JP2001264527A

JP2001264527A - 回折光学素子およびその製造方法

Info

Publication number: JP2001264527A
Application number: JP2000079199A
Authority: JP
Inventors: Kenichi Hayashi; 賢一林
Original assignee: Sankyo Seiki Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Nidec Instruments Corp
Priority date: 2000-03-22
Filing date: 2000-03-22
Publication date: 2001-09-26

Abstract

(57)【要約】【課題】複数の凹凸状の格子を有する周期格子の表面
に、反射防止膜を連続して均一の膜厚で形成することの
できる回折光学素子およびその製造方法を提案するこ
と。【解決手段】回折光学素子１では、周期格子２が形成
されたガラス基板３を、反射防止材料の液体４０を溜め
た容器５１に浸漬してから、引き上げて温風Ｆにより乾
燥する工程からなるディッピング法により、周期格子２
の表面に第１の反射防止膜４１を形成する。膜厚は、液
体の粘度、引き上げ速度、乾燥速度によって制御でき
る。周期格子２は、その形成方向が常に液面４３に対し
て垂直になるように引き上げられるので、余分な反射防
止材料が格子間にとどまることなく周期格子２に沿って
流れ落ちる。基板表面に残った反射防止材料を乾燥する
と、第１の反射防止膜４１が、連続して均一な膜厚で形
成される。同時にガラス基板３の裏面３２にも第２の反
射防止膜４２が形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、各種の光学装置、
特に光ピックアップ装置に用いられる回折光学素子およ
びその製造方法に関するものである。さらに詳しくは、
複数の凹凸状の格子を有する表面に反射防止膜が形成さ
れている回折光学素子およびその製造方法に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】各種の光学装置、例えば、ＣＤ（コンパ
クトディスク）やＤＶＤ（デジタルバーサタイルディス
ク）などの光ディスクの記録、再生に用いられる光ピッ
クアップ装置には、光ディスクからの戻り光を光源から
分離してフォトセンサに導くなどの目的から、回折光学
素子が用いられている。図７に示すように、回折光学素
子１０としては、光学等方性基板としてのガラス基板３
の表面３１に回折作用を有する周期格子２が形成された
ものが知られている。周期格子２の表面は、凹部２１、
凸部２２が交互に繰り返された凹凸状となっている。周
期格子２の表面には第１の反射防止膜４１が形成され、
ガラス基板３の裏面３２には第２の反射防止膜４２が形
成されている。

【０００３】第１および第２の反射防止膜４１、４２
は、真空蒸着法、スパッタリング法などで形成される。
真空蒸着法、スパッタリング法は、蒸発させた反射防止
材料を、周期格子２の表面あるいはガラス基板３の裏面
３２に対して垂直な方向Ｇ１、Ｇ２から堆積させて成膜
する方法である。これらの方法は、膜厚制御が容易であ
り、膜への不純物の混入が少ないため、屈折率や透過率
が安定している。また、反射防止膜材料は、主に無機材
料が用いられ材料自体が安価である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、第１の
反射防止膜４１を真空蒸着法、スパッタリング法により
形成した回折光学素子１０では、周期格子２の表面が凹
凸形状であるので、第１の反射防止膜４１は、凹部２
１、凸部２２の表面部分に蒸着されるが、蒸着方向Ｇ１
に対して平行となる凸部左側面２３、凸部右側面２４に
は蒸着されない。また、図８に示すように、回折光学素
子１１の周期格子２の表面が入り組んだ形状であると、
第１の反射防止膜４１は、蒸着方向Ｇ１に対して遮られ
る物のない凹部２１１、凸部２２には形成されるが、蒸
着方向Ｇ１に対して平行な部分や凸部面２２の影になっ
てしまう太線で示す右側面部２３１、左側面部２４１に
は形成されない。従って、周期格子２の表面が凹凸形状
あるいは入り組んだ形状となっている場合には、周期格
子２の表面全体に第１の反射防止膜４１を連続して形成
することができない。

