200921303 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於在半導體、液晶、印刷配 零件的製造過程所進行的光阻剝離步驟’其 理含有光阻成分的光阻剝離液一邊進行光阻· 【先前技術】 半導體、液晶、印刷配線基板等電子 驟，係包含Si晶圓、玻璃表面層合有半導 等上，形成光阻或只稱爲光阻之感光性包覆 光罩而照射光等之照射步驟，以及經過使用 要的光阻溶解之顯像步驟後，剝離殘存的光 驟，於上述剝離步驟中，爲了剝離光阻膜， 剝離液。 近年，伴隨電子零件的細微化，一般係 可溶於顯像液之稱爲正型者，作爲光阻，其 型容易對應細微的圖型形狀。所以，作爲其 使用N-甲基-2-吡咯烷酮（NMP )、二甲基5 或如胺類爲限之有機溶劑。使用如此的光阻 設置於基板上之光阻膜從基板剝離，移至光I 對於溶解光阻膜之機制有幾種說法，有 光阻膜完全分離成低分子量成分而溶解的情 離液膨脹的光阻膜變成小片，分散於剝離液 以後這些統稱爲光阻朝剝離液之溶解，移至 線基板等電子 係關於一邊處 剝離之系統。 零件的製造步 體薄膜之基板 膜，通過圖型 顯像液而使不 阻膜之剝離步 一般使用光阻 以感光的部分 原因在於比負 剝離液，一般 5 楓（DMSO) 剝離液時，使 狙剝離液中。 藉由剝離液使 況、被光阻剝 中的情況等， 剝離液中之光 -4- 200921303 阻稱爲光阻成分。 已知剝離液中的光阻成分濃度，通常即使0.1〜5質 量％程度的少量’會使新的光阻膜之剝離速度顯著下降。 因此，一般進行一定量的光阻剝離後，藉由進行剝離液的 全部或一部分溶液的交換，以保持剝離速度在一定的範圍 內。但是，於該方法，因每次交換剝離液時，產生多量的 廢液或需要使用多量的新液，新液的購入、廢液的處理花 費巨額費用，對環境也有不良影響的問題。 剝離液中，使用單乙醇胺等的有機胺之稱爲胺系剝離 液爲代表之鹼性剝離液，因溶解的光阻成分與胺形成鹽， 對光阻成分的溶解量，光阻剝離速度的下降有較小的傾 向，因胺的臭氣、胺在化學上不安定，有剝離液本身的分 解快的問題。因此，最近不含胺等的鹼性成分之稱爲非胺 系剝離劑受到注意。但是，非胺系剝離劑，因溶解於剝離 液之光阻成分而使光阻剝離速度的下降的傾向顯著，爲了 維持剝離速度，有溶液的交換費用特別大的問題。 對於以上的問題，嘗試藉由處理含有光阻成分的光阻 剝離液再利用，使廢液的量減少。例如專利文獻1中，揭 露藉由劃分分子量100〜1 5 00之奈米過濾膜，可過濾減少 以含有烷醇胺的剝離液剝離光阻後之溶解於廢液中的光阻 成分。作爲具有如此的劃分分子量之奈米過濾膜，普通爲 專利文獻1的具體例所列之以有機物質爲主成分之膜，作 爲有機系的膜之缺點例如，因耐壓性低，難以加壓使過濾 速度提高，因剝離液的成分而膨脹、容易劣化、耐熱性低 -5- 200921303 等。最初有機系奈米過濾膜係用於人工透析、上層水的 '淨 化等之超過濾的派生物，即使於水系中具有充分強度'安 定性，對有機溶劑仍有容易引起劣化等的問題。 於專利文獻1的段落號碼[0018]，揭露上述奈米過濾 膜中，劃分分子量超過1 500的膜，無法除去溶解於剝離 液中的光阻。而且，於專利文獻2的段落號碼[〇〇12] ’揭 露具有約 0.04〜2μιη的平均細孔尺寸之如氧化鋁、氧化 锆、碳化矽、氮化矽、碳等的陶瓷過濾器，以及具有約 0.01〜Ιμπι的平均細孔尺寸之如莫特金屬（Mottmetal)的 金屬過濾器，又如由氟聚合物所製作的耐溶劑性聚合物膜 等，作爲耐溶劑性過濾器，但如劃分分子量低於1 500的 可捕捉細微分子程度之具有小的細孔且具有充分的流出速 度者，尙未實用化。 [專利文獻1]特開2003 - 1 673 5 8號公報 [專利文獻2]特開平05 -2 5 3 40 8號公報 【發明內容】 [發明所欲解決之課題] 對於藉由剝離液之正型光阻的剝離，剝離液中光阻成 分濃度上升時，因對新的光阻膜之剝離速度有影響，進行 光阻剝離者必需頻繁地交換剝離液。本發明所欲解決之課 題’在於可實現即使不交換剝離液而持續長時間進行剝 離’使光阻剝離所使用的剝離液中之光阻成分的濃度在一 定的濃度範圍內之系統。 -6- 200921303 [解決課題之手段] 本發明人發現藉由剝離液進行正型光阻的剝離時’溶 解於剝離液中之光阻成分’藉由特定的陶瓷過濾器進行錯 流過濾而可減少。然後’含有在剝離步驟所發生的光阻成 分之剝離液，藉由過濾步驟處理’使溶解的光阻成分濃度 被濃縮之濃縮剝離液適當地排出系統外，於光阻成分被除 去的處理剝離液中，適當添加剝離液的新液之剝離液，再 於剝離步驟使用，因而完成光阻剝離系統。 [發明的效果] 藉由將本發明應用於液晶基板、半導體等的光阻剝 離，不發生多量的新液之使用、多量的廢液，經長時間可 一邊保持溶解於剝離液中的光阻成分濃度在一定的範圍 內，一邊進行光阻剝離。藉此，以低價減少環境的負擔， 可實現保持安定品質的光阻剝離。 【實施方式】 於本發明可利用之全部量爲1 0 0質量％的情況下含有 8 0質量％以上的有機化合物之光阻剝離液，稱爲含有胺或 鹼之胺系的類型或不含胺、鹼而以pH檢測顯示9以下之 稱爲非胺系者中的任一種，可含有小於2 0質量％的水。作 爲胺系’可使用含有烷醇胺的一般有機系剝離液的任一 種。作爲烷醇胺的具體例，例如單乙醇胺、單異丙醇胺、 -7- 200921303 2- ( 2-胺基乙氧基）乙醇、N-甲基乙醇胺等，特別理想爲 單乙醇胺。可單獨使用1種或複數種的胺混合物或混合其 他有機溶劑、水等使用，也可添加安定劑、腐飩防止劑 等。所謂有機溶劑，係指常溫下爲液體具有溶解其他物質 的能力之有機化合物的總稱。 作爲非胺系剝離液，可使用如碳酸酯、二甲基亞颯、 院基啦略院酮、二院基碾、院基乙醯胺、環丁楓、垸基丁 內酯之非揮發性的極性溶劑。此處，所謂非揮發性，係指 25°C下蒸氣壓爲0.67kPa以下，所謂極性溶劑係指SP値爲 8以上。這些之中，較理想者爲由N-甲基-2-吡咯烷酮、 N -乙基-2-吡咯烷酮 '二甲基亞颯所成群1中的〗種單獨 使用的情況，或由N-甲基-2-吡咯烷酮、N-乙基-2-吡咯烷 酮、二甲基亞碾、Ν,Ν-二甲基甲醯胺、Ν,Ν-二甲基乙醯 胺、γ-丁內酯、環丁颯、碳酸乙烯酯或碳酸丙烯酯所成群 2中同時選擇複數的化合物的情況，作爲該混合剝離液， 特別理想爲含有20質量％以上的Ν-甲基-2-吡咯烷酮或Ν-乙基-2 -吡咯烷酮之混合剝離液。此外，Ν -甲基-2 -吡咯烷 酮與Ν-乙基-2-吡咯烷酮皆爲環狀醯胺，不是胺類。 作爲這些非胺系剝離液，可使用與水、烷醇、烷醇醚 所成群3中的至少1種混合者較理想，於該情況下，群3 的化合物之混合比例爲4 0質量％以下較理想，而關於水’ 以未達全部的2 0質量％較理想。 剝離液的ρ Η係根據JI S - Κ 8 0 0 1「試藥測試方法通 則」之5 · 5 ’採用剝離液1 〇 g，添加不含二氧化碳的水’ -8- 200921303 成爲100毫升，***玻璃電極而進行測定者。而且，混合 液分離成2層的情況下，將玻璃電極***水層部而測定 pH。胺系剝離液的pH比9大。而於非胺系剝離液，pH必 需在9以下，因pH太小者會對金屬腐蝕，較理想爲4以 上9以下，再者較理想爲5以上8.5以下。 本發明所使用之可藉由光阻剝離液可剝離之光阻，因 稱爲正型光阻，在基板上形成膜狀後，在曝光步驟感光的 部分接觸顯像液時，變成可溶種類的物質。沒有感光的光 阻膜，顯像後殘留於基板上，在顯像後的電子零件製造步 驟，作爲保護基板表面的作用後，藉由剝離步驟使其從基 板上剝離。作爲正型光阻，例如可藉由使鹼可溶性樹脂與 由聚羥基二苯基酮的二疊氮基萘醌磺酸酯所成的感光劑溶 解於有機溶劑而製造。作爲鹼可溶性樹脂，例如含有苯酚 漆用酚醛樹脂及/或甲酚漆用酚醛樹脂之酚醛樹脂、聚乙 烯基苯酚等，作爲感光劑，例如1，2-萘醌二疊氮基-5-磺酸 化合物、1，2-萘醌二疊氮基-4-磺酸化合物與聚羥基芳香族 化合物所得之酯類等。作爲有機溶劑，例如乙酸丁酯、乳 酸乙酯等酯類、乙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸 酯等的二醇醚乙酸酯類、甲苯、二甲苯等芳香族烴、甲基 乙基酮、環己酮等酮類等。該正型光阻係以旋轉塗佈機、 滾輪塗佈機等塗佈成適當厚度，進行一般稱爲預烤之事前 加熱後，以曝光•顯像步驟而圖型化。預烤的條件，較理 想爲80°C以上未達140°C之溫度下加熱2分鐘以上30分鐘 以下的範圍。 -9- 200921303 除此之外一般已知的全部正型光阻，可實施本發明。 關於本發明的重要構成之過濾器，係由陶瓷成形體所 構成之陶瓷多孔體，可使上述剝離液通過者皆可使用。過 濾器的平均細孔徑小、劃分分子量太小者，其阻止率高’ 因含有光阻成分的剝離液變得難以通過過濾器，而無法得 到充分的過濾速度。而且，過瀘器的平均細孔徑大、劃分 分子量太大者，因阻止率變低，通過過濾器的過濾液，亦 即處理剝離液中的光阻成分濃度變高，無法使處理剝離液 中的光阻成分濃度充分下降。於本發明，由數1式所定義 之平均細孔徑D爲3nm以上5nm以下，特別是4nm以上 5 nm以下，劃分分子量爲1500至4000，特別是2000至 4000者，從所謂阻止率與過濾速度的平衡之觀點特別良 好，於胺系剝離液，平均細孔徑D爲2nm以上4nm以 下，劃分分子量爲1000至2000者特別理想。於胺系剝離 液，因光阻成分的分子量變得更小，較理想的平均細孔徑 也比非胺系者小。
<數1 > 平均細孔徑D = 4V/A 假設細孔爲圓筒形時，全部細孔的體積（V = tiD2L/4 ) 除以全部細孔的表面積（A= kDL )之値（D = 4V/A )定義 爲平均細孔徑。此處，V爲全部細孔的體積之合計値，L 爲平均細孔深度，任一者都可以水銀壓入式細孔分佈形進 行測定。 -10- 200921303 劃分分子量係使用已知分子量的聚乙二醇，定義「以 該膜可阻止90%以上之聚乙二醇（水溶液）之最小分子 量」以達爾頓（Dalton )表示者。 上述過濾器的材質’可爲氧化鋁、氧化銷、氧化鈦、 富鋁紅柱石（mullite )、堇青石（cordierite )、碳化矽、 氧化矽等一般的陶瓷’可使用此等陶瓷的任一種，其中加 工容易、機械強度、化學安定性佳的較理想者爲α_氧化 鋁、氧化锆、氧化鈦等。此等陶瓷可單獨或混合，也可塗 佈於不同種類的骨架的表面，於該用途，更加理想者爲（X-氧化鋁的骨架塗佈氧化鈦者。於該情況，只要最表面包覆 氧化鈦，無關其塗層厚度，同樣可得較理想者。 