KR960038489A - 감광성 수지 조성물 및 그를 이용한 감광소자 - Google Patents
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Abstract
(A) 카르복실기를 갖는 결합제 중합체;
(B) 분자 내에 적어도 하나의 중합성 에틸렌계 불포화기를 갖는 광중합성 화합물 1종 이상; 및
(C) 광개시제를 함유하는 감광성 수지 조성물은 기계적 강도, 내약품성 및 유연성이 우수한 필름을 제공할 수 있으며, 감광 소자의 제조에 적합하다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (20)
- (A) 카르복실기를 갖는 결합제 중합체; (B) 분자 내에 하나의 중합성 에틸렌계 불포화기를 갖는 광중합성 화합물 1종 이상; 및 (C)광개시제를 함유하는 감광성 수지 조성물로서, 상기 성분 (B)가 하기 일반식 (Ⅰ)으로 표시되는 화합물로 함유하는 감광성 수지 조성물;[식중, R1은 2가의 유기기이고, R2는 하기 식(Ⅱ)의 기를 나타낸다;(상기 식에서, R3는 수소 원자 또는 메틸기이고; X는 알킬렌 옥사이드기이며; n은 1-14의 정수이다.)
- 제1항에 있어서, 성분(A)가 알칼리 수용액에 가용성 또는 팽윤성이며, 100 내지 500의 산가 및 20,000 내지 300,000의 중량 평균 분자량을 갖는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
- 제1항에 있어서, 성분(A), 성분(B) 및 성분(C)의 비율이 성분(A)와 성분(B) 총 100 중량부에 대하여 각각 40 내지 80 중량부, 20 내지 60 중량부 및 0.1 내지 20 중량부이며, 식(Ⅰ)의 화합물이 성분(B)에 3중량부 이상의 양으로 함유되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
- 제1항에 있어서, (D) 디시안디아미드를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
- 제4항에 있어서, 디시안디아미드가 성분(A)와 성분(B) 총 100 중량부에 대하여 0.01 내지 1 중량부의 양으로 함유되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
- 제2항에 있어서, (D) 디시안디아미드를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
- (A) 카르복실기를 갖는 결합제 중합체; (B') 분자 내에 하나 이상의 중합성 에틸렌계 불포화기를 갖는 광중합성 화합물; 및 (C') 2, 4, 5 - 트리페닐이미다졸 이량체를 함유한 광개시제를 포함하는 감광수 수지 조성물로서, 상기 성분(B')의 한 성분이 일반식(Ⅳ)으로 표시되는 화합물인 수지 조성물;[식중, R4는 독립적으로 하기 일반식(Ⅴ)의 기 또는 하기 일반식(Ⅵ)의 기를 나타낸다:(상기 식에서, Y는 -CH2CH2-O-, -CH(CH3)-CH2-O- 또는 -CH2-CH(CH3)-O- 이고, R3는 수소 원자 또는 메틸기이며; n은 1-14의 정수이고, p는 1-9의 정수이다.)]
- 제7항에 있어서, 성분(A)는 100 내지 500의 산가 및 20,000 내지 300,000의 중량평균 분자량을 갖는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
- 제7항에 있어서, 성분(A), (C') 및 (B')의 비율이 성분(A)와 성분(B') 총 100 중량부에 대하여 성분(A) 40 내지 80 중량부, 성분(C') 0.1 내지 20 중량부 및 성분(B') 20 내지 60 중량부이고, 식(Ⅳ)의 화합물이 성분(B') 중 3중량부 이상의 양으로 함유된 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
- 제1항의 감광성 수지 조성물과 기재 물질을 포함하는 감광 소자
- 제1항에 있어서 감광성 수지 조성물과 기재 물질을 포함하는 감광소자
- 제7항의 감광성 수지 조성물과 기재 물질을 포함하는 감광 소자
- 제1항에 있어서, 식(Ⅰ)의 R1이 알킬렌 기임을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
- 제1항에 있어서, 식(Ⅱ)의 X가 에틸렌 옥사이드기 또는 프로필렌 옥사이드기이고, 식(Ⅱ)의 n이 2-14인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
- 제7항에 있어서, 식(Ⅴ)의 Y가 -CH2-CH2-O-인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
- (A) 카르복실기를 갖는 결합제 중합체; (B') 분자 내에 하나 이상의 중합성 에틸렌계 불포화기를 갖는 광중합성 화합물; 및 (C')2, 4, 5 - 트리페닐이미다졸 이량체를 함유한 광개시제를 포함하는 감광성 수지 조성물로서, 상기 성분 (B')이 일반식(Ⅰ)으로 표시되는 화합물인 수지 조성물;[식중, R1은 2가의 유기기이고, R2는 하기 식(Ⅱ)의 기를 나타낸다;(상기 식에서, R3은 수소 원자 또는 메틸기이고; X는 알킬렌 옥사이드기이며; n은 1-14의 정수이다.)]
