JPS6343101A - 透過型回折格子の製造方法 - Google Patents
透過型回折格子の製造方法Info
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- JPS6343101A JPS6343101A JP61187094A JP18709486A JPS6343101A JP S6343101 A JPS6343101 A JP S6343101A JP 61187094 A JP61187094 A JP 61187094A JP 18709486 A JP18709486 A JP 18709486A JP S6343101 A JPS6343101 A JP S6343101A
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Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は回折格子、殊Ｖ／：各種光学機器又は光デイス
ク装置のピックアップに用いられる透過型１−ｕｌ回折
格子関する１゜ （従来技術） 微細加工技術の発達によって、各種光学機器に使用され
る回折格子の製造方法も基板上に付着した金属又は誘電
体にエツチングを施してグ： レーティングを形成す
るのが一般的シでなってき念。
ク装置のピックアップに用いられる透過型１−ｕｌ回折
格子関する１゜ （従来技術） 微細加工技術の発達によって、各種光学機器に使用され
る回折格子の製造方法も基板上に付着した金属又は誘電
体にエツチングを施してグ： レーティングを形成す
るのが一般的シでなってき念。
しかしながら、上述したような手法による回折格子、殊
に透過型のものは、一般に安価な般用ガラスを基板とし
その表面ＫｓｉＯｚのような誘電体物質によってグレー
ティングを形成するものであるが、ガラスとＳｉＯ２と
のエツチング速度がほぼ等しいこともあって例えばリフ
トオフエツチング方式のような複雑な製造工程を必要と
する念め高価であるという欠陥があった。
に透過型のものは、一般に安価な般用ガラスを基板とし
その表面ＫｓｉＯｚのような誘電体物質によってグレー
ティングを形成するものであるが、ガラスとＳｉＯ２と
のエツチング速度がほぼ等しいこともあって例えばリフ
トオフエツチング方式のような複雑な製造工程を必要と
する念め高価であるという欠陥があった。
（発明の目的）
本発明は上述したような従来の回折格子の欠陥を除去す
るためＫなされたものであって、材： 料を適切に選
択することによって極めて簡単安価に製造することので
きる透過型回折格子を提供することを目的とする。
るためＫなされたものであって、材： 料を適切に選
択することによって極めて簡単安価に製造することので
きる透過型回折格子を提供することを目的とする。
（発明のｖ１要）
上述した目的を達成するため本発明の回折格子はグレー
ティングを形成する材料である５ｉ０２のような誘電体
物質のエツチング速度が水晶等のそれりで比べて愼めて
大きいことを利用しこのような材料を組み合わせること
によって簡単なエツチング工程を用いて実現するもので
ある。
ティングを形成する材料である５ｉ０２のような誘電体
物質のエツチング速度が水晶等のそれりで比べて愼めて
大きいことを利用しこのような材料を組み合わせること
によって簡単なエツチング工程を用いて実現するもので
ある。
（実施例）
以下本発明を図示した実施例に基づき詳細に説明する。
実施例の説明に先立って本発明の理解を助けるため従来
の回折格子の製造工程について簡単に説明する。
の回折格子の製造工程について簡単に説明する。
第２図は従来の透過型回折格子の製造工程を説明する図
であって、安価な般用ガラスを基板１としくａｔその一
表面に例えばＡｇ２を全面蒸着しくｂｌこれをエツチン
グして所定の金属グレーテろとともｆその裏面に反射防
止用のコーティ／主体とするエツチング液にてエツチン
グを行なこのように複雑な工程を必要とする理由はグレ
ーティングを構成する８ ｉ０２をとかすのに適したフ
ッ酸系のエツチング液を用いれば基板も同時に犯される
からである。
であって、安価な般用ガラスを基板１としくａｔその一
表面に例えばＡｇ２を全面蒸着しくｂｌこれをエツチン
グして所定の金属グレーテろとともｆその裏面に反射防
止用のコーティ／主体とするエツチング液にてエツチン
グを行なこのように複雑な工程を必要とする理由はグレ
ーティングを構成する８ ｉ０２をとかすのに適したフ
ッ酸系のエツチング液を用いれば基板も同時に犯される
からである。
従って単純なエツチング工程を利用することができず高
価になること前述の通りである。
価になること前述の通りである。
この問題を解決するため本発明の回折格子は第１図に示
すような材料および工程によって製造する。
すような材料および工程によって製造する。
まず基板として水晶５を用い（ａｌその一表面に５ｉＯ
ｚ３ を全面蒸着しくｂｌさらにその裏面に反射防止用
のコーティング４を施しｔｃ）これをフッ酸系のエツチ
ング液にてエツチングを行ない８１０２による所望のグ
レーティングを形成する。
ｚ３ を全面蒸着しくｂｌさらにその裏面に反射防止用
のコーティング４を施しｔｃ）これをフッ酸系のエツチ
ング液にてエツチングを行ない８１０２による所望のグ
レーティングを形成する。
水晶基板５は５ｉ０２３に比べてフッ酸系エツチング液
によろエツチング速度がはるかに（約１／１０） 遅
いので８：０２ Ｋよるグレーティング形成が完了する
までの間に実質的にエツチング液 。
によろエツチング速度がはるかに（約１／１０） 遅
いので８：０２ Ｋよるグレーティング形成が完了する
までの間に実質的にエツチング液 。
に犯されることがなく良好な回折格子を得ることができ
る。
る。
以上水晶と８ ｉ０２との組み合わせによる回折格子に
ついてのみ説明したが本発明はこれに限定されるもので
はなく基板材料のエツチング速度がグレーティング材料
のそれよりも大巾に遅い組み合わせであって、基板およ
びグレーティングの材質が光を透過するものであれば各
種の材質を使用することが可能である。例えば基板とし
ては水晶の他合成石英又は人造サファイア等が、グレー
ティング材料としてはＳ ｉｏ＊の他Ｔ ｉＯｚ又はＡ
Ｉ ２０３等が適当でありこれらを設計条件に応じて適
宜組み合わせればよい。
ついてのみ説明したが本発明はこれに限定されるもので
はなく基板材料のエツチング速度がグレーティング材料
のそれよりも大巾に遅い組み合わせであって、基板およ
びグレーティングの材質が光を透過するものであれば各
種の材質を使用することが可能である。例えば基板とし
ては水晶の他合成石英又は人造サファイア等が、グレー
ティング材料としてはＳ ｉｏ＊の他Ｔ ｉＯｚ又はＡ
