WO2013031548A1 - ガラス板 - Google Patents

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WO2013031548A1
WO2013031548A1 PCT/JP2012/070860 JP2012070860W WO2013031548A1 WO 2013031548 A1 WO2013031548 A1 WO 2013031548A1 JP 2012070860 W JP2012070860 W JP 2012070860W WO 2013031548 A1 WO2013031548 A1 WO 2013031548A1
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chamfered
main plane
glass plate
end surface
glass
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PCT/JP2012/070860
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Inventor
出 鹿島
裕介 小林
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旭硝子株式会社
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    • Y10T428/24488—Differential nonuniformity at margin

Definitions

  • the present invention relates to a glass plate.
  • glass plates have been mass-produced for image display devices such as liquid crystal displays and organic EL displays.
  • This glass plate is used as, for example, a glass substrate on which a functional layer such as a thin film transistor (TFT) or a color filter (CF) is formed, or a cover glass that enhances the aesthetics and protection of the display.
  • TFT thin film transistor
  • CF color filter
  • Patent Document 1 the quality of a glass plate is evaluated by bending strength, but it may be appropriate to evaluate by impact fracture strength. For example, since the glass plate hardly bends after being incorporated in the image display device, the impact fracture strength is more important than the bending strength.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a glass plate excellent in impact fracture strength.
  • a glass plate includes: In a glass plate having a main plane, an end surface perpendicular to the main plane, and a chamfered surface formed between the main plane and the end surface and adjacent to the main plane and the end surface, In the cross section perpendicular to the main plane and the end surface, the chamfered surface has a radius of curvature of 50 ⁇ m or more at a contact point in contact with a straight line having an inclination of 45 ° with respect to the main plane, and an inclination with respect to the main plane of 15
  • the radius of curvature at the point of contact with the straight line is 20 to 500 ⁇ m.
  • a glass plate excellent in impact fracture strength is provided.
  • FIG. 1 is a side view of a glass plate according to an embodiment of the present invention.
  • a glass plate base plate (originally) is indicated by a two-dot chain line.
  • the glass plate 10 is, for example, a glass substrate or cover glass for an image display device.
  • the image display device includes a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), an organic EL display, and the like, and includes a touch panel.
  • the glass plate 10 of this embodiment is for image display apparatuses, for example, it may be for solar cells and thin film secondary batteries, and the use is not particularly limited.
  • the plate thickness of the glass plate 10 is set according to the application.
  • the thickness of the glass plate 10 is 0.3 to 3 mm.
  • the thickness of the glass plate 10 is 0.5 to 3 mm.
  • the glass plate 10 is formed by a float method, a fusion down draw method, a redraw method, a press method, or the like, and the forming method is not particularly limited.
  • the glass plate 10 includes two main planes 11 and 12 parallel to each other, an end face 13 perpendicular to the main planes 11 and 12, and a chamfered surface formed between the main planes 11 and 12 and the end face 13. 15 and 16.
  • the chamfered surface 15 is adjacent to the main plane 11 and the end surface 13
  • the chamfered surface 16 is adjacent to the main plane 12 and the end surface 13.
  • the glass plate 10 is formed symmetrically with respect to the center planes of the main planes 11 and 12, and the chamfered surfaces 15 and 16 have substantially the same size and shape.
  • description of the one chamfered surface 16 is omitted.
  • the chamfered surfaces 15 and 16 of the present embodiment have substantially the same dimensional shape, but may have different dimensional shapes. Further, either one of the chamfered surfaces 15 and 16 may be omitted.
  • the main planes 11 and 12 are formed in a rectangular shape, for example.
  • the “rectangular shape” means a square shape or a rectangular shape, and includes a shape in which a corner portion is rounded.
  • polygonal shape such as a triangular shape, may be sufficient, and circular shape, elliptical shape, etc. may be sufficient.
  • the end surface 13 is a surface perpendicular to the main planes 11 and 12 and is located outward from the main planes 11 and 12 in plan view (view in the plate thickness direction). Good impact resistance can be obtained with respect to an impact from a direction perpendicular to the end face 13.
  • the end surface 13 is a flat surface.
  • the end surface 13 may be a curved surface or a combination of a flat surface and a curved surface as long as it is a surface perpendicular to the main planes 11 and 12.
  • chamfered surfaces 15 may be provided, for example, corresponding to four sides of the rectangular main plane 11, or only one, and the number of chamfered surfaces 15 is not particularly limited.
  • the chamfered portion 17 ⁇ / b> B is formed by removing the corners between the main plane 11 ⁇ / b> A and the end surface 13 ⁇ / b> A of the base plate 10 ⁇ / b> A of the glass plate 10 and then processing the chamfered portion 17 ⁇ / b> B. Illustrated. First, the chamfered portion 17B will be described.
  • the chamfered portion 17B is an inclined flat surface with respect to the main plane 11B adjacent to the chamfered portion 17B.
  • the chamfered portion 17B of the present embodiment is a flat surface, but may be a curved surface.
  • the curved surface may be, for example, an arc surface, an arc surface composed of a plurality of arc surfaces having different radii of curvature, or an elliptical arc surface.
  • the chamfered portion 17B gradually protrudes outward from the main plane 11B to the end surface 13B in plan view (view in the plate thickness direction).
  • the end surface 13B is a surface perpendicular to the main plane 11B and is adjacent to the chamfered portion 17B.
  • the boundary portion 19B between the chamfered portion 17B and the main plane 11B is tapered due to the nature of the chamfering process.
  • the boundary portion 21B between the chamfered portion 17B and the end surface 13B is tapered due to the nature of the chamfering process.
  • FIG. 2 is an explanatory diagram of an example of a method for forming a chamfered portion.
  • FIG. 2 shows a base plate 10A and a sheet 200 for polishing the base plate 10A.
  • the chamfered portion 17B is indicated by a two-dot chain line.
  • the chamfered portion 17B is formed by polishing the base plate 10A with a sheet 200 with abrasive grains.
  • the sheet 200 is fixed to the fixed surface 211 of the base 210 and has a shape along the fixed surface 211.
  • the fixed surface 211 is a flat surface, for example.
  • the sheet 200 includes abrasive grains on the surface opposite to the fixed surface 211.
  • the types of abrasive grains are, for example, alumina (Al 2 O 3 ), silicon carbide (SiC), and diamond.
  • the grain size of the abrasive grains is, for example, # 1000 or more in order to suppress damage during polishing. The larger the particle size, the smaller the particle size.
  • the base plate 10A is chamfered by pressing the base plate 10A against the surface including the abrasive grains of the sheet 200, and the chamfered portion 17B is formed.
  • a cooling liquid such as water may be used during polishing.
  • the sheet 200 of the present embodiment is fixed on the base 210, and the base plate 10A is pressed against the surface including the abrasive grains of the sheet 200 and slid, but the abrasive grains of the sheet 200 in a tensioned state are included.
  • the surface may be pressed against the base plate 10A and slid.
