JP2003167358A - レジスト剥離廃液の再生装置及び再生方法 - Google Patents
レジスト剥離廃液の再生装置及び再生方法Info
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 レジスト剥離廃液の再生時におけるアルカノ
ールアミン及び有機溶媒の供給量を十分低減できるレジ
スト剥離廃液の再生装置及び方法を提供すること。 【解決手段】 本発明は、レジスト剥離廃液を再生しレ
ジスト剥離再生液を得るレジスト剥離廃液の再生装置で
あって、分画分子量１００〜１５００の膜を有しレジス
ト剥離廃液を上記膜を用いて濃縮液と透過液に分離する
膜分離装置７、透過液を貯留し、アルカノールアミン、
有機溶媒の濃度を調整する調整槽１７、調整槽１７にア
ルカノールアミンを供給する手段１８、調整槽１７に有
機溶媒を供給する手段２２を備える。この場合、レジス
ト剥離廃液中のレジストが膜を透過できず、透過液中の
レジスト濃度は十分に低減される。従って、レジスト濃
度を希釈する必要性が低くなり、調整槽１７へのアルカ
ノールアミン、有機溶媒の供給量を十分低減できる。
ールアミン及び有機溶媒の供給量を十分低減できるレジ
スト剥離廃液の再生装置及び方法を提供すること。 【解決手段】 本発明は、レジスト剥離廃液を再生しレ
ジスト剥離再生液を得るレジスト剥離廃液の再生装置で
あって、分画分子量１００〜１５００の膜を有しレジス
ト剥離廃液を上記膜を用いて濃縮液と透過液に分離する
膜分離装置７、透過液を貯留し、アルカノールアミン、
有機溶媒の濃度を調整する調整槽１７、調整槽１７にア
ルカノールアミンを供給する手段１８、調整槽１７に有
機溶媒を供給する手段２２を備える。この場合、レジス
ト剥離廃液中のレジストが膜を透過できず、透過液中の
レジスト濃度は十分に低減される。従って、レジスト濃
度を希釈する必要性が低くなり、調整槽１７へのアルカ
ノールアミン、有機溶媒の供給量を十分低減できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体、液晶、プ
リント基板等の電子部品の製造過程で発生するレジスト
剥離廃液の再生装置及び再生方法に関する。
リント基板等の電子部品の製造過程で発生するレジスト
剥離廃液の再生装置及び再生方法に関する。
【０００２】
【従来技術】半導体、液晶、プリント基板等の電子部品
の製造工程には、Ｓｉウエハー等の基板上にネガ型又は
ポジ型のフォトレジストの被膜を形成する被膜形成工程
と、パターンマスクを通して光等を照射する照射工程
と、現像液を用いて不要のフォトレジストを溶解する溶
解工程と、エッチング等の処理を行うエッチング工程
と、基板上のレジスト膜を剥離する剥離工程が含まれて
おり、上記剥離工程においては、レジスト膜を剥離する
ためにレジスト剥離液が用いられる。このレジスト剥離
液は一般に、有機溶媒、アルカノールアミン及び水など
で構成され、かかるレジスト剥離液を用いると、基板上
に設けられたレジスト膜がレジスト剥離液中に溶解して
基板から剥離され、溶解レジストを含むレジスト剥離廃
液が得られる。
の製造工程には、Ｓｉウエハー等の基板上にネガ型又は
ポジ型のフォトレジストの被膜を形成する被膜形成工程
と、パターンマスクを通して光等を照射する照射工程
と、現像液を用いて不要のフォトレジストを溶解する溶
解工程と、エッチング等の処理を行うエッチング工程
と、基板上のレジスト膜を剥離する剥離工程が含まれて
おり、上記剥離工程においては、レジスト膜を剥離する
ためにレジスト剥離液が用いられる。このレジスト剥離
液は一般に、有機溶媒、アルカノールアミン及び水など
で構成され、かかるレジスト剥離液を用いると、基板上
に設けられたレジスト膜がレジスト剥離液中に溶解して
基板から剥離され、溶解レジストを含むレジスト剥離廃
液が得られる。
【０００３】このようなレジスト剥離廃液を再生する方
法として、従来、特許第２６０２１７９号公報に開示さ
れる方法が知られている。この再生方法は、レジスト剥
離廃液を濃度調整槽に貯留し、濃度調整槽からレジスト
剥離廃液を抜き出し、レジスト剥離廃液中の有機溶媒、
アルカノールアミン、溶解レジストの濃度を吸光光度計
で測定し、測定された濃度に基づき、有機溶媒及びアル
カノールアミンを濃度調整槽に供給することにより、有
機溶媒、アルカノールアミン及び溶解レジストの濃度を
調整し、レジスト剥離廃液を再生するものである。
法として、従来、特許第２６０２１７９号公報に開示さ
れる方法が知られている。この再生方法は、レジスト剥
離廃液を濃度調整槽に貯留し、濃度調整槽からレジスト
剥離廃液を抜き出し、レジスト剥離廃液中の有機溶媒、
アルカノールアミン、溶解レジストの濃度を吸光光度計
で測定し、測定された濃度に基づき、有機溶媒及びアル
カノールアミンを濃度調整槽に供給することにより、有
機溶媒、アルカノールアミン及び溶解レジストの濃度を
調整し、レジスト剥離廃液を再生するものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来の公報に記載の再生方法は、以下に示す課題を有
する。
た従来の公報に記載の再生方法は、以下に示す課題を有
する。
【０００５】即ち上記再生方法においては、レジスト剥
離廃液から溶解レジストが除去されず、そのため、レジ
スト剥離廃液の再生にあたっては、溶解レジスト濃度を
十分に希釈してレジスト濃度を調整する必要がある。そ
のため、濃度調整槽に有機溶媒及びアルカノールアミン
を大量に供給する必要があり、これに伴って、濃度調整
槽から多量の廃液が排出される。この廃液は通常、燃焼
処分され、これに伴って大気中にＣＯ2が放出される
が、上述したように、濃度調整槽からは廃液が大量に排
出されるため、大気中に放出されるＣＯ2量も多くな
