JPS63192078A - 表面レリ−フ型ホログラムの製造方法 - Google Patents
表面レリ−フ型ホログラムの製造方法Info
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- JPS63192078A JPS63192078A JP2392187A JP2392187A JPS63192078A JP S63192078 A JPS63192078 A JP S63192078A JP 2392187 A JP2392187 A JP 2392187A JP 2392187 A JP2392187 A JP 2392187A JP S63192078 A JPS63192078 A JP S63192078A
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Landscapes
- Holo Graphy (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
パターン精度を向上した表面レリーフ型ホログラムの製
法として、今までレジストパターン上にニッケル薄膜を
形成していたのに代わってニッケルと選択エツチング性
のある金属薄膜を形成し、ニッケルメッキ処理後に金属
薄膜を除去する製造方法。
法として、今までレジストパターン上にニッケル薄膜を
形成していたのに代わってニッケルと選択エツチング性
のある金属薄膜を形成し、ニッケルメッキ処理後に金属
薄膜を除去する製造方法。
本発明は複製精度を向上した表面レリーフ型ホログラム
の製造方法に関する。
の製造方法に関する。
ホログラフィは試料によって反射されたコヒーレントな
光と、同じ光源から直接に来た光との干渉縞を写真乾板
に記録して三次元の光像を作る技術として知られている
が、このようにして形成するホログラムには表面レリー
フ型ホログラムと体積型ホログラムとがある。
光と、同じ光源から直接に来た光との干渉縞を写真乾板
に記録して三次元の光像を作る技術として知られている
が、このようにして形成するホログラムには表面レリー
フ型ホログラムと体積型ホログラムとがある。
ここで、前者は干渉縞を記録媒体表面に凹凸の形で形成
したものであり、後者は記録媒体中に濃淡の形で形成し
たものであるが、前者は高回折効率と高機能性に加え、
複製ができることから高性能なデバイスを安価に形成で
きると云う特徴をもっている。
したものであり、後者は記録媒体中に濃淡の形で形成し
たものであるが、前者は高回折効率と高機能性に加え、
複製ができることから高性能なデバイスを安価に形成で
きると云う特徴をもっている。
そこで、良質の表面レリーフ型ホログラムを生産性よく
製造する方法が検討されている。
製造する方法が検討されている。
表面レリーフ型ホログラムを複製するにはスタンパと云
われるニッケル（Ｎｉ）製の鋳型にアクリル酸工゛ステ
ルなどのホトポリマを注入した後、紫外線を照射して硬
化せしめ、これを剥離することにより作られている。
われるニッケル（Ｎｉ）製の鋳型にアクリル酸工゛ステ
ルなどのホトポリマを注入した後、紫外線を照射して硬
化せしめ、これを剥離することにより作られている。
第２図は従来のホログラム複製工程を示す断面図であっ
て、ガラス基板１の上にホトレジスト２を約１．０μ−
の厚さにスピンコードした後、レーザ光の三光束干渉露
光を行い、これを現像してレジストパターン３を形成す
る。
て、ガラス基板１の上にホトレジスト２を約１．０μ−
の厚さにスピンコードした後、レーザ光の三光束干渉露
光を行い、これを現像してレジストパターン３を形成す
る。
ここで、レリーフを形成する格子の刃４のピッチと深さ
は０．５〜１．０μｍ程度である。（以上同図Ａ） 次に、このレジストパターン３の上にスパッタ法、真空
蒸着法、無電界メッキ法などによりＮｉ膜５を５００人
程度の厚さに膜形成する。
は０．５〜１．０μｍ程度である。（以上同図Ａ） 次に、このレジストパターン３の上にスパッタ法、真空
蒸着法、無電界メッキ法などによりＮｉ膜５を５００人
程度の厚さに膜形成する。
これは電鋳（以下略してメッキ）を行うための予備処理
である。（以上同図Ｂ） 次に、このＮｉ膜５を陰極として約８００μｍと厚めに
Ｎｉメッキを行い、Ｎｉ製の反転パターン６を形成する
。（以上同図Ｃ） 次に、溶剤処理によりホトレジスト２を溶解除去するこ
とによりＮｉ膜５と反転パターン６とからなるスタンパ
７が分離される。（以上同図Ｄ）同図（Ｅ）はか＼るス
タンパ７にホトポリマ８を注入し、ガラス基板９を当て
た状態でガラス基板９の側から紫外線を照射してホトポ
リマ８を硬化させ、スタンパ７を剥離して生じたホログ
ラム１０の断面図である。
である。（以上同図Ｂ） 次に、このＮｉ膜５を陰極として約８００μｍと厚めに
Ｎｉメッキを行い、Ｎｉ製の反転パターン６を形成する
。（以上同図Ｃ） 次に、溶剤処理によりホトレジスト２を溶解除去するこ
とによりＮｉ膜５と反転パターン６とからなるスタンパ