【０００５】そこで、反射防止材料の液体を塗布するこ
とにより、凹凸形状あるいは入り組んだ形状がある基板
に形成された周期格子の表面に、第１の反射防止膜４１
を連続して形成する方法を採用することが考えられる。
反射防止材料の液体を塗布して成膜する方法としては、
ロールトゥロール法、スピンコート法があり、主に有機
材料が用いられている。しかしながら、これらの方法で
第１の反射防止膜４１を形成すると、図９に示すよう
に、回折光学素子１２の第１の反射防止膜４１は、連続
して形成されるが、膜厚が均一に形成されずに凹部２１
を埋めてしまい、また、反射防止材料が密着しなかった
部分にはガス４４が残存してしまう。膜厚が不均一であ
ること、およびガス４４の残存部があることは、屈折率
をばらつかせてしまう。従って、第１の反射防止膜４１
の屈折率が一定にならないので、回折光学素子１２の反
射防止効果が悪いという問題点がある。

【０００６】また、第１および第２の反射防止膜４１、
４２は、真空蒸着法、スパッタリング法、またはロール
トゥロール法、スピンコート法のいずれかの方法を用い
るにしても、周期格子２の表面、およびガラス基板３の
裏面３２は、片面ごとに同じ材料から形成されている。
従って、第１および第２の反射防止膜４１、４２は、表
面裏面とも同じ材料を使用しているにも関わらず、同時
に形成することができないため、生産性が低いという問
題点がある。

【０００７】このような問題点に鑑みて、本発明の課題
は、複数の凹凸状の格子を有する周期格子の表面に、反
射防止膜を連続して均一の膜厚で形成された回折光学素
子およびその製造方法を提案することにある。

【０００８】また、本発明の課題は、表面および裏面の
反射防止膜を同時に形成された回折光学素子およびその
製造方法を提案することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明においては、表面に複数の凹凸状の格子を
有する周期格子が形成された基板と、前記周期格子の表
面上に形成された反射防止膜とを有する回折光学素子に
おいて、前記反射防止膜は、ディッピング法により形成
された膜であることを特徴としている。

【００１０】ディッピング法は、反射防止材料の液体の
中に、周期格子の形成された基板を浸して、引き上げて
乾燥して反射防止膜を形成する方法である。凹凸形状あ
るいは入り組んだ形状の周期格子が反射防止材料の液体
の中に浸されるので、反射防止膜は周期格子の形状に沿
って連続して均一の膜厚で形成される。従って、反射防
止膜が断続して形成されていた従来の構成と比較して、
反射防止膜は、密着が良くなるので剥離を防止すること
ができる。さらに、反射防止膜は、膜厚が均一になるの
で、屈折率が一定になり良好な反射防止効果を得ること
ができる。

【００１１】また、ディッピング法は、反射防止材料の
液体の中に周期格子の形成された基板を浸すので、基板
の裏面にも反射防止膜を同時に形成することもできる。
従って、回折光学素子の製造工程において、生産性を高
めることができる。

【００１２】本発明において、前記周期格子を有機材料
により形成し反射防止膜も有機材料から形成することが
望ましい。このように構成すると、有機材料から形成さ
れた反射防止膜は、有機材料から形成された周期格子に
対して、化学結合をして強固な密着力を有する。従っ
て、第１の反射防止膜の剥離を防止することができるか
らである。

【００１３】さらに、本発明において、前記周期格子を
ポリジアセチレン誘導体から形成し、前記反射防止膜
を、屈折率が１．３０から１．３８の材料から形成され
た膜とすることが望ましい。このように構成すると、反
射防止膜は、屈折率が周期格子を形成するポリジアセチ
レン誘導体の屈折率１．５から１．８に対して低いの
で、１層のみの形成で良好な反射防止効果を得ることが
できるからである。

【００１４】本発明における回折光学素子の製造方法で
は、前記反射防止膜を形成するための液体材料に浸漬し
た前記基板を、液体材料の液面に対して前記周期格子の
形成方向が垂直となる方向に引き上げることを特徴とし
ている。

【００１５】本発明において、前記ディッピング法にお
ける引き上げ工程では、周期格子の形成された基板を、
反射防止材料の液面に対して、周期格子の形成方向が常
に垂直となるように引き上げている。従って、曲線状の
周期格子が形成されている場合であっても、余分な反射
防止材料が格子に沿って流れ落ちる。故に、格子の凹部
にガスが溜まること無く、反射防止膜の膜厚を均一に形
成できる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下に、図面を参照して、本発明
の回折光学素子およびその製造方法を説明する。なお基
本的な構成が図７、図８に示す従来の形態と一致するの
で、これらと一致する部分には、同じ符号を付してあ
る。

【００１７】[実施の形態１]図１（Ａ）、（Ｂ）は、そ
れぞれ本発明の実施の形態１に係る回折光学素子の断面
図、および回折光学素子の平面図である。図２は、この
回折光学素子の反射防止膜の製造工程を示す説明図であ
る。