り、地球温暖化防止の観点からは、好ましいとは言えな
かった。
離廃液から溶解レジストが除去されず、そのため、レジ
スト剥離廃液の再生にあたっては、溶解レジスト濃度を
十分に希釈してレジスト濃度を調整する必要がある。そ
のため、濃度調整槽に有機溶媒及びアルカノールアミン
を大量に供給する必要があり、これに伴って、濃度調整
槽から多量の廃液が排出される。この廃液は通常、燃焼
処分され、これに伴って大気中にＣＯ2が放出される
が、上述したように、濃度調整槽からは廃液が大量に排
出されるため、大気中に放出されるＣＯ2量も多くな
り、地球温暖化防止の観点からは、好ましいとは言えな
かった。
【０００６】また、上記再生方法では、多量の有機溶媒
及びアルカノールアミンが濃度調整槽に供給されるた
め、多大なランニングコストがかかる。
及びアルカノールアミンが濃度調整槽に供給されるた
め、多大なランニングコストがかかる。
【０００７】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、レジスト剥離廃液の再生時におけるアルカノー
ルアミン及び有機溶媒の供給量を十分に低減できるレジ
スト剥離廃液の再生装置及び再生方法を提供することを
目的とする。
であり、レジスト剥離廃液の再生時におけるアルカノー
ルアミン及び有機溶媒の供給量を十分に低減できるレジ
スト剥離廃液の再生装置及び再生方法を提供することを
目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、レジスト剥離廃液を再生してレジスト剥
離再生液を得るレジスト剥離廃液の再生装置であって、
分画分子量１００〜１５００の膜を有し、レジスト剥離
廃液を、上記膜を用いて濃縮液と透過液とに分離する膜
分離装置と、透過液を貯留し、透過液中のアルカノール
アミン及び有機溶媒の濃度を調整するための濃度調整槽
と、濃度調整槽にアルカノールアミンを供給するアルカ
ノールアミン供給手段と、濃度調整槽に有機溶媒を供給
する有機溶媒供給手段とを備えることを特徴とする。
め、本発明は、レジスト剥離廃液を再生してレジスト剥
離再生液を得るレジスト剥離廃液の再生装置であって、
分画分子量１００〜１５００の膜を有し、レジスト剥離
廃液を、上記膜を用いて濃縮液と透過液とに分離する膜
分離装置と、透過液を貯留し、透過液中のアルカノール
アミン及び有機溶媒の濃度を調整するための濃度調整槽
と、濃度調整槽にアルカノールアミンを供給するアルカ
ノールアミン供給手段と、濃度調整槽に有機溶媒を供給
する有機溶媒供給手段とを備えることを特徴とする。
【０００９】この発明によれば、レジスト剥離廃液が、
膜分離装置において、膜により濃縮液と透過液とに分離
され、透過液は濃度調整槽に貯留される。そして、濃度
調整槽には、アルカノールアミン供給手段によりアルカ
ノールアミンが供給され、有機溶媒供給手段により有機
溶媒が供給される。こうして濃度調整槽においてアルカ
ノールアミン及び有機溶媒の濃度調整が行われる。この
とき、膜分離装置においては、膜として分画分子量が１
００〜１５００のものが用いられるため、レジスト剥離
廃液中に含まれているレジストが膜を透過できず、透過
液中のレジスト濃度は十分に低減されることとなる。従
って、濃度調整槽においてレジスト濃度を希釈する必要
性が低くなり、濃度調整槽へのアルカノールアミン及び
有機溶媒の供給量を十分に低減できる。また、透過液に
含まれるレジスト濃度が十分に低減されているため、レ
ジスト剥離廃液を、もとのレジスト剥離液とほぼ同等の
状態に再生することができる。なお、上記膜は、例えば
ナノフィルトレーション膜である。
膜分離装置において、膜により濃縮液と透過液とに分離
され、透過液は濃度調整槽に貯留される。そして、濃度
調整槽には、アルカノールアミン供給手段によりアルカ
ノールアミンが供給され、有機溶媒供給手段により有機
溶媒が供給される。こうして濃度調整槽においてアルカ
ノールアミン及び有機溶媒の濃度調整が行われる。この
とき、膜分離装置においては、膜として分画分子量が１
００〜１５００のものが用いられるため、レジスト剥離
廃液中に含まれているレジストが膜を透過できず、透過
液中のレジスト濃度は十分に低減されることとなる。従
って、濃度調整槽においてレジスト濃度を希釈する必要
性が低くなり、濃度調整槽へのアルカノールアミン及び
有機溶媒の供給量を十分に低減できる。また、透過液に
含まれるレジスト濃度が十分に低減されているため、レ
ジスト剥離廃液を、もとのレジスト剥離液とほぼ同等の
状態に再生することができる。なお、上記膜は、例えば
ナノフィルトレーション膜である。
【００１０】上記再生装置において、上記膜で分離され
る濃縮液を膜分離装置の上流側に返送する返送手段を更
に備えることが好ましい。
る濃縮液を膜分離装置の上流側に返送する返送手段を更
に備えることが好ましい。
【００１１】この場合、膜分離装置の膜で分離される濃
縮液が、返送手段により膜分離装置の上流側に返送され
るため、レジスト剥離廃液を循環させながら濾過するこ
とが可能となる。このため、アルカノールアミン及び有
機溶媒が廃棄されることなく、有効に利用される。従っ
て、膜分離装置で分離された濃縮液を廃棄処分する場合
に比べて、濃度調整槽へのアルカノールアミン及び有機
溶媒の供給量をより十分に低減できる。
縮液が、返送手段により膜分離装置の上流側に返送され
るため、レジスト剥離廃液を循環させながら濾過するこ
とが可能となる。このため、アルカノールアミン及び有
機溶媒が廃棄されることなく、有効に利用される。従っ
て、膜分離装置で分離された濃縮液を廃棄処分する場合
に比べて、濃度調整槽へのアルカノールアミン及び有機
溶媒の供給量をより十分に低減できる。
【００１２】また、本発明は、アルカノールアミン、有
機溶媒およびレジストを含有するレジスト剥離廃液を再
