ち、どれだけの深さまで加工するかで規定される。薄膜
の加工は、凹凸の高低差を精度よく設定することができ
る方法であれば、どのような方法で行ってもよいが、例
えば、従来より用いられているエッチングを採用するこ
とができる。エッチングによる加工の速度は一般に遅い
が、この特徴を逆に利用して、加工される薄膜の深さを
精度よく制御すること可能である。したがって、性能に
ばらつきのない回折光学素子となる。
回折格子が基板に達する深さの凹部を有していない。す
なわち、回折格子の凹凸の高低差は、薄膜の厚さ自体で
規定されるのではなく、薄膜の加工量の制御、すなわ
ち、どれだけの深さまで加工するかで規定される。薄膜
の加工は、凹凸の高低差を精度よく設定することができ
る方法であれば、どのような方法で行ってもよいが、例
えば、従来より用いられているエッチングを採用するこ
とができる。エッチングによる加工の速度は一般に遅い
が、この特徴を逆に利用して、加工される薄膜の深さを
精度よく制御すること可能である。したがって、性能に
ばらつきのない回折光学素子となる。
【０００９】ここで、薄膜の屈折率を基板の屈折率より
も高くするとよい。回折次数等の回折条件を同じにする
場合、必要な凹凸の高低差は屈折率に反比例する。一
方、回折効率は凹凸の高低差が小さいほど高くなる。凹
凸間の壁面に入射して失われる光が少なくなるからであ
る。したがって、薄膜の屈折率を高くすることで、凹凸
の高低差を小さくすることができ、回折効率を高めるこ
とが可能になる。
も高くするとよい。回折次数等の回折条件を同じにする
場合、必要な凹凸の高低差は屈折率に反比例する。一
方、回折効率は凹凸の高低差が小さいほど高くなる。凹
凸間の壁面に入射して失われる光が少なくなるからであ
る。したがって、薄膜の屈折率を高くすることで、凹凸
の高低差を小さくすることができ、回折効率を高めるこ
とが可能になる。
【００１０】しかも、薄膜の屈折率を基板の屈折率より
も高くすると、基板側から斜めに光を入射させる場合、
薄膜に対する光の入射角が基板に対する光の入射角より
も小さくなる。すなわち、光は回折格子に対してより垂
直に近い方向から入射する。これにより、凹凸間の壁面
に入射する光の割合が低下して、回折効率はさらに高く
なる。
も高くすると、基板側から斜めに光を入射させる場合、
薄膜に対する光の入射角が基板に対する光の入射角より
も小さくなる。すなわち、光は回折格子に対してより垂
直に近い方向から入射する。これにより、凹凸間の壁面
に入射する光の割合が低下して、回折効率はさらに高く
なる。
【００１１】また、薄膜の加工をエッチングで行うと、
凹凸間の壁面が傾斜面となって、回折格子全体のうち回
折に寄与し得る部位が少なくなり、回折効率の低下を招
き易い。しかし、薄膜の屈折率を高くすることで、傾斜
面が生じることによる回折効率の低下を抑えることがで
きる。上記のように凹凸の高低差が小さくなり、傾斜面
となる範囲が狭くなるからである。したがって、凹凸の
高低差を精度よく設定するために薄膜の加工にエッチン
グを採用しながら、高い回折効率を維持することができ
る。
凹凸間の壁面が傾斜面となって、回折格子全体のうち回
折に寄与し得る部位が少なくなり、回折効率の低下を招
き易い。しかし、薄膜の屈折率を高くすることで、傾斜
面が生じることによる回折効率の低下を抑えることがで
きる。上記のように凹凸の高低差が小さくなり、傾斜面
となる範囲が狭くなるからである。したがって、凹凸の
高低差を精度よく設定するために薄膜の加工にエッチン
グを採用しながら、高い回折効率を維持することができ
る。
【００１２】基板の材料をガラスとし、薄膜の材料をＴ
ｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3およびＴａ2Ｏ5のいずれかとするとよ
い。これらの薄膜材料の屈折率はいずれも１．６以上で
あり、ガラスの一般的な屈折率１．５よりも大きいか
ら、回折効率を確実に高めることが可能になる。また、
成膜も容易であり、エッチングで加工することもでき
る。
ｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3およびＴａ2Ｏ5のいずれかとするとよ
い。これらの薄膜材料の屈折率はいずれも１．６以上で
あり、ガラスの一般的な屈折率１．５よりも大きいか
