JPH0580202A - プラスチツク製光学部品用の反射防止膜、その製造方法及び該反射防止膜を備えたプラスチツク製光学部品 - Google Patents
プラスチツク製光学部品用の反射防止膜、その製造方法及び該反射防止膜を備えたプラスチツク製光学部品Info
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- JPH0580202A JPH0580202A JP3243422A JP24342291A JPH0580202A JP H0580202 A JPH0580202 A JP H0580202A JP 3243422 A JP3243422 A JP 3243422A JP 24342291 A JP24342291 A JP 24342291A JP H0580202 A JPH0580202 A JP H0580202A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 プラスチック製光学部品１上に、反応性蒸着
法により、入射角６０°〜７５°のＳｉＯ2 斜め入射膜
２よりなる反射防止膜を形成する。 【効果】 反射率が小さく、反射防止特性及び機械的強
度の優れたプラスチック製光学部品を提供できる。
法により、入射角６０°〜７５°のＳｉＯ2 斜め入射膜
２よりなる反射防止膜を形成する。 【効果】 反射率が小さく、反射防止特性及び機械的強
度の優れたプラスチック製光学部品を提供できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラスチック製光学部
品用の反射防止膜に関するものである。
品用の反射防止膜に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、レンズ等の光学部品においては、
軽量化、ローコスト等のニーズから、ガラス素材に替わ
り、プラスチック素材の多用化が進んでいる。光学部品
に適したプラスチック素材としては、ポリメタクリルメ
タクリレート（以下、ＰＭＭＡと記す。）、ポリカーボ
ネート（以下、ＰＣと記す。）、ポリスチレン（以下、
ＰＳと記す。）等が従来よりよく知られている。これら
プラスチック素材の屈折率は１．４９〜１．８０であ
り、ガラス素材と同様の値を示している。しかしなが
ら、前記屈折率をもつ素材をレンズ等に用いた場合、光
の反射率が大きいため、透過光量の減少、複屈折による
ゴースト等の問題が生じる。
軽量化、ローコスト等のニーズから、ガラス素材に替わ
り、プラスチック素材の多用化が進んでいる。光学部品
に適したプラスチック素材としては、ポリメタクリルメ
タクリレート（以下、ＰＭＭＡと記す。）、ポリカーボ
ネート（以下、ＰＣと記す。）、ポリスチレン（以下、
ＰＳと記す。）等が従来よりよく知られている。これら
プラスチック素材の屈折率は１．４９〜１．８０であ
り、ガラス素材と同様の値を示している。しかしなが
ら、前記屈折率をもつ素材をレンズ等に用いた場合、光
の反射率が大きいため、透過光量の減少、複屈折による
ゴースト等の問題が生じる。
【０００３】そこで、通常ガラス製レンズに対しては、
真空蒸着法により、２００℃〜３００℃に加熱されたガ
ラス基板上に、ＭｇＦ2 等からなる蒸着膜を形成するい
わゆるハードコーティングが一般に施されてきた。
真空蒸着法により、２００℃〜３００℃に加熱されたガ
ラス基板上に、ＭｇＦ2 等からなる蒸着膜を形成するい
わゆるハードコーティングが一般に施されてきた。
【０００４】しかし、プラスチック製レンズの場合は、
一般的に耐熱性が低いため、基板を加熱した状態におけ
る真空蒸着法は使用することができない。また、ＭｇＦ
2 は、無加熱の基板に蒸着された場合、膜硬度及び基板
との密着性が低下し、充分な表面強度を得ることができ
ない。
一般的に耐熱性が低いため、基板を加熱した状態におけ
る真空蒸着法は使用することができない。また、ＭｇＦ
2 は、無加熱の基板に蒸着された場合、膜硬度及び基板
との密着性が低下し、充分な表面強度を得ることができ
ない。
【０００５】そこで、上記問題を解決するものとしてプ
ラスチック製レンズと蒸着膜が接する、第１層目にＳｉ
Ｏ2 層を形成し、その上に高屈折率層としてＴｉＯ2 又
はＺｒＯ2 層を形成し、さらにその上に低屈折率層とし
てＳｉＯ2 を形成し３層構成の反射防止膜としたもの
が、特公昭５６−１５４８１（ニコン）、特公昭６２−
３２４４１（エーオーＩｎｃ．）等に開示されている。
ラスチック製レンズと蒸着膜が接する、第１層目にＳｉ
Ｏ2 層を形成し、その上に高屈折率層としてＴｉＯ2 又
はＺｒＯ2 層を形成し、さらにその上に低屈折率層とし
てＳｉＯ2 を形成し３層構成の反射防止膜としたもの
が、特公昭５６−１５４８１（ニコン）、特公昭６２−
３２４４１（エーオーＩｎｃ．）等に開示されている。
【０００６】また、前述２件の公知例の高屈折率材をＴ
ａ2 Ｏ5 層に換えてＳｉＯ2 層とＴａ2 Ｏ5 層を交互に
積層し５層の構造の反射防止膜としたものが特開昭６０
−２２５１０１等に開示されている。
ａ2 Ｏ5 層に換えてＳｉＯ2 層とＴａ2 Ｏ5 層を交互に
積層し５層の構造の反射防止膜としたものが特開昭６０
−２２５１０１等に開示されている。
【０００７】上記、プラスチック製レンズの反射防止膜
は、第１層のＳｉＯ2 膜がプラスチック製基板に対し
て、無加熱で蒸着しても強固な密着力を有することと、
ＳｉＯ 2 膜の機械的強度が高いことにより充分な表面強
度をもつものである。
は、第１層のＳｉＯ2 膜がプラスチック製基板に対し
て、無加熱で蒸着しても強固な密着力を有することと、
ＳｉＯ 2 膜の機械的強度が高いことにより充分な表面強
度をもつものである。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、低屈折
率層としてＳｉＯ2 膜を用いている上記反射防止膜の屈
折率は１．４６〜１．５０であり、通常、ＭｇＦ2 膜を
低屈折率層として用いるガラス製レンズの反射防止膜の
屈折率１．３８に比べ、かなり高い。このため、ＭｇＦ
2 膜を低屈折率層に用いた同一層数の反射防止膜に比
べ、ＳｉＯ2 膜の反射防止効果は劣ってしまう。
率層としてＳｉＯ2 膜を用いている上記反射防止膜の屈
折率は１．４６〜１．５０であり、通常、ＭｇＦ2 膜を
低屈折率層として用いるガラス製レンズの反射防止膜の
屈折率１．３８に比べ、かなり高い。このため、ＭｇＦ
2 膜を低屈折率層に用いた同一層数の反射防止膜に比
べ、ＳｉＯ2 膜の反射防止効果は劣ってしまう。
【０００９】そこで、本発明は上記問題点に鑑み、Ｍｇ
Ｆ2 膜と同等以上の低屈折率１．３〜１．４を有するＳ
ｉＯ2 膜を形成する手段と、そのＳｉＯ2 膜を利用した
プラスチック製光学部品用の反射防止膜、その製造方法
及び該反射防止膜を備えたプラスチック製光学部品を提
供することを目的としている。
Ｆ2 膜と同等以上の低屈折率１．３〜１．４を有するＳ
ｉＯ2 膜を形成する手段と、そのＳｉＯ2 膜を利用した
プラスチック製光学部品用の反射防止膜、その製造方法
及び該反射防止膜を備えたプラスチック製光学部品を提
供することを目的としている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明は、蒸着法によるシリコン系蒸着材料からの蒸
着粒子の入射角をプラスチック製光学部品の基板面に対
して６０°〜７５°として蒸着することにより屈折率が
１．３〜１．４のＳｉＯ2 斜め入射膜を基板上に少なく
とも一層形成するプラスチック製光学部品用の反射防止
膜の製造方法である。
の本発明は、蒸着法によるシリコン系蒸着材料からの蒸
着粒子の入射角をプラスチック製光学部品の基板面に対
して６０°〜７５°として蒸着することにより屈折率が
１．３〜１．４のＳｉＯ2 斜め入射膜を基板上に少なく
とも一層形成するプラスチック製光学部品用の反射防止
膜の製造方法である。
【００１１】また本発明は、ＳｉＯ2 斜め入射膜が６０
°乃至７５°の所定入射角θで形成した第１層と、第１
層を成膜後、基板の法線を回転軸にして、基板を１８０
°回転させて、前記第１層と同じ入射角θで第１層上に