生するレジスト剥離廃液の再生方法であって、分画分子
量１００〜１５００の膜を用いて、前記レジスト剥離廃
液を濃縮液と透過液とに分離する膜分離工程と、透過液
にアルカノールアミン及び／又は有機溶媒を供給して透
過液の濃度調整を行う濃度調整工程とを含むことを特徴
とする。
機溶媒およびレジストを含有するレジスト剥離廃液を再
生するレジスト剥離廃液の再生方法であって、分画分子
量１００〜１５００の膜を用いて、前記レジスト剥離廃
液を濃縮液と透過液とに分離する膜分離工程と、透過液
にアルカノールアミン及び／又は有機溶媒を供給して透
過液の濃度調整を行う濃度調整工程とを含むことを特徴
とする。
【００１３】この方法によれば、レジスト剥離廃液が分
画分子量１００〜１５００の膜を用いて濃縮液と透過液
とに分離される。このとき、レジストは膜を透過でき
ず、透過液に含まれるレジスト濃度は十分に低減されて
いる。このため、アルカノールアミン及び／又は有機溶
媒を供給してレジスト剥離廃液の濃度調整を行う特許第
２６０２１７９号公報に開示の方法に比べ、レジスト濃
度を希釈する必要性が低くなり、その分、透過液へのア
ルカノールアミン及び／又は有機溶媒の供給量を十分に
低減することができる。また、透過液に含まれるレジス
ト濃度が十分に低減されているため、レジスト剥離廃液
を、もとのレジスト剥離液とほぼ同等の状態に再生する
ことができる。
画分子量１００〜１５００の膜を用いて濃縮液と透過液
とに分離される。このとき、レジストは膜を透過でき
ず、透過液に含まれるレジスト濃度は十分に低減されて
いる。このため、アルカノールアミン及び／又は有機溶
媒を供給してレジスト剥離廃液の濃度調整を行う特許第
２６０２１７９号公報に開示の方法に比べ、レジスト濃
度を希釈する必要性が低くなり、その分、透過液へのア
ルカノールアミン及び／又は有機溶媒の供給量を十分に
低減することができる。また、透過液に含まれるレジス
ト濃度が十分に低減されているため、レジスト剥離廃液
を、もとのレジスト剥離液とほぼ同等の状態に再生する
ことができる。
【００１４】なお、本発明において、「分画分子量」と
は、膜の阻止性能を示す値のことを言う。具体的には、
分子量が既知のタンパク質および高分子物質などの阻止
特性によって求められ、標準的に膜によって阻止するこ
とのできる最小分子量をもって表される。
は、膜の阻止性能を示す値のことを言う。具体的には、
分子量が既知のタンパク質および高分子物質などの阻止
特性によって求められ、標準的に膜によって阻止するこ
とのできる最小分子量をもって表される。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【００１６】図１は、本発明のレジスト剥離廃液再生装
置の一実施形態を示すフロー図である。図１において、
符号１は、Ｓｉウェハ等の基板上に設けられたレジスト
膜を、レジスト剥離液を用いて剥離するレジスト剥離装
置を示している。レジスト剥離液は、アルカノールアミ
ン、有機溶媒及び水等から構成されている。レジスト剥
離装置１でレジストがレジスト剥離液に溶解されること
により、アルカノールアミン、有機溶媒、水及びレジス
トを含むレジスト剥離廃液が得られる。
置の一実施形態を示すフロー図である。図１において、
符号１は、Ｓｉウェハ等の基板上に設けられたレジスト
膜を、レジスト剥離液を用いて剥離するレジスト剥離装
置を示している。レジスト剥離液は、アルカノールアミ
ン、有機溶媒及び水等から構成されている。レジスト剥
離装置１でレジストがレジスト剥離液に溶解されること
により、アルカノールアミン、有機溶媒、水及びレジス
トを含むレジスト剥離廃液が得られる。
【００１７】こうして得られるレジスト剥離廃液は、貯
留槽３４で受けた後、ポンプ２により配管３を経て濃縮
槽４に移送されるようになっている。濃縮槽４に貯めら
れたレジスト剥離廃液は、流量調節ポンプ５により配管
６を経て膜分離装置７に移送される。
留槽３４で受けた後、ポンプ２により配管３を経て濃縮
槽４に移送されるようになっている。濃縮槽４に貯めら
れたレジスト剥離廃液は、流量調節ポンプ５により配管
６を経て膜分離装置７に移送される。
【００１８】膜分離装置７は、膜を用いてレジスト剥離
廃液を濃縮液と透過液とに分離するものである。膜とし
ては、分画分子量が１００〜１５００のものを用いるこ
とができる。分画分子量は、好ましくは４００〜１２０
０であり、より好ましくは７００〜１０００である。分
画分子量が１００未満では、レジスト剥離廃液中に溶解
しているレジストを除去できるものの、アルカノールア
ミンや有機溶剤までもが膜で捕捉されることとなる。一
方、分画分子量が１５００を超えると、レジスト剥離廃
液中に溶解しているレジストを除去できなくなる。
廃液を濃縮液と透過液とに分離するものである。膜とし
ては、分画分子量が１００〜１５００のものを用いるこ
とができる。分画分子量は、好ましくは４００〜１２０
０であり、より好ましくは７００〜１０００である。分
画分子量が１００未満では、レジスト剥離廃液中に溶解
しているレジストを除去できるものの、アルカノールア
ミンや有機溶剤までもが膜で捕捉されることとなる。一
方、分画分子量が１５００を超えると、レジスト剥離廃
液中に溶解しているレジストを除去できなくなる。
【００１９】上記分画分子量を持つ膜としては、例えば
ナノフィルトレーション（Ｎａｎｏｆｉｌｔｒａｔｉｏ
ｎ、以下「ＮＦ」という）膜が用いられる。ＮＦ膜とし
ては、例えば日東電工（株）製のＮＴＲ−７４１０、Ｎ
ＴＲ−７４５０、ＮＴＲ−７２５ＨＦ、ＮＴＲ−７２５
０、ＮＴＲ−７２９ＨＦ、ＮＴＲ−７６９ＳＲ、東レ
（株）製のＳＵ−２００Ｓ、ＳＵ−５００、ＳＵ−６０
０、ダウケミカル社製のＮＦ−４５、ＮＦ−７０、ＮＦ
−９０、Ｋｏｃｈ社製のＳｅｌＲＯTMＭＰＳ／Ｔ−２
０、ＳｅｌＲＯTMＭＰＳ／Ｔ−２１、ＳｅｌＲＯTMＭＰ
Ｓ／Ｔ−３１、ＳｅｌＲＯTMＭＰＳ／Ｔ−３４、Ｓｅｌ
ＲＯTMＭＰＳ／Ｔ−３６、ＳｅｌＲＯTMＭＰＳ−４４、
ＳｅｌＲＯTMＭＰＳ−５０、ＳｅｌＲＯTMＭＰＳ−６０
等が挙げられる。
ナノフィルトレーション（Ｎａｎｏｆｉｌｔｒａｔｉｏ
ｎ、以下「ＮＦ」という）膜が用いられる。ＮＦ膜とし
ては、例えば日東電工（株）製のＮＴＲ−７４１０、Ｎ
ＴＲ−７４５０、ＮＴＲ−７２５ＨＦ、ＮＴＲ−７２５
０、ＮＴＲ−７２９ＨＦ、ＮＴＲ−７６９ＳＲ、東レ
（株）製のＳＵ−２００Ｓ、ＳＵ−５００、ＳＵ−６０
０、ダウケミカル社製のＮＦ−４５、ＮＦ−７０、ＮＦ
−９０、Ｋｏｃｈ社製のＳｅｌＲＯTMＭＰＳ／Ｔ−２
０、ＳｅｌＲＯTMＭＰＳ／Ｔ−２１、ＳｅｌＲＯTMＭＰ
Ｓ／Ｔ−３１、ＳｅｌＲＯTMＭＰＳ／Ｔ−３４、Ｓｅｌ
ＲＯTMＭＰＳ／Ｔ−３６、ＳｅｌＲＯTMＭＰＳ−４４、
ＳｅｌＲＯTMＭＰＳ−５０、ＳｅｌＲＯTMＭＰＳ−６０
等が挙げられる。
【００２０】これらのうち、Ｋｏｃｈ社製のＮＦ膜が好
ましい。このＮＦ膜は、ポリスルホン（ＰＳ）及びポリ
アクリルニトリル（ＰＡＮ）を基材とした複合膜であ
り、ｐＨ全域（ｐＨ＝０〜１４）で使用可能である。こ
のため、強アルカリ性のレジスト剥離廃液を中和するこ
と無く直接膜分離装置７に導入することができる。上記
Ｋｏｃｈ社製のＮＦ膜としては、例えば、分画分子量が
１０００であるＳｅｌＲＯTMＭＰＳ／Ｔ−３６が用いら
れる。なお、本発明に用いられる膜は、分画分子量が１
００〜１５００であればよく、上記のＮＦ膜に特に限定
されるわけではない。
ましい。このＮＦ膜は、ポリスルホン（ＰＳ）及びポリ
アクリルニトリル（ＰＡＮ）を基材とした複合膜であ
り、ｐＨ全域（ｐＨ＝０〜１４）で使用可能である。こ
のため、強アルカリ性のレジスト剥離廃液を中和するこ
と無く直接膜分離装置７に導入することができる。上記
Ｋｏｃｈ社製のＮＦ膜としては、例えば、分画分子量が
１０００であるＳｅｌＲＯTMＭＰＳ／Ｔ−３６が用いら
れる。なお、本発明に用いられる膜は、分画分子量が１
００〜１５００であればよく、上記のＮＦ膜に特に限定
されるわけではない。
【００２１】膜の形状は、例えばチューブラー型、スパ
イラル型等であってもよい。
イラル型等であってもよい。
【００２２】図２は、膜分離装置７の一例を示す部分断
面図である。図２に示すように、膜分離装置７は、ステ
ンレス鋼で形成されたサポート管８と、このサポート管
８に内接するように設けられたチューブラー型のＮＦ膜
９とを備えている。サポート管８には、複数の孔１０が
設けられている。ＮＦ膜９は、サポート管８に対して着
脱可能である。
面図である。図２に示すように、膜分離装置７は、ステ
ンレス鋼で形成されたサポート管８と、このサポート管
８に内接するように設けられたチューブラー型のＮＦ膜
９とを備えている。サポート管８には、複数の孔１０が
設けられている。ＮＦ膜９は、サポート管８に対して着
脱可能である。
【００２３】膜分離処理の際には、図２中、入口側Ａか
らレジスト剥離廃液が供給される。レジスト剥離廃液中
の透過成分は、図２に示すように、ＮＦ膜９の微小孔を
通過し、さらにサポート管８の孔１０を通過して透過液
として配管１１を経て排出される。
らレジスト剥離廃液が供給される。レジスト剥離廃液中
の透過成分は、図２に示すように、ＮＦ膜９の微小孔を
通過し、さらにサポート管８の孔１０を通過して透過液
として配管１１を経て排出される。
【００２４】一方、濃縮液は、廃棄処分してもよいが、
図１に示すように、膜分離装置７から配管１２を経て濃
縮槽４に返送されることが好ましい。この場合、膜分離
装置７のＮＦ膜９で分離される濃縮液が、配管１２によ
り膜分離装置７の上流側にある濃縮槽４に返送されるた
め、濃縮槽４に貯留されたレジスト剥離廃液を循環させ
ながら濾過することが可能となる。このため、アルカノ
ールアミン及び有機溶媒が廃棄されることなく、有効に
利用される。従って、膜分離装置７で分離された濃縮液
を廃棄処分する場合に比べ、後述する濃度調整槽１７へ
のアルカノールアミン及び有機溶媒の供給量をより十分
に低減できる。
図１に示すように、膜分離装置７から配管１２を経て濃
縮槽４に返送されることが好ましい。この場合、膜分離
装置７のＮＦ膜９で分離される濃縮液が、配管１２によ
り膜分離装置７の上流側にある濃縮槽４に返送されるた
め、濃縮槽４に貯留されたレジスト剥離廃液を循環させ
ながら濾過することが可能となる。このため、アルカノ
ールアミン及び有機溶媒が廃棄されることなく、有効に
利用される。従って、膜分離装置７で分離された濃縮液
を廃棄処分する場合に比べ、後述する濃度調整槽１７へ
のアルカノールアミン及び有機溶媒の供給量をより十分
に低減できる。
【００２５】なお、配管１１には、流量計１４、弁が設
置され、配管１２には、弁１５、流量計１６が設置され
ている。従って、流量計１４，１６で測定された流量値
に基づいて弁１５の開度及び流量調節ポンプ５を調整す
ることにより、透過液の流量と濃縮液の流量との比率を
任意に調整することが可能となっている。
置され、配管１２には、弁１５、流量計１６が設置され
ている。従って、流量計１４，１６で測定された流量値
に基づいて弁１５の開度及び流量調節ポンプ５を調整す
ることにより、透過液の流量と濃縮液の流量との比率を
任意に調整することが可能となっている。
【００２６】膜分離装置７で得られた透過液は、配管１
１を経て濃度調整槽１７に導入されるようになってい
る。濃度調整槽１７は、膜分離装置７で得られる透過液
を貯留し、アルカノールアミン及び有機溶媒の濃度を調
整するものである。また貯留槽３４にはレジスト剥離廃
液を排出するためのドレン管３２が接続され、ドレン管
３２には、バルブ３３が設置されており、濃度調整槽１