上述過濾器的形狀，可使用平板型、管型、螺旋型等 的任一種較理想。而且，爲了提高耐壓性，過濾器可與其 他材質的支撐件接觸。以過濾器進行過濾時，特別是過濾 器的劃分分子量小的情況等，賦予壓差，可使過濾速度變 大。於本發明，施以0.1 MPa以上3MPa以下的壓差進行 過濾較理想，又較理想爲 0.2 Μ P a以上 2 Μ P a以下。而 且’該所謂「壓差」係指挾夾過濾器的過濾面之過濾前的 液體（於本發明爲含有光阻成分的剝離液）側的壓力與過 濾後的液體（於本發明爲處理剝離液）側的壓力之差。 使用過濾器過濾的方法雖有許多種，於本發明爲係爲 錯流過濾（cross flow filtering )。於錯流過濾，與過濾 器面平行的方向上，因流過含有光阻成分的剝離液，具有 所謂可防止析出•堆積過濾器上無法被過濾之光阻成分成 -11 - 200921303 爲厚餅之長處。由該原理，可流過過濾器上之 過濾器面平行的方向上期望維持一定以上的流 流速，隨加於剝離液之壓力、剝離液的組成、 化，於本發明的系統，與過濾器面平行之方向 流速沒有 0.1 m/s以上時，容易引起孔堵塞 時，因能量的損失變大，上限爲20m/s，又較 m/s至10 m/s之間。而且，含有光阻成分的剝 濾器流出的速度，亦即過濾液流出速度爲3 L/h 理想。更理想爲6L/h . m2以上，更加理想爲1 上。[單位爲1小時通過每過濾器的過濾面積 體量。]過濾液流出速度大者較理想的理由爲 面積之過濾器可處理更多量的液體，較爲經濟 根據本發明，藉由上述的錯流過濾，可得 止率在70%以上之過濾液（處理剝離液）。阻 2的式定義。亦即例如在第一步驟（光阻剝離 解2質量％的光阻成分，來到第二步驟之剝離 分濃度，在通過過濾器後，變成光阻成分濃度 以下的處理剝離液，因此其殘渣側的剝離液的 度變高而成爲濃縮剝離液。 <數2 > 阻止率=[(過濾前剝離液的光 -透過過濾器的剝離液之光阻成分濃度）/過 的光阻成分濃度]X 1 〇 〇 (%) 剝離液，與 速。最佳的 溫度等而變 的剝離液的 *太過局速 理想爲〇.5 離液通過過 • m2以上較 1L/h · m2 以 (m2)之液 ，以較少的 〇 過瀘器之阻 止率係由數 步驟），溶 液的光阻成 0.6質量％ 光阻成分濃 阻成分濃度 濾前剝離液 -12- 200921303 若不交換剝離液而重複進行剝離-再生，則剝離液全 體的光阻成分濃度變高。通過過濾器的剝離液’亦即處理 剝離液的光阻成分濃度達到2質量％時’若阻止率在70% 以上，由數2的式，過爐前含有光阻成分的光阻成分濃度 變高爲約6.7質量％以上。於該情況，如第三步驟’於處 理剝離液側加入剝離液新液，且如第四步驟，藉由將濃縮 剝離液再度供應予第二步驟前每一定時間排出系統外或以 一定流速排出系統外，連續光阻的剝離所使用之剝離液中 的光阻成分濃度可經常地抑制在2質量％以下的濃度。光 阻成分濃度超過2質量％時，光阻剝離速度過份下降，另 一方面，爲了使光阻成分濃度接近於〇，必須加入多量的 剝離液新液。因此，處理剝離液中較理想的光阻成分濃度 爲0.01質量％以上2質量％以下，更理想爲0.05質量％以 上1.0質量％以下。 此外，上述一定時間及一定流速，係以光阻剝離液中 的光阻成分濃度在2質量％以下爲限，無特別限制，例如 一定時間可爲〇 · 1〜3 0 0小時，特別是 1〜1 〇小時，一定 流速係使存在系統之全部剝離液的量之0.1 %在1小時排 出至1 0%在1小時排出之流速，特別是全部剝離液的量之 0 · 5 %在1小時排出至5 %在1小時排出之流速。 