  • FIG. 3 is an explanatory diagram of another example of a method for forming a chamfered portion.
  • FIG. 3 shows a base plate 10A and a rotating grindstone 300 for grinding the base plate 10A.
  • the chamfered portion 17B and the end surface 13B are indicated by a two-dot chain line.
  • the chamfered portion 17B and the end surface 13B are formed by grinding the outer peripheral portion of the base plate 10A with the rotating grindstone 300.
  • the rotating grindstone 300 has a disk shape and has an annular grinding groove 301 along the outer edge.
  • the wall surface of the grinding groove 301 contains abrasive grains.
  • the types of abrasive grains are, for example, alumina (Al 2 O 3 ), silicon carbide (SiC), and diamond.
  • the grain size of the abrasive grains (JIS R6001: Abrasive Micro Grain Size) is, for example, # 300 to 2000 in order to increase the grinding efficiency.
  • the rotating grindstone 300 is relatively moved along the outer edge of the base plate 10A while being rotated around the center line of the rotating grindstone 300, and the outer edge portion of the base plate 10A is ground by the wall surface of the grinding groove 301.
  • a coolant such as water may be used during grinding.
  • the formation method of a chamfer part is not limited to the method shown in FIG.2 and FIG.3.
  • the method shown in FIG. 2 and the method shown in FIG. 3 may be combined, and the method shown in FIG. 2 may be implemented after the method shown in FIG.
  • the chamfered surface 15 is formed by further chamfering a boundary portion 19B between the chamfered portion 17B and the main plane 11B and a boundary portion 21B between the chamfered portion 17B and the end surface 13B into a curved surface.
  • the curved surface may be, for example, an arc surface, an arc surface composed of a plurality of arc surfaces having different radii of curvature, or an elliptical arc surface. Since the tapered boundary portions 19B and 21B are processed into rounded curved surfaces, the stress generated upon impact is dispersed as shown in the theory of Hertzian contact stress, and the resistance of the glass plate 10 is improved. Improves impact.
  • the chamfered surface 15 includes a curved surface portion 23 formed by chamfering the boundary portion 19B into a curved surface, and a curved portion 25 formed by chamfering the boundary portion 21B into a curved surface.
  • the curved surface portion 23 gradually protrudes outward from the main plane 11 toward the curved portion 25 in plan view (view in the plate thickness direction).
  • the curved portion 25 gradually protrudes outward from the curved surface portion 23 toward the end surface 13 in plan view.
  • FIG. 4 to 5 are explanatory views of an example of a method of forming the curved surface portion and the curved portion.
  • FIG. 4 shows a plate glass 10B having a chamfered portion 17B and a brush 400 for polishing the plate glass 10B.
  • FIG. 5 shows the state in which the plate glass 10B is being polished with the brush 400 in an enlarged manner.
  • the curved surface portion 23, the curved portion 25, the end surface 13, and the like are indicated by a two-dot chain line.
  • the curved surface portion 23, the curved portion 25, and the end surface 13 are formed by polishing the plate glass 10B on which the chamfered portion 17B is formed with the brush 400.
  • the brush 400 may polish the laminated body 420 produced by alternately stacking the glass sheets 10B and the spacers 410 in order to increase the polishing efficiency.
  • each plate glass 10B has substantially the same size and shape, and is laminated so that the outer edges overlap each other when viewed in the lamination direction (in the direction of arrow X in the figure). Therefore, the outer edge part of each plate glass 10B is grind
  • Each spacer 410 is made of a material softer than the plate glass 10B, and is made of, for example, polypropylene resin or urethane foam resin.
  • Each spacer 410 has substantially the same size and shape. Each spacer 410 is arranged on the inner side of the outer edge of the glass sheet 10B when viewed in the stacking direction (viewed in the direction of arrow X in the figure), and forms a groove-like gap 430 between the glass sheets 10B.
  • the brush 400 is a roll brush as shown in FIG. 4, and includes a rotating shaft 401 parallel to the stacking direction of the stacked body 420, brush hairs 402 held substantially perpendicular to the rotating shaft 401, and the like.
  • the brush 400 is relatively moved along the outer edge of the multilayer body 420 while being rotated about the rotation shaft 401, and discharges slurry containing an abrasive toward the outer edge of the multilayer body 420. Brush the outer edge.
  • the average particle diameter (D50) of the abrasive is, for example, 5 ⁇ m or less, preferably 2 ⁇ m or less.
  • the brush 400 is a channel brush, and is formed by winding a long member (channel) in which a plurality of brush hairs 402 are implanted in a spiral shape around the rotation shaft 401.
  • the brush bristles 402 are mainly composed of a resin such as polyamide, and may include an abrasive such as alumina (Al 2 O 3 ), silicon carbide (SiC), or diamond.
  • the bristle 402 may be formed in a linear shape and have a tapered tip.
  • the width W of the gap 430 is at least 1.25 times the maximum diameter A of the bristle 402 (W ⁇ 1.25 ⁇ A). Therefore, as shown in FIG. 5, the bristle 402 is smoothly inserted into the gap 430, and the boundary portion 19B between the main plane 11B and the chamfered portion 17B of the plate glass 10B is chamfered into a curved surface. At this time, the boundary portion 21B between the chamfered portion 17B and the end surface 13B is also chamfered to a curved surface.
  • the width W of the gap 430 is preferably 1.33 ⁇ A or more, and more preferably 1.5 ⁇ A or more.
  • the width W of the gap 430 may be smaller than the plate thickness of the plate glass 10B in order to improve the efficiency of brush polishing.
  • the brush 400 polishes the boundary portion 19B between the chamfered portion 17B and the main plane 11B with the outer peripheral surface of the brush bristles 402 to form the curved surface portion 23. Further, the brush 400 forms a curved portion 25 by polishing the boundary portion 21B between the chamfered portion 17B and the end surface 13B with the outer peripheral surface of the brush bristles 402. When the curved surface portion 23 and the curved portion 25 are formed, the entire chamfered portion 17B is polished into a rounded curved surface. Further, the end face 13B is polished to become the end face 13 shown in FIG.
  • 6 to 9 are explanatory diagrams of the shape and dimension of the chamfered surface.
  • the chamfered surface 15 is formed so that a chamfer width W in a direction perpendicular to the end surface 13 is, for example, 20 ⁇ m or more. .
  • the chamfering width W is a straight line having an inclination of 45 ° with respect to the main plane 11 and is in contact with the chamfered surface 15 at one point, the intersection P1 between the extension line E11 of the main plane 11 and the extension line E11 of the main plane 11. This is calculated as the distance between the end surface 13 and the intersection P2 with the extension line E13.
  • the inclination with respect to the main plane 11 is 0 ° when parallel to the main plane 11.
  • the chamfering width W is 20 ⁇ m or more, good impact resistance against impact from a direction perpendicular to the straight line L20 can be obtained, and the 45 ° impact fracture strength (see Examples) becomes high.