ら、回折効率を確実に高めることが可能になる。また、
成膜も容易であり、エッチングで加工することもでき
る。
【００１３】薄膜に対して反対側の基板の表面に反射防
止層を備えるとよい。また、薄膜と基板の間に反射防止
層を備えてもよい。空気と基板の界面での反射や、基板
と薄膜の界面での反射が抑えられて、回折効率が一層高
くなる。
止層を備えるとよい。また、薄膜と基板の間に反射防止
層を備えてもよい。空気と基板の界面での反射や、基板
と薄膜の界面での反射が抑えられて、回折効率が一層高
くなる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の回折光学素子の実
施形態について図面を参照しながら説明する。第１の実
施形態の回折光学素子１の構成を図１に模式的に示す。
回折光学素子１は基板１１、薄膜１２、および２つの反
射防止層１４、１５を備えており、薄膜１２には回折格
子１３が形成されている。回折光学素子１は、入射する
光を透過させて透過光に回折を生じさせる透過型であ
り、基板１１側から垂直に入射する光Ｌを回折させるよ
うに設定されている。
施形態について図面を参照しながら説明する。第１の実
施形態の回折光学素子１の構成を図１に模式的に示す。
回折光学素子１は基板１１、薄膜１２、および２つの反
射防止層１４、１５を備えており、薄膜１２には回折格
子１３が形成されている。回折光学素子１は、入射する
光を透過させて透過光に回折を生じさせる透過型であ
り、基板１１側から垂直に入射する光Ｌを回折させるよ
うに設定されている。
【００１５】基板１１は屈折率が約１．５のガラス製で
ある。薄膜１２は基板１１上に設けられており、その材
料は、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化アルミニウム（Ａ
ｌ2Ｏ 3）および酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）のいずれかで
ある。ＴｉＯ2の屈折率は約２．３、Ａｌ2Ｏ3の屈折率
は約１．６２、Ｔａ2Ｏ5の屈折率は約２．１であり、い
ずれもガラスの屈折率よりも高い。
ある。薄膜１２は基板１１上に設けられており、その材
料は、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化アルミニウム（Ａ
ｌ2Ｏ 3）および酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）のいずれかで
ある。ＴｉＯ2の屈折率は約２．３、Ａｌ2Ｏ3の屈折率
は約１．６２、Ｔａ2Ｏ5の屈折率は約２．１であり、い
ずれもガラスの屈折率よりも高い。
【００１６】回折格子１３は薄膜１２の表面に形成され
ており、傾斜面を有するブレーズ型である。薄膜２の厚
さｄは回折格子１３の凹凸の高低差ｈよりも大きく、回
折格子１３の最下部は薄膜１２の下面に達していない。
凹凸の高低差ｈは回折対象の光Ｌの波長程度またはそれ
以下であり、薄膜１２の厚さｄは１μｍ程度である。
ており、傾斜面を有するブレーズ型である。薄膜２の厚
さｄは回折格子１３の凹凸の高低差ｈよりも大きく、回
折格子１３の最下部は薄膜１２の下面に達していない。
凹凸の高低差ｈは回折対象の光Ｌの波長程度またはそれ
以下であり、薄膜１２の厚さｄは１μｍ程度である。
【００１７】反射防止層１４、１５は誘電体を多重に積
層して作製されている。反射防止層１４は、薄膜１２に
対して反対側の基板１１の表面に設けられており、空気
と基板１１の界面で生じる反射を防止する。反射防止層
１５は基板１１と薄膜１２の間に設けられており、基板
１１と薄膜１２の界面で生じる反射を防止する。
層して作製されている。反射防止層１４は、薄膜１２に
対して反対側の基板１１の表面に設けられており、空気
と基板１１の界面で生じる反射を防止する。反射防止層
１５は基板１１と薄膜１２の間に設けられており、基板
１１と薄膜１２の界面で生じる反射を防止する。
【００１８】薄膜１２の屈折率が高いため、回折格子１
３の凹凸の高低差ｈは小さい。したがって、凹凸間の壁
面に入射して失われる回折後の光ＬTは僅かである。し
かも、反射防止層１４、１５により入射光Ｌの反射が抑
えられるため、回折光学素子１の回折効率は高い。な
お、反射防止層１４、１５は省略することも可能である
が、これらを備えて、できるだけ多くの光を回折格子１