剝離液中的光阻成分濃度，一般係根據加熱乾燥殘留 的部分進行測定’在如本發明的連續裝置必須知道即時濃 度的情況’可適當應用介電率、導電度等的電性測定、折 射率、紅外線透過率等的光學測定。藉由此等方法使所得 -13- 200921303 的剝離液中的光阻成分濃度反映系統中剝離液新液的添加 速度、濃縮剝離液的排出速度、過濾壓力、錯流流速等， 而使剝離液中的光阻成分濃度連續保持在上述較理想的範 圍，可持續進行光阻剝離。 [實施例] 以下，舉出實施例及比較例，更詳細地說明本發明， 但本發明不限於此等。此外，％係爲質量％，PPm係爲質 量ppm，份係爲質量份。 本發明的實施例，可以圖1所示的光阻剝離系統實 施。圖1係具備使用3個剝離槽所構成的第一步驟（光阻 剝離步驟）、與使用濃縮剝離液循環用槽以及陶瓷過濾器 等所構成之第二步驟（過濾步驟）之系統。將附有光阻膜 之基板供應予剝離槽1的沖洗部，接著供應予剝離槽2及 剝離槽3，共3次，受到由各剝離槽循環的剝離液之噴 灑，使光阻膜剝離。在剝離槽1〜3所使用的光阻剝離 液，被分別儲備於各剝離槽1〜3。積存於剝離槽3之剝離 液因溢流而移轉至剝離槽2，積存於剝離槽2之剝離液因 溢流而移轉至剝離槽1，積存於剝離槽1之剝離液因溢流 而移轉至濃縮剝離液循環用槽。移送至濃縮剝離液循環用 槽之剝離液，係溶解比較高濃度的光阻成分，介由第二步 驟的陶瓷過濾器而進行錯流過濾。通過陶瓷過濾器的處理 剝離液，成爲只有光阻成分對應阻止率的部分被除去之處 理剝離液，直接供應予剝離槽3。如此因持續剝離與錯流 -14- 200921303 過濾的循環，而使濃縮剝離液的光阻成分濃度變高。然 後，伴隨濃縮剝離液的排出、光阻剝離後的基板取出而排 出系統外以及蒸發等的理由，因裝置內的全部剝離液的量 之減少，藉由將未使用的剝離液新液供應予適當處理剝離 液（實際上爲剝離槽3的剝離液）之第三步驟，以及以一 定速度或頻率將光阻成分濃度高之濃縮剝離液，再度供應 予第二步驟前，排出系統外之第四步驟，而調節全部液體 量，且可使剝離液中的光阻成分濃度在2質量％以下。此 外，以下的實施例與比較例中，運轉開始時全部剝離液量 爲900公升。 <實施例1 > 使甲酚漆用酚醛樹脂1 〇〇份中加入二疊氮基萘醌25 份之正型光阻塗佈於玻璃基板上，使其乾燥’製作附有 5 μηι厚度的光阻膜之玻璃基板。於圖1的光阻剝離裝置 中，設置表1所示的組成之光阻剝離液，使用平均細孔徑 4nm、以聚乙烯醇測定之劃分分子量爲2000的氧化鋁骨架 施以氧化鈦塗層之面積1 · 2m2的管型陶瓷過濾器’作爲過 濾器。在過濾器面上之與過濾器面平行之方向的濃縮剝離 液的流速爲2m/s，過濾後的處理剝離液側的流速’不進行 控制而任其自然流出。而且，過濾器的含有光阻成分的剝 離液側，對處理剝離液側而言成爲〇· 1 MPa的加壓’設定 朝過濾步驟之泵浦流入壓力。亦即，壓差成爲0 · 1 MPa ° 然後，上述附有光阻膜之玻璃基板，接連不斷地投入光阻 -15- 200921303 剝離裝置，以液溫40 °C進行光阻剝離。此時，由圖1之含 有光阻的剝離液與圖1之處理剝離液的光阻成分濃度，根 據數2的式計算阻止率。而且，採用表1的組成之光阻剝 離液l〇g，加入不含二氧化碳的水而成爲100毫升均勻的 混合液，其pH以玻璃電極式PH計測定時爲8.0。 