  • the upper limit value of the chamfering width W is not particularly limited. For example, when the glass plate 10 has a symmetrical shape with respect to the center plane in the plate thickness direction, it may be less than 1 ⁇ 2 of the plate thickness of the glass plate 10. .
  • the chamfer width W is preferably 40 ⁇ m or more.
  • the chamfered surface 15 has a radius of curvature r1 at the contact S10 that contacts the straight line L10 having an inclination with respect to the main plane 11 of, for example, 20 to 20. It is formed to be 500 ⁇ m.
  • the radius of curvature r1 at the contact point S10 is calculated as the radius of a perfect circle C10 passing through the three points of the contact point S10 and the two points S11 and S12 on the chamfered surface 15 that are 10 ⁇ m apart on both sides in the direction parallel to the straight line L10 from the contact point S10. Is done.
  • the radius of curvature r1 at the contact S10 is 20 ⁇ m or more, the effect of chamfering the boundary portion 19B between the chamfered portion 17B and the main plane 11B to a curved surface can be sufficiently obtained. Further, when the radius of curvature r1 is 500 ⁇ m or less, it is possible to prevent the intersecting portion of the curved surface portion 23 and the main plane 11 from being sharpened, and the reduction in impact resistance of this portion can be suppressed.
  • the curvature radius r1 is preferably 40 to 500 ⁇ m.
  • the chamfered surface 15 has a curvature radius r2 at the contact S ⁇ b> 20 in contact with the straight line L ⁇ b> 20 having an inclination with respect to the main plane 11 of 45 °, for example. It is formed to be larger than r1.
  • the radius of curvature r2 at the contact S20 is calculated as the radius of a perfect circle C20 passing through the three points of the contact S20 and the two points S21 and S22 on the chamfered surface 15 that are 10 ⁇ m apart on both sides in the direction parallel to the straight line L20 from the contact S20. Is done.
  • the radius of curvature r2 at the contact S20 is larger than the radius of curvature r1 at the contact S10, the surface that receives the impact from the direction perpendicular to the straight line L20 becomes wider, so the 45 ° impact fracture strength (see the example) increases. .
  • the radius of curvature r2 at the contact S20 is, for example, 50 ⁇ m or more, and preferably 70 ⁇ m or more.
  • the chamfered surface 15 has a radius of curvature r3 at a contact S30 that contacts a straight line L30 having an inclination with respect to the main plane 11 of, for example, 20 to 20. It is formed to be 500 ⁇ m.
  • the radius of curvature r3 at the contact point S30 is calculated as the radius of the perfect circle C30 passing through the three points of the contact point S30 and the two points S31 and S32 on the chamfered surface 15 that are 10 ⁇ m apart on both sides in the direction parallel to the straight line L30 from the contact point S30. Is done.
  • the radius of curvature r3 at the contact S30 is 20 ⁇ m or more, the effect of chamfering the boundary portion 21B between the chamfered portion 17B and the end surface 13B to a curved surface can be sufficiently obtained. Further, when the radius of curvature r3 is 500 ⁇ m or less, it is possible to prevent the intersecting portion of the curved portion 25 and the end surface 13 from being sharpened, and the reduction in impact resistance of this portion can be suppressed.
  • the curvature radius r3 is preferably 40 to 500 ⁇ m.
  • FIG. 10 is a side view of a glass plate according to a modification of one embodiment of the present invention.
  • the glass plate 110 shown in FIG. 10 is similar to the glass plate 10 shown in FIG. 1.
  • the glass plate 110 is formed symmetrically with respect to the center plane in the plate thickness direction, and the chamfered surfaces 115 and 116 have the same dimensional shape.
  • a part of the description of the one chamfered surface 116 is omitted.
  • chamfered surfaces 115 and 116 of this embodiment have the same dimensional shape, they may have different dimensional shapes. Further, either one of the chamfered surfaces 115 and 116 may not be provided.
  • the chamfered surface 115 is formed by removing the corners between the main plane 111A and the end surface 113A of the base plate 110A of the glass plate 110 to form the chamfered portion 117B, and then forming the chamfered portion 117B. Processed.
  • the chamfered surface 115 is formed by further chamfering the boundary portion 119B between the main plane 111B and the chamfered portion 117B adjacent to the chamfered portion 117B, and the boundary portion 121B between the end surface 113B and the chamfered portion 117B adjacent to the chamfered portion 117B. Since the tapered boundary portions 119B and 121B are processed into rounded curved surfaces, the stress generated upon impact is dispersed as shown in the theory of contact stress of Hertz, and the impact resistance of the glass plate 110 is improved. .
  • the chamfered surface 115 includes a curved surface portion 123 formed by chamfering the boundary portion 119B into a curved surface, and a curved portion 125 formed by chamfering the boundary portion 121B into a curved surface.
  • the chamfered surface 115 further includes a flat portion 127 that is inclined with respect to the main plane 111 between the curved surface portion 123 and the curved portion 125. Good impact resistance against impact from a direction perpendicular to the flat portion 127 is obtained.
  • a method for forming the chamfered surface 115 for example, there is a method in which, after forming the chamfered portion 117B by the method shown in FIG. 2 or 3, only the boundary portions 119B and 121B are polished with a brush.
  • the flat portion 127 is configured by a part of the chamfered portion 117B that remains without being processed when the curved surface portion 123 and the curved portion 125 are formed.
  • the flat portion 127 may be formed by processing the chamfered portion 117B.
  • Example 1 In Example 1, a rectangular glass base plate having a thickness of 0.8 mm was polished by the method shown in FIG. 2 to form a chamfered portion, and then a curved surface portion and a curved portion were formed by the method shown in FIG. A strength test piece was prepared. The test piece does not have a chemical strengthening layer.
  • a 3M wrapping film sheet 1 ⁇ m (# 8000) manufactured by Sumitomo 3M Limited was used as a sheet used for forming the chamfered portion.
  • the brush hair used that made from polyamide. The diameter of the brush hair was 0.2 mm.
  • cerium oxide having an average particle diameter (D50) of 2 ⁇ m was used as an abrasive used for brush polishing.
  • FIG. 11 is an explanatory diagram of an impact tester, showing an impact tester 500 and a test piece 600.
  • a state where the impactor 503 is in the neutral position is indicated by a solid line
  • a state where the impactor 503 is lifted from the neutral position is indicated by a one-dot chain line.
  • the test piece 600 is formed between two main planes 601 and 602 that are parallel to each other, an end surface 603 that is perpendicular to the main planes 601 and 602, and a flat surface that is perpendicular to the main planes 601 and 602, and the main planes 601 and 602 and the end surface 603. And chamfered surfaces 605 and 606.
  • the test piece 600 is formed symmetrically with respect to the center planes of both main planes 601 and 602, and the chamfered surfaces 605 and 606 have substantially the same size and shape.
  • the chamfered surfaces 605 and 606 are configured similarly to the chamfered surfaces 15 and 16 shown in FIG.
