WO2008053616A1 - Procédé pour recueillir un métal de valeur à partir de fragments d'ito - Google Patents

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indium
scrap
tin
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Yuichiro Shindo
Kouichi Takemoto
Original Assignee
Nippon Mining & Metals Co., Ltd.
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Definitions

  • the present invention relates to a used indium stannate (ITO) sputtering target or ITO scraps such as ITO scraps generated during production (in the present specification, these are collectively referred to as "IT o scrap”) ).
  • ITO indium stannate
  • ITO indium-tin oxide
  • Ring targets are widely used for transparent conductive thin films and gas sensors of liquid crystal display devices.
  • a thin film is formed on a substrate or the like using a thin film forming means by sputtering.
  • the thin film forming means by this sputtering method is an excellent method, if a transparent conductive thin film is formed using a sputtering target, for example, the target will be evenly consumed, and not! ,. A part of the target is consumed rapidly, and the force generally called the erosion part is consumed. The sputtering operation is continued until the erosion part is consumed and the backing plate supporting the target is exposed. Then, replace it with a new target! /
  • tin oxide (SnO) is contained at around 9.7 wt%.
  • a high-purity material is used for the ITO sputtering target material, and in particular, indium is expensive. Therefore, in general, the ability to recover indium from such scrap material, and simultaneously recovering tin. Has been done.
  • this indium recovery method a method combining wet purification such as an acid dissolution method, an ion exchange method, and a solvent extraction method has been used. For example, after cleaning and crushing ITO scrap, it is dissolved in hydrochloric acid and acid such as nitric acid, and hydrogen sulfide is passed through the solution to precipitate and remove impurities such as zinc, tin, lead, and copper as sulfides. In this method, ammonia is added to neutralize and recover as indium hydroxide.
  • indium hydroxide obtained by this method has poor filterability and takes a long time to operate, and indium hydroxide produced with a large amount of impurities such as Si and Al is produced depending on its neutralization and aging conditions. Since the particle size and particle size distribution fluctuated, there was a problem that the characteristics of the ITO target could not be stably maintained when manufacturing the ITO target thereafter.
  • ITO indium-containing scrap is dissolved with hydrochloric acid to form an indium chloride solution.
  • a sodium hydroxide aqueous solution is added to remove tin as hydroxy sodium hydroxide, and after the removal, a sodium hydroxide aqueous solution is further added to form indium hydroxide, which is filtered and filtered.
  • indium sulfate is used as indium sulfate, and this is used to obtain indium by electrowinning (see Patent Document 5). This is an effective method with a large purification effect, but the process is complicated! There are disadvantages.
  • There is a method of recovering indium which is a process, a process power of replacing and recovering indium with liquid zinc after removing the hydroxide and tin (see Patent Document 6).
  • This method is also an effective method with a large purification effect, but has the disadvantage that the process is complicated.
  • a scrap containing a sulfite-containing material floating on the molten metal indium is taken out and inserted into an atmospheric furnace, and after the furnace is evacuated, argon gas is introduced and heated to a predetermined temperature.
  • argon gas is introduced and heated to a predetermined temperature.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-290900
  • Patent Document 2 JP-A-8-41560
  • Patent Document 3 Japanese Patent Laid-Open No. 3-82720
  • Patent Document 4 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-169991
  • Patent Document 5 JP 2002-69684 A
  • Patent Document 6 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-69544
  • Patent Document 7 Japanese Patent Laid-Open No. 2002-241865
  • the present invention provides an indium monostannate oxide (ITO) sputtering. It is an object to provide a method for efficiently recovering indium from an ITO scrap such as an ITO target or an ITO scrap generated during production.
  • ITO indium monostannate oxide
  • the present invention provides a method for recovering valuable metals having the power of ITO scrap, characterized in that ITO scrap is electrolyzed as an anode and recovered as indium.
  • ITO scrap is electrolyzed as an anode and recovered as indium.
