JPS63187202A - ブレ−ズドホログラフイツク回折格子 - Google Patents
ブレ−ズドホログラフイツク回折格子Info
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- JPS63187202A JPS63187202A JP1840787A JP1840787A JPS63187202A JP S63187202 A JPS63187202 A JP S63187202A JP 1840787 A JP1840787 A JP 1840787A JP 1840787 A JP1840787 A JP 1840787A JP S63187202 A JPS63187202 A JP S63187202A
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- grooves
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- Pending
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Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光学回折格子の鋸歯状溝の形成に係り分光分析
分野で用いられるホログラフィック回折格子のブレード
化に好適な鋸歯状溝の形成方法に関する。
分野で用いられるホログラフィック回折格子のブレード
化に好適な鋸歯状溝の形成方法に関する。
従来1同各格子の形成方法として特開昭54−1108
57号に示された如く所望パターンの不透明薄膜で覆っ
た感光性樹脂膜に、照射角度を変えながら露光を行なう
ことが提案されている。しかし、この方法では不透明パ
ターン作成が格子ピッチが小さくなるに従って因業化し
、エツチング工程。
57号に示された如く所望パターンの不透明薄膜で覆っ
た感光性樹脂膜に、照射角度を変えながら露光を行なう
ことが提案されている。しかし、この方法では不透明パ
ターン作成が格子ピッチが小さくなるに従って因業化し
、エツチング工程。
角度を変えながらの露光など多くの困難な工程があり、
高精度化が図りにくく、またブレーズ角によって感光体
の厚さのコントロールなど制御ポイントが多いという問
題がある。
高精度化が図りにくく、またブレーズ角によって感光体
の厚さのコントロールなど制御ポイントが多いという問
題がある。
一般に光学干渉によって作成するホログラフィック回折
格子は作成時の二光束干渉角度で格子のピッチを変える
ことができ、しかも任意の面積の格子が出来るなどの利
点がある。しかし、溝形状が正弦波状となるため回折効
率が低いという問題がある。そこで回折効率を向上させ
る方法として溝形状を鋸歯状にすることで理論上は10
0%の回折効率を得ることが出来る。従来種々の鋸歯状
溝の作成方法が提案されているが回折効率が小さいこと
や迷光が大きいことなど問題が多い、また。
格子は作成時の二光束干渉角度で格子のピッチを変える
ことができ、しかも任意の面積の格子が出来るなどの利
点がある。しかし、溝形状が正弦波状となるため回折効
率が低いという問題がある。そこで回折効率を向上させ
る方法として溝形状を鋸歯状にすることで理論上は10
0%の回折効率を得ることが出来る。従来種々の鋸歯状
溝の作成方法が提案されているが回折効率が小さいこと
や迷光が大きいことなど問題が多い、また。
小さいブレーズ角の形成となると非常に困難になってく
ることである。
ることである。
本発明の目的は、低迷光、高効率でしかも小さいブレー
ズ角をも容易に形成する方法を提案することにある。
ズ角をも容易に形成する方法を提案することにある。
一般的な方法の二光束干渉縞で基板上の感光体の露光、
現像して正弦波状の格子溝を作成して。
現像して正弦波状の格子溝を作成して。
この上に不透明物質をコーティングし、更にその上に感
光体を塗布する。格子溝に対し斜め方向から露光し、現
像する。感光体は露光された部分が現像で除去される種
類を用いる。
光体を塗布する。格子溝に対し斜め方向から露光し、現
像する。感光体は露光された部分が現像で除去される種
類を用いる。
尚、露光時の光照射角はほぼブレーズ角に相当する方向
から行う以上により容易にブレーズドホログラフィック
回折格子が得られる。
から行う以上により容易にブレーズドホログラフィック
回折格子が得られる。
一般的な二光束干渉露光法により基板に正弦波溝を形成
し不透明化する0次に感光体を塗布し、溝に対し斜め方
向から光を照射すると正弦波溝の山の頂上部分により溝
の谷の一部分に影が生じて。
し不透明化する0次に感光体を塗布し、溝に対し斜め方
向から光を照射すると正弦波溝の山の頂上部分により溝
の谷の一部分に影が生じて。
未露光部分ができる。感光体に露光部分が現像によって