【００１８】（回折光学素子の概略構成）図１（Ａ）に
示すように、回折光学素子１は、光学的等方性基板とし
てのガラス基板３を有している。ガラス基板３の表面３
１には、回折作用を有する周期格子２が形成されてい
る。この周期格子２の表面は、凹部２１、凸部２２が周
期的に並んで形成されている。周期格子２の表面には第
１の反射防止膜４１およびガラス基板の裏面３２には第
２の反射防止膜４２が、ディッピング法により形成され
ている。

【００１９】周期格子２は、以下の化学式（１）に示さ
れるポリジアセチレンの誘導体から構成されている。

【００２０】

【化１】

【００２１】周期格子２を構成するポリジアセチレン誘
導体は、図１（Ｂ）に示す平面内で配向され、主鎖方向
（配向方向）は、矢印Ｈで示す方向となっている。この
ようなポリジアセチレン誘導体は紫外線が照射される
と、分子鎖が切断され、青色、赤色、透明の順に色相変
化する。この色相変化に伴って、ポリジアセチレン誘導
体は配向方向Ｈにおける屈折率が下がる性質を備えてい
る。

【００２２】周期格子２は、このポリジアセチレン誘導
体の性質を利用して、ポリジアセチレン誘導体の配向方
向における屈折率が周期的に変化するように形成してあ
る。すなわち、回折光学素子１には、そのガラス基板３
の表面３１に平坦なポリジアセチレン誘導体膜が形成さ
れ、その面に対して選択的に紫外線が照射されることに
よって色相変化して凹んだ凹部２１と、紫外線が照射さ
れずにそのまま残っていた凸部２２とが交互に配列され
た周期格子２が形成されている。周期格子２の屈折率は
次のようになっている。凹部２１の屈折率が紫外線の照
射前より低下しており、凸部２２の屈折率が紫外線の照
射前とほぼ同一である。具体的には、ポリジアセチレン
配向膜の配向方向における屈折率が凹部２１と凸部２２
とで周期的に変化するように形成している。従って、配
向方向Ｈの屈折率は凹部２１と凸部２２で周期的に変化
し、それに垂直な方向の屈折率はほとんど変化しない。
このため、配向方向Ｈに垂直な偏光と、配向方向Ｈの偏
光とでは異なる回折強度比の回折格子として機能する。
ポリジアセチレン誘導体から形成された周期格子２の屈
折率は、１．５から１．８である。

【００２３】（反射防止膜の形成方法）このような構成
の回折光学素子１において、図２に示すように、第１お
よび第２の反射防止膜４１、４２は形成される。

【００２４】図２（Ａ）に示すように、周期格子２が形
成されたガラス基板３は、反射防止材料の液体４０を溜
めた容器５１に向けて降ろされる。反射防止材料の液体
４０は、屈折率が１．３０から１．３８の有機材料を用
いている。

【００２５】次に、図２（Ｂ）に示されるように、周期
格子２が形成されたガラス基板３は、反射防止材料の液
体４０の中に浸される。周期格子２の表面は、凹部２
１、凸部２２の形状に沿って反射防止材料が連続して密
着する。従って、従来の回折光学素子では、第１の反射
防止膜４１が形成されなかった凸部左側面２３、凸部右
側面２４も、反射防止材料が連続して密着する。また、
ガラス基板３の裏面３２にも、反射防止材料が連続して
密着する。

【００２６】そして、図２（Ｃ）に示されるように、周
期格子２が形成されたガラス基板３は、反射防止材料の
液体４０を溜めた容器５１から引き上げられ、温風Ｆに
より乾燥される。このとき、ガラス基板３は、反射防止
材料の液面４３に対して、周期格子２の形成方向が垂直
となるようにＫ方向に引き上げられるので、余分な反射
防止材料は格子に沿って流れ落ちる。周期格子２の表面
に均一な膜厚で残った反射防止材料が乾燥されて第１の
反射防止膜４１が形成される。また、同時にガラス基板
３の裏面３２にも第２の反射防止膜４２が形成される。
膜厚は、液体の粘度、引き上げ速度、乾燥速度によって
制御することができる。