形成した第２層とからなるプラスチック製光学部品用の
反射防止膜の製造方法である。
°乃至７５°の所定入射角θで形成した第１層と、第１
層を成膜後、基板の法線を回転軸にして、基板を１８０
°回転させて、前記第１層と同じ入射角θで第１層上に
形成した第２層とからなるプラスチック製光学部品用の
反射防止膜の製造方法である。
【００１２】また、本発明は、ＳｉＯ2 斜め入射膜が、
入射角６０°乃至７５°の範囲内で入射角を徐々に増加
させながら成膜されることにより、プラスチック基板側
から入射膜表面に向かって、屈折率が徐々に減少させた
連続的傾斜をもつプラスチック製光学部品用の反射防止
膜の製造方法である。
入射角６０°乃至７５°の範囲内で入射角を徐々に増加
させながら成膜されることにより、プラスチック基板側
から入射膜表面に向かって、屈折率が徐々に減少させた
連続的傾斜をもつプラスチック製光学部品用の反射防止
膜の製造方法である。
【００１３】また、本発明は、プラスチック製光学部品
の基板面に中間反射防止膜を形成し、該中間反射防止膜
上にＳｉＯ2 斜め入射膜を積層するプラスチック製光学
部品用の反射防止膜の製造方法であり、中間反射防止膜
がＴｉＯ2 又はＺｒＯ2 からなる高屈折率層もしくは前
記高屈折率層とＡｌ2 Ｏ3 からなる中間屈折率層とを含
む多層反射防止膜で形成するものである。
の基板面に中間反射防止膜を形成し、該中間反射防止膜
上にＳｉＯ2 斜め入射膜を積層するプラスチック製光学
部品用の反射防止膜の製造方法であり、中間反射防止膜
がＴｉＯ2 又はＺｒＯ2 からなる高屈折率層もしくは前
記高屈折率層とＡｌ2 Ｏ3 からなる中間屈折率層とを含
む多層反射防止膜で形成するものである。
【００１４】また、本発明は、上記製造方法で製造した
プラスチック製光学部品用の反射防止膜であり、該反射
防止膜を備えたプラスチック製光学部品である。
プラスチック製光学部品用の反射防止膜であり、該反射
防止膜を備えたプラスチック製光学部品である。
【００１５】以下、本発明を詳細に説明する。
【００１６】本発明の反射防止膜を形成するプラスチッ
ク製の光学部品としては、レンズ等がある。
ク製の光学部品としては、レンズ等がある。
【００１７】プラスチック素材としては、ＰＭＭＡ，Ｐ
Ｃ，ＰＳ等がある。
Ｃ，ＰＳ等がある。
【００１８】また、反射防止膜の蒸着方法としては、真
空蒸着、化学蒸着、スパッタ法等がある。
空蒸着、化学蒸着、スパッタ法等がある。
【００１９】蒸着材料としては、Ｓｉ，ＳｉＯ，ＳｉＯ
2 等が挙げられる。蒸着条件は、基板温度２０〜８０
℃、真空度１×１０-6〜５×１０-5Ｔｏｒｒ、必要によ
りＯ2ガス５×１０-5〜２×１０-4Ｔｏｒｒが好まし
い。
2 等が挙げられる。蒸着条件は、基板温度２０〜８０
℃、真空度１×１０-6〜５×１０-5Ｔｏｒｒ、必要によ
りＯ2ガス５×１０-5〜２×１０-4Ｔｏｒｒが好まし
い。
【００２０】入射角は６０°〜７５°である。６０°よ
り小さい場合は屈折率が大きくなってしまうので不都合
である。７５°より大きい場合はパッキング密度が低下
し、膜強度が低下するので不都合である。入射角は連続
的又は段階的に変化させてもよい。またＳｉＯ2 斜め入
射膜は複数層積層してもよく、そのように構成すること
により、斜め入射により発生する表面の微小な凹凸を解
消し、さらに、膜厚の分布を均一にできる利点がある。
り小さい場合は屈折率が大きくなってしまうので不都合
である。７５°より大きい場合はパッキング密度が低下
し、膜強度が低下するので不都合である。入射角は連続
的又は段階的に変化させてもよい。またＳｉＯ2 斜め入
射膜は複数層積層してもよく、そのように構成すること
により、斜め入射により発生する表面の微小な凹凸を解
消し、さらに、膜厚の分布を均一にできる利点がある。
【００２１】膜厚は８００〜１５００Å程度が一般的で
目的に応じて適宜設計して定める。
目的に応じて適宜設計して定める。
【００２２】また、本発明は基板とＳｉＯ2 斜め入射膜
との間に、中間反射防止膜を設けてもよい。
との間に、中間反射防止膜を設けてもよい。
【００２３】中間反射防止膜としては、低屈折率層、中
間屈折率層、高屈折率層が挙げられる。
間屈折率層、高屈折率層が挙げられる。
【００２４】低屈折率層を構成する材料としては、Ｓｉ
Ｏ2 ，ＭｇＦ2 等がある。
Ｏ2 ，ＭｇＦ2 等がある。
【００２５】中間屈折率層を構成する材料としては、Ａ
ｌ2 Ｏ3 ，Ｙ2 Ｏ3 等がある。
ｌ2 Ｏ3 ，Ｙ2 Ｏ3 等がある。
【００２６】高屈折率率層を構成する材料としては、Ｔ
ｉＯ2 ，ＺｒＯ2 等がある。
ｉＯ2 ，ＺｒＯ2 等がある。
【００２７】
以下、実施例を用いて、本発明を具体的に説明する。 実施例１ 図１は本発明の反射防止膜の特徴を最もよく表す模式的
断面図であり、１は屈折率が１．４９〜１．８０のプラ
スチック製光学部品で、２は屈折率が１．４〜１．３の
範囲にあるＳｉＯ2 からなる斜め蒸着膜である。該蒸着
膜は分光反射特性の中心波長をλ0 としたとき、光学膜
厚（屈折率×機械的厚さ）をλ0 ／４とした単層反射防
止膜である。
断面図であり、１は屈折率が１．４９〜１．８０のプラ
スチック製光学部品で、２は屈折率が１．４〜１．３の
範囲にあるＳｉＯ2 からなる斜め蒸着膜である。該蒸着
膜は分光反射特性の中心波長をλ0 としたとき、光学膜
厚（屈折率×機械的厚さ）をλ0 ／４とした単層反射防
止膜である。
【００２８】かかる反射防止膜は、基板の法線方向と、
蒸発源の中心と基板とを結ぶ直線とのなす角度がほぼ蒸
発粒子の入射角度となり、その入射角度を調整すること
によって、基板上に図１に示すようなＳｉＯ2 からなる
斜め蒸着膜を形成することができる。
蒸発源の中心と基板とを結ぶ直線とのなす角度がほぼ蒸
発粒子の入射角度となり、その入射角度を調整すること
によって、基板上に図１に示すようなＳｉＯ2 からなる
斜め蒸着膜を形成することができる。
【００２９】本発明で用いた蒸着方法は、ＳｉＯ2 又は
ＳｉＯを蒸発材料とし、エレクトロンビーム法又は抵抗
加熱法によって加熱蒸発させ、それと同時に真空槽内に
酸素ガスを５×１０-5Ｔｏｒｒ〜２×１０-4Ｔｏｒｒの
範囲で一定にあるように導入し蒸着する一般によく知ら
れる反応性蒸着法を用いた。この蒸着条件の範囲内よ
り、酸素ガス導入量を１×１０-4Ｔｏｒｒに設定し、蒸
着速度を１０Å／秒で蒸着したＳｉＯ2 斜め入射膜の入
射角度θと屈折率の関係は図２に示すようになる。な
お、ここでの屈折率は屈折率が既知の基板上にＳｉＯ2
斜め入射膜を形成しその分光反射率より算出した値であ
り、波長が５００ｎｍ〜６００ｎｍの範囲のものであ
る。また、基板の温度は室温２０℃〜３０℃で蒸発源の
輻射熱により蒸着室の温度は４０℃〜８０℃になる場合
がある。
ＳｉＯを蒸発材料とし、エレクトロンビーム法又は抵抗
加熱法によって加熱蒸発させ、それと同時に真空槽内に
酸素ガスを５×１０-5Ｔｏｒｒ〜２×１０-4Ｔｏｒｒの
範囲で一定にあるように導入し蒸着する一般によく知ら
れる反応性蒸着法を用いた。この蒸着条件の範囲内よ
り、酸素ガス導入量を１×１０-4Ｔｏｒｒに設定し、蒸
着速度を１０Å／秒で蒸着したＳｉＯ2 斜め入射膜の入
射角度θと屈折率の関係は図２に示すようになる。な
お、ここでの屈折率は屈折率が既知の基板上にＳｉＯ2
斜め入射膜を形成しその分光反射率より算出した値であ
り、波長が５００ｎｍ〜６００ｎｍの範囲のものであ
る。また、基板の温度は室温２０℃〜３０℃で蒸発源の
輻射熱により蒸着室の温度は４０℃〜８０℃になる場合
がある。
【００３０】次に本発明のＳｉＯ2 斜め入射膜を入射角
度７０°で膜厚λ／４（λ＝５５０）で屈折率が１．３
５の単層反射防止膜となるようにＰＭＭＡ（ポリメチル
メタクリレート）成形基板上に形成し、同一膜厚のＭｇ
Ｆ2 単層反射防止膜とその機械特性を比較した。評価項
目は、７０℃−８５％湿度での耐環境加速試験を１００
時間及び５００時間行った後の外観、セロハン粘着テー
プでの剥離試験である。その結果を表１に示す。
度７０°で膜厚λ／４（λ＝５５０）で屈折率が１．３
５の単層反射防止膜となるようにＰＭＭＡ（ポリメチル
メタクリレート）成形基板上に形成し、同一膜厚のＭｇ
Ｆ2 単層反射防止膜とその機械特性を比較した。評価項
目は、７０℃−８５％湿度での耐環境加速試験を１００
時間及び５００時間行った後の外観、セロハン粘着テー
プでの剥離試験である。その結果を表１に示す。
【００３１】
【表１】 この結果からわかるように本発明のＳｉＯ2 斜め入射膜
は、プラスチック素材用反射防止膜として、従来のＭｇ
Ｆ2 膜の最大の欠点であった機械特性を大巾に改善して
いる。しかも屈折率は入射角度を６０°〜７５°の範囲
で１．４〜１．３と調節可能で、ＭｇＦ2 の１．３８に
比べて同等、もしくはそれ以上の低屈折率範囲を有して
おり光学的のも優れている。 実施例２ 本発明の他の実施例の構成を図３に示す。
は、プラスチック素材用反射防止膜として、従来のＭｇ
Ｆ2 膜の最大の欠点であった機械特性を大巾に改善して
いる。しかも屈折率は入射角度を６０°〜７５°の範囲
で１．４〜１．３と調節可能で、ＭｇＦ2 の１．３８に
比べて同等、もしくはそれ以上の低屈折率範囲を有して
おり光学的のも優れている。 実施例２ 本発明の他の実施例の構成を図３に示す。
【００３２】１は、屈折率が１．４９〜１．８０のプラ
スチック製光学部品で、４〜９はＳｉＯ2 の斜め入射膜
である。反射防止膜として必要な膜厚をｄとした場合、
図３（Ａ）は、平均膜厚ｄ／２まで入射角θでａ1 の方
向からＳｉＯ2 斜め入射膜４を形成し、その後残りの平
均膜厚ｄ／２を入射方向ａ1 を基板の法線方向を軸対称
にして１８０°回転したａ2 の方向から斜め入射膜５を
形成したものである。また図３（Ｂ）は、ｄ／４を入射
角θでｂ1 方向より斜め入射膜６を形成し、その後基板
の法線を軸対称に１８０°回転したｂ2 より入射角θで
ｄ／４の厚さの７を形成し、次にそのｂ2 方向を基板の
法線を軸対称に９０°回転したｃ1 方向から斜めに入射
膜８をｄ／４形成し、それからさらに１８０°回転した
ｃ2 方向から残りのｄ／４の厚さの斜め入射膜９を形成
したものである。以上のように入射角θをほぼ一定に保
ち、入射方向を基板の法線に対して軸対称に１８０°回
転して、ほぼ同じ膜厚の膜を連続して形成することによ
り、斜め入射により発生する表面の微小な凹凸を解消
し、さらに膜厚の分布を均一にすることができる。 実施例３ その他実施した例を図４に示す。
スチック製光学部品で、４〜９はＳｉＯ2 の斜め入射膜
である。反射防止膜として必要な膜厚をｄとした場合、
図３（Ａ）は、平均膜厚ｄ／２まで入射角θでａ1 の方
向からＳｉＯ2 斜め入射膜４を形成し、その後残りの平
均膜厚ｄ／２を入射方向ａ1 を基板の法線方向を軸対称
にして１８０°回転したａ2 の方向から斜め入射膜５を
形成したものである。また図３（Ｂ）は、ｄ／４を入射
角θでｂ1 方向より斜め入射膜６を形成し、その後基板
の法線を軸対称に１８０°回転したｂ2 より入射角θで
ｄ／４の厚さの７を形成し、次にそのｂ2 方向を基板の
法線を軸対称に９０°回転したｃ1 方向から斜めに入射
膜８をｄ／４形成し、それからさらに１８０°回転した
ｃ2 方向から残りのｄ／４の厚さの斜め入射膜９を形成
したものである。以上のように入射角θをほぼ一定に保
ち、入射方向を基板の法線に対して軸対称に１８０°回
転して、ほぼ同じ膜厚の膜を連続して形成することによ
り、斜め入射により発生する表面の微小な凹凸を解消
し、さらに膜厚の分布を均一にすることができる。 実施例３ その他実施した例を図４に示す。
【００３３】１は屈折率が１．４９〜１．８０のプラス
チック製光学部品で１０はＳｉＯ2の斜め入射膜で、入
射角度を基板側から徐々に増加させて６０°から７５°
の範囲で連続的に変化させて形成した膜である。これに
よって屈折率は図４に示すように厚さ方向で減少するよ
うに傾斜がつくこととなり、図５に示すように反射防止
効果は、屈折率一定の膜に比べさらに改善することがで
きる。本実施例では、基板として屈折率が１．４９のＰ
ＭＭＡ成形基板を用い、その上に、本発明のＳｉＯ2 斜
め入射膜を屈折率が１．３５となるように入射角一定で