  • the electrolyte for recovering valuable metals from ITO scrap sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid solution, etc. are mainly used.
  • an electrolytic solution to which an electrolyte such as ammonium sulfate, ammonium nitrate, sodium chloride, sodium sulfate or the like is added can be used.
  • An alkaline solution electrolyte can also be used.
  • the current density which is not uniquely determined because it is scrap of scrap, etc., is selected and implemented according to the amount of scrap and the nature of the material.
  • the temperature of the electrolyte solution is usually a force within the range of 0 to 100 ° C, preferably 20 to 50 ° C.
  • the above-described method for recovering indium by electrolysis according to the present invention is an extremely simple method because only electrolysis is performed using ITO scrap as an anode. However, there is no example of adopting such a method in the prior art.
  • ITO scrap is further electrolyzed in an electrolytic cell partitioned with a diaphragm or an ion exchange membrane, and then the anolite is extracted and removed, and the tin contained in the anolyte is removed by a neutralization method or a substitution method.
  • the inolite from which tin has been removed can be electrolyzed again by placing it on the force sword side, and indium metal can be selectively recovered.
  • ITO electrolytic cell It is also possible to separately provide an ITO electrolytic cell and an indium recovery tank, and after dissolving ITO in the dissolution tank, indium can be recovered in the indium recovery tank.
  • Recovery methods include electrolysis and neutralization. -If it can be recovered from ITO as indium, it is easy to produce recycled ITO using this indium as a raw material.
  • the present invention includes all of these.
  • ITO Indium stannate
  • the present invention provides a method for easily recovering metal indium from an indium-containing scrap of an ITO target by electrolysis.
  • an acidic solution such as sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, etc.
  • ammonium sulfate, ammonium nitrate, sodium chloride, sodium sulfate, etc. are added to make the electrolyte. Can do.
  • a publicly known additive in order to increase current efficiency. In that case, the additive should not reduce the purity of the product! Is only a prerequisite.
  • electrolysis may be performed using ITO to be electrolyzed as an anode and using a corrosion-resistant electrode such as carbon as a cathode base plate. This avoids an increase or contamination of impurities in the anode.
  • the electrolytic bath is partitioned between the anode and the force sword with a diaphragm or anion exchange membrane, and after electrolysis, the anolyte is once extracted, and then tin (Sn) is removed from the anolyte and contains In.
  • the liquid to be added can be electrolyzed again on the force sword side, and indium can be electrodeposited on the cathode to recover metal indium.
  • In and Sn may be dissolved in an ITO electrolytic tank, and the solution may be extracted to remove Sn, and then recovered in an In recovery tank. Recovery methods include electrolysis and neutralization.
  • Sn can be removed by a neutralization method, a substitution method, a metastannic acid method, a hydrolysis method, or the like.
  • the neutralization method is to neutralize with an alkaline solution such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and ammonia when electrolyzing using an acidic bath, and when using an alkaline electrolytic bath, This can be achieved by neutralization with an acidic solution.
  • the replacement method can be achieved, for example, by replacing with indium sponge powder or the like.
  • the metastannic acid method can remove Sn as metastannic acid with nitric acid.
  • Sn 2+ is converted to Sn 4+ by adding an oxidizing agent such as air bubbling or HO to produce Sn (OH).
  • the electrolysis temperature is not particularly limited, but it is desirable to perform electrolysis by adjusting to 0 to LOO ° C. If the electrolysis temperature is less than 0 ° C, the current efficiency will decrease. Conversely, if the electrolysis temperature exceeds 100 ° C, the evaporation of the electrolyte will increase. Force More preferable electrolysis temperature is 20-50 ° C. It is.
  • the raw material was 2 kg of used scrap of ITO (indium tin oxide).