剝離液中的光阻成分濃度係由圖1的剝離槽1〜3的 剝離液取樣，於1 5 0 °C、以1小時進行真空乾燥，測定乾 燥殘留成分，作爲剝離液中的光阻成分濃度。 <表1>剝離液的組成 成分名 組成(質量％) N-甲基-2-吡咯烷酮 50 碳酸乙烯酯 50 <表2>實施例1的剝離槽內的光阻 成分濃度 運轉時間 0分 100分 1000 分 2000 分 3000 分 阳1卜率⑼） 85 86 87 87 剝離槽1濃度 0 0.07 0.36 0.48 0.57 剝離槽2濃度 0 0.05 0.05 0.12 0.21 剝離槽3濃度 0 0.0 0.0 0.10 0.18 過瀘液流出速度(L/h · m2) 16 15 11 11 11 (光阻濃度的單位爲質量％) 基於附有光阻膜的玻璃基板之處理量所計算之朝剝離 液的光阻成分之溶入速度爲1.39g/分，附著於基板而排出 系統外之剝離液的實測値爲56g/分，以及濃縮剝離液的排 出速度爲0.3 kg/分的狀態下，使系統內的剝離液的量不增 減而一邊追加剝離液新液一邊繼續剝離製程時，1 0 0分鐘 -16- 200921303 後，含有光阻成分的剝離液之光阻成分濃度有慢慢增加的 傾向，在1 〇 〇分鐘後〜3 0 0 0分鐘之間，剝離槽1〜3的全 部槽內的値，如表2所示在2 %以下。此外，於運轉〇分 鐘，因含有光阻成分的剝離液與處理剝離液的光阻成分濃 度相同爲〇，不計算阻止率。 <實施例2 > 除使用相同材質、平均細孔徑2nm、劃分分子量爲 1 〇〇〇之陶瓷過濾器作爲過濾器外，以與實施例1相同的運 轉方法，進行光阻剝離。 <表3 >實施例2的剝離槽內的光阻 成分濃度 運轉時間 〇分 100分 1000 分 2000 分 3000 分 阻止率(％) 92 92 92 92 剝離槽1濃度 0 0.07 0.36 0.46 0.53 剝離槽2濃度 0 0.001 0.04 0.10 0.16 剝離槽3濃度 0 0.0 0.02 0.07 0.12 過濾液流出速度(L/h . m1 2) 6 6 3 3 3 (光阻濃度的單位爲質量％) 1 0 0分鐘後，含有光阻成分的剝離液之光阻成分濃度 有慢慢增加的傾向’在1 〇 〇分鐘後〜3 0 0 0分鐘之間，剝離 槽1〜3的全部槽內的値，如表3所示在2 %以下的範圍 2 內。與實施例1比較’因劃分分子量較小’通過過爐器之 光阻成分的絕對量變少’以錯流運轉，由數2的式之阻止 率的値變大。而且，雖在過濾器的過濾液流出速度變小’ 但阻止率的値變大，而認爲含有光阻成分的剝離液中光阻 -17- 200921303 成分濃度變得少許下降。 <實施例3 > 除使用相同材質、平均細孔徑5nm、劃分分子量爲 4 0 0 0之陶瓷過濾器作爲過濾器外，以與實施例1相同的運 轉方法，進行光阻剝離。 〈表4 >實施例3的剝離槽內的光阻成分濃度 運轉時間 0分 100分 1000 分 2000 分 3000 分 阻止率(％) 71 72 72 72 剝離槽1濃度 0 1.9 1.8 1.8 1.8 剝離槽2濃度 0 1.6 1.5 1.5 1.5 剝離槽3濃度 0 1.4 1.3 1.3 1.3 過濾液流出速度(L/h · m2) 22 20 18 18 18 (光阻濃度的單位爲質量％) 1 00分鐘後，含有光阻成分的剝離液之光阻成分濃度 幾乎變成一定，在100分鐘後〜3000分鐘之間，剝離槽1 〜3的全部槽內的値，如表4所示，雖比實施例1的量 多，但在2%以下。與實施例1比較，因劃分分子量較 大，通過過濾器之光阻成分的絕對量變多，以錯流運轉， 由數2的式之阻止率的値變小。