【００２７】このように、本例の回折光学素子１におい
ては、第１の反射防止膜４１は、周期格子２の形成され
たガラス基板３を反射防止材料の液体４０に浸すディッ
ピング法にて形成されるため、回折光学素子１の周期格
子２の表面に凹凸形状があっても連続して形成される。
従って、第１の反射防止膜４１に断続する部分がないの
で、第１の反射防止膜４１が断続して形成されていた従
来の構成と比較して、第１の反射防止膜４１の密着性が
良くなるので剥離を防止することができる。さらに、第
１の反射防止膜４１の膜厚は均一であるので、屈折率が
一定になり良好な反射防止効果を得ることができる。

【００２８】また、ディッピング法は、反射防止材料の
液体４０の中に周期格子２の形成されたガラス基板３を
浸すので、ガラス基板３の裏面３２に第２の反射防止膜
４２を同時に形成することもできる。従って、回折光学
素子１の製造工程において、生産性を高めることができ
る。

【００２９】また、本形態では、有機材料から形成され
た第１の反射防止膜４１は、周期格子２を形成する有機
材料のポリジアセチレン誘導体と化学結合して、密着力
がより強くなり、周期格子２からの剥離を防止できる。

【００３０】さらに、第１の反射防止膜４１は、屈折率
が１．３０から１．３８の材料から形成されるので、屈
折率が周期格子２を形成する有機材料のポリジアセチレ
ン誘導体の屈折率１．５から１．８に比べて低いので、
１層のみの形成で良好な反射防止効果を得ることができ
る。

【００３１】[実施の形態２]図３は、実施の形態２に係
る回折光学素子の斜視図である。なお、本形態の回折光
学素子も、実施の形態１と同様に、反射防止膜４はディ
ッピング法により形成され、形成方法は、図２を参照し
て説明したとおりである。従って、以下の説明では、本
形態の特徴部分である入り組んだ形状の周期格子２に形
成された第１の反射防止膜４１について説明する。

【００３２】図３に示すように、本形態の回折光学素子
１は、ポリジアセチレン誘導体からなり回折作用を有す
る周期格子２が、ガラス基板３の表面３１に形成されて
いる。その周期格子２は、凹部２１、凸部２２が周期的
に並んで形成されている。凸部２２はＴ字形状に入り組
んだ形状をしている。周期格子２の表面にディッピング
法にて形成される第１の反射防止膜４１は、従来の回折
格子１１では第１の反射防止膜４１が形成されなかった
太線部２３１、２４１も連続して形成されている。本形
態においてもディッピング法による反射防止膜形成工程
は、周期格子２が形成されたガラス基板３が、反射防止
材料の液面４３に対して、周期格子２の形成方向が垂直
となるように引き上げられるので、第１の反射防止膜４
１は、一定の膜厚で形成され、同時にガラス基板３の裏
面３２にも第２の反射防止膜４２が形成される。

【００３３】このように、本形態の回折光学素子１にお
いて、周期格子２が入り組んで形成されていても、第１
の反射防止膜４１は、周期格子２の形成されたガラス基
板３を反射防止材料の液体４０に浸すディッピング法に
て形成されるため、回折光学素子１の周期格子２の表面
に連続して形成される。従って、第１の反射防止膜４１
は、断続する部分がないので、第１の反射防止膜４１が
断続して形成されていた従来の構成と比較して、密着が
良くなり剥離を防止することができる。さらに、第１の
反射防止膜４１の膜厚が均一になるので、屈折率が一定
になり良好な反射防止効果を得ることができる。

【００３４】また、ディッピング法は、反射防止材料の
液体４０の中に周期格子２の形成されたガラス基板３を
浸すので、ガラス基板３の裏面３２のにも第２の反射防
止膜４２を同時に形成することもできる。従って、回折
光学素子２の製造工程において、生産性を高めることが
できる。

【００３５】[実施の形態３]図４は、実施の形態３に係
る回折光学素子の斜視図である。なお、本形態の回折光
学素子も、実施の形態１および２と同様に、反射防止膜
４は、ディッピング法により形成され、形成方法は、図
２を参照して説明したとおりである。従って、以下の説
明では、本形態の特徴部分である鋸の刃形状の周期格子
２に形成された第１の反射防止膜４１について説明す
る。