  • the impact tester 500 includes a horizontally disposed rotating shaft 501, a rod 502 extending vertically from the rotating shaft 501, and a columnar impactor 503 coaxially fixed to the rod 502.
  • the impactor 503 has a radius of curvature of 2.5 mm at a portion in contact with the test piece 600, a mass of 96 g, and is made of an SS material.
  • the impactor 503 is rotatable about a rotation shaft 501 and can be rotated right and left from a neutral position where the rod 502 is vertical.
  • the chamfered surface 606 of the test piece 600 is arranged in parallel with the rotation axis 501 in the longitudinal direction.
  • the impact test is performed by lifting the impactor 503 from the neutral position and dropping it by gravity, as shown by a two-dot chain line in FIG.
  • the impactor 503 rotates around the rotation shaft 501 by gravity, and collides with the test piece 600 (specifically, the lower chamfered surface 606) at the neutral position as shown by a solid line in FIG.
  • the impact energy applied to the test piece 600 at the time of collision is calculated based on the mass 502 of the rod 502 (16 g), the mass of the impactor 503 (80 g), and the height H at which the center of gravity 505 of the impactor 503 is lifted.
  • the size and shape of the chamfered surface 606 with which the impactor 503 collides (the chamfering width W shown in FIG. 6, the curvature radius r1 shown in FIG. 7, the curvature radius r2 shown in FIG. 8, and the curvature deformation r3 shown in FIG. 9) are impact tests.
  • the test piece 600 was cut
  • Table 1 shows the evaluation results.
  • 45 ° impact fracture strength means impact fracture strength when the angle ⁇ is 45 °.
  • 30 ° impact fracture strength means impact fracture strength when the angle ⁇ is 30 °.
  • Example 2 In Example 2, a test piece was prepared in the same manner as in Example 1 except that the polishing time for forming the chamfered portion was changed, and the impact fracture strength of the test piece and the dimensional shape of the chamfered surface of the test piece were measured. The evaluation results are shown in Table 1.
  • Example 3 In Example 3, a test piece was produced in the same manner as in Example 1 except that the method shown in FIG. 3 was used instead of the method shown in FIG. And the dimension shape of the chamfered surface of the test piece was measured. The evaluation results are shown in Table 1.
  • Example 4 to 5 test pieces were produced in the same manner as in Example 1 except that after the chamfered portion was formed, the curved surface portion and the curved portion were not formed. Therefore, the chamfered surfaces of the test pieces of Examples 4 to 5 were composed of only the chamfered portion, and were flat surfaces inclined with respect to the main plane. In Examples 4 to 5, the polishing time for forming the chamfered portion was changed.
  • Table 1 shows the evaluation results.
  • the radius of curvature r2 is infinite.
  • the curvature radii r1 and r3 are regarded as 0 ⁇ m because the curved surface and the curved surface are not bent between the main plane and the chamfered surface and between the chamfered surface and the end surface.
  • Example 6 In Example 6, the same glass base plate as in Example 1 was used as it was as a test piece. This test piece has two main planes parallel to each other and an end surface perpendicular to each main plane, and does not have a chamfered surface.