３に導くのが望ましい。
３の凹凸の高低差ｈは小さい。したがって、凹凸間の壁
面に入射して失われる回折後の光ＬTは僅かである。し
かも、反射防止層１４、１５により入射光Ｌの反射が抑
えられるため、回折光学素子１の回折効率は高い。な
お、反射防止層１４、１５は省略することも可能である
が、これらを備えて、できるだけ多くの光を回折格子１
３に導くのが望ましい。
【００１９】薄膜１２は半導体技術で確立されている真
空蒸着、スパッタリング等の種々の成膜方法で形成する
ことができる。その際、後に作製する回折格子１３の凹
凸の高低差ｈを超えるだけの厚さｄを確保すればよく、
薄膜１２の形成の制御は容易である。
空蒸着、スパッタリング等の種々の成膜方法で形成する
ことができる。その際、後に作製する回折格子１３の凹
凸の高低差ｈを超えるだけの厚さｄを確保すればよく、
薄膜１２の形成の制御は容易である。
【００２０】回折格子１３の作製すなわち薄膜１２の加
工は、加工量の制御が容易な方法によって行い、凹凸の
高低差ｈを精度よく設定する。エッチングは、一般に、
加工速度は遅いが、逆に処理時間によって加工量を調節
することが容易であり、この目的に適する。本実施形態
ではＲＩＥ（リアクティブイオンエッチング）によって
薄膜１２を加工している。
工は、加工量の制御が容易な方法によって行い、凹凸の
高低差ｈを精度よく設定する。エッチングは、一般に、
加工速度は遅いが、逆に処理時間によって加工量を調節
することが容易であり、この目的に適する。本実施形態
ではＲＩＥ（リアクティブイオンエッチング）によって
薄膜１２を加工している。
【００２１】ＲＩＥに際しては、加工を薄膜１２内にと
どめるため、反射防止層１５の材質を考慮することなく
エッチング条件を定めることができる。したがって、加
工量の調節が容易なエッチング条件を選択し易く、凹凸
の高低差ｈを精度よく設定することが可能である。
どめるため、反射防止層１５の材質を考慮することなく
エッチング条件を定めることができる。したがって、加
工量の調節が容易なエッチング条件を選択し易く、凹凸
の高低差ｈを精度よく設定することが可能である。
【００２２】第２の実施形態の回折光学素子２の構成を
図２に模式的に示す。回折光学素子２は回折光学素子１
と同様に構成されており、基板１１、回折格子１３が形
成されている薄膜１２、および反射防止層１４、１５を
備えている。回折光学素子２は、入射する光を反射して
反射光に回折を生じさせる反射型であり、基板１１側か
ら斜めに入射する光Ｌを回折させるように設定されてい
る。回折格子１３が反射型に設定されていることを除
き、基板１１、薄膜１２、回折格子１３、反射防止層１
４、１５の材料や作製方法等は回折光学素子１と同じで
あるので、重複する説明は省略する。
図２に模式的に示す。回折光学素子２は回折光学素子１
と同様に構成されており、基板１１、回折格子１３が形
成されている薄膜１２、および反射防止層１４、１５を
備えている。回折光学素子２は、入射する光を反射して
反射光に回折を生じさせる反射型であり、基板１１側か
ら斜めに入射する光Ｌを回折させるように設定されてい
る。回折格子１３が反射型に設定されていることを除
き、基板１１、薄膜１２、回折格子１３、反射防止層１
４、１５の材料や作製方法等は回折光学素子１と同じで
あるので、重複する説明は省略する。
【００２３】光Ｌを基板１１に斜めに入射させる回折光
学素子２では、回折格子１３の凹凸間の壁面に光Ｌの一
部が入射する。また、回折後の光ＬRの一部も凹凸間の
壁面に入射する。しかしながら、薄膜１２の屈折率が高
く、凹凸の高低差が小さいため、壁面で失われる光は少
ない。しかも、薄膜１２の屈折率が基板１１の屈折率よ
りも高いから、薄膜１２に対する光Ｌの入射角は基板１
１に対する入射角よりも小さくなる。このため、薄膜１
２への光Ｌの入射方向は垂直に近づき、凹凸間の壁面に
入射する光はさらに少なくなる。したがって、回折光学
素子２の回折効率は高い。
学素子２では、回折格子１３の凹凸間の壁面に光Ｌの一
部が入射する。また、回折後の光ＬRの一部も凹凸間の
壁面に入射する。しかしながら、薄膜１２の屈折率が高
く、凹凸の高低差が小さいため、壁面で失われる光は少
ない。しかも、薄膜１２の屈折率が基板１１の屈折率よ
りも高いから、薄膜１２に対する光Ｌの入射角は基板１