而且，雖在過濾器的過濾 液流出速度變大，但阻止率的値變小，而認爲含有光阻成 分的剝離液中光阻成分濃度變高。 <實施例4 > 除使在過濾器面上之與過濾器面平行之方向的剝離液 -18- 200921303 的流速爲8m/s’壓差爲0.4MPa外，以與富施例1相同的 運轉方法，進行光阻剝離。 <表5>實施例4的剝離槽內的光阻成分濃度 運轉時間 0分 100分 1000 分 2000 分 3000 分 阻止率(％) 85 85 87 87 剝離槽1濃度 0 0.07 0.38 0.49 0.58 剝離槽2濃度 0 0.05 0.05 0.13 0.21 剝離槽3濃度 0 0.0 0.03 0.10 0.17 過濾液流出速度(L/h · m2) 18 16 13 13 13 (光阻濃度的單位爲質量％) 1 00分鐘後’含有光阻成分的剝離液之光阻成分濃度 有慢慢增加的傾向’在1 0 0分鐘後〜3 0 0 0分鐘之間，剝離 槽1〜3的全部槽內的値’如表5所示與實施例1幾乎相 同的値’在2%以下。而且，因使用與實施例1相同的過 濾器，以錯流運轉，由數2的式之阻止率的値與實施例1 幾乎相同。再者’與實施例1比較，因剝離液的流速增 加、壓差變大，過濾液流出速度變大，只要流速及壓差都 在較理想的範圍內，含有光阻成分的剝離液中光阻成分濃 度沒有大的影響。 <實施例5 > 除光阻剝離液的組成如表6所示外，以與實施例1相 同的運轉方法，進行光阻剝離。而且，採用剝離液1 0g， 加入不含二氧化碳的水而成爲1 00毫升均勻的混合液，其 pH以玻璃電極式PH計測定時爲1 1 .6。 -19- 200921303 <表6 >剝離液的組成 成分名 組成(質量％) N-甲基-2-吡咯烷酮 50 單乙醇胺 50 〈表7〉實施例5的剝離槽內的光阻成分濃度 運轉時間 0分 100分 1000 分 2000 分 3000 分 阻止率(％) 73 74 74 74 剝離槽1濃度 0 1.8 1.7 1.7 1.7 剝離槽2濃度 0 1.4 1.3 1.3 1.3 剝離槽3濃度 0 1.3 1.2 1.2 1.2 過濾液流出速度(L/h · m2) 8 8 7 6 6 (光阻濃度的單位爲質量％) 與實施例1比較，雖然阻止率下降，阻止率仍在70% 以上，而且，與實施例1比較，含有光阻成分的剝離液中 光阻成分濃度雖高，但在2%以下的條件，可繼續進行光 阻剝離。 <實施例6 > 除使用相同材質、平均細孔徑2nm、劃分分子量爲 1 〇〇〇之陶瓷過濾器作爲過濾器外，以與實施例5相同的運 轉方法，進行光阻剝離。 -20- 200921303 <表8>實施例6的剝離槽內的光阻 成分濃度 運轉時間 0分 100分 1000 分 2000 分 3000 分 阻止率(％) 76 77 78 79 剝離槽1濃度 0 1.0 1.0 1.2 1.3 剝離槽2濃度 0 0.8 0.8 1.0 1.1 剝離槽3濃度 0 0.6 0.6 0.7 1.0 過濾液流出速度(L/h · m2) 5 4 3 3 3 (光阻濃度的單位爲質量％) 與實施例5比較，因劃分分子量較小，通過過濾器之 光阻成分的絕對量變少，阻止率的値變大。而且，雖在過 濾器的過濾液流出速度變小，但阻止率的値變大，而認爲 含有光阻成分的剝離液中光阻成分濃度變得少許下降。 <實施例7 > 於實施例7，測試因溶解於剝離液之光阻成分濃度之 光阻剝離速度。