  • Example 6 since there is no chamfered surface, the chamfer width W is 0, and there is no value corresponding to the curvature radii r1 to r3. In Example 6, since there was no chamfered surface, the impactor 503 collided with the corner portion between the lower main plane and the end surface, and the impact fracture strength was extremely low.
  • the glass plate 10 of the above embodiment does not have a chemical strengthening layer, but may have a chemical strengthening layer.
  • the chemical strengthening layer (compressive stress layer) is formed by immersing a glass plate in a treatment liquid for ion exchange.
  • a small ionic radius ion (eg, Li ion, Na ion) contained in the glass surface is replaced with a large ionic radius ion (eg, K ion), and a compressive stress layer is formed on the glass surface at a predetermined depth from the surface. Is done.
  • a tensile stress layer is formed inside the glass plate to balance the stress.
  • a chemically strengthened glass that is, a glass having a chemically strengthened layer (compressive stress layer) on the main surface has high strength and scratch resistance. Therefore, by chemically strengthening the glass plate having the shape of the present invention, it can be made difficult to be broken and hard to be damaged. Therefore, it can be suitably used as a cover glass for protecting displays such as smartphones, tablet PCs, PC monitors,

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Abstract

【解決手段】主平面１１と、主平面１１に対して垂直な端面１３と、主平面１１と端面１３との間に形成され、主平面１１および端面１３に隣接する面取り面１５とを有するガラス板において、主平面１１および端面１３に対して垂直な断面において、面取り面１５は、主平面１１に対する傾きが４５°の直線Ｌ２０と接する接点Ｓ２０での曲率半径ｒ２が５０μｍ以上であり、且つ主平面１１に対する傾きが１５°の直線Ｌ１０と接する接点Ｓ１０での曲率半径ｒ１が２０～５００μｍである。

Description

ガラス板
　本発明は、ガラス板に関する。
　近年、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどの画像表示装置向けにガラス板が量産されている。このガラス板は、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）やカラーフィルター（ＣＦ）などの機能層が形成されるガラス基板、またはディスプレイの美観や保護を高めるカバーガラスとして用いられる。
　ところで、ガラス板が撓むとき、凹面となる主平面には圧縮応力が生じ、凸面となる主平面には引張応力が生じる。引張応力は、凸面となる主平面と、該主平面と隣接する端面との境界部に集中するので、この境界部に欠陥があると、ガラス板が破損しやすい。
　そこで、境界部に面取り面が形成され、面取り面の表面粗さが端面の表面粗さよりも小さいガラス基板が提案されている（例えば、特許文献１参照）。このガラス基板によれば、破損が抑制されるとしている。
国際公開第１０／１０４０３９号パンフレット
　特許文献１ではガラス板の品質が曲げ強度で評価されているが、衝撃破壊強度で評価することが適切な場合がある。例えば画像表示装置に組み込まれた後、ガラス板はほとんど曲がらないので、曲げ強度よりも衝撃破壊強度が重要となる。
　本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、衝撃破壊強度に優れたガラス板の提供を目的とする。
　上記目的を解決するため、本発明の一実施形態によるガラス板は、
　主平面と、該主平面に対して垂直な端面と、前記主平面と前記端面との間に形成され、前記主平面および前記端面に隣接する面取り面とを有するガラス板において、
　前記主平面および前記端面に対して垂直な断面において、前記面取り面は、前記主平面に対する傾きが４５°の直線と接する接点での曲率半径が５０μｍ以上であり、且つ前記主平面に対する傾きが１５°の直線と接する接点での曲率半径が２０～５００μｍである。
　本発明によれば、衝撃破壊強度に優れたガラス板が提供される。
本発明の一実施形態によるガラス板の側面図 面取り部の形成方法の一例の説明図 面取り部の形成方法の別の例の説明図 曲面部および湾曲部の形成方法の一例の説明図（１） 曲面部および湾曲部の形成方法の一例の説明図（２） 面取り面の寸法形状の一例の説明図（１） 面取り面の寸法形状の一例の説明図（２） 面取り面の寸法形状の一例の説明図（３） 面取り面の寸法形状の一例の説明図（４） 本発明の一実施形態の変形例によるガラス板の側面図 衝撃試験機の説明図
　以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。以下の図面において、同一のまたは対応する構成には、同一のまたは対応する符号を付して、説明を省略する。
　図１は、本発明の一実施形態によるガラス板の側面図である。図１において、ガラス板の素板（もといた）などを２点鎖線で示す。
　ガラス板１０は、例えば画像表示装置用のガラス基板またはカバーガラスである。画像表示装置は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）やプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、有機ＥＬディスプレイなどを含み、タッチパネルを含む。
　なお、本実施形態のガラス板１０は画像表示装置用であるが、例えば太陽電池用、薄膜２次電池用などであってよく、用途は特に限定されない。
　ガラス板１０の板厚は、用途に応じて設定される。例えば、画像表示装置用のガラス基板の場合、ガラス板１０の板厚は０．３～３ｍｍである。また、画像表示装置用のカバーガラスの場合、ガラス板１０の板厚は０．５～３ｍｍである。