光学膜厚１３２ｎｍに形成したもの及び同ＰＭＭＡ基板
上に入射角を６０°から７５°に徐々に変化させて屈折
率が１．４０から１．３０に傾斜するように光学膜厚１
５２ｎｍ（平均屈折率を１．３５として）に形成したも
のを比較した。 実施例４ 他の実施した例を模式的に図６に示す。
チック製光学部品で１０はＳｉＯ2の斜め入射膜で、入
射角度を基板側から徐々に増加させて６０°から７５°
の範囲で連続的に変化させて形成した膜である。これに
よって屈折率は図４に示すように厚さ方向で減少するよ
うに傾斜がつくこととなり、図５に示すように反射防止
効果は、屈折率一定の膜に比べさらに改善することがで
きる。本実施例では、基板として屈折率が１．４９のＰ
ＭＭＡ成形基板を用い、その上に、本発明のＳｉＯ2 斜
め入射膜を屈折率が１．３５となるように入射角一定で
光学膜厚１３２ｎｍに形成したもの及び同ＰＭＭＡ基板
上に入射角を６０°から７５°に徐々に変化させて屈折
率が１．４０から１．３０に傾斜するように光学膜厚１
５２ｎｍ（平均屈折率を１．３５として）に形成したも
のを比較した。 実施例４ 他の実施した例を模式的に図６に示す。
【００３４】１は、プラスチック製光学部品で屈折率が
１．４９〜１．８０のものである。１１はＳｉＯ2 膜で
膜厚２００〜１０００ｎｍのベースコート層である。１
２は屈折率が１．６〜１．８のＡｌ2 Ｏ3 又は、ＳｉＯ
2 膜等の低屈折率膜及びＴｉＯ2 又はＺｒＯ2 等の高屈
折率膜で構成された光学膜厚λ／４の等価屈折率膜層で
ある。１３は屈折率が２．０〜２．１のＴｉＯ2 又はＺ
ｒＯ2によって形成された光学膜厚λ／２の高屈折率膜
層である。１１，１２，１３，により中間反射防止膜１
５を形成している。１４は屈折率が１．３〜１．４、光
学膜厚λ／４のＳｉＯ2 斜め入射膜層である。
１．４９〜１．８０のものである。１１はＳｉＯ2 膜で
膜厚２００〜１０００ｎｍのベースコート層である。１
２は屈折率が１．６〜１．８のＡｌ2 Ｏ3 又は、ＳｉＯ
2 膜等の低屈折率膜及びＴｉＯ2 又はＺｒＯ2 等の高屈
折率膜で構成された光学膜厚λ／４の等価屈折率膜層で
ある。１３は屈折率が２．０〜２．１のＴｉＯ2 又はＺ
ｒＯ2によって形成された光学膜厚λ／２の高屈折率膜
層である。１１，１２，１３，により中間反射防止膜１
５を形成している。１４は屈折率が１．３〜１．４、光
学膜厚λ／４のＳｉＯ2 斜め入射膜層である。
【００３５】この本発明の多層反射防止膜は最終層に屈
折率１．４６のＳｉＯ2 膜を用いていた場合に比べ反射
防止効果が図７に示されるように大幅に向上しているこ
とがわかる。
折率１．４６のＳｉＯ2 膜を用いていた場合に比べ反射
防止効果が図７に示されるように大幅に向上しているこ
とがわかる。
【００３６】
【発明の効果】本発明の反射防止膜を利用することによ
り、屈折率が小さく、機械的強度の大きいプラスチック
製光学部品を提供することができる。
り、屈折率が小さく、機械的強度の大きいプラスチック
製光学部品を提供することができる。
【図１】本発明の反射防止膜の層構造の一例を模式的に
示す断面図である。
示す断面図である。
【図２】ＳｉＯ2 反射防止膜の成膜時の蒸着粒子の入射
角と、成膜後の屈折率との関係を示すグラフである。
角と、成膜後の屈折率との関係を示すグラフである。
【図３】本発明の反射防止膜の層構造の他の例を模式的
に示す説明図である。 （Ａ）ＳｉＯ2 膜が２層の場合 （Ｂ）ＳｉＯ2 膜が４層の場合
に示す説明図である。 （Ａ）ＳｉＯ2 膜が２層の場合 （Ｂ）ＳｉＯ2 膜が４層の場合
【図４】（Ａ）本発明の反射防止膜の層構造の他の例を
模式的に示す断面図である。 （Ｂ）（Ａ）図で示される反射防止膜の膜厚と屈折率と
の関係を示すグラフである。
模式的に示す断面図である。 （Ｂ）（Ａ）図で示される反射防止膜の膜厚と屈折率と
の関係を示すグラフである。
【図５】本発明の反射防止膜の分光反射特性を示すグラ
フである。
フである。
【図６】本発明の反射防止膜の層構造の他の例を模式的
に示す断面図である。
に示す断面図である。