除去できるものを用いれば、上記未露光部分が現像によ
り残り、溝の谷の一部が埋められて全体的には鋸歯状の
溝が形成される。鋸歯状の溝は周知の通り特定波長域で
回折効率が高くなるので上記方法により所望のブレーズ
角の鋸歯状溝を形成し回折効率を増すことができる。
除去できるものを用いれば、上記未露光部分が現像によ
り残り、溝の谷の一部が埋められて全体的には鋸歯状の
溝が形成される。鋸歯状の溝は周知の通り特定波長域で
回折効率が高くなるので上記方法により所望のブレーズ
角の鋸歯状溝を形成し回折効率を増すことができる。
以下1本発明の一実施例の図面を用いて詳細に説明する
。第1図〜第3図は本発明による各プロセス説明のため
の図で、第1図は二光束干渉露光法により正弦波溝の形
成を示す、光学研磨されたガラス基板1の上に感光体2
としてホトレジストAZ−1350を0.6〜1.0μ
m塗布し、二光束のレーザ光3,3′による干渉縞を感
光体2上に作り露光する0次にこれを現像することによ
り露光量に対応した凹凸、つまり正弦波溝が形成される
。つづいて溝面を不透明化するため金属など(クロムや
銀)を真空蒸着する0次にこの溝面上に感光体4のホト
レジストAZ−1350を0.6μm程度を塗布し、溝
方向以外の斜め方向から露光用の光6を照射し露光する
。露光は正弦波溝2の山の頂上部分により露光用光が当
らず未露光部分7が生じ、感光体4は露光されたところ
が現像で除去できるので未露光部分7が残る。これによ
り第3図に示すように鋸歯状の溝8が形成され。
。第1図〜第3図は本発明による各プロセス説明のため
の図で、第1図は二光束干渉露光法により正弦波溝の形
成を示す、光学研磨されたガラス基板1の上に感光体2
としてホトレジストAZ−1350を0.6〜1.0μ
m塗布し、二光束のレーザ光3,3′による干渉縞を感
光体2上に作り露光する0次にこれを現像することによ
り露光量に対応した凹凸、つまり正弦波溝が形成される
。つづいて溝面を不透明化するため金属など(クロムや
銀)を真空蒸着する0次にこの溝面上に感光体4のホト
レジストAZ−1350を0.6μm程度を塗布し、溝
方向以外の斜め方向から露光用の光6を照射し露光する
。露光は正弦波溝2の山の頂上部分により露光用光が当
らず未露光部分7が生じ、感光体4は露光されたところ
が現像で除去できるので未露光部分7が残る。これによ
り第3図に示すように鋸歯状の溝8が形成され。
ブレーズドホログラフィック回折格子が得られる。
回折効率を更に高めるため光反射性の良いアルミニウム
などを鋸歯状溝面上に真空蒸着などの方法によりコーテ
ィングする。
などを鋸歯状溝面上に真空蒸着などの方法によりコーテ
ィングする。
以上、簡単な方法(設備および技術)で容易に任意のブ
レーズ角を持った低迷光で回折効率の高いブレーズドホ
ログラフィック回折格子を作成できる。
レーズ角を持った低迷光で回折効率の高いブレーズドホ
ログラフィック回折格子を作成できる。
−以上、本発明によれば正弦波状溝をベースとし、′
溝を感光体でブレーズ角に合うよう変形して、鋸;・′ 歯状溝にすることでブレーズされたホログラフィックが
容易に得られる。
溝を感光体でブレーズ角に合うよう変形して、鋸;・′ 歯状溝にすることでブレーズされたホログラフィックが
容易に得られる。
微細格子の作成も従来のようにマスクを必要としないの
でマスクによるデッドスペースもなく迷光および回折効
率が優れる等の利点があり、工業的価値は非常に高い。
でマスクによるデッドスペースもなく迷光および回折効
率が優れる等の利点があり、工業的価値は非常に高い。
第1図は二光束干渉露光法によるホログラフィック回折
格子を作成する概略図、第2図は本発明に係る鋸歯状溝
の形成方法を示す図、第3図は感光体で溝部が変形され
鋸歯状溝となったブレーズドホログラフィック回折格子
の断面図である。
格子を作成する概略図、第2図は本発明に係る鋸歯状溝
の形成方法を示す図、第3図は感光体で溝部が変形され
鋸歯状溝となったブレーズドホログラフィック回折格子
の断面図である。
Claims (1)
- 1、あらかじめ不透明な格子溝を作り、その面上に現像
によって露光部分が除去される感光体を塗布し、斜め方
向から露光後現像してなるブレーズドホログラフィック
回折格子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1840787A JPS63187202A (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | ブレ−ズドホログラフイツク回折格子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1840787A JPS63187202A (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | ブレ−ズドホログラフイツク回折格子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63187202A true JPS63187202A (ja) | 1988-08-02 |