１に対する入射角よりも小さくなる。このため、薄膜１
２への光Ｌの入射方向は垂直に近づき、凹凸間の壁面に
入射する光はさらに少なくなる。したがって、回折光学
素子２の回折効率は高い。
【００２４】第３の実施形態の回折光学素子３の回折格
子１３を図３に模式的に示す。回折光学素子３では、回
折格子１３は水平面を有するバイナリ型とされている。
基板１１、回折格子１３が形成されている薄膜１２、反
射防止層１４、１５の構成や作製方法は第１の実施形態
の回折光学素子１と同様であり、重複する説明は省略す
る。
子１３を図３に模式的に示す。回折光学素子３では、回
折格子１３は水平面を有するバイナリ型とされている。
基板１１、回折格子１３が形成されている薄膜１２、反
射防止層１４、１５の構成や作製方法は第１の実施形態
の回折光学素子１と同様であり、重複する説明は省略す
る。
【００２５】回折光学素子３においてもＲＩＥによって
回折格子１３を作製するが、一般に、エッチングでは、
加工した部位と保存した部位の間の壁面が傾斜面とな
る。図３の（ａ）は、バイナリ型の回折格子１３の理想
的な断面を表しており、（ｂ）は実際に得られる回折格
子１３の断面を表している。バイナリ型の回折格子にこ
のような傾斜面が生じると、回折に寄与する水平面の割
合が減少して回折効率は低下する。しかしながら、回折
光学素子３の薄膜１２の屈折率は高いから、傾斜面とな
る範囲は少なく、回折効率の低下を僅かにすることがで
きる。
回折格子１３を作製するが、一般に、エッチングでは、
加工した部位と保存した部位の間の壁面が傾斜面とな
る。図３の（ａ）は、バイナリ型の回折格子１３の理想
的な断面を表しており、（ｂ）は実際に得られる回折格
子１３の断面を表している。バイナリ型の回折格子にこ
のような傾斜面が生じると、回折に寄与する水平面の割
合が減少して回折効率は低下する。しかしながら、回折
光学素子３の薄膜１２の屈折率は高いから、傾斜面とな
る範囲は少なく、回折効率の低下を僅かにすることがで
きる。
【００２６】比較のために、薄膜の屈折率が小さいとき
の回折格子１３に相当する回折格子１３’を図４に示
す。図４の（ａ）は理想的な断面を、（ｂ）は実際に得
られる断面を表す。屈折率が小さいと、同じ回折条件に
設定するためには、回折格子１３’の凹凸の高低差を大
きくする必要が生じる。一方、エッチングにより生じる
傾斜面の角度は、加工の進行の程度にあまり依存せず、
略一定である。このため、図３の（ｂ）と図４の（ｂ）
の比較より明らかなように、傾斜面となる範囲Ｓが広く
なって、水平面の割合が低下する。これに対し、薄膜１
２の屈折率が高い回折光学素子３では、水平面を大きく
確保することができ、回折効率の低下は僅かになる。
の回折格子１３に相当する回折格子１３’を図４に示
す。図４の（ａ）は理想的な断面を、（ｂ）は実際に得
られる断面を表す。屈折率が小さいと、同じ回折条件に
設定するためには、回折格子１３’の凹凸の高低差を大
きくする必要が生じる。一方、エッチングにより生じる
傾斜面の角度は、加工の進行の程度にあまり依存せず、
略一定である。このため、図３の（ｂ）と図４の（ｂ）
の比較より明らかなように、傾斜面となる範囲Ｓが広く
なって、水平面の割合が低下する。これに対し、薄膜１
２の屈折率が高い回折光学素子３では、水平面を大きく
確保することができ、回折効率の低下は僅かになる。
【００２７】図１、図２には示していないが、第１、第
２の実施形態の回折光学素子１、２においても、回折格
子１３の凹凸間の壁面は傾斜し、回折を生じさせるため
の本来の傾斜面の割合は減少する。しかしながら、回折
光学素子１、２でも、薄膜１２の屈折率が高いため、回
折効率の低下は僅かに抑えられる。
２の実施形態の回折光学素子１、２においても、回折格
子１３の凹凸間の壁面は傾斜し、回折を生じさせるため
の本来の傾斜面の割合は減少する。しかしながら、回折
光学素子１、２でも、薄膜１２の屈折率が高いため、回
折効率の低下は僅かに抑えられる。
【００２８】
【発明の効果】回折格子が形成されている薄膜の厚さが
回折格子の最上部と最下部との高低差よりも大きい本発
明の回折光学素子では、回折格子の凹凸の高低差は、薄
膜の厚さにより規定されるのではなく、薄膜の加工時の
制御で規定されるから、凹凸の高低差を精度よく設定す
ることができる。したがって、性能にばらつきのない回
折光学素子となる。