【図７】図６で示される構成の多層反射防止膜と、従来
の多層反射防止膜との分光反射特性を比較したグラフで
ある。
の多層反射防止膜との分光反射特性を比較したグラフで
ある。
１ プラスチック製光学部品 ２〜１０ ＳｉＯ2 斜め入射膜 １１ ＳｉＯ2 ベースコート層 １２ 等価屈折率膜層 １３ 高屈折率膜層 １４ ＳｉＯ2 斜め入射膜層 １５ 中間反射防止膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 早川 菜 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内
Claims (11)
- 【請求項１】 蒸着法によるシリコン系蒸着材料からの
蒸着粒子の入射角をプラスチック製光学部品の基板面に
対して６０°〜７５°として蒸着することにより基板面
に少なくとも一層形成された屈折率が１．３〜１．４の
ＳｉＯ2 斜め入射膜からなるプラスチック製光学部品用
の反射防止膜。 - 【請求項２】 ＳｉＯ2 斜め入射膜が、６０°乃至７５
°の所定入射角θで形成された第１層と、第１層を成膜
後、基板の法線を回転軸にして、基板を１８０°回転さ
せて、前記第１層と同じ入射角θで第１層上に形成され
た第２層とからなる請求項１記載のプラスチック製光学
部品用の反射防止膜。 - 【請求項３】 ＳｉＯ2 斜め入射膜が、入射角６０°乃
至７５°の範囲内で入射角を徐々に増加させながら成膜
されることにより、プラスチック基板側から入射膜表面
に向かって、屈折率が徐々に減少する連続的傾斜をもつ
請求項１記載のプラスチック製光学部品用の反射防止
膜。 - 【請求項４】 プラスチック製光学部品の基板面に形成
してなる中間反射防止膜上に請求項１記載のＳｉＯ2 斜
め入射膜を積層してなるプラスチック製光学部品用の反
射防止膜。 - 【請求項５】 中間反射防止膜がＴｉＯ2 又はＺｒＯ2
からなる高屈折率層もしくは前記高屈折率層とＡｌ2 Ｏ
3 からなる中間屈折率層とを含む多層反射防止膜からな
る請求項４記載のプラスチック製光学部品用の反射防止
膜。 - 【請求項６】 蒸着法によるシリコン系蒸着材料からの
蒸着粒子の入射角をプラスチック製光学部品の基板に対
して６０°〜７５°として蒸着することにより、屈折率
が１．３〜１．４のＳｉＯ2 斜め入射膜を基板上に少な
くとも一層形成するプラスチック製光学部品用の反射防
止膜の製造方法。 - 【請求項７】 ＳｉＯ2 斜め入射膜が６０°乃至７５°
の所定入射角θで形成した第１層と、第１層を成膜後、
基板の法線を回転軸にして、基板を１８０°回転させ
て、前記第１層と同じ入射角θで第１層上に形成した第
２層とからなる請求項６記載のプラスチック製光学部品
用の反射防止膜の製造方法。 - 【請求項８】 ＳｉＯ2 斜め入射膜が、入射角６０°乃
至７５°の範囲内で入射角を徐々に増加させながら成膜
されることにより、プラスチック基板側から入射膜表面
に向かって、屈折率が徐々に減少させた連続的傾斜をも
つ請求項６記載のプラスチック製光学部品用の反射防止
膜の製造方法。 - 【請求項９】 プラスチック製光学部品の基板面に中間
反射防止膜上を形成し、該中間反射防止膜上にＳｉＯ2
斜め入射膜を積層するプラスチック製光学部品用の反射
防止膜の製造方法。 - 【請求項１０】 中間反射防止膜がＴｉＯ2 又はＺｒＯ
2 からなる高屈折率層もしくは前記高屈折率層とＡｌ2
Ｏ3 からなる中間屈折率層とを含む多層反射防止膜で形
成した請求項９記載のプラスチック製光学部品用の反射
防止膜の製造方法。 - 【請求項１１】 請求項１乃至５いずれか記載の反射防