　ガラス板１０は、フロート法、フュージョンダウンドロー法、リドロー法、プレス法などで成形され、その成形方法は特に限定されない。
　ガラス板１０は、互いに平行な２つの主平面１１、１２と、各主平面１１、１２に対して垂直な端面１３と、各主平面１１、１２と端面１３との間に形成される面取り面１５、１６とを有する。面取り面１５は主平面１１および端面１３に隣接し、面取り面１６は主平面１２および端面１３に隣接する。
　ガラス板１０は主平面１１、１２の中心面に対して左右対称に形成されており、面取り面１５、１６は略同じ寸法形状を有する。以下、一方の面取り面１６の説明を省略する。なお、本実施形態の面取り面１５、１６は、略同じ寸法形状を有するが、異なる寸法形状を有してもよい。また、いずれか一方の面取り面１５、１６がなくてもよい。
　主平面１１、１２は、例えば矩形状に形成されている。ここで、「矩形状」とは、正方形状や長方形状をいい、コーナ部分が丸みを帯びた形状を含む。なお、主平面１１、１２の形状に制限はなく、例えば三角形状などの多角形状であってもよいし、円形状や楕円形状などであってもよい。
　端面１３は、主平面１１、１２に対して垂直な面であって、平面視（板厚方向視）において主平面１１、１２よりも外方に位置する。端面１３と垂直な方向からの衝撃に対し良好な耐衝撃性が得られる。
　端面１３は、平坦面である。なお、端面１３は、主平面１１、１２に対して垂直な面である限り、曲面であってもよいし、平坦面と曲面の組合せで構成されてもよい。
　面取り面１５は、例えば矩形状の主平面１１の４辺に対応して４つ設けられてもよいし、１つのみ設けられてもよく、その設置数は特に限定されない。
　面取り面１５の形成方法としては、ガラス板１０の素板１０Ａの主平面１１Ａと端面１３Ａとの角部を除去して面取り部１７Ｂを形成後、面取り部１７Ｂなどを加工して形成する方法が例示される。先ず、面取り部１７Ｂについて説明する。
　面取り部１７Ｂは、面取り部１７Ｂに隣接する主平面１１Ｂに対して斜めの平坦面である。なお、本実施形態の面取り部１７Ｂは平坦面であるが、曲面であってもよい。曲面は、例えば円弧面、異なる曲率半径を有する複数の円弧面からなる弧面、または楕円弧面などであってよい。
　面取り部１７Ｂは、平面視（板厚方向視）において、主平面１１Ｂから端面１３Ｂにかけて外方に徐々に突出する。端面１３Ｂは主平面１１Ｂに対して垂直な面であって、面取り部１７Ｂに隣接する面である。
　面取り部１７Ｂと主平面１１Ｂとの境界部１９Ｂは、面取り加工の性質上、先細り状となる。同様に、面取り部１７Ｂと端面１３Ｂとの境界部２１Ｂは、面取り加工の性質上、先細り状となる。
　図２は、面取り部の形成方法の一例の説明図である。図２は、素板１０Ａと、素板１０Ａを研磨するシート２００とを示す。図２において、面取り部１７Ｂを２点鎖線で示す。
　面取り部１７Ｂは、素板１０Ａを砥粒付きのシート２００で研磨して形成される。シート２００は、基台２１０の固定面２１１に固定され、固定面２１１に沿った形状となる。固定面２１１は、例えば平坦面である。シート２００は固定面２１１と反対側の面に砥粒を含む。砥粒の種類は、例えばアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）や炭化ケイ素（ＳｉＣ）、ダイヤモンドである。砥粒の粒度は、研磨時の損傷を抑えるため、例えば＃１０００以上である。粒度が大きくなるほど、粒径が小さくなる。
　シート２００の砥粒を含む面に素板１０Ａを押し付けて摺動させることで、素板１０Ａが面取りされ、面取り部１７Ｂが形成される。研磨時に水などの冷却液が用いられてよい。
　なお、本実施形態のシート２００は基台２１０上に固定され、シート２００の砥粒を含む面に素板１０Ａを押し付けて摺動させるが、テンションをかけた状態のシート２００の砥粒を含む面を素板１０Ａに押し付けて摺動させてもよい。
　図３は、面取り部の形成方法の別の例の説明図である。図３は、素板１０Ａと、素板１０Ａを研削する回転砥石３００とを示す。図３において、面取り部１７Ｂおよび端面１３Ｂを２点鎖線で示す。
　面取り部１７Ｂおよび端面１３Ｂは、素板１０Ａの外周部を回転砥石３００で研削して形成される。回転砥石３００は、円盤状であって、外縁に沿って環状の研削溝３０１を有する。研削溝３０１の壁面は砥粒を含む。砥粒の種類は、例えばアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）や炭化ケイ素（ＳｉＣ）、ダイヤモンドである。砥粒の粒度（ＪＩＳ　Ｒ６００１：Abrasive Micro Grain Size）は、研削効率を高めるため、例えば＃３００～２０００である。
　回転砥石３００は、回転砥石３００の中心線を中心に回転されながら、素板１０Ａの外縁に沿って相対的に移動され、素板１０Ａの外縁部を研削溝３０１の壁面で研削する。研削時に水などの冷却液が用いられてよい。
　なお、面取り部の形成方法は、図２や図３に示す方法に限定されない。例えば、図２に示す方法と図３に示す方法とを組み合わせてもよく、図３に示す方法の後に図２に示す方法を実施してもよい。
　図１に示すように、面取り面１５は、面取り部１７Ｂと主平面１１Ｂとの境界部１９Ｂ、および面取り部１７Ｂと端面１３Ｂとの境界部２１Ｂをさらに曲面に面取りしてなる。曲面は、例えば円弧面、異なる曲率半径を有する複数の円弧面からなる弧面、または楕円弧面などであってよい。先細り状の境界部１９Ｂ、２１Ｂが丸みを帯びた曲面に加工されるので、ヘルツの接触応力（Hertzian contact stress）の理論に示されるように衝撃時に発生する応力が分散し、ガラス板１０の耐衝撃性が向上する。面取り面１５に衝撃が加わった際の割れの態様として、「衝撃を受けた面取り面１５を起点とする割れＡ」と、「衝撃を受けていない面取り面１６を起点とする割れＢ」の２種類があるが、本発明のガラス板１０は、前者の割れＡに対する耐衝撃性が向上する。
　面取り面１５は、境界部１９Ｂを曲面に面取りして形成される曲面部２３と、境界部２１Ｂを曲面に面取りして形成される湾曲部２５とを含む。
　曲面部２３は、平面視（板厚方向視）において、主平面１１から湾曲部２５側に向けて外方に徐々に突出する。同様に、湾曲部２５は、平面視において、曲面部２３側から端面１３に向けて外方に徐々に突出する。
　図４～図５は、曲面部および湾曲部の形成方法の一例の説明図である。図４は、面取り部１７Ｂが形成された板ガラス１０Ｂと、板ガラス１０Ｂを研磨するブラシ４００とを示す。図５は、板ガラス１０Ｂをブラシ４００で研磨している状態を拡大して示す。図５において、曲面部２３、湾曲部２５、および端面１３などを２点鎖線で示す。
　曲面部２３、湾曲部２５、および端面１３は、面取り部１７Ｂが形成された板ガラス１０Ｂをブラシ４００で研磨して形成される。ブラシ４００は、研磨効率を高めるため、板ガラス１０Ｂとスペーサ４１０とを交互に重ねて作製される積層体４２０を研磨してよい。
　各板ガラス１０Ｂは、図４に示すように、略同じ寸法形状を有し、積層方向視（図中、矢印Ｘ方向）において互いに外縁が重なるように積層されている。よって、各板ガラス１０Ｂの外縁部が均等に研磨される。
　各スペーサ４１０は、板ガラス１０Ｂよりも軟質の材料が用いられ、例えば、ポリプロピレン樹脂や発泡ウレタン樹脂などで構成される。
　各スペーサ４１０は、略同じ寸法形状を有する。各スペーサ４１０は、積層方向視（図中、矢印Ｘ方向視）において板ガラス１０Ｂの外縁よりも内側に配置され、板ガラス１０Ｂ同士の間に溝状の隙間４３０を形成する。
　ブラシ４００は、図４に示すようにロールブラシであって、積層体４２０の積層方向と平行な回転軸４０１、回転軸４０１に対して略垂直に保持されるブラシ毛４０２などで構成される。ブラシ４００は、回転軸４０１を中心に回転されながら、積層体４２０の外縁に沿って相対的に移動され、積層体４２０の外縁に向かって研磨材を含有するスラリーを吐出し、積層体４２０の外縁部をブラシ研磨する。研磨材としては、酸化セリウム、ジルコニアなどが用いられる。研磨材の平均粒径（Ｄ５０）は、例えば５μｍ以下であり、好ましくは２μｍ以下である。