Ｉ ２０３等が適当でありこれらを設計条件に応じて適
宜組み合わせればよい。
（発明の効果）
本発明は以上説明したように構成するものであるから製
造工程が極めて簡単になり従って価格も低くなるので各
Ｓ光学機器、殊に光ディス減に著しい効果を発揮する。
造工程が極めて簡単になり従って価格も低くなるので各
Ｓ光学機器、殊に光ディス減に著しい効果を発揮する。
第１図（ａｌ乃至（ｄ）は本発明の回折格子の製造工程
を説明する図、第２図（ａｌ乃至ｔｅｌは従来の回折格
子の製造工程を説明する図である。 １及び５・・・・・・・・・透明基板。 ３・・・・・・・・・グレーティング。
を説明する図、第２図（ａｌ乃至ｔｅｌは従来の回折格
子の製造工程を説明する図である。 １及び５・・・・・・・・・透明基板。 ３・・・・・・・・・グレーティング。
Claims (3)
- （１）特定のエッチングに対するエッチング速度が所定
の無機誘電体物質に対するそれよりも大幅に遅い性質を
有する透明基板表面に前記無機誘電体物質にてグレーテ
ィングを形成したことを特徴とする透過型回折格子。 - （２）前記透明基板が水晶、合成石英或は人造サファイ
アであることを特徴とする特許請求の範囲（１）記載の
透過型回折格子。 - （３）前記無機誘電体物質がＳｉＯ＿２、ＴｉＯ＿２或
はＡｌ＿２Ｏ＿３であることを特徴とする特許請求の範
囲（１）記載の透過型回折格子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61187094A JP2742683B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 透過型回折格子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61187094A JP2742683B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 透過型回折格子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6343101A true JPS6343101A (ja) | 1988-02-24 |
| JP2742683B2 JP2742683B2 (ja) | 1998-04-22 |
Family
ID=16200000
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61187094A Expired - Lifetime JP2742683B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 透過型回折格子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2742683B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0212106A (ja) * | 1988-06-29 | 1990-01-17 | Nec Corp | 複屈折回折格子型偏光子 |
| US5029988A (en) * | 1988-06-29 | 1991-07-09 | Nec Corporation | Birefringence diffraction grating type polarizer |
| JPH03293623A (ja) * | 1989-12-29 | 1991-12-25 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 回析格子を有する光学素子 |
| JPH0749419A (ja) * | 1993-01-28 | 1995-02-21 | Gold Star Co Ltd | ホログラム光学素子の製造方法 |
| EP0921418A2 (en) * | 1997-12-03 | 1999-06-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Diffractive optical element and optical system having the same |
| JP2002169010A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-06-14 | Minolta Co Ltd | 回折光学素子 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS56137634A (en) * | 1980-03-29 | 1981-10-27 | Rikagaku Kenkyusho | Pattern forming |
| JPS59198407A (ja) * | 1983-04-26 | 1984-11-10 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 回折格子付き光導波膜の製造方法 |
| JPS59210403A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-29 | Dainippon Printing Co Ltd | 回折格子の作製法 |
| JPS61137101A (ja) * | 1984-12-07 | 1986-06-24 | Pioneer Electronic Corp | マイクロフレネルレンズの製造方法 |
-
1986
- 1986-08-08 JP JP61187094A patent/JP2742683B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
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| EP0921418A3 (en) * | 1997-12-03 | 1999-06-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Diffractive optical element and optical system having the same |
| JP2002169010A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-06-14 | Minolta Co Ltd | 回折光学素子 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2742683B2 (ja) | 1998-04-22 |
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