止膜を備えたプラスチック製光学部品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3243422A JPH0580202A (ja) | 1991-09-24 | 1991-09-24 | プラスチツク製光学部品用の反射防止膜、その製造方法及び該反射防止膜を備えたプラスチツク製光学部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3243422A JPH0580202A (ja) | 1991-09-24 | 1991-09-24 | プラスチツク製光学部品用の反射防止膜、その製造方法及び該反射防止膜を備えたプラスチツク製光学部品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0580202A true JPH0580202A (ja) | 1993-04-02 |
Family
ID=17103639
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3243422A Pending JPH0580202A (ja) | 1991-09-24 | 1991-09-24 | プラスチツク製光学部品用の反射防止膜、その製造方法及び該反射防止膜を備えたプラスチツク製光学部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0580202A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008009069A (ja) * | 2006-06-28 | 2008-01-17 | Cheil Industries Inc | 偏光分離素子およびその製造方法 |
| JP2011221272A (ja) * | 2010-04-09 | 2011-11-04 | Seiko Epson Corp | 反射型スクリーン、投影システム、フロントプロジェクションテレビ、および、反射型スクリーンの製造方法 |
| JP2016045497A (ja) * | 2014-08-20 | 2016-04-04 | コリア・インスティテュート・オブ・サイエンス・アンド・テクノロジー | 無反射ナノコーティング構造及びその製造方法 |
| JP2020520040A (ja) * | 2017-05-11 | 2020-07-02 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Ｂｏｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｇｒｏｕｐ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． | 表示パネル、その製造方法、および表示装置 |
-
1991
- 1991-09-24 JP JP3243422A patent/JPH0580202A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008009069A (ja) * | 2006-06-28 | 2008-01-17 | Cheil Industries Inc | 偏光分離素子およびその製造方法 |
| JP2011221272A (ja) * | 2010-04-09 | 2011-11-04 | Seiko Epson Corp | 反射型スクリーン、投影システム、フロントプロジェクションテレビ、および、反射型スクリーンの製造方法 |
| JP2016045497A (ja) * | 2014-08-20 | 2016-04-04 | コリア・インスティテュート・オブ・サイエンス・アンド・テクノロジー | 無反射ナノコーティング構造及びその製造方法 |
| JP2020520040A (ja) * | 2017-05-11 | 2020-07-02 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Ｂｏｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｇｒｏｕｐ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． | 表示パネル、その製造方法、および表示装置 |
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