　ブラシ４００は、チャンネルブラシであって、複数のブラシ毛４０２が植毛された長尺の部材（チャンネル）を回転軸４０１に螺旋状に巻き付けてなる。
　ブラシ毛４０２は、ポリアミドなどの樹脂で主に構成され、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）や炭化ケイ素（ＳｉＣ）、ダイヤモンドなどの研磨材を含んでもよい。ブラシ毛４０２は、線状に形成され、先細り状の先端部を有してもよい。
　隙間４３０の幅Ｗは、ブラシ毛４０２の最大直径Ａの１．２５倍以上（Ｗ≧１．２５×Ａ）である。そのため、図５に示すように、ブラシ毛４０２が隙間４３０内に滑らかに挿入され、板ガラス１０Ｂの主平面１１Ｂと面取り部１７Ｂとの境界部１９Ｂが曲面に面取りされる。このとき、面取り部１７Ｂと端面１３Ｂとの境界部２１Ｂも曲面に面取りされる。
　隙間４３０の幅Ｗは、好ましくは１．３３×Ａ以上、さらに好ましくは１．５×Ａ以上である。隙間４３０の幅Ｗは、ブラシ研磨の効率を向上するため、板ガラス１０Ｂの板厚よりも小さくてよい。
　ブラシ４００は、面取り部１７Ｂと主平面１１Ｂとの境界部１９Ｂをブラシ毛４０２の外周面で研磨し、曲面部２３を形成する。また、ブラシ４００は、面取り部１７Ｂと端面１３Ｂとの境界部２１Ｂをブラシ毛４０２の外周面で研磨し、湾曲部２５を形成する。曲面部２３および湾曲部２５の形成時に、面取り部１７Ｂの全体が丸みを帯びた曲面に研磨される。また、端面１３Ｂが研磨され図１に示す端面１３となる。
　図６～図９は、面取り面の形状寸法の説明図である。
　図６に示すように、端面１３および主平面１１に対して垂直な断面において、面取り面１５は、端面１３に対して垂直な方向における面取り幅Ｗが例えば２０μｍ以上となるように形成されている。
　面取り幅Ｗは、主平面１１に対する傾きが４５°の直線であって面取り面１５に１点で接する直線Ｌ２０と主平面１１の延長線Ｅ１１との交点Ｐ１と、主平面１１の延長線Ｅ１１と端面１３の延長線Ｅ１３との交点Ｐ２との間の距離として算出される。主平面１１に対する傾きは、主平面１１と平行な場合を０°とする。
　面取り幅Ｗが２０μｍ以上であると、直線Ｌ２０と垂直な方向からの衝撃に対し良好な耐衝撃性が得られ、４５°衝撃破壊強度（実施例参照）が高くなる。また、面取り幅Ｗの上限値は、特に限定されないが、例えばガラス板１０が板厚方向中心面に対して左右対称な形状の場合、ガラス板１０の板厚の１／２未満であればよい。面取り幅Ｗは、好ましくは４０μｍ以上である。
　図７に示すように、端面１３および主平面１１に対して垂直な断面において、面取り面１５は、主平面１１に対する傾きが１５°の直線Ｌ１０と接する接点Ｓ１０での曲率半径ｒ１が例えば２０～５００μｍとなるように形成される。
　接点Ｓ１０での曲率半径ｒ１は、接点Ｓ１０から直線Ｌ１０と平行な方向両側に１０μｍ離れた面取り面１５上の２点Ｓ１１、Ｓ１２と、接点Ｓ１０との３点を通る真円Ｃ１０の半径として算出される。
　接点Ｓ１０での曲率半径ｒ１が２０μｍ以上であると、面取り部１７Ｂと主平面１１Ｂとの境界部１９Ｂを曲面に面取りした効果が十分に得られる。また、曲率半径ｒ１が５００μｍ以下であると、曲面部２３と主平面１１との交わる部分が鋭くなるのを防止でき、この部分の耐衝撃性の低下が抑えられる。曲率半径ｒ１は、好ましくは４０～５００μｍである。
　図８に示すように、端面１３および主平面１１に対して垂直な断面において、面取り面１５は、主平面１１に対する傾きが４５°の直線Ｌ２０と接する接点Ｓ２０での曲率半径ｒ２が例えば曲率半径ｒ１よりも大きくなるよう形成される。
　接点Ｓ２０での曲率半径ｒ２は、接点Ｓ２０から直線Ｌ２０と平行な方向両側に１０μｍ離れた面取り面１５上の２点Ｓ２１、Ｓ２２と、接点Ｓ２０との３点を通る真円Ｃ２０の半径として算出される。
　接点Ｓ２０での曲率半径ｒ２が接点Ｓ１０での曲率半径ｒ１よりも大きいと、直線Ｌ２０と垂直な方向からの衝撃を受け止める面が広くなるので、４５°衝撃破壊強度（実施例参照）が高くなる。
　接点Ｓ２０での曲率半径ｒ２は、例えば５０μｍ以上であり、好ましくは７０μｍ以上である。
　図９に示すように、端面１３および主平面１１に対して垂直な断面において、面取り面１５は、主平面１１に対する傾きが７５°の直線Ｌ３０と接する接点Ｓ３０での曲率半径ｒ３が例えば２０～５００μｍとなるよう形成される。
　接点Ｓ３０での曲率半径ｒ３は、接点Ｓ３０から直線Ｌ３０と平行な方向両側に１０μｍ離れた面取り面１５上の２点Ｓ３１、Ｓ３２と、接点Ｓ３０との３点を通る真円Ｃ３０の半径として算出される。
　接点Ｓ３０での曲率半径ｒ３が２０μｍ以上であると、面取り部１７Ｂと端面１３Ｂとの境界部２１Ｂを曲面に面取りした効果が十分に得られる。また、曲率半径ｒ３が５００μｍ以下であると、湾曲部２５と端面１３との交わる部分が鋭くなるのを防止でき、この部分の耐衝撃性の低下が抑えられる。曲率半径ｒ３は、好ましくは４０～５００μｍである。
　図１０は、本発明の一実施形態の変形例によるガラス板の側面図である。図１０に示すガラス板１１０は、図１に示すガラス板１０と同様に、主平面１１１、１１２と、各主平面１１１、１１２に対して垂直な端面１１３と、各主平面１１１、１１２と端面１１３との間に形成される面取り面１１５、１１６とを有する。ガラス板１１０は、板厚方向中心面を基準に左右対称に形成されており、面取り面１１５、１１６同士が同じ寸法形状を有する。以下、一方の面取り面１１６の説明を一部省略する。
　なお、本実施形態の面取り面１１５、１１６同士は、同じ寸法形状を有するが、異なる寸法形状を有してもよい。また、いずれか一方の面取り面１１５、１１６がなくてもよい。
　面取り面１１５は、図１に示す面取り面１５と同様に、ガラス板１１０の素板１１０Ａの主平面１１１Ａと端面１１３Ａとの角部を除去して面取り部１１７Ｂを形成した後、面取り部１１７Ｂを加工してなる。
　面取り面１１５は、面取り部１１７Ｂに隣接する主平面１１１Ｂと面取り部１１７Ｂとの境界部１１９Ｂ、および面取り部１１７Ｂに隣接する端面１１３Ｂと面取り部１１７Ｂの境界部１２１Ｂをさらに曲面に面取りしてなる。先細り状の境界部１１９Ｂ、１２１Ｂが丸みを帯びた曲面に加工されるので、ヘルツの接触応力の理論に示されるように衝撃時に発生する応力が分散し、ガラス板１１０の耐衝撃性が向上する。
　面取り面１１５は、境界部１１９Ｂを曲面に面取りして形成される曲面部１２３と、境界部１２１Ｂを曲面に面取りして形成される湾曲部１２５とを含む。面取り面１１５は、曲面部１２３と湾曲部１２５との間に、主平面１１１に対して斜めの平坦部１２７をさらに有する。平坦部１２７と垂直な方向からの衝撃に対し良好な耐衝撃性が得られる。
　面取り面１１５の形成方法としては、例えば図２または図３に示す方法で面取り部１１７Ｂを形成した後、境界部１１９Ｂ、１２１Ｂのみをブラシで研磨する方法などがある。平坦部１２７は、曲面部１２３および湾曲部１２５の形成時に加工されずに残った面取り部１１７Ｂの一部で構成される。なお、平坦部１２７は、面取り部１１７Ｂを加工して形成されてもよい。
　以下の各例では、ガラス板として、モル％表示で、ＳｉＯ２：６４．２％、Ａｌ２Ｏ３：８．０％、ＭｇＯ：１０．５％、Ｎａ２Ｏ：１２．５％、Ｋ２Ｏ：４．０％、ＺｒＯ２：０．５％、ＣａＯ：０．１％、ＳｒＯ：０．１％、ＢａＯ：０．１％を含有し、化学強化層を有しないものを用いた。
　［例１］
　例１では、板厚０．８ｍｍの矩形状のガラス素板を図２に示す方法で研磨して面取り部を形成後、図４に示す方法で曲面部および湾曲部を形成して、衝撃破壊強度の試験片を作製した。試験片は、化学強化層を有さない。