  • the components in this raw material were 9.7 wt% of tin oxide (SnO) and the remainder indium oxide (In 2 O 3). This raw material
  • Example 2 The same 2 kg of used scrap as in Example 1 was used as a raw material. This raw material was used as an anode, and electrolytic purification was performed in a nitric acid bath at a temperature of 20 ° C. and IN. The electrolysis conditions are as follows. As a result, Sn was removed by precipitation as metastannic acid. In was electrodeposited on the power sword side.
  • Example 3 The raw material was 2 kg of ITO (indium tin oxide) mill material. The components in this raw material were 9.7 wt% of acid tin (SnO) and the balance was indium oxide (In 2 O 3).
  • This raw material was used as an anode, and a force sword side and an anode side were separated by an anion exchange membrane, and electrolysis was performed in a sulfuric acid bath at a temperature of 30 ° C. and 4N.
  • the anolyte solution was extracted, neutralized with sodium hydroxide (NaOH), and adjusted to pH 2 to remove Sn in the anolyte as hydroxide.
  • NaOH sodium hydroxide
  • the liquid from which Sn was removed was put into the force sword side and electrolyzed again, and In was electrodeposited on the force sword.
  • Example 3 The same end material 2 kg as in Example 3 was used as a raw material. This raw material was used as an anode, and the power sword side and the anode side were separated by an anion exchange membrane, and electrolysis was performed in a bath in which ammonium sulfate 50 gZ L was added to sulfuric acid at a temperature of 20 ° C. and pH 2.
  • the anolyte liquid was extracted and air publishing converted the divalent ion of Sn into a tetravalent ion and precipitated it as a hydroxide by hydrolysis.
  • the In-containing liquid from which the hydroxide was removed was put into the force sword side and electrolyzed again, and In was electrodeposited on the force sword.
  • Example 2 The same 2 kg of used scrap as in Example 1 was used as a raw material. This raw material was used as an anode, and a force sword side and an anode side were separated by a diaphragm and electrolyzed in a hydrochloric acid bath at a temperature of 25 ° C. and 4N. Next, the anolyte solution was extracted, and by adding In sponge, Sn in the anolyte was deposited by substitution and removed.
  • Example 2 The same 2 kg of used scrap as in Example 1 was used as a raw material. This raw material was used as an anode, and the power sword side and anode side were separated by an anion exchange membrane, and electrolysis was performed in a bath in which ammonium nitrate 50 g ZL was added to nitric acid at a temperature of 25 ° C and IN. Next, the anolyte solution was extracted, and Sn was precipitated and removed as metastannic acid.
  • ITO indium tin oxide
  • ITO indium tin oxide
  • an oxidizing agent (HO) is added to the mixed solution of In and Sn to add Sn from Sn2 + to Sn + 4.
  • Electrolysis conditions such as current density and pH are arbitrarily changed according to the amount of components of InO and SnO
  • ITO should change the content of tin oxide (SnO) from 5wt% to 30wt%.
  • the present invention can be sufficiently applied even in such a case.
  • the present invention uses an indium stannate oxide (ITO) sputtering target or ITO scrap such as ITO scrap generated during production and electrolyzes it as an anode.