表1或表6的組成之光阻剝離液，在槽中 於40°C下保溫，使實施例1所使用的附有光阻膜之玻璃基 板浸漬，以目視觀察光阻膜消失的時間作爲光阻膜的剝離 時間，由光阻膜厚而決定剝離速度。重複該測試，對剝離 液中的光阻成分濃度求出剝離速度，結果收集於表9。 <表9>實施例7之因光阻成分濃度之剝離速度 光阻成分濃度/% 0 0.5 1.0 2.5 5.0 剝離液組成 剝 離速度(μιη/分） 表1 60 60 20 <5 <5 表6 60 60 30 10 <5 -21 - 200921303 表6的胺系剝離液，比表1之非胺系剝離液，較難受 到溶解的光阻成分的影響，但濃度超過2%時，光阻剝離 速度都顯示急遽下降。 <比較例1 > 除使用相同材質、平均細孔徑1 nm、劃分分子量爲 7 0 0之陶瓷過濾器作爲過濾器外，以與實施例1相同的運 轉方法，進行光阻剝離。 <表1〇>比較例1的剝離槽內的光PJ 誠分濃虔 運轉時間 〇分 100分 1000 分 2000 分 3000 分 阴〖卜銮(％) 97 97 97 97 剝離槽1濃度 0 1.3 2.1 2.8 3.1 剝離槽2濃度 0 1.2 2.0 2.6 2.9 剝離槽3濃度 0 1.1 1.8 2.4 2.7 過濾液流出速度(L/h . m2) 2 1 0.5 0.5 0.4 (光阻濃度的單位爲質量％) 因劃分分子量太小，在發明的範圍外，與實施例1比 較，阻止率變大。但是，因過濾液流出速度極小，含有光 阻成分的剝離液中光阻成分濃度急遽變高，超過2 %。 <比較例2 > 除使用相同材質、平均細孔徑 1 Onm、劃分分子量爲 1 0000之陶瓷過濾器作爲過濾器外，以與實施例1相同的 運轉方法，進行光阻剝離。 -22- 200921303 <表11 >比較例2的剝離槽內的光PJ 诚分濃度 運轉時間 0分 100分 1000 分 2000 分 3000 分 阻止率(％) 45 47 47 48 剝離槽1濃度 0 2.9 2.8 2.8 2.8 剝離槽2濃度 0 2.5 2.4 2.4 2.4 剝離槽3濃度 0 2.4 2.3 2.3 2.3 過瀘液流出速度(L/h · m2) 28 27 25 25 25 (光阻濃度的單位爲質量％) 因劃分分子量太大，在發明的範圍外，與實施例1比 較，雖然過濾液流出速度變大，但阻止率變得非常小，含 有光阻成分的剝離液中光阻成分濃度變高，超過2%。 <比較例3 > 除使用劃分分子量爲2000之聚醯胺過濾器作爲過濾 器外，以與實施例1相同的運轉方法，進行光阻剝離。 但是，因係爲有機系過濾器，運轉開始後5分鐘，無 法施以濃縮剝離液管線與處理剝離液管線的壓差，而分解 奈米過濾器時，發現中空系變大膨脹而破裂，失去過濾功 能。 [產業上的利用可能性] 藉由本發明的光阻剝離液之連續使用系統，可減少半 導體、液晶、印刷配線基板等的電子零件的製造過程之剝 離液的交換頻率，可減少廢液量、剝離液新液的使用量， 可使電子零件的製造效率增加、減少製造成本。 -23- 200921303 【圖式簡單說明】 圖1係爲本發明之連續使用光阻剝離液之光阻剝離裝 置的槪念圖。 【主要元件符號說明】 1 :剝離槽1 2 :剝離槽2 3 :剝離槽3 4 :濃縮剝離液的循環用槽 5 :奈米過濾器 6 :附有光阻的基板 7 :附有光阻的基板之投入方向 8 :藉由剝離液噴灑之光阻剝離 9 :光阻剝離後基板的取出 1 〇 :濃縮剝離液 1 1 :處理剝離液 1 2 :濃縮剝離液的一部分排出 1 3 :剝離液新液的補充 -24-