７からの信号により、流量調節ポンプ５を停止すると共
に、貯留槽３４からの信号によりバルブ３３を開くこと
により、運転の効率化が可能となっている。
１を経て濃度調整槽１７に導入されるようになってい
る。濃度調整槽１７は、膜分離装置７で得られる透過液
を貯留し、アルカノールアミン及び有機溶媒の濃度を調
整するものである。また貯留槽３４にはレジスト剥離廃
液を排出するためのドレン管３２が接続され、ドレン管
３２には、バルブ３３が設置されており、濃度調整槽１
７からの信号により、流量調節ポンプ５を停止すると共
に、貯留槽３４からの信号によりバルブ３３を開くこと
により、運転の効率化が可能となっている。
【００２７】濃度調整槽１７には、アルカノールアミン
貯留槽１８から配管１９を経てアルカノールアミンが供
給可能となっており、アルカノールアミンは、弁２０を
開き、ポンプ２１を作動することにより、濃度調整槽１
７に供給されるようになっている。アルカノールアミン
としては、例えばモノエタノールアミン、ジエタノール
アミン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタ
ノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、ア
ミノエチルエタノールアミン、Ｎ−メチル−Ｎ，Ｎ−ジ
エタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエタノールアミ
ン、Ｎ−メチルエタノールアミン、３−アミノ−１−プ
ロパノールなどが用いられる。なお、アルカノールアミ
ン貯留槽１８、配管１９、弁２０、ポンプ２１により、
アルカノールアミン供給手段が構成されている。
貯留槽１８から配管１９を経てアルカノールアミンが供
給可能となっており、アルカノールアミンは、弁２０を
開き、ポンプ２１を作動することにより、濃度調整槽１
７に供給されるようになっている。アルカノールアミン
としては、例えばモノエタノールアミン、ジエタノール
アミン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタ
ノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、ア
ミノエチルエタノールアミン、Ｎ−メチル−Ｎ，Ｎ−ジ
エタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエタノールアミ
ン、Ｎ−メチルエタノールアミン、３−アミノ−１−プ
ロパノールなどが用いられる。なお、アルカノールアミ
ン貯留槽１８、配管１９、弁２０、ポンプ２１により、
アルカノールアミン供給手段が構成されている。
【００２８】また、濃度調整槽１７には、有機溶媒貯留
槽２２から配管２３を経て有機溶媒が供給可能となって
おり、有機溶媒は、弁２４を開き、ポンプ２１を作動す
ることにより、濃度調整槽１７に供給されるようになっ
ている。有機溶媒は、上記アルカノールアミンと異なる
有機溶媒であり、有機溶媒としては、例えばジメチルス
ルホキシド系原液、Ｎ−メチルピロリドン系原液、グラ
イコールエーテル系原液などが用いられる。なお、ポン
プ２１、有機溶媒貯留槽２２、配管２３、弁２４により
有機溶媒供給手段が構成されている。
槽２２から配管２３を経て有機溶媒が供給可能となって
おり、有機溶媒は、弁２４を開き、ポンプ２１を作動す
ることにより、濃度調整槽１７に供給されるようになっ
ている。有機溶媒は、上記アルカノールアミンと異なる
有機溶媒であり、有機溶媒としては、例えばジメチルス
ルホキシド系原液、Ｎ−メチルピロリドン系原液、グラ
イコールエーテル系原液などが用いられる。なお、ポン
プ２１、有機溶媒貯留槽２２、配管２３、弁２４により
有機溶媒供給手段が構成されている。
【００２９】こうして濃度調整槽１７における濃度調整
によりレジスト剥離再生液が得られるが、このレジスト
剥離再生液は、弁２５を開き、ポンプ２６を作動するこ
とにより、配管２７を経てレジスト剥離装置１に導入さ
れるようになっている。レジスト剥離再生液の一部は、
バイパス配管２８を経て配管２７に戻されるようになっ
ており、バイパス配管２８には、レジスト剥離再生液中
のアルカノールアミン濃度を測定する第１吸光光度計２
９と、レジスト剥離再生液中の有機溶媒濃度を測定する
第２吸光光度計３０が設置されている。
によりレジスト剥離再生液が得られるが、このレジスト
剥離再生液は、弁２５を開き、ポンプ２６を作動するこ
とにより、配管２７を経てレジスト剥離装置１に導入さ
れるようになっている。レジスト剥離再生液の一部は、
バイパス配管２８を経て配管２７に戻されるようになっ
ており、バイパス配管２８には、レジスト剥離再生液中
のアルカノールアミン濃度を測定する第１吸光光度計２
９と、レジスト剥離再生液中の有機溶媒濃度を測定する
第２吸光光度計３０が設置されている。
【００３０】ここで、第１吸光光度計２９と第２吸光光
度計３０は、弁２０，２４を制御する制御装置３１に接
続されていることが好ましい。この場合、第１吸光光度
計２９及び第２吸光光度計３０で測定されたアルカノー
ルアミン及び有機溶媒の濃度に基づいて弁２０，２４が
制御され、これにより濃度調整槽１７においてレジスト
剥離再生液中のアルカノールアミン濃度及び有機溶媒濃
度が一定の値に保持することが可能となる。
度計３０は、弁２０，２４を制御する制御装置３１に接
続されていることが好ましい。この場合、第１吸光光度
計２９及び第２吸光光度計３０で測定されたアルカノー
ルアミン及び有機溶媒の濃度に基づいて弁２０，２４が
制御され、これにより濃度調整槽１７においてレジスト
剥離再生液中のアルカノールアミン濃度及び有機溶媒濃
度が一定の値に保持することが可能となる。
【００３１】なお、上記レジスト剥離再生液は、常にレ
ジスト剥離装置１に導入され続けるわけではなく、レジ
スト剥離装置１に導入されない場合もあり、この場合に
は、弁２５が閉じられる。この場合、レジスト剥離再生
液が配管２７及びバイパス配管２８を流れなくなり、第
１吸光光度計２９および第２吸光光度計３０における吸
光度の測定が不可能になる。そこで、本実施形態のレジ
スト剥離廃液再生装置には、配管２７のポンプ２６及び
弁２５の間の部分と、濃度調整槽１７とを接続する分岐
配管３７が設けられている。これにより、弁２５を閉じ
た場合に、配管２７を流れるレジスト剥離再生液が、分
岐配管３７を経て濃度調整槽１７に送られ、濃度調整槽
１７の槽内液は、ポンプ２６により配管２７及びバイパ
ス配管２８を流れるようになる。このため、レジスト剥
離再生液がレジスト剥離装置１に導入されない場合で
も、第１吸光光度計２９および第２吸光光度計３０によ
る吸光度の測定が可能となる。
ジスト剥離装置１に導入され続けるわけではなく、レジ
スト剥離装置１に導入されない場合もあり、この場合に
は、弁２５が閉じられる。この場合、レジスト剥離再生
液が配管２７及びバイパス配管２８を流れなくなり、第
１吸光光度計２９および第２吸光光度計３０における吸
光度の測定が不可能になる。そこで、本実施形態のレジ
スト剥離廃液再生装置には、配管２７のポンプ２６及び
弁２５の間の部分と、濃度調整槽１７とを接続する分岐
配管３７が設けられている。これにより、弁２５を閉じ
た場合に、配管２７を流れるレジスト剥離再生液が、分
岐配管３７を経て濃度調整槽１７に送られ、濃度調整槽
１７の槽内液は、ポンプ２６により配管２７及びバイパ
ス配管２８を流れるようになる。このため、レジスト剥
離再生液がレジスト剥離装置１に導入されない場合で
も、第１吸光光度計２９および第２吸光光度計３０によ
る吸光度の測定が可能となる。
【００３２】次に、前述したレジスト剥離廃液の再生装
置を用いたレジスト剥離廃液の再生方法について説明す
る。
置を用いたレジスト剥離廃液の再生方法について説明す
る。
【００３３】先ずレジスト剥離装置１で得られるレジス
ト剥離廃液が貯留槽３４で受けられた後にポンプ２によ
り配管３を経て濃縮槽４に移送される。
ト剥離廃液が貯留槽３４で受けられた後にポンプ２によ
り配管３を経て濃縮槽４に移送される。
【００３４】濃縮槽４に溜まったレジスト剥離廃液は、
流量調節ポンプ５により配管６を経て膜分離装置７に導
入され、レジスト剥離廃液は、膜分離装置７の膜によっ
て濃縮液と透過液とに分離される。
流量調節ポンプ５により配管６を経て膜分離装置７に導
入され、レジスト剥離廃液は、膜分離装置７の膜によっ
て濃縮液と透過液とに分離される。
【００３５】こうして膜分離装置７で得られた透過液
は、配管１１を経て濃度調整槽１７に移送される。この
とき、膜分離装置７においては、分画分子量が１００〜
１５００の膜が用いられるため、レジスト剥離廃液中に
溶解しているレジストが膜を透過できず、レジストは濃
縮液に含まれることとなり、透過液にはレジストがほと
んど含まれない。即ち、膜によってレジスト剥離廃液か
らレジストが除去されて透過液となる（膜分離工程）。
は、配管１１を経て濃度調整槽１７に移送される。この
とき、膜分離装置７においては、分画分子量が１００〜
１５００の膜が用いられるため、レジスト剥離廃液中に
溶解しているレジストが膜を透過できず、レジストは濃
縮液に含まれることとなり、透過液にはレジストがほと
んど含まれない。即ち、膜によってレジスト剥離廃液か
らレジストが除去されて透過液となる（膜分離工程）。
【００３６】一方、膜分離装置７で得られた濃縮液は、
弁１５及び配管１２を経て濃縮槽４に返送される。この
ため、濃縮槽４に貯留されたレジスト剥離廃液を循環さ
せながら濾過することが可能となる。これにより、アル
カノールアミン及び有機溶媒が廃棄されることなく有効
に利用される。従って、膜分離装置７で分離された濃縮
液を廃棄処分する場合に比べて、濃度調整槽１７へのア
ルカノールアミン及び有機溶媒の供給量を十分に低減で
きる。このようにしてレジスト剥離廃液を循環させなが
ら濾過することによって、濃縮槽４におけるレジスト濃
度が上昇する。濃縮槽４内のレジスト濃度が上昇する
と、膜分離装置７でのレジスト剥離廃液の濾過効率が低
下する。よって、透過液中のレジスト濃度を管理し、濃
縮槽４内のレジストを適宜排出することが好ましい。こ
のことにより、濃度調整槽１７に供給されるアルカノー
ルアミンおよび／または有機溶剤の供給量を低減するこ
とが可能となる。
弁１５及び配管１２を経て濃縮槽４に返送される。この
ため、濃縮槽４に貯留されたレジスト剥離廃液を循環さ
せながら濾過することが可能となる。これにより、アル
カノールアミン及び有機溶媒が廃棄されることなく有効
に利用される。従って、膜分離装置７で分離された濃縮
液を廃棄処分する場合に比べて、濃度調整槽１７へのア
ルカノールアミン及び有機溶媒の供給量を十分に低減で
きる。このようにしてレジスト剥離廃液を循環させなが
ら濾過することによって、濃縮槽４におけるレジスト濃
度が上昇する。濃縮槽４内のレジスト濃度が上昇する
と、膜分離装置７でのレジスト剥離廃液の濾過効率が低
下する。よって、透過液中のレジスト濃度を管理し、濃
縮槽４内のレジストを適宜排出することが好ましい。こ
のことにより、濃度調整槽１７に供給されるアルカノー
ルアミンおよび／または有機溶剤の供給量を低減するこ
とが可能となる。
【００３７】なお、濃縮液の流量Ｃに対する透過液の流
量Ｄの比（Ｄ／Ｃ）は０．１〜０．２であることが好ま
しい。この場合、最適な濃縮液と透過液との流量比管理
により、良好な透過液質を保持しながら透過液中の回収
率を上げ、最大限有効にアルカノールアミン及び有機溶
媒の廃棄量を低減し、濃度調整槽１７へのアルカノール
アミン及び有機溶媒の供給量を十分に低減できる。上記
比が０．１未満では透過液の回収率が低下して経済性が
悪くなる傾向があり、０．２を超えると、膜の目詰まり
が起こったり、透過水質が悪化したりする傾向がある。
濃縮液に対する透過液の流量の比は、流量計１４，１６
で測定された流量値に基づいて弁１５の開度及び流量調
節ポンプ５を調整することにより調整することができ
る。
量Ｄの比（Ｄ／Ｃ）は０．１〜０．２であることが好ま
しい。この場合、最適な濃縮液と透過液との流量比管理
により、良好な透過液質を保持しながら透過液中の回収
率を上げ、最大限有効にアルカノールアミン及び有機溶
媒の廃棄量を低減し、濃度調整槽１７へのアルカノール
アミン及び有機溶媒の供給量を十分に低減できる。上記
比が０．１未満では透過液の回収率が低下して経済性が
悪くなる傾向があり、０．２を超えると、膜の目詰まり
が起こったり、透過水質が悪化したりする傾向がある。
濃縮液に対する透過液の流量の比は、流量計１４，１６
で測定された流量値に基づいて弁１５の開度及び流量調
節ポンプ５を調整することにより調整することができ
る。
【００３８】濃度調整槽１７に移送される透過液に対し
ては、濃度調整槽１７においてアルカノールアミン及び
有機溶媒の濃度調整がなされる。この場合、弁２０を開
き、ポンプ２１を作動することにより、アルカノールア
ミン貯留槽１８から配管１９を経て濃度調整槽１７にア
ルカノールアミンが供給され、弁２４を開くことによ
り、有機溶媒貯留槽２２から配管２３を経て濃度調整槽
１７に有機溶媒が供給される。また、必要に応じて弁３
５を開き、濃度調整槽１７からドレン管３６を経て廃液
が排出されることもある。こうして濃度調整槽１７にお
いて透過液中のアルカノールアミン及び有機溶媒の濃度
調整が行われ、レジスト剥離再生液が得られる（濃度調
整工程）。
ては、濃度調整槽１７においてアルカノールアミン及び
有機溶媒の濃度調整がなされる。この場合、弁２０を開
き、ポンプ２１を作動することにより、アルカノールア
ミン貯留槽１８から配管１９を経て濃度調整槽１７にア
ルカノールアミンが供給され、弁２４を開くことによ
り、有機溶媒貯留槽２２から配管２３を経て濃度調整槽
１７に有機溶媒が供給される。また、必要に応じて弁３
５を開き、濃度調整槽１７からドレン管３６を経て廃液
が排出されることもある。こうして濃度調整槽１７にお
いて透過液中のアルカノールアミン及び有機溶媒の濃度
調整が行われ、レジスト剥離再生液が得られる（濃度調
整工程）。
【００３９】このとき、前述したように、透過液に含ま
れるレジスト濃度は十分に低減されている。このため、
濃度調整槽１７において、レジスト濃度を希釈する必要
性が低くなり、その分、濃度調整槽１７へのアルカノー
ルアミン及び有機溶媒の供給量を十分に低減できる。そ
の結果、本発明の再生装置に使用されるアルカノールア
ミン及び有機溶媒の全体量が減り、貯留槽３４から配管
３２を経て排出される廃液の量も大幅に減少する。ここ
で、廃液は通常燃焼処分され、これに伴って大気中にＣ
Ｏ2が放出されるが、本実施形態では、貯留槽３４から
排出される廃液の量が大幅に減少するため、大気中に放
出されるＣＯ2量も大幅に低減される。このため、再生
装置は、ＣＯ2による地球温暖化の防止に十分に寄与す
ることができる。
れるレジスト濃度は十分に低減されている。このため、
濃度調整槽１７において、レジスト濃度を希釈する必要
性が低くなり、その分、濃度調整槽１７へのアルカノー
ルアミン及び有機溶媒の供給量を十分に低減できる。そ
の結果、本発明の再生装置に使用されるアルカノールア
ミン及び有機溶媒の全体量が減り、貯留槽３４から配管
３２を経て排出される廃液の量も大幅に減少する。ここ
で、廃液は通常燃焼処分され、これに伴って大気中にＣ
Ｏ2が放出されるが、本実施形態では、貯留槽３４から
排出される廃液の量が大幅に減少するため、大気中に放
出されるＣＯ2量も大幅に低減される。このため、再生
装置は、ＣＯ2による地球温暖化の防止に十分に寄与す
ることができる。
【００４０】また、濃度調整槽１７へのアルカノールア
ミン及び有機溶媒の供給量を十分に低減できるので、ラ
ンニングコストを大幅に低減することもできる。更に、
透過液にレジストが含まれないため、レジスト剥離廃液
を、もとのレジスト剥離液とほぼ同等の状態に再生する
ことができる。
ミン及び有機溶媒の供給量を十分に低減できるので、ラ
ンニングコストを大幅に低減することもできる。更に、
透過液にレジストが含まれないため、レジスト剥離廃液
を、もとのレジスト剥離液とほぼ同等の状態に再生する
ことができる。
【００４１】上記のようにして得られたレジスト剥離再
生液は、弁２５を開き、ポンプ２６を作動することによ
り、濃度調整槽１７から配管２７を経てレジスト剥離装
置１に導入される。
生液は、弁２５を開き、ポンプ２６を作動することによ
り、濃度調整槽１７から配管２７を経てレジスト剥離装
置１に導入される。
【００４２】なお、レジスト剥離再生液の一部は、バイ
パス配管２８に導入され、第１吸光光度計２９、第２吸
光光度計３０を経て配管２７に戻される。このとき、第
１吸光光度計２９でアルカノールアミン濃度が測定さ
れ、第２吸光光度計３０で有機溶媒濃度が測定される。
そして、測定されたアルカノールアミン濃度及び有機溶
媒濃度に基づき、制御装置３１により、弁２０，２４の
開度が調整される。これにより、レジスト剥離再生液中
のアルカノールアミン濃度及び有機溶媒濃度が一定の値
に保持される。
パス配管２８に導入され、第１吸光光度計２９、第２吸
光光度計３０を経て配管２７に戻される。このとき、第
１吸光光度計２９でアルカノールアミン濃度が測定さ
れ、第２吸光光度計３０で有機溶媒濃度が測定される。
そして、測定されたアルカノールアミン濃度及び有機溶