  • ITO indium stannate oxide

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Description

明 細 書
ITOスクラップからの有価金属の回収方法
技術分野
[0001] この発明は、使用済みインジウム 錫酸ィ匕物 (ITO)スパッタリングターゲット又は製 造時に発生する ITO端材等の ITOスクラップ (本願明細書においては、これらを「IT οスクラップ」と総称する）からの有価金属の回収方法に関する。
背景技術
[0002] 近年、インジウム—錫酸化物（In Ο— SnO ：—般に ITOと称呼されている）スパッタ
2 3 2
リングターゲットは液晶表示装置の透明導電性薄膜やガスセンサーなどに広く使用さ れているが、多くの場合スパッタリング法による薄膜形成手段を用いて基板等の上に 薄膜が形成されている。
このスパッタリング法による薄膜形成手段は優れた方法であるが、スパッタリングター ゲットを用いて、例えば透明導電性薄膜を形成していくと、該ターゲットは均一に消 耗して 、く訳ではな!/、。このターゲットの一部の消耗が激し 、部分を一般にェロージ ヨン部と呼んでいる力 このエロージョン部の消耗が進行し、ターゲットを支持するバッ キングプレートが剥き出しになる直前までスパッタリング操作を続行する。そして、そ の後は新し 、ターゲットと交換して！/、る。
したがって、使用済みのスパッタリングターゲットには多くの非エロージョン部、すな わち未使用のターゲット部分が残存することになり、これらは全てスクラップとなる。ま た、 ITOスパッタリングターゲットの製造時においても、端材ゃ研磨粉'切削粉カもス クラップが発生する。一般に、酸化錫 (SnO )が 9. 7wt%前後含有されているが、多
2
くは酸化インジウム (In O )である。
2 3
[0003] ITOスパッタリングターゲット材料には高純度材が使用されており、特にインジウム は価格も高いので、一般にこのようなスクラップ材からインジウムを回収すること力 そ してまた、同時に錫を回収することが行われている。このインジウム回収方法として、 従来酸溶解法、イオン交換法、溶媒抽出法などの湿式精製を組み合わせた方法が 用いられている。 例えば、 ITOスクラップを洗浄及び粉砕後、塩酸 '硝酸などの酸に溶解し、溶解液に 硫化水素を通して、亜鉛、錫、鉛、銅などの不純物を硫ィ匕物として沈殿除去した後、 これにアンモニアを加えて中和し、水酸化インジウムとして回収する方法である。 しかし、この方法によって得られた水酸化インジウムはろ過性が悪く操作に長時間を 要し、 Si、 Al等の不純物が多ぐまた生成する水酸化インジウムはその中和条件及び 熟成条件等により、粒径や粒度分布が変動するため、その後 ITOターゲットを製造 する際に、 ITOターゲットの特性を安定して維持できないという問題があった。
[0004] 以下に、従来技術とその利害得失を紹介する。
その一つとして、基板上に被着された ITO膜を電解液中で電気化学的反応により還 元させ、さらにこの還元された透明導電膜を電解液に溶解させる透明導電膜のエツ チング方法がある (特許文献 1参照)。但し、目的がマスクパターンを高精度で得る方 法であり、回収方法とは異なる技術である。
ITOからの有価金属を回収するための事前処理として、ノ ッキングプレートとの接 合に用いていた In系のロウ材に含まれる不純物を電解液中で分離する技術がある（ 特許文献 2参照)。しかし、これは ITO力 有価金属を回収する直接的な技術に関す るものではない。
[0005] 亜鉛精鍊工程の副産物として得られる中間物又は ITOスクラップからインジウムを回 収する際に、錫をハロゲンィ匕錫酸塩として分離した後、塩酸又は硝酸水溶液で還元 処理し、次いでこの水溶液の pHを 2〜5に調整して、鉄、亜鉛、銅、タリウム等の金属 イオンを還元し沈殿しにく!/ヽ物質とし、水溶液中のインジウム成分を分離する技術が 開示されている (特許文献 3参照)。この技術は精製工程が複雑で、精製効果もそれ ほど期待できな 、問題がある。