７が分離される。（以上同図Ｄ）同図（Ｅ）はか＼るス
タンパ７にホトポリマ８を注入し、ガラス基板９を当て
た状態でガラス基板９の側から紫外線を照射してホトポ
リマ８を硬化させ、スタンパ７を剥離して生じたホログ
ラム１０の断面図である。
このようにして複製が作られているが、同図（Ｃ）の工
程でＮｉメッキを行う際に、メッキ膜の張力などにより
反転パターン６の変形が生じて凹部１１が狭くなってお
り、また同図（Ｅ）の工程においてホトポリマ８の硬化
の際に樹脂の収縮が避けられないためにホログラム１０
の格子の刃１２は同図（Ａ）に示すレジストパターン３
の格子の刃４よりも狭くなり忠実なパターンが得られな
いことが問題であった。
程でＮｉメッキを行う際に、メッキ膜の張力などにより
反転パターン６の変形が生じて凹部１１が狭くなってお
り、また同図（Ｅ）の工程においてホトポリマ８の硬化
の際に樹脂の収縮が避けられないためにホログラム１０
の格子の刃１２は同図（Ａ）に示すレジストパターン３
の格子の刃４よりも狭くなり忠実なパターンが得られな
いことが問題であった。
以上記したように従来のスタンパはメッキ時にに発生す
る歪を緩和する膨張力などによりスタンパのレリーフパ
ターンを形成する格子の刃の幅がレジストパターンを形
成する格子の刃の幅よりも狭く形成され、また注入した
ホトポリマは紫外線照射により硬化する際に収縮するの
で、ホログラムの格子の刃が原盤であるレジストパター
ンよりも狭（形成されることが問題である。
る歪を緩和する膨張力などによりスタンパのレリーフパ
ターンを形成する格子の刃の幅がレジストパターンを形
成する格子の刃の幅よりも狭く形成され、また注入した
ホトポリマは紫外線照射により硬化する際に収縮するの
で、ホログラムの格子の刃が原盤であるレジストパター
ンよりも狭（形成されることが問題である。
上記の問題はホログラムを転写したレジストパターン上
にニッケルメッキを施した後、該レジストをａＣｔ、て
ニッケルスタンパを作り、該スタンパに透明樹脂の注入
を行ってホログラム基板を形成するに際し、先ず前記レ
ジストパターン上にニッケルと選択エツチング性のある
金属薄膜をスパッタ法、真空蒸着法、無電解メッキ法な
どにより形成しする。
にニッケルメッキを施した後、該レジストをａＣｔ、て
ニッケルスタンパを作り、該スタンパに透明樹脂の注入
を行ってホログラム基板を形成するに際し、先ず前記レ
ジストパターン上にニッケルと選択エツチング性のある
金属薄膜をスパッタ法、真空蒸着法、無電解メッキ法な
どにより形成しする。
特に、アルゴン（Ａｒ）などの不活性ガスを利用した低
真空蒸着法によれば良好な薄膜を形成することができる
。
真空蒸着法によれば良好な薄膜を形成することができる
。
次に、該金属薄膜を陰極としてニッケルメッキを行った
後にレジストと前記金属薄膜とを除去してニッケルスタ
ンパを得る表面レリーフ型ホログラムの製造方法により
解決することができる。
後にレジストと前記金属薄膜とを除去してニッケルスタ
ンパを得る表面レリーフ型ホログラムの製造方法により
解決することができる。
本発明は表面レリーフ型ホログラムの複製の際にレジス
トパターンの格子の刃に較べて複製したホログラムの格
子の刃が狭く形成され、従って当初に設計したデユーテ
ィ比より小さな値となり、透過回折効率が低下するのを
改善するためになされたものである。
トパターンの格子の刃に較べて複製したホログラムの格
子の刃が狭く形成され、従って当初に設計したデユーテ
ィ比より小さな値となり、透過回折効率が低下するのを
改善するためになされたものである。
ここで、デユ−ティ比は格子の刃の幅Ｗの格子のピッチ
ｄに対する比ｗ ／ ｄとして定義されており、一般に
０．４程度の値がとられている。
ｄに対する比ｗ ／ ｄとして定義されており、一般に
０．４程度の値がとられている。
本発明は第２図（Ａ）に示すレジストパターン３の格子
の刃４にくらべ同図（Ｅ）に示すホログラム１０の格子
の刃１２は１０％かそれ以上狭くなっていることから、
この補正手段として同図（Ｂ）に示すＮｉ膜５に代えて
Ｎｉと選択エツチング性のある金属例えば金（Ａｕ）を
用いるもので、この金属膜を格子ピッチの１０〜２０％
（０，１〜０．２μｍ）を目安として形成し、スタンパ
形成後に除去する方法をとることによりデユーティ比の
低下をなくするものである。
の刃４にくらべ同図（Ｅ）に示すホログラム１０の格子
の刃１２は１０％かそれ以上狭くなっていることから、
この補正手段として同図（Ｂ）に示すＮｉ膜５に代えて
Ｎｉと選択エツチング性のある金属例えば金（Ａｕ）を
用いるもので、この金属膜を格子ピッチの１０〜２０％
（０，１〜０．２μｍ）を目安として形成し、スタンパ
形成後に除去する方法をとることによりデユーティ比の
低下をなくするものである。
第１図は本発明に係るホログラム複製工程を示す断面図
である。
である。
すなわち、従来と同様にガラス基板１の上に塗布したホ
トレジスト（シブレイ社１品名Ｓ １４００）２に二光