　面取り部の形成に用いられるシートとしては、住友スリーエム社製３Ｍラッピングフィルムシート１μｍ（＃８０００）を用いた。また、曲面部及び湾曲部の形成に用いられるブラシとしては、ブラシ毛がポリアミド製のものを用いた。ブラシ毛の直径は０．２ｍｍであった。また、ブラシ研磨に用いる研磨材としては、平均粒径（Ｄ５０）２μｍの酸化セリウムを用いた。
　図１１は、衝撃試験機の説明図であって、衝撃試験機５００と、試験片６００とを示す。図１１において、衝撃子５０３が中立位置にある状態を実線で示し、衝撃子５０３が中立位置から持ち上げられた状態を１点鎖線で示す。
　試験片６００は、互いに平行な２つの主平面６０１、６０２と、各主平面６０１、６０２に対して垂直で平坦な端面６０３と、各主平面６０１、６０２と端面６０３との間に形成される面取り面６０５、６０６とを有する。この試験片６００は、両主平面６０１、６０２の中心面に対して左右対称に形成されており、面取り面６０５、６０６は略同一の寸法形状を有する。面取り面６０５、６０６は、図１に示す面取り面１５、１６と同様に構成されている。
　衝撃試験機５００は、水平に配置される回動軸５０１と、回動軸５０１から垂直に延びるロッド５０２と、ロッド５０２に同軸的に固定される円柱状の衝撃子５０３とを有する。衝撃子５０３は、試験片６００と接触する部分の曲率半径が２．５ｍｍで、質量９６ｇであり、ＳＳ材で構成される。衝撃子５０３は、回転軸５０１を中心に回動自在であり、ロッド５０２が鉛直になる中立位置から左右に回動自在である。
　衝撃試験機５００は、試験片６００の主平面６０１、６０２を鉛直面に対して所定の角度（θ＝４５°、またはθ＝３０°）で傾斜して支持する治具５０４を有する。治具５０４によって、試験片６００の面取り面６０６は、その長手方向が回転軸５０１と平行に配置される。
　衝撃試験は、図１１に２点鎖線で示すように、衝撃子５０３を中立位置から持ち上げ、重力で落として行う。衝撃子５０３は、重力によって回転軸５０１を中心に回転し、図１１に実線で示すように、中立位置で試験片６００（詳細には、下側の面取り面６０６）に衝突する。
　衝突時に試験片６００に印加される衝撃エネルギーは、ロッド５０２の質量（１６ｇ）および衝撃子５０３の質量（８０ｇ）、衝撃子５０３の重心５０５の持ち上げられる高さＨに基づいて算出される。
　その後、試験片６００にクラックが生じたか否かを目視で調べる。クラックが生じなかった場合、衝撃子５０３を持ち上げる高さＨを上げて、試験を繰り返し行う。試験の度に、衝撃子５０３の衝突位置を変える。クラックが発生したときの最大の衝撃エネルギーが、衝撃破壊強度（Ｊ）として記録される。
　衝撃子５０３が衝突する面取り面６０６の寸法形状（図６に示す面取り幅Ｗ、図７に示す曲率半径ｒ１、図８に示す曲率半径ｒ２、および図９に示す曲率変形ｒ３）は、衝撃試験後に試験片６００を切断し、切断面を顕微鏡で観察して測定した。
　評価の結果を表１に示す。表１において、「４５°衝撃破壊強度」とは、角度θが４５°の場合の衝撃破壊強度を意味する。また、「３０°衝撃破壊強度」とは、角度θが３０°の場合の衝撃破壊強度を意味する。
　［例２］
　例２では、面取り部を形成するための研磨時間を変えた以外は例１と同様にして試験片を作製し、試験片の衝撃破壊強度、および試験片の面取り面の寸法形状を測定した。評価の結果を表１に示す。
　［例３］
　例３では、面取り部を形成する方法として、図２に示す方法の代わりに、図３に示す方法を用いた以外は例１と同様にして試験片を作製し、試験片の衝撃破壊強度、および試験片の面取り面の寸法形状を測定した。評価の結果を表１に示す。
　［例４～例５］
　例４～例５では、面取り部を形成した後、曲面部および湾曲部を形成しなかった以外は例１と同様にして、試験片を作製した。従って、例４～例５の試験片の面取り面は、面取り部のみで構成され、主平面に対して斜めの平坦面であった。例４～例５では、面取り部を形成するための研磨時間を変えた。
　評価の結果を表１に示す。例４～例５では面取り面が平坦面であるため、曲率半径ｒ２が無限大である。また、主平面と面取り面との間ならびに面取り面と端面との間は、曲面部および湾曲部を持たない屈曲形状であるため、曲率半径ｒ１およびｒ３は０μｍとみなす。
　［例６］
　例６では、例１と同じガラス素板をそのまま試験片として用いた。この試験片は、互いに平行な２つの主平面と、各主平面に対して垂直な端面とを有し、面取り面を有さない。
　評価の結果を表１に示す。例６では面取り面がないため、面取り幅Ｗが０であり、曲率半径ｒ１～ｒ３に相当する値は存在しない。また、例６では面取り面がないため、衝撃子５０３は、下側の主平面と端面との角部に衝突し、衝撃破壊強度が著しく低かった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 　以上、ガラス板の実施形態等を説明したが、本発明は上記の実施形態等に限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形や改良が可能である。
　例えば、上記実施形態のガラス板１０は、化学強化層を有さないが、化学強化層を有してもよい。化学強化層（圧縮応力層）は、ガラス板をイオン交換用の処理液に浸漬して形成される。ガラス表面に含まれる小さなイオン半径のイオン（例えば、Ｌｉイオン、Ｎａイオン）が大きなイオン半径のイオン（例えば、Ｋイオン）に置換され、ガラス表面に表面から所定の深さで圧縮応力層が形成される。応力の釣り合いのため、引張応力層がガラス板の内部に形成される。化学強化したガラス、すなわち主表面に化学強化層（圧縮応力層）を有するガラスは高い強度や耐擦傷性（scratch resistance）を備える。そのため、本発明の形状のガラス板を化学強化することにより、割れにくく且つ傷つきにくくすることができる。したがって、スマートフォン、タブレットＰＣ、ＰＣモニタ、テレビなどのディスプレイを保護するカバーガラスとして好適に用いることができる。
　本出願は、２０１１年８月２９日に日本国特許庁に出願された特願２０１１－１８６４６１号に基づく優先権を主張するものであり、特願２０１１－１８６４６１号の全内容を本国際出願に援用する。
１０　ガラス板
１１、１２　主平面
１３　端面
１５、１６　面取り面
２３　曲面部
２５　湾曲部
１０Ａ　原板
１１Ａ、１２Ａ　主平面
１３Ａ　端面
１０Ｂ　板ガラス
１１Ｂ　主平面
１３Ｂ　端面
１７Ｂ　面取り部
１９Ｂ、２１Ｂ　境界部
１１０　ガラス板
１２７　平坦部

Claims (6)

  1. 　主平面と、該主平面に対して垂直な端面と、前記主平面と前記端面との間に形成され、前記主平面および前記端面に隣接する面取り面とを有するガラス板において、
    　前記主平面および前記端面に対して垂直な断面において、前記面取り面は、前記主平面に対する傾きが４５°の直線と接する接点での曲率半径が５０μｍ以上であり、且つ前記主平面に対する傾きが１５°の直線と接する接点での曲率半径が２０～５００μｍであるガラス板。
  2. 　前記面取り面は、前記端面に対して垂直な方向における面取り幅が２０～５００μｍとなるように形成される請求項１に記載のガラス板。
  3. 　前記主平面および前記端面に対して垂直な断面において、前記面取り面は、前記主平面に対する傾きが１５°の直線と接する接点での曲率半径をｒ１とし、前記主平面に対する傾きが４５°の直線と接する接点での曲率半径をｒ２とすると、ｒ２がｒ１以上となるように形成される請求項１または２に記載のガラス板。
  4. 　前記面取り面は、前記主平面に対して斜めの平坦部を有する請求項１～３のいずれか一項に記載のガラス板。
  5. 　前記主平面に化学強化層を有する請求項１～４のいずれか一項に記載のガラス板。
  6. 　ディスプレイのカバーガラスとして用いられることを特徴とする請求項１～５のいずれか一項に記載のガラス板。
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