- 제16항에 있어서, 식(Ⅰ)의 R1이 알킬렌기인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
- 제16항에 있어서, 식(Ⅱ)의 X가 에틸렌 옥사이드기 또는 프로필렌 옥사이드기이고, 식(Ⅱ)의 n이 2-14인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
- 제16항에 있어서, 성분(A), (C') 및 (B')의 비율이 성분(A)와 성분(B') 총 100 중량부에 대하여 성분(A) 40-80 중량부, 성분(C') 0.1-20 중량부 및 성분(B') 20-60 중량부이고, 식(Ⅳ)의 성분(B')중 3 중량부 이상의 양으로 함유된 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
- 제16항에 있어서, 감광성 수지 조성물과 기재 물질을 포함하는 감광 소자
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP09353695A JP3199600B2 (ja) | 1995-04-19 | 1995-04-19 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
JP95-93536 | 1995-04-19 | ||
JP95-104480 | 1995-04-27 | ||
JP7104480A JPH08297368A (ja) | 1995-04-27 | 1995-04-27 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
JP95-162445 | 1995-06-28 | ||
JP16244595A JP3199607B2 (ja) | 1995-06-28 | 1995-06-28 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960038489A true KR960038489A (ko) | 1996-11-21 |
KR100191177B1 KR100191177B1 (ko) | 1999-06-15 |
Family
ID=27307309
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019960011807A KR100191177B1 (ko) | 1995-04-19 | 1996-04-18 | 감광성 수지 조성물 및 그를 이용한 감광 소자 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (4) | US5744282A (ko) |
EP (2) | EP0999473B1 (ko) |
KR (1) | KR100191177B1 (ko) |
DE (2) | DE69609757T2 (ko) |
TW (1) | TW424172B (ko) |
Families Citing this family (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 1996-04-02 TW TW085103882A patent/TW424172B/zh not_active IP Right Cessation
- 1996-04-10 US US08/630,479 patent/US5744282A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-16 EP EP00100754A patent/EP0999473B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-16 DE DE69609757T patent/DE69609757T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-16 EP EP96302638A patent/EP0738927B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-16 DE DE69630902T patent/DE69630902T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-18 KR KR1019960011807A patent/KR100191177B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-01-13 US US09/006,661 patent/US6060216A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-12-15 US US09/461,387 patent/US6228560B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-11-14 US US09/711,437 patent/US6555290B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0999473A1 (en) | 2000-05-10 |
US6228560B1 (en) | 2001-05-08 |
EP0738927A2 (en) | 1996-10-23 |
DE69630902D1 (de) | 2004-01-08 |
US5744282A (en) | 1998-04-28 |
EP0738927B1 (en) | 2000-08-16 |
DE69609757D1 (de) | 2000-09-21 |
EP0738927A3 (en) | 1997-08-20 |
DE69609757T2 (de) | 2000-12-28 |
TW424172B (en) | 2001-03-01 |
US6555290B1 (en) | 2003-04-29 |
KR100191177B1 (ko) | 1999-06-15 |
US6060216A (en) | 2000-05-09 |
EP0999473B1 (en) | 2003-11-26 |
DE69630902T2 (de) | 2004-09-02 |
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