Family
ID=11970814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1840787A Pending JPS63187202A (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | ブレ−ズドホログラフイツク回折格子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63187202A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002169010A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-06-14 | Minolta Co Ltd | 回折光学素子 |
US7175773B1 (en) | 2004-06-14 | 2007-02-13 | Carl Zeiss Laser Optics Gmbh | Method for manufacturing a blazed grating, such a blazed grating and a spectrometer having such a blazed grating |
JP2011017748A (ja) * | 2009-07-07 | 2011-01-27 | Nikon Corp | 回折光学素子の製造方法および製造装置 |
WO2013051384A1 (ja) * | 2011-10-07 | 2013-04-11 | 株式会社日立製作所 | 位相シフトマスク、非対称パターンの形成方法、回折格子の製造方法および半導体装置の製造方法 |
CN112313548A (zh) * | 2018-08-29 | 2021-02-02 | 株式会社日立高新技术 | 凹面衍射光栅以及其制造方法、和光学装置 |
-
1987
- 1987-01-30 JP JP1840787A patent/JPS63187202A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002169010A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-06-14 | Minolta Co Ltd | 回折光学素子 |
US7175773B1 (en) | 2004-06-14 | 2007-02-13 | Carl Zeiss Laser Optics Gmbh | Method for manufacturing a blazed grating, such a blazed grating and a spectrometer having such a blazed grating |
JP2011017748A (ja) * | 2009-07-07 | 2011-01-27 | Nikon Corp | 回折光学素子の製造方法および製造装置 |
WO2013051384A1 (ja) * | 2011-10-07 | 2013-04-11 | 株式会社日立製作所 | 位相シフトマスク、非対称パターンの形成方法、回折格子の製造方法および半導体装置の製造方法 |
JP2013083759A (ja) * | 2011-10-07 | 2013-05-09 | Hitachi Ltd | 位相シフトマスク、非対称パターンの形成方法、回折格子の製造方法および半導体装置の製造方法 |
US9390934B2 (en) | 2011-10-07 | 2016-07-12 | Hitachi High-Technologies Corporation | Phase shift mask, method of forming asymmetric pattern, method of manufacturing diffraction grating, and method of manufacturing semiconductor device |
CN112313548A (zh) * | 2018-08-29 | 2021-02-02 | 株式会社日立高新技术 | 凹面衍射光栅以及其制造方法、和光学装置 |
CN112313548B (zh) * | 2018-08-29 | 2022-05-03 | 株式会社日立高新技术 | 凹面衍射光栅以及其制造方法、和光学装置 |
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