【００３６】図４に示すように、本形態の回折光学素子
１は、ポリジアセチレン誘導体からなり回折作用を有す
る周期格子２が、ガラス基板３の表面３１に形成されて
いる。その周期格子２は、鋸の刃のように斜辺２５と側
面２６が周期的に並んで形成されている。周期格子２の
表面にディッピング法にて形成される第１の反射防止膜
４１は、従来の回折格子の構成では、第１の反射防止膜
４１が形成されない垂直な側面２６も連続して形成され
る。本形態におけるディッピング法による反射防止膜形
成工程においても、周期格子２が形成されたガラス基板
３は、反射防止材料の液面４３に対して、周期格子２の
形成方向が垂直となるように引き上げられるので、第１
の反射防止膜４１は、一定の膜厚で形成され、同時にガ
ラス基板３の裏面３２にも第２の反射防止膜４２が形成
される。

【００３７】このように、本形態の回折光学素子１にお
いて、周期格子２が鋸の刃形状であっても、第１の反射
防止膜４１は、周期格子２の形成されたガラス基板３を
反射防止材料の液体４０に浸すディッピング法にて形成
されるため、回折光学素子１の周期格子２の表面に連続
して形成される。従って、第１の反射防止膜４１は断続
する部分がないので、第１の反射防止膜４１が断続して
形成されていた従来の構成と比較して、密着が良くなる
ので剥離を防止することができる。さらに、第１の反射
防止膜４１の膜厚が均一になるので、屈折率が一定にな
り良好な反射防止効果を得ることができる。

【００３８】また、ディッピング法は、反射防止材料の
液体４０の中に周期格子２の形成されたガラス基板３を
浸すので、ガラス基板３の裏面３２にも第２の反射防止
膜４２を同時に形成することもできる。従って、回折光
学素子１の製造工程において、生産性を高めることがで
きる。

【００３９】[実施の形態４]図５は、実施の形態４に係
る回折光学素子１を示す平面図である。図６は、この回
折光学素子１の反射防止膜の製造工程を示す説明図であ
る。なお、本形態の回折光学素子１も、実施の形態１な
いし３と同様に、周期格子２が形成されたガラス基板３
に第１の反射防止膜４１がディッピング法により形成さ
れる。以下の説明では、本形態の特徴部分である曲線状
に形成された周期格子２に対する第１の反射防止膜４１
の形成について説明する。

【００４０】図１（Ａ）に示す実施の形態１と同様に、
本形態の回折光学素子１は、ガラス基板３の表面３１に
は、ポリジアセチレン誘導体からなり回折作用を有する
周期格子２が形成され、その周期格子２の表面およびガ
ラス基板の裏面３２は、ディッピング法により第１およ
び第２の反射防止膜４１、４２が形成されている。

【００４１】図５に示すように、実施の形態１の図１
（Ｂ）とは相違して、周期格子２は、凹部２１、凸部２
２が曲線を描いて周期的に並んでいる。

【００４２】図６（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の順に示すよ
うに、第１の反射防止膜４１は、周期格子２が形成され
たガラス基板３に形成される。反射防止材料の液体４０
に浸された周期格子２が形成されたガラス基板３は、ま
ず図６(Ａ)に示すように、反射防止材料の液面４３に対
して、回折光学素子１の上面２８を右に傾けて、周期格
子２の形成方向が垂直となるようにした状態でＫ１方向
に引き上げられる。すなわち、液面４３に位置している
周期格子２の曲線に引いた接線が液面４３と垂直となる
ように、ガラス基板３を引き上げる。

【００４３】次に、図６(Ｂ)に示すように、周期格子２
は、周期格子の形成方向Ｈ１に沿って引き上げられてい
くので、徐々に回折光学素子１は左に傾きながら引き上
げられる。引き上げ方向もＫ１方向からＫ２方向に傾い
ていく。

【００４４】そして、図６(Ｃ)に示すように、回折光学
素子１は、反射防止材料の液体４０から取り出されると
きには、引き上げ始めとは逆に、周期格子２は、液面４
３に対して、回折光学素子１の上面２８を左に傾けなが
ら、Ｋ３方向に引き上げられる。

【００４５】このように、本形態の回折光学素子１にお
いて、周期格子２が曲線状に形成されていても、回折光
学素子１のディッピング法による反射防止膜形成のため
の引き上げ工程では、周期格子２の形成されたガラス基
板３を、反射防止材料の液面４３に対して、周期格子２
の形成方向Ｈ１が常に垂直となるように引き上げるの
で、余分な反射防止材料は、周期格子２に沿って流れ落
ちる。従って、周期格子２の凹部２１にガスが溜まるこ
と無く、第１の反射防止膜４１の膜厚を均一に形成する
ことができる。

【００４６】[その他の実施の形態]なお、上記のいずれ
の形態においても、回折光学素子１は、周期格子２の表
面に第１の反射防止膜４１、そして、ガラス基板３の裏
面３２に第２の反射防止膜４２を形成したが、第２の反
射防止膜４２をガラス基板３の裏面３２に形成しない場
合は、反射防止材料の液体４０に対して耐久性のあるテ
ープなどを裏面３２に貼っておいて、ディッピング後に
剥がせば良い。

【００４７】また、ディッピング法による反射防止膜の
形成は、周期格子がガラス基板に形成された回折光学素
子に限定されるものでなく、周期格子が形成された基板
がプラスチックで一体成形された回折光学素子であって
もよい。

【００４８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る回折
光学素子およびその製造方法では、周期格子側の反射防
止膜がディッピング法により形成される。ディッピング
法は反射防止材料の液体の中に、凹凸形状あるいは入り
組んだ形状の周期格子を浸して引き上げて乾燥して反射
防止膜を形成する方法であるので、反射防止膜は周期格
子の形状に沿って連続して均一の膜厚で形成される。従
って、反射防止膜は密着が良くなるので剥離を防止する
ことができる。さらに、反射防止膜の膜厚が均一になる
ので、屈折率が一定になり良好な反射防止効果を得るこ
とができる。

【００４９】また、ディッピング法は、反射防止材料の
液体の中に周期格子の形成された基板を浸すので、基板
の裏面にも反射防止膜を同時に形成することができる。
従って、回折光学素子の製造工程において、生産性を高
めることができる。

【００５０】さらに、ディッピング法による反射防止膜
形成のための引き上げ工程では、周期格子の形成された
基板を、反射防止材料の液面に対して、周期格子の形成
方向が常に垂直となるように引き上げるので、余分な反
射防止材料が格子間にとどまることなく格子に沿って流
れ落ちる。従って、格子の凹部にガスが溜まること無
く、反射防止膜の膜厚を均一に形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ本発明の実施の形態
１に係る回折光学素子の構造を示す断面図および平面図
である。

【図２】本発明の実施の形態１に係る回折光学素子の反
射防止膜の製造工程を示す説明図である。

【図３】本発明の実施の形態２に係る回折光学素子の構
造を示す斜視図である。

【図４】本発明の実施の形態３に係る回折光学素子の構
造を示す斜視図である。

【図５】本発明の実施の形態４に係る回折光学素子の構
造を示す平面図である。

【図６】本発明の実施の形態４に係る回折光学素子の反
射防止膜の製造工程を示す説明図である。

【図７】従来の回折光学素子の断面図である。

【図８】従来の別の回折光学素子の断面図である。

【図９】従来のさらに別の回折光学素子の断面図であ
る。

【符号の説明】

１回折光学素子２周期格子３ガラス基板３１ガラス基板表面３２ガラス基板裏面４０反射防止材料の液体４１第１の反射防止膜４２第２の反射防止膜４３反射防止材料の液面５１容器Ｆ温風Ｈ周期格子の配向方向Ｈ１曲線を描く周期格子の形成方向Ｋ、Ｋ１、Ｋ２、Ｋ３ガラス基板の引き上げ方向

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Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】表面に複数の凹凸状の格子を有する周期
格子が形成された基板と、前記周期格子の表面上に形成
された反射防止膜とを有する回折光学素子において、前記反射防止膜は、ディッピング法により形成された膜
であることを特徴とする回折光学素子。
【請求項２】請求項１において、前記周期格子は有機
材料により形成され、前記反射防止膜は有機材料から形
成された膜であることを特徴とする回折光学素子。
【請求項３】請求項１または２において、前記周期格
子はポリジアセチレン誘導体から形成され、前記反射防
止膜は屈折率が１．３０から１．３８の材料から形成さ
れた膜であることを特徴とする回折光学素子。
【請求項４】請求項１ないし３のうちいずれかの項に
おいて、前記基板の裏面にも反射防止膜が形成されてお
り、当該反射防止膜および前記周期格子の表面に形成さ
れている反射防止膜は同時に形成されたものであること
を特徴とする回折光学素子。
【請求項５】請求項１ないし４のうちいずれかの項に
記載の回折光学素子の製造方法であって、前記反射防止膜を形成するための液体材料に浸漬した前
記基板を、液体材料の液面に対して前記周期格子の形成
方向が垂直となる方向に引き上げることを特徴とする回
折光学素子の製造方法。