また、高純度インジウムの回収方法として、 ITOを塩酸で溶解し、これにアルカリをカロ えて PHが 0. 5〜4となるようにし、錫を水酸ィ匕物として除去し、次に硫ィ匕水素ガスを 吹き込み銅、鉛等の有害物を硫ィ匕物として除去し、次いでこの溶解液を用いて電解 によりインジウムメタルを電解採取する技術が開示されている（特許文献 4参照)。こ の技術も精製工程が複雑であるという問題がある。
[0006] ITOインジウム含有スクラップを塩酸で溶解して塩化インジウム溶液とし、この溶液に 水酸ィ匕ナトリウム水溶液を添加して錫を水酸ィ匕錫として除去し、除去後さらに水酸ィ匕 ナトリウム水溶液を添加して水酸化インジウムとして、これをろ過し、ろ過後の水酸ィ匕 インジウムを硫酸インジウムとし、これを用いて電解採取によりインジウムとする方法が ある (特許文献 5参照)。これは精製効果が大きく有効な方法であるが、工程が複雑 であると！/ヽぅ不利な点がある。
[0007] ITOインジウム含有スクラップを塩酸で溶解して塩化インジウム溶液とする工程、該 塩化インジウム溶液に水酸ィ匕ナトリウム水溶液を添加してスクラップ中に含有する錫 を水酸ィ匕錫として除去する工程、該水酸ィ匕錫を除去した後液力 亜鉛によりインジゥ ムを置換、回収する工程力 なるインジウムの回収方法がある（特許文献 6参照)。こ の方法も、精製効果が大きく有効な方法であるが、工程が複雑であるという不利な点 がある。
[0008] 溶融金属インジウムの上に浮上する亜酸ィ匕物含有铸造スクラップを取り出して雰囲 気炉に挿入し、一度炉を真空にした後、アルゴンガスを導入し、所定温度に加熱して 亜酸ィ匕物含有铸造スクラップを還元する金属インジウムの回収方法を開示する（特許 文献 7参照)。
これ自体は有効な方法である力 ITOスクラップの基本的な回収方法ではな ヽと 、う 欠点がある。
以上から、効率的かつ回収工程に汎用性がある方法が求められて 、る。
[0009] 特許文献 1：特開昭 62— 290900号公報
特許文献 2：特開平 8— 41560号公報
特許文献 3：特開平 3— 82720号公報
特許文献 4：特開 2000— 169991号公報
特許文献 5 :特開 2002— 69684号公報
特許文献 6：特開 2002— 69544号公報
特許文献 7 :特開 2002— 241865号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0010] 本発明は、上記の問題を解決するために、インジウム一錫酸ィ匕物 (ITO)スパッタリ ングターゲット又は製造時に発生する ITO端材等の ITOスクラップから、インジウムを 効率良く回収する方法を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0011] 本発明は、 ITOスクラップをアノードとして電解することにより、インジウムとして回収 することを特徴とする ITOスクラップ力もの有価金属の回収方法を提供する。 ITOスク ラップから有価金属を回収する場合の電解液として、主として硫酸、塩酸、硝酸溶液 等を使用する。また、必要に応じて硫酸アンモ-ゥム、硝酸アンモ-ゥム、塩化ナトリ ゥム、硫酸ナトリウム等の電解質を添加した電解液を使用することができる。また、ァ ルカリ性溶液の電解質を使用することもできる。これらの電解質溶液は、特に制限さ れるものではなぐ効率的に回収できる条件を任意に選択することができる。
端材等のスクラップであるために一義的に決められるものではなぐ電流密度はその 端材の量や材料の性質に応じて適宜選択して実施する。電解質溶液の液温は、通 常 0〜100° Cの範囲とする力 好ましくは 20〜50° Cの範囲とする。
[0012] 以上の本発明の電解によるインジウムの回収方法は、 ITOスクラップをアノードとし て電解するだけなので、極めて簡便な方法である。しかし、従来技術でこのような手 法を採用した例はない。
