JPH06828B2

JPH06828B2 - 光硬化性組成物

Info

Publication number: JPH06828B2
Application number: JP61244944A
Authority: JP
Inventors: 常朝中野; 敏和林; 利徳塚田
Original assignee: Ube Industries Ltd
Current assignee: Ube Corp
Priority date: 1986-10-15
Filing date: 1986-10-15
Publication date: 1994-01-05
Anticipated expiration: 2009-01-05
Also published as: US4855215A; JPS6397601A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、感光基数を調節した特定の変性無水マレイン
酸共重合体からなるベースポリマーに、光重合性モノマ
ー及び光開始剤を添加してなる光硬化性組成物に関する
もので、本発明の光硬化性組成物は、プリント配線板工
業における、ソルダーレジスト、マーキングインキ、ハ
ンダレベラ用インキ、多層配線板用の層間絶縁材料等と
して好適に用いられる。

〔従来の技術〕

従来、ソルダーレジストとしては、メラミン樹脂系やエ
ポキシ樹脂系の熱硬化型ソルダーレジストが多用されて
いたが、近年、民生用を中心に紫外線により硬化するＵ
Ｖソルダーレジストへと移行している。しかし、産業用
としては、依然、エポキシ樹脂系の熱硬化型ソルダーレ
ジストが主に用いられている。

また、最近、フォトリソグラフィーによるパターニング
の可能な光硬化型ソルダーレジストが種々提案されてい
る。

〔発明が解決しようとする問題点〕

プリント配線板の高密度化は年々進み、ＩＣランド間に
３本以上のラインを通すことが要求されてきており、ソ
ルダーレジストも高密度化、高信頼性に応える必要性が
生じている。

しかし、前記の熱硬化型ソルダーレジストは、パターン
形成をシルクスクリーン印刷で行う必要上、シルクのた
わみからくる位置精度のずれのためにファインパターン
を形成することができない問題がある。

また、前記のＵＶソルダーレジストは、厚膜硬化性に対
する信頼性が低く、且つ耐薬品性及び耐溶剤性等が充分
でない等の問題がある。

また、前記の光硬化型ソルダーレジストは、有機溶剤現
像型が殆どで、取り扱い上の問題或いは装置上の問題が
ある。

更に、ハンダ付時に使用するフラックスとしては、使用
上の間便さから、ロジン系フラックスより水溶性フラッ
クスを用いることが好ましいが、前記の従来公知のソル
ダーレジストは何れも、水溶性フラックスに対する密着
性を充分に有していