TWI535494B - 光阻剝離液的供應系統及其供應方法 - Google Patents

光阻剝離液的供應系統及其供應方法 Download PDF

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Description

光阻剝離液的供應系統及其供應方法
本發明是有關於一種液體供應系統及其供應方法,且特別是有關於一種光阻剝離液的供應系統及其供應方法。
近年來,由於液晶顯示器具有重量輕、體積小與低耗電等優點,因此液晶顯示器被廣泛的使用在各種電子產品(例如:電視、手機、筆記型電腦或衛星導航裝置等)上。
液晶顯示器的製程主要可區分為薄膜電晶體陣列(TFT Array)製程、彩色濾光(color filter)製程、液晶面板組裝(LC Cell Assembly)與液晶面板模組組裝(module Assembly),其中在薄膜電晶體陣列的製程中,係於基板上使用光阻劑並經過曝光與顯影等過程,以在基板上形成所需的電路圖案,而未反應的光阻劑則在蝕刻階段使用光阻剝離液(Stripper)去除。
但是由於光阻剝離液的使用量大且單價高,因此,為節省化學藥品用量及達到環保減廢之目的,目前可利用光阻剝離液回收設備(Stripper Recycle System,SRS)依據物質沸點不同原理,利用加熱的蒸餾方法將光阻剝離廢液中的水分與光阻去除,以得到純淨的光阻剝離液並再度供應到蝕刻機台使用。
然而,上述的光阻剝離液回收設備的回收效率仍有可改善的空間。舉例來說,請參照圖1,圖1為目前光阻剝離液回收設備的回收效率與時間關係的示意圖,其中光阻剝離液回收設備的運轉階段可分為冷開機、穩定運轉與關機。所述的冷開機階段例如是光阻剝離液回收設備於常溫常壓下剛開機的階段。所述的穩定運轉階段例如是光阻剝離液回收設備於高溫負壓下穩定產出光阻剝離液。所述的關機階段例如是當光阻剝離液回收設備的進料儲槽液位已到達低點。
如圖1所示,可發現光阻剝離液回收設備在時間點t1之前的回收效率較差,也就是說,光阻剝離液回收設備在冷開機階段的回收效率較差,此原因可能是由於溫度尚未達到物質沸點,故有相當大比例仍可使用的光阻剝離液隨著廢液排出,而造成光阻剝離液回收效率下降與浪費的問題。
本發明提出一種光阻剝離液供應系統及其供應方法,係透過管路的配置與控制閥的調配,以因應不同的運轉階段,並提升光阻剝離液的回收效率。
本發明實施例的光阻剝離液的供應系統,包括第一儲存槽、處理設備、第二儲存槽與第三儲存槽。第一儲存槽用以儲存並供應第一光阻剝離廢液。處理設備與第一儲存槽連接,而所述的處理設備用以接收並處理第一光阻剝離廢液,以分別輸出光阻剝離液與第二光阻剝離廢液。第二儲存槽與處理設備連接,而所述的第二儲存槽用以儲存並輸出來自處理設備的光阻剝離液。第三儲存槽與處理設備連接,而所述的第三儲存槽用以儲存來自處理設備的第二光阻剝離廢液,其中於第一運轉階段時,處理設備輸出第二光阻剝離廢液至第一儲存槽,並停止輸出第二光阻剝離廢液至第三儲存槽。於第二運轉階段時,處理設備輸出第二光阻剝離廢液至第三儲存槽,並停止輸出第二光阻剝離廢液至第一儲存槽。
另外,本發明的光阻剝離液的供應方法,包括下列步驟:首先,提供光阻剝離液的供應系統,包括第一儲存槽、處理設備、第二儲存槽與第三儲存槽。所述的第一儲存槽用以儲存並供應第一光阻剝離廢液,所述的處理設備用以接收並處理第一光阻剝離廢液,並輸出光阻剝離液與第二光阻剝離廢液,所述的第二儲存槽用以儲存處理設備輸出的光阻剝離液,所述的第三儲存槽用以儲存處理設備輸出的第二光阻剝離廢液;接著,於第一運轉階段時,處理設備輸出第二光阻剝離廢液至第一儲存槽,並停止輸出第二光阻剝離廢液至第三儲存槽;及於第二運轉階段時,處理設備輸出第二光阻剝離廢液至第三儲存槽,並停止輸出第二光阻剝離液至第一儲存槽。
綜上所述,本發明的光阻剝離液供應系統及其供應方法,係透過管路的配置與控制閥的調配,以使光阻剝離液供應系統的處理設備在第一運轉階段時可重複地對第一光阻剝離廢液進行循環處理,藉以使光阻剝離液供應系統可從第一光阻剝離廢液中回收取得較高比例的光阻剝離液,進而提升光阻剝離液供應系統的回收效率。
為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉較佳實施例,並配合所附圖式,作詳細說明如下。
請參照圖2A,圖2A係為本發明第一實施例的光阻剝離液供應系統於第一運轉階段的示意圖。如圖2A所示,本發明第一實施例的光阻剝離液供應系統200包括有第一儲存槽10、處理設備20、第二儲存槽30與第三儲存槽40。其中,處理設備20分別與第一儲存槽10、第二儲存槽30以及第三儲存槽40相連接。
第一儲存槽10用以儲存第一光阻剝離廢液12,並且供應第一光阻剝離廢液12至處理設備20。處理設備20接收來自第一儲存槽10的第一光阻剝離廢液12,並對第一光阻剝離廢液12進行處理而產出光阻剝離液22與第二光阻剝離廢液24,第二儲存槽30以及第三儲存槽40則分別接收並且儲存光阻剝離液22及第二光阻剝離廢液24。
第一儲存槽10中可設置低液位感測器(圖中未示),並於第一儲存槽10的第一光阻剝離廢液12的儲存液位低於或等於低液位感測器的設置位置時,發出警告訊息提醒操作人員,或者發出控制訊號停止處理設備20。同樣的,第二儲存槽30中可設置高/低液位感測器(圖中未示),並於第二儲存槽30的光阻剝離液22的儲存液位低於或等於低液位感測器的設置位置時,發出警告訊息提醒操作人員,或者由另一管路(圖中未示)接收/補充新的光阻剝離液;於第二儲存槽30的光阻剝離液22的儲存液位高於或等於高液位感測器(圖中未示)的設置位置時,發出警告訊息提醒操作人員,或者發出控制訊號停止處理設備20,以避免光阻剝離液供應系統200發生當機的問題。
處理設備20分別透過第一管路120、部份之第三管路124及第五管路128、或部份之第二管路122及第四管路126與第一儲存槽10連接。另外,處理設備20還透過第二管路122與第二儲存槽30連接,以及,透過第三管路124與第三儲存槽40連接。處理設備20透過第一管路120接收來自第一儲存槽10的第一光阻剝離廢液12,並對第一光阻剝離廢液12進行處理。舉例來說,處理設備20可透過加熱第一光阻剝離廢液12的方式,蒸餾取得光阻剝離液22,進而將光阻剝離液22從第一光阻剝離廢液12中分離出來,而光阻剝離廢液12去除了光阻剝離液22的其餘部分則為第二光阻剝離廢液24。具體地,處理設備20還可包括去光阻部(圖中未示)、去水分部(圖中未示)及精餾部(圖中未示)等基本設備,以得到更為純化之光阻剝離液22。光阻剝離液22可透過部份之第二管路122及第四管路126輸送至第一儲存槽10,或者,透過第二管路122輸送至第二儲存槽30;第二光阻剝離廢液24則可透過部份之第三管路124與第五管路128輸送至第一儲存槽10,或者,透過第三管路124輸送至第三儲存槽40,而第二光阻剝離廢液24包含有殘留之光阻剝離液及光阻、水分等不純物。
更進一步說,第二儲存槽30透過第二管路122與處理設備20連接,第四管路126連接第一儲存槽10與第二管路122,而第一控制閥50設置於第二管路122與第四管路126的相連接處。第一控制閥50例如是手動或自動的三通閥。第一控制閥50可連接控制器(圖中未示),並透過控制器控制第一控制閥50的開啟、關閉或路徑切換。第三儲存槽40透過第三管路124與處理設備20連接,第五管路128連接第一儲存槽10與第三管路124。第二控制閥52設置於第三管路124與第五管路128的相連接處。第二控制閥52例如是手動或自動的三通閥。第二控制閥52可連接控制器(圖中未示),並透過控制器控制第二控制閥52的開啟、關閉或路徑切換。
以下大致說明光阻剝離液供應系統200在第一運轉階段的運轉情形。首先,第一儲存槽10中的第一光阻剝離廢液12透過第一管路120輸送至處理設備20。接著,處理設備20對第一光阻剝離廢液12進行不純物分離處理(例如加熱,較佳為蒸餾),以去除第一光阻剝離廢液12中的光阻與水分等不純物後,進而分離出光阻剝離液22與第二光阻剝離廢液24。接著,將第二光阻剝離廢液24透過第五管路128輸送至第一儲存槽10,並依此循環直到進入第二運轉階段。
值得一提的是,由於習知技術中的第一運轉階段的回收效率較差,所以本發明實施例係於第一運轉階段時,將第二光阻剝離廢液24透過第五管路128輸送至第一儲存槽10,且在第一運轉階段中,處理設備20停止輸送第二光阻剝離廢液24至第三儲存槽40。藉由此種的回收循環方式可進一步提升第一運轉階段的回收效率。另外,在本發明實施例中還可選擇性地將光阻剝離液22透過第四管路126輸送至第一儲存槽10,並停止輸送光阻剝離液22至第二儲存槽30,以避免第一儲存槽10中的第一光阻剝離廢液22的組成變化過大。但不限於此,於第一運轉階段中,亦可使處理設備輸送光阻剝離液22至第二儲存槽30,而不將光阻剝離液22透過第四管路126輸送至第一儲存槽10。附帶一提,上述的各個管路中還可設置流量計(圖中未示),並透過電腦系統(圖中未示)監控或記錄各個管路的流量值、壓力值等數據,以進一步遠端調整各個控制閥的狀態。
請參照圖2B,圖2B係為本發明第一實施例的光阻剝離液供應系統於第二運轉階段的示意圖。如圖2B所示,於處理設備20中被加熱的第一光阻剝離液12的溫度到達一個預定溫度時,則光阻剝離液供應系統200由第一運轉階段進入第二運轉階段,而所述的預定溫度可例如是80℃至100℃,較佳約為90℃。換言之,在預定溫度到達之前,光阻剝離液供應系統200處於第一運轉階段。
以下大致說明光阻剝離液供應系統200在第二運轉階段的運轉情形。首先,第一儲存槽10中的第一光阻剝離廢液12透過第一管路120輸送至處理設備20。接著,處理設備20對第一光阻剝離廢液12進行不純物分離處理(例如加熱,較佳為蒸餾),以去除第一光阻剝離廢液12中的光阻與水分等不純物後,進而分離出光阻剝離液22與第二光阻剝離廢液24。接著,光阻剝離液22透過第二管路122輸送至第二儲存槽30,而第二光阻剝離廢液24透過第三管路124輸送至第三儲存槽40,並依此循環直到進入關機階段。
更進一步說,本發明第一實施例係於第二運轉階段時,處理設備20將光阻剝離液22透過第二管路122輸送至第二儲存槽30,以及將第二光阻剝離廢液24透過第三管路124輸送至第三儲存槽40。另外,在第二運轉階段中,處理設備20停止輸送光阻剝離液22至第一儲存槽10以及停止輸送第二光阻剝離廢液24至第一儲存槽10。
在本發明第二實施例中,如第3A圖所示,光阻剝離液供應系統300可取消第一控制閥50以及第二控制閥52的設置,而改為多個控制閥V1~V4,分別設置於第二管路122、第四管路126、第三管路124與第五管路128,以透過這些控制閥V1~V4分別控制處理設備20/第二儲存槽30間、處理設備20/第一儲存槽10間、處理設備20/第三儲存槽40間以及處理設備20/第一儲存槽10間的連通與否。舉例來說,在第一運轉階段時,控制閥V1與控制閥V3分別為切斷狀態,以阻止光阻剝離液22輸送至第二儲存槽30以及阻止第二光阻剝離廢液24輸送至第三儲存槽40,而控制閥V2與控制閥V4分別為導通狀態,以使光阻剝離液22與第二光阻剝離廢液24輸送至第一儲存槽10。如圖3B所示,在第二運轉階段時,控制閥V1與控制閥V3分別為導通狀態,以使光阻剝離液22輸送至第二儲存槽30以及使第二光阻剝離廢液24輸送至第三儲存槽40,而控制閥V2與控制閥V4分別為切斷狀態,以阻止光阻剝離液22與第二光阻剝離廢液24輸送至第一儲存槽10。
在本發明第三實施例中,如第4A圖所示,光阻剝離液供應系統400可使第四管路126或第五管路128直接連接處理設備20以及第一儲存槽10,使第四管路126無須透過部份之第二管路122連接於處理設備20,或者使第五管路128無須透過部份之第三管路124連接於處理設備20。而多個控制閥V1~V4,分別設置於第二管路122、第四管路126、第三管路124與第五管路128。舉例來說,在第一運轉階段時,控制閥V1與控制閥V3分別為切斷狀態,以阻止光阻剝離液22輸送至第二儲存槽30以及阻止第二光阻剝離廢液24輸送至第三儲存槽40,而控制閥V2與控制閥V4分別為導通狀態,以使光阻剝離液22與第二光阻剝離廢液24輸送至第一儲存槽10。如圖4B所示,在第二運轉階段時,控制閥V1與控制閥V3分別為導通狀態,以使光阻剝離液22輸送至第二儲存槽30以及使第二光阻剝離廢液24輸送至第三儲存槽40,而控制閥V2與控制閥V4分別為切斷狀態,以阻止光阻剝離液22與第二光阻剝離廢液24輸送至第一儲存槽10。
接下來,請參照圖5,圖5為本發明第一實施例的光阻剝離液供應方法的步驟流程圖。為了說明方便,可一併參閱圖2A、圖2B與圖5。首先,在步驟S501中,提供光阻剝離液的供應系統200,包括儲存並供應第一光阻剝離廢液12的第一儲存槽10、接收並處理第一光阻剝離廢液12以輸出光阻剝離液22與第二光阻剝離廢液24的處理設備20、儲存處理設備20輸出的光阻剝離液22的第二儲存槽30、以及儲存處理設備20輸出的第二光阻剝離廢液24的第三儲存槽40。
如上所述,第一儲存槽10透過第一管路120與處理設備20連接。另外,第一儲存槽10還透過第四管路126與第二管路122連接,以及透過第五管路128與第三管路124連接。所述的處理設備20透過第二管路122與第二儲存槽30連接,而處理設備20還透過第三管路124與第三儲存槽40連接。而第一控制閥50設置於第二管路122與第四管路126連接處,第二控制閥52設置於第三管路124與第五管路128連接處。
接下來,在步驟S503中,於第一運轉階段時,處理設備20輸出第二光阻剝離廢液24至第一儲存槽10,並停止輸出第二光阻剝離廢液24至第三儲存槽40。另外,於第一運轉階段時,處理設備20還可選擇性地輸出光阻剝離液22至第一儲存槽10,並停止輸出光阻剝離液22至第二儲存槽30。
然後,在步驟S505中,於第二運轉階段時,處理設備20輸出第二光阻剝離廢液24至第三儲存槽40,並停止輸出第二光阻剝離液24至第一儲存槽10。另外,在本發明實施例的另一個實施方式中,於第二運轉階段時,處理設備20還輸出光阻剝離液22至第二儲存槽30,並停止輸出光阻剝離液22至第一儲存槽10。另外,處理設備20可加熱處理第一光阻剝離廢液12,於處理設備20中被加熱的第一光阻剝離液12的溫度到達一個預定溫度時,則由第一運轉階段進入第二運轉階段,而所述的預定溫度可例如是80℃至100℃,較佳約為90℃。
請參照圖6,圖6為本發明實施例的光阻剝離液回收設備的回收效率與時間關係的示意圖。如圖6所示,本發明實施例在第一運轉階段時,光阻剝離液供應系統200在時間點t1之前的回收效率提升至約90%,並且在第二運轉階段時,在時間點t1與時間點t2之間的回收效率也是約90%,而所述的時間點t1依照處理設備的規格類型的差異,例如,約為4小時至6小時,但不限於此。也就是說,光阻剝離液供應系統200的處理設備200在處理溫度達到穩定時,才供應第二光阻剝離廢液24至第三儲存槽40,藉以改善習知技術中過多可回收之光阻剝離液隨第二光阻剝離廢液24排出至第三儲存槽40的問題,進而提升光阻剝離液供應系統200的回收效率。
綜上所述,本發明的光阻剝離液供應系統及其供應方法,係透過管路的配置與控制閥的調配,以使光阻剝離液供應系統的處理設備在第一運轉階段時可重複地對第一光阻剝離廢液進行循環處理,藉以使光阻剝離液供應系統可從第一光阻剝離廢液中回收取得較高比例的光阻剝離液,進而提升光阻剝離液供應系統的回收效率。
雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作些許之更動與潤飾,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
10...第一儲存槽
12...第一光阻剝離廢液
120...第一管路
122...第二管路
124...第三管路
126...第四管路
128...第五管路
20...處理設備
22...光阻剝離液
24...第二光阻剝離廢液
200...光阻剝離液供應系統
30...第二儲存槽
300...光阻剝離液供應系統
40‧‧‧第三儲存槽
400‧‧‧光阻剝離液供應系統
50‧‧‧第一控制閥
52‧‧‧第二控制閥
t1‧‧‧時間點
t2‧‧‧時間點
V1‧‧‧控制閥
V2‧‧‧控制閥
V3‧‧‧控制閥
V4‧‧‧控制閥
S501~S505‧‧‧步驟流程說明
圖1繪示為習知技術的光阻剝離液回收設備的回收效率與時間關係的示意圖。
圖2A繪示為本發明第一實施例的光阻剝離液供應系統於第一運轉階段的示意圖。
圖2B繪示為本發明第一實施例的光阻剝離液供應系統於第二運轉階段的示意圖。
圖3A繪示為本發明第二實施例的光阻剝離液供應系統於第一運轉階段的示意圖。
圖3B繪示為本發明第二實施例的光阻剝離液供應系統於第二運轉階段的示意圖。
圖4A繪示為本發明第三實施例的光阻剝離液供應系統於第一運轉階段的示意圖。
圖4B繪示為本發明第三實施例的光阻剝離液供應系統於第二運轉階段的示意圖。
圖5繪示為本發明實施例的光阻剝離液供應方法的步驟流程圖。
圖6繪示為本發明實施例的光阻剝離液回收設備的回收效率與時間關係的示意圖。
10...第一儲存槽
12...第一光阻剝離廢液
120...第一管路
122...第二管路
124...第三管路
126...第四管路
128...第五管路
20...處理設備
22...光阻剝離液
24...第二光阻剝離廢液
200...光阻剝離液供應系統
30...第二儲存槽
40...第三儲存槽
50...第一控制閥
52...第二控制閥

Claims (10)

  1. 一種光阻剝離液的供應系統,包括:一第一儲存槽,用以儲存並供應一第一光阻剝離廢液;一處理設備,與該第一儲存槽連接,該處理設備接收並處理該第一光阻剝離廢液,以分別輸出一光阻剝離液與一第二光阻剝離廢液;一第二儲存槽,與該處理設備連接,該第二儲存槽用以儲存並輸出來自該處理設備之該光阻剝離液;及一第三儲存槽,與該處理設備連接,該第三儲存槽用以儲存來自該處理設備之該第二光阻剝離廢液;其中於一第一運轉階段時,該處理設備輸出該光阻剝離液與該第二光阻剝離廢液至該第一儲存槽,並停止輸出該第二光阻剝離廢液至該第三儲存槽;於一第二運轉階段時,該處理設備輸出該第二光阻剝離廢液至第三儲存槽,並停止輸出該光阻剝離液與該第二光阻剝離廢液至該第一儲存槽,其中該處理設備係加熱該第一光阻剝離廢液,於該處理設備中被加熱的該第一光阻剝離廢液的溫度到達一預定溫度時,則由該第一運轉階段進入該第二運轉階段,而該預定溫度介於80℃~100℃。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光阻剝離液的供應系統,其中該預定溫度約為90℃。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之光阻剝離液的供應系統,其中包括:一第一管路,連接該第一儲存槽與該處理設備; 一第二管路,連接該處理設備與該第二儲存槽;一第三管路,連接該處理設備與該第三儲存槽;一第四管路,連接該第一儲存槽與該處理設備;及一第五管路,連接該第一儲存槽與該處理設備。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之光阻剝離液的供應系統,其中該第四管路更連接於該第二管路,該第五管路更連接於該第三管路,該第四管路係透過部份之該第二管路連接於該處理設備,該第五管路係透過部份之第三管路連接於該處理設備。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之光阻剝離液的供應系統,其更包括一控制閥,設置於該第二管路及該第四管路相連接處,或者,設置於該第三管路及該第五管路相連接處。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之光阻剝離液的供應系統,其中該控制閥係三通閥。
  7. 如申請專利範圍第3項所述之光阻剝離液的供應系統,其更包括一控制閥,設置於該第二管路、第三管路、第四管路或該第五管路。
  8. 如申請專利範圍第5項或第7項所述之光阻剝離液的供應系統,其更包括一控制器,該控制器連接該控制閥以控制該控制閥之啟閉。
  9. 一種光阻剝離液的供應方法,包括有下列步驟: 提供一光阻剝離液的供應系統,包括一第一儲存槽,以儲存並供應一第一光阻剝離廢液,一處理設備,以接收並處理該第一光阻剝離廢液,並輸出一光阻剝離液與一第二光阻剝離廢液,一第二儲存槽,以儲存該處理設備輸出的該光阻剝離液,一第三儲存槽,以儲存該處理設備輸出的該第二光阻剝離廢液;於一第一運轉階段時,該處理設備輸出該光阻剝離液與該第二光阻剝離廢液至該第一儲存槽,並停止輸出該第二光阻剝離廢液至該第三儲存槽;及於一第二運轉階段時,該處理設備輸出該第二光阻剝離廢液至第三儲存槽,並停止輸出該光阻剝離液與該第二光阻剝離液至該第一儲存槽,其中該處理設備係加熱該第一光阻剝離廢液,於該處理設備中被加熱的該第一光阻剝離液的溫度到達一預定溫度時,則由該第一運轉階段進入該第二運轉階段,而該預定溫度係介於80℃~100℃。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之光阻剝離液的供應方法,其中該預定溫度約90℃。
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CN105118770B (zh) * 2015-08-25 2017-12-26 武汉华星光电技术有限公司 一种剥离液供给***
CN115212790B (zh) * 2022-06-30 2023-04-07 福建天甫电子材料有限公司 用于光阻剥离液生产的自动配料***及其配料方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6074561A (en) * 1995-10-23 2000-06-13 Phoenankh Corp. Apparatus and method for recovering photoresist developers and strippers
DE19600967C2 (de) * 1996-01-12 1998-06-04 Schweizer Electronic Ag Verfahren zum Auftrennen von aus der Leiterplattenherstellung stammenden organischen Prozeßlösungen
JP3409005B2 (ja) * 1999-01-29 2003-05-19 松下環境空調エンジニアリング株式会社 剥離液の再生方法および装置
JP4561993B2 (ja) * 2005-08-18 2010-10-13 栗田工業株式会社 硫酸リサイクル型過硫酸供給装置
KR20100037037A (ko) * 2007-07-03 2010-04-08 도아고세이가부시키가이샤 나노 여과에 의한 레지스트 박리액 연속 사용 시스템
JP4476356B2 (ja) * 2007-09-05 2010-06-09 コレックス コーポレーション フォトレジストストリッパー廃液の再生方法及び再生装置、並びにその再生回収率の改善方法

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