回折格子の最上部と最下部との高低差よりも大きい本発
明の回折光学素子では、回折格子の凹凸の高低差は、薄
膜の厚さにより規定されるのではなく、薄膜の加工時の
制御で規定されるから、凹凸の高低差を精度よく設定す
ることができる。したがって、性能にばらつきのない回
折光学素子となる。
【００２９】特に、薄膜の屈折率を基板の屈折率よりも
高くすると、回折格子の高低差を小さくすることができ
ること、回折格子に対する光の入射方向が垂直に近づく
こと、薄膜の加工の際に傾斜面が生じるときでもその範
囲が小さくなることの３つの理由により、確実に回折効
率を高めることができる。しかも、回折格子の形成に必
要な薄膜の厚さを抑えることができ、薄膜形成の効率が
向上する。
高くすると、回折格子の高低差を小さくすることができ
ること、回折格子に対する光の入射方向が垂直に近づく
こと、薄膜の加工の際に傾斜面が生じるときでもその範
囲が小さくなることの３つの理由により、確実に回折効
率を高めることができる。しかも、回折格子の形成に必
要な薄膜の厚さを抑えることができ、薄膜形成の効率が
向上する。
【図１】 第１の実施形態の回折光学素子の構成を模式
的に示す断面図。
的に示す断面図。
【図２】 第２の実施形態の回折光学素子の構成を模式
的に示す断面図。
的に示す断面図。
【図３】 第３の実施形態の回折光学素子の回折格子の
構成を模式的に示す断面図。
構成を模式的に示す断面図。
【図４】 第３の実施形態の回折光学素子の比較例にお
ける回折格子の構成を模式的に示す断面図。
ける回折格子の構成を模式的に示す断面図。
１、２、３ 回折光学素子 １１ 基板 １２ 薄膜 １３ 回折格子 １４、１５ 反射防止層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高田 球 大阪市中央区安土町二丁目３番13号 大阪 国際ビル ミノルタ株式会社内 (72)発明者 波多野 卓史 大阪市中央区安土町二丁目３番13号 大阪 国際ビル ミノルタ株式会社内 Ｆターム(参考） 2H049 AA03 AA07 AA37 AA45 AA46 AA53 AA57 AA59 AA63 AA64
Claims (5)
- 【請求項１】 基板と、基板上に設けられた薄膜を備
え、薄膜に回折格子が形成されている回折光学素子にお
いて、 薄膜の厚さが回折格子の最上部と最下部との高低差より
も大きいことを特徴とする回折光学素子。 - 【請求項２】 薄膜の屈折率が基板の屈折率よりも高い
ことを特徴とする請求項１に記載の回折光学素子。 - 【請求項３】 基板の材料がガラスであり、薄膜の材料
がＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ 3およびＴａ2Ｏ5のいずれかである
ことを特徴とする請求項２に記載の回折光学素子。 - 【請求項４】 薄膜に対して反対側の基板の表面に反射
防止層を備えることを特徴とする請求項１ないし請求項
３のいずれか１項に記載の回折光学素子。 - 【請求項５】 薄膜と基板の間に反射防止層を備えるこ
とを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項
に記載の回折光学素子。
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| JP2000368614A JP2002169010A (ja) | 2000-12-04 | 2000-12-04 | 回折光学素子 |
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| JP2000368614A JP2002169010A (ja) | 2000-12-04 | 2000-12-04 | 回折光学素子 |
Publications (1)
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|---|---|
| JP2002169010A true JP2002169010A (ja) | 2002-06-14 |
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ID=18838810
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