束干渉露光を行って後、現像してレジストパターン３を
形成した。（以上同図Ａ）次に、この上にスパッタ法に
よりＡｕ膜１３を０．１μｍの厚さに形成した。（以上
同図Ｂ）次に、Ａｕ膜１３を陰極としてメッキを行い従
来と同様にＮｉからなる反転パターン６を形成した。
トレジスト（シブレイ社１品名Ｓ １４００）２に二光
束干渉露光を行って後、現像してレジストパターン３を
形成した。（以上同図Ａ）次に、この上にスパッタ法に
よりＡｕ膜１３を０．１μｍの厚さに形成した。（以上
同図Ｂ）次に、Ａｕ膜１３を陰極としてメッキを行い従
来と同様にＮｉからなる反転パターン６を形成した。
（以上同図Ｃ）
次に、ホトレジスト２を同社製の剥離液を用いて溶解除
去した後（以上同図Ｄ）、沃化カリ（Ｋｌ）と沃素（■
りの飽和水溶液に浸漬して＾Ｕ膜１３を溶解してＮｉ製
のスタンパ１４を形成した。
去した後（以上同図Ｄ）、沃化カリ（Ｋｌ）と沃素（■
りの飽和水溶液に浸漬して＾Ｕ膜１３を溶解してＮｉ製
のスタンパ１４を形成した。
（以上同図Ｅ）
これに従来と同様にホトポリマを注入した後に紫外線照
射を行い、硬化後に剥離してホログラム１５を形成した
（以上同図Ｆ） このように形成したスタンパ１４は凹部１６が広く、こ
れを用いて形成したホログラム１５はニッケルメッキの
内部歪による膨張変形やホトポリマの収縮による格子の
刃の細りを補償しており、レジストパターン３のデユー
ティ比に近似した値を得ることができる。
射を行い、硬化後に剥離してホログラム１５を形成した
（以上同図Ｆ） このように形成したスタンパ１４は凹部１６が広く、こ
れを用いて形成したホログラム１５はニッケルメッキの
内部歪による膨張変形やホトポリマの収縮による格子の
刃の細りを補償しており、レジストパターン３のデユー
ティ比に近似した値を得ることができる。
第３図と第４図は複製したホログラムについて透過回折
効率ηとデユーティ比との関係図であって、第３図はＳ
偏向すなわちヘリウム・ネオン（Ｈｅ−Ｎｅ） レー
ザ光（波長０．６３３μｍ）の振動面が格子縞に平行な
偏光について、また第４図はＰ偏向すなわち振動面が直
角な偏光についての特性であって、実線１７は一次の回
折光を、また破線１８は０次の透過回折光についてデユ
ーティ比を変えた場合の回折効率の変化を示しており、
Ｓ偏光についてはデユーティ比０．３〜０．４にピーク
があり、またＰ偏光については０．４程度にピークが存
在している。
効率ηとデユーティ比との関係図であって、第３図はＳ
偏向すなわちヘリウム・ネオン（Ｈｅ−Ｎｅ） レー
ザ光（波長０．６３３μｍ）の振動面が格子縞に平行な
偏光について、また第４図はＰ偏向すなわち振動面が直
角な偏光についての特性であって、実線１７は一次の回
折光を、また破線１８は０次の透過回折光についてデユ
ーティ比を変えた場合の回折効率の変化を示しており、
Ｓ偏光についてはデユーティ比０．３〜０．４にピーク
があり、またＰ偏光については０．４程度にピークが存
在している。
そのため、このピーク値となるデユーティ比を得るよう
にレジストパターンを設計し、作成するが、従来の複製
技術ではホログラムのデユーティ比は０．３よりも低め
にシフトしていた。
にレジストパターンを設計し、作成するが、従来の複製
技術ではホログラムのデユーティ比は０．３よりも低め
にシフトしていた。
そのために透過回折効率ηが特にＰ偏光再生時に大幅に
低下し、そのため特性の劣化が避けられなかった。
低下し、そのため特性の劣化が避けられなかった。
然し、デユーティ比の低下を補償する本発明の実施によ
りこの問題の解決が可能となった。
りこの問題の解決が可能となった。
以上記したように本発明の実施により、設計のデユーテ
ィ比に近似したホログラムの複製が可能となり、これに
より高品質の表面レリーフ型ホログラムを生産性よく複
製することができる。
ィ比に近似したホログラムの複製が可能となり、これに
より高品質の表面レリーフ型ホログラムを生産性よく複
製することができる。
第１図は本発明に係るホログラム複製工程を示す断面図
、 第２図は従来のホログラム複製工程を示す断面図、 第３図はＳ偏光について透過回折効率とデユーティ比と
の関係図、 第４図はＰ偏光について透過回折効率とデユーティ比と
の関係図、 である。 図において、 ２はホトレジスト、 ３はレジストパターン、４
．１２は格子の刃、 ５はＮｉ膜、６は反転パター
ン、 ７，１４はスタンパ、８はホトポリマ、
１０．１５はホログラム、である。
、 第２図は従来のホログラム複製工程を示す断面図、 第３図はＳ偏光について透過回折効率とデユーティ比と
の関係図、 第４図はＰ偏光について透過回折効率とデユーティ比と
の関係図、 である。 図において、 ２はホトレジスト、 ３はレジストパターン、４
．１２は格子の刃、 ５はＮｉ膜、６は反転パター
ン、 ７，１４はスタンパ、８はホトポリマ、
１０．１５はホログラム、である。
Claims (1)
- レジスト膜に記録した表面レリーフ型ホログラム上にニ