本発明は、さらに隔膜又はイオン交換膜で仕切った電解槽で ITOスクラップを電解 し、次にァノライトをー且抜き出し、これを中和法又は置換法等によりァノライトに含ま れる錫を除去し、この錫を除去したァノライトを再度力ソード側に入れて電解し、金属 インジウムを選択的に回収することができる。
[0013] ITOの電解槽とインジウム回収槽とを別々に設け、溶解槽で ITOを溶解した後、ィ ンジゥム回収槽で、インジウムを回収することもできる。回収方法としては、電解法、 中和法等がある。ー且、 ITOから、インジウムとして回収することができれば、このイン ジゥムを原料として、再生 ITOを製造することも容易である。本願発明はこれらを全て 包含する。
発明の効果
[0014] インジウム 錫酸ィ匕物 (ITO)スノッタリングターゲット又は製造時に発生する ITO端 材等の ITOスクラップを使用し、これをアノードとして電解するだけなので、極めて簡 便にインジウムを効率良く回収することができるという優れた方法である。 発明の実施の形態
[0015] 本発明は、 ITOターゲットのインジウム含有スクラップから、電解により、簡便に金属 インジウムを回収する方法を提供するものである。
電解液としては、硫酸、塩酸、硝酸等の酸性溶液を使用することができ、さらに硫酸 アンモ-ゥム、硝酸アンモ-ゥム、塩ィ匕ナトリウム、硫酸ナトリウム等を添加して電解質 とすることができる。この他に、電流効率を上げるために、一般に知られている公知の 添加材を使用することも可能である。その場合は、添加剤が製品の純度を低下させ な！、ことが前提となるだけである。
また、電解することが可能であれば、本願発明の目的を達成することができるので、 アルカリ性の電解液を使用することも可能である。本願発明は、これらを包含する。
[0016] 電解装置として特別なものは必要としない。例えば電解する ITOをアノードとし、カソ ード母板としてカーボン等の耐蝕性の電極を用いて電解すれば良い。これ〖こよって、 アノード中の不純物の増加又は混入を避けることができる。
金属インジウムを単独に得るためには、アノードと力ソードを隔膜又は陰イオン交換 膜で電解浴槽を仕切り、電解した後ァノライトを一旦抜き出し、この後ァノライトから錫 (Sn)を除去し、 Inを含有する液を再度力ソード側に入れて電解し、インジウムをカソ 一ドに電着させて金属インジウムを回収することができる。また、 ITOの電解槽で In, Snを溶解し、その液を抜き出して Snを除去した後、 In回収槽で回収しても良い。回 収方法は、電解法、中和法等がある。
[0017] ァノライトから錫（Sn)を除去する方法としては、中和法、置換法、メタスズ酸法、加水 分解法等により Snを除去することができる。中和法は、酸性浴を使用して電解した場 合には、水酸化ナトリウム、水酸ィ匕カリウム、アンモニア等のアルカリ性の液で中和し 、アルカリ性の電解浴を使用した場合には、酸性液で中和することで達成できる。置 換法は、例えばインジウムスポンジ粉末等を用いて置換することにより達成できる。メ タスズ酸法は硝酸により Snをメタスズ酸として除去できる。加水分解法は、空気バブリ ング又は H O等の酸化剤を添加することによって Sn2+を Sn4+とし、 Sn (OH) を生
2 2 4 成させること〖こより達成することができる。中和法、置換法、メタスズ酸法、加水分解法 もすでに公知の方法を採用することができ、特にこれらを用いることに制限はない。 この場合、若干の Snがァノライト中に残存することもあるが、この Sn自体も高純度で あるので、このようにして得た Inを回収して ITOを再生する場合には、このようにして 得た材料中の Sn量を分析し、その量を把握してさらに Sn量を調整して、所定の ITO を作製することができる。
[0018] 電流密度は原料の種類により、適宜に調整することが望ましい。この場合に調整す る要素は、生産効率のみである。また、電解温度も特に制限はないが、 0〜： LOO° C に調整して電解することが望ましい。電解温度 0° C未満であると電流効率が低下す ること、逆に電解温度が 100° Cを超えると電解液の蒸発が多くなるということである 力 より好ましい電解温度は 20〜50° Cである。