媒濃度に基づき、制御装置３１により、弁２０，２４の
開度が調整される。これにより、レジスト剥離再生液中
のアルカノールアミン濃度及び有機溶媒濃度が一定の値
に保持される。
【００４３】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、レ
ジスト剥離廃液中のレジストが膜を透過できず、透過液
に含まれるレジスト濃度が十分に低減されることにな
る。従って、レジスト濃度を希釈する必要性が低くな
り、濃度調整槽へのアルカノールアミン及び有機溶媒の
供給量を大幅に低減できる。その結果、貯留槽から排出
される廃液の量も大幅に減少するため、大気中に放出さ
れるＣＯ2量が大幅に低減され、ＣＯ2による地球温暖化
の防止に十分に寄与することができる。また、濃度調整
槽へのアルカノールアミン及び有機溶媒の供給量を十分
に低減できるので、ランニングコストを大幅に低減する
こともできる。更に、透過液にレジストが含まれないた
め、レジスト剥離廃液を、もとのレジスト剥離液とほぼ
同等の状態に再生することができる。
ジスト剥離廃液中のレジストが膜を透過できず、透過液
に含まれるレジスト濃度が十分に低減されることにな
る。従って、レジスト濃度を希釈する必要性が低くな
り、濃度調整槽へのアルカノールアミン及び有機溶媒の
供給量を大幅に低減できる。その結果、貯留槽から排出
される廃液の量も大幅に減少するため、大気中に放出さ
れるＣＯ2量が大幅に低減され、ＣＯ2による地球温暖化
の防止に十分に寄与することができる。また、濃度調整
槽へのアルカノールアミン及び有機溶媒の供給量を十分
に低減できるので、ランニングコストを大幅に低減する
こともできる。更に、透過液にレジストが含まれないた
め、レジスト剥離廃液を、もとのレジスト剥離液とほぼ
同等の状態に再生することができる。
【図１】本発明によるレジスト剥離廃液の再生装置の一
実施形態を示すフロー図である。
実施形態を示すフロー図である。
【図２】膜分離装置の一例を示す部分断面図である。
５…ポンプ（返送手段）、７…膜分離装置、１２…配管
（返送手段）、１５…弁（返送手段）、１７…濃度調整
槽、１８…アルカノールアミン貯留槽（アルカノールア
ミン供給手段）、１９…配管（アルカノールアミン供給
手段）、２０…弁（アルカノールアミン供給手段）、２
１…ポンプ（アルカノールアミン供給手段、有機溶媒供
給手段）、２２…有機溶媒貯留槽（有機溶媒供給手
段）、２３…配管（有機溶媒供給手段）、２４…弁（有
機溶媒供給手段）。
（返送手段）、１５…弁（返送手段）、１７…濃度調整
槽、１８…アルカノールアミン貯留槽（アルカノールア
ミン供給手段）、１９…配管（アルカノールアミン供給
手段）、２０…弁（アルカノールアミン供給手段）、２
１…ポンプ（アルカノールアミン供給手段、有機溶媒供
給手段）、２２…有機溶媒貯留槽（有機溶媒供給手
段）、２３…配管（有機溶媒供給手段）、２４…弁（有
機溶媒供給手段）。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 小川 修
東京都中央区日本橋小舟町５番１号 長瀬
産業株式会社内
(72)発明者 小早川 泰之
東京都中央区日本橋小舟町５番１号 長瀬
産業株式会社内
(72)発明者 北川 悌也
東京都大田区大森北３−４−４ Ｋ２ビル
ディング８Ｆ 日本アブコー株式会社内
(72)発明者 菊川 誠
神奈川県横浜市港北区新横浜１−19−20
サンハマダビル１階 ナガセシィエムエス
テクノロジー株式会社内
(72)発明者 兼康 貴行
神奈川県横浜市港北区新横浜１−19−20
サンハマダビル１階 ナガセシィエムエス
テクノロジー株式会社内
Ｆターム(参考） 2H096 AA25 LA03 LA25 LA30
4D006 GA06 KA12 KA63 KA87 MA02
MA04 MA06 MB05 MC39 MC62
PA01 PA04 PB08 PB70 PC01
5F046 MA02 MA19
Claims (4)
- 【請求項１】 アルカノールアミン、有機溶媒およびレ
ジストを含有するレジスト剥離廃液を再生するレジスト
剥離廃液の再生装置であって、 分画分子量１００〜１５００の膜を有し、前記レジスト
剥離廃液を、前記膜を用いて濃縮液と透過液とに分離す
る膜分離装置と、 前記透過液を貯留し、前記透過液中のアルカノールアミ
ン及び有機溶媒の濃度を調整するための濃度調整槽と、 前記濃度調整槽にアルカノールアミンを供給するアルカ
ノールアミン供給手段と、 前記濃度調整槽に有機溶媒を供給する有機溶媒供給手段
と、を備えることを特徴とするレジスト剥離廃液の再生
装置。 - 【請求項２】 前記膜がナノフィルトレーション膜であ
ることを特徴とする請求項１に記載のレジスト剥離廃液
の再生装置。 - 【請求項３】 前記膜で分離される濃縮液を前記膜分離
装置の上流側に返送する返送手段を更に備えることを特
徴とする請求項１又は２に記載のレジスト剥離廃液の再
生装置。 - 【請求項４】 アルカノールアミン、有機溶媒およびレ
ジストを含有するレジスト剥離廃液を再生するレジスト
剥離廃液の再生方法であって、 分画分子量１００〜１５００の膜を用いて、前記レジス
ト剥離廃液を濃縮液と透過液とに分離する膜分離工程
と、 前記透過液にアルカノールアミン及び／又は有機溶媒を
供給して前記透過液の濃度調整を行う濃度調整工程と、
を含むことを特徴とするレジスト剥離廃液の再生方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001365033A JP2003167358A (ja) | 2001-11-29 | 2001-11-29 | レジスト剥離廃液の再生装置及び再生方法 |
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