ッケルメッキを施した後、該レジストを剥離してニッケ
ルスタンパを作り、該スタンパに透明樹脂の注入を行っ
てホログラム基板を形成するに際し、前記レジストホロ
グラム上にニッケルと選択エッチング性のある金属薄膜
を形成し、該金属薄膜を陰極としてニッケルメッキを行
い、次にレジストと前記金属薄膜とを除去してニッケル
スタンパを得ることを特徴とする表面レリーフ型ホログ
ラムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2392187A JPS63192078A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | 表面レリ−フ型ホログラムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2392187A JPS63192078A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | 表面レリ−フ型ホログラムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63192078A true JPS63192078A (ja) | 1988-08-09 |
Family
ID=12123976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2392187A Pending JPS63192078A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | 表面レリ−フ型ホログラムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63192078A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002169010A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-06-14 | Minolta Co Ltd | 回折光学素子 |
| JP2009223010A (ja) * | 2008-03-17 | 2009-10-01 | Murata Mfg Co Ltd | ワイヤーグリッド用金属板、自立型ワイヤーグリッド及びワイヤーグリッド用金属板の製造方法 |
| JP2009251082A (ja) * | 2008-04-02 | 2009-10-29 | Toppan Printing Co Ltd | 電鋳金型およびホログラムの製造方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58158225A (ja) * | 1982-03-15 | 1983-09-20 | Toshiba Corp | 情報記録用基板の製造方法 |
| JPS61221393A (ja) * | 1985-03-28 | 1986-10-01 | Toshiba Corp | 電鋳装置 |
| JPS61273568A (ja) * | 1985-05-29 | 1986-12-03 | Toppan Printing Co Ltd | ホログラム転写箔 |
-
1987
- 1987-02-04 JP JP2392187A patent/JPS63192078A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58158225A (ja) * | 1982-03-15 | 1983-09-20 | Toshiba Corp | 情報記録用基板の製造方法 |
| JPS61221393A (ja) * | 1985-03-28 | 1986-10-01 | Toshiba Corp | 電鋳装置 |
| JPS61273568A (ja) * | 1985-05-29 | 1986-12-03 | Toppan Printing Co Ltd | ホログラム転写箔 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002169010A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-06-14 | Minolta Co Ltd | 回折光学素子 |
| JP2009223010A (ja) * | 2008-03-17 | 2009-10-01 | Murata Mfg Co Ltd | ワイヤーグリッド用金属板、自立型ワイヤーグリッド及びワイヤーグリッド用金属板の製造方法 |
| JP2009251082A (ja) * | 2008-04-02 | 2009-10-29 | Toppan Printing Co Ltd | 電鋳金型およびホログラムの製造方法 |
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