実施例
[0019] 次に、実施例について説明する。なお、本実施例は発明の一例を示すためのもの であり、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。すなわち、本発明の技 術思想に含まれる他の態様及び変形を含むものである。
[0020] (実施例 1)
ITO (酸化インジウム一酸化錫）の使用済スクラップ 2kgを原料とした。この原料中の 成分は酸化錫（SnO )が 9. 7wt%、残部酸化インジウム (In O )であった。この原料
2 2 3
をアノードとし、温度 20° C、 pH2の硝酸浴中で電解を行った。この結果、 Snはメタ 錫酸として沈殿除去された。 Inは力ソード側に電着した。
これによつて、 ITO (酸化インジウム—酸ィ匕錫）の端材から、約 1. 40kgの Inを回収 することができた。
[0021] (実施例 2)
実施例 1と同じ使用済スクラップ 2kgを原料とした。この原料をアノードとし、温度： 20 ° C、 INの硝酸浴中で電解精製を行った。電解条件は次の通りである。この結果、 S nはメタスズ酸として沈殿除去された。 Inは力ソード側に電着した。
これによつて、 ITO (酸化インジウム—酸ィ匕錫）の端材から、約 1. 30kgの Inを回収 することができた。
[0022] (実施例 3) ITO (酸化インジウム一酸化錫)の端材 2kgを原料とした。この原料中の成分は酸ィ匕 錫（SnO )が 9. 7wt%、残部酸化インジウム（In O )であった。
2 2 3
この原料をアノードとし、陰イオン交換膜で力ソード側とアノード側を区切り、温度 30 ° C、 4Nの硫酸浴中で電解した。次に、ァノライトの液を抜き出して水酸ィ匕ナトリウム (NaOH)で中和し、 pH2とすることにより、ァノライト中の Snを水酸ィ匕物として除去し た。この Snを除去した液を力ソード側に入れて再度電解し、 Inを力ソードに電着させ た。
これによつて、 Sn含有量の低い Inを得ることができた。これによつて、 ITO (酸化イン ジゥム—酸ィ匕錫）の端材から、約 1. 35kgの金属 Inを回収することができた。
[0023] (実施例 4)
実施例 3と同じ端材 2kgを原料とした。この原料をアノードとし、陰イオン交換膜で力 ソード側とアノード側を区切り、温度 20° C、 pH2の硫酸に硫酸アンモ-ゥム 50gZ Lを添加した浴中で電解した。
次に、ァノライトの液を抜き出し、空気パブリングにより、 Snの 2価のイオンを 4価のィ オンとし、加水分解により水酸化物として沈殿させた。この水酸化物を除去した In含 有液を力ソード側に入れて再度電解し、 Inを力ソードに電着させた。
これによつて、 Sn含有量の低い Inを得ることができた。以上により、 ITO (酸化インジ ゥム一酸ィ匕錫)の端材から、約 1. 4kgの金属 Inを回収することができた。
[0024] (実施例 5)
実施例 1と同じ使用済スクラップ 2kgを原料とした。この原料をアノードとし、隔膜で力 ソード側とアノード側を区切り、温度 25° C、 4Nの塩酸浴中で電解した。次に、ァノラ イトの液を抜き出して、 Inスポンジを添加することにより、ァノライト中の Snを置換析出 し除去した。
この Snを除去した液を力ソード側に入れて再度電解し、 Inを力ソードに電着させた。 これによつて、 Sn含有量の低い Inを得ることができた。これによつて、 ITO (酸化イン ジゥム一酸ィ匕錫)の端材から、約 1. 4kgの金属 Inを回収することができた。
なお、電解浴として塩酸浴中に塩ィ匕ナトリウムを添加した場合も同様の結果が得ら [0025] (実施例 6)
実施例 1と同じ使用済スクラップ 2kgを原料とした。この原料をアノードとし、陰イオン 交換膜で力ソード側とアノード側を区切り、温度 25° C、 INの硝酸に硝酸アンモ-ゥ ム 50gZLを添加した浴中で電解した。次に、ァノライトの液を抜き出しが、 Snはメタ 錫酸として沈殿させ除去した。
この Snを除去した In含有液を力ソード側に入れて再度電解し、 Inを力ソードに電着 させた。これによつて、 Sn含有量の低い Inを得ることができた。
以上により、 ITO (酸化インジウム—酸ィ匕錫）の端材から、約 1. 4kgの金属 Inを回収 することができた。
[0026] (実施例 7)
溶解槽のアノードボックス側に、 ITO (酸化インジウム一酸化錫）のスクラップ 2kgを 入れ 3Nの硫酸溶液により溶解し、 In、 Snの混合溶液を作製した。この原料中の成分 は酸ィ匕錫（SnO )が 9. 7wt%、残部酸化インジウム (In O )であった。力ソードボック
2 2 3
ス側は同様に 3Nの硫酸溶液であり、この力ソードに電着しないように、陰イオン交換 膜で仕切った。
次に、 In、 Snの混合溶液を pH2に調整し、 Snを水酸ィ匕物として除去した。 Snを除 去した In含有溶液を回収槽で電解し Inを得た。これによつて、 ITO (酸化インジウム —酸ィ匕錫)スクラップから、約 1. 45kgの金属 Inを回収することができた。
[0027] (実施例 8)
溶解槽のアノードボックス側に、 ITO (酸化インジウム一酸化錫）のスクラップ 2kgを 入れ 3Nの硫酸溶液により溶解し、 In、 Snの混合溶液を作製した。この原料中の成分 は酸ィ匕錫（SnO )が 9. 7wt%、残部酸化インジウム (In O )であった。力ソードボック
2 2 3
ス側は同様に 3Nの硫酸溶液であり、この力ソードに電着しないように、陰イオン交換 膜で仕切った。
次に、 In、 Snの混合溶液に酸化剤 (H O )を入れて Snを Sn2+から Sn+4として加水
2 2
分解させて、 Snを水酸ィ匕物として除去した。この液を回収槽に入れて、電解により約 1. 4kgの Inを回収した。
[0028] 上記の実施例においては、いずれも酸ィ匕錫（SnO )が 9. 7wt%、残部酸化インジ ゥム (In O )である ITO (酸化インジウム 酸ィ匕錫)端材又はスクラップを使用したが
2 3
、 In O及び SnOの成分量に応じて、電流密度、 pH等の電解条件を任意に変える
2 3 2
ことが可能であり、この原料の成分量に特に制限される必要がないことは言うまでもな い。特に、 ITOは酸化錫（SnO )の含有量を 5wt%〜30wt%まで、変化させること
2
があるが、このような場合でも、本発明は十分に適用できる。
また、 ITOにさらに少量の副成分を添加したものもある力 基本的に ITOが基本成 分であれば、本願発明は、これらにも適用できることは言うまでもない。
産業上の利用可能性
本発明は、インジウム 錫酸ィ匕物 (ITO)スパッタリングターゲット又は製造時に発生 する ITO端材等の ITOスクラップを使用し、これをアノードとして電解するだけなので 、極めて簡便に高純度の金属インジウムを効率良く回収することができるの、高価な インジウムを再利用する点で、大きな産業上の利点がある。

Claims

請求の範囲
[1] ITOスクラップをアノードとして電解することにより、インジウムとして回収することを 特徴とする ΙΤΟスクラップからの有価金属の回収方法。
[2] 隔膜又はイオン交換膜で仕切った電解槽で ΙΤΟスクラップを電解し、次にァノライト を一旦抜き出し、ァノライトに含まれる錫を除去して、再度力ソード側に入れて電解し
、金属インジウムを選択的に回収することを特徴とする請求項 1記載の ΙΤΟスクラップ からの有価金属の回収方法。
[3] ΙΤΟの電解槽とインジウム回収槽とを設け、電解槽で ΙΤΟを溶解した後、インジウム 回収槽でインジウムを回収することを特徴とする ΙΤΟスクラップ力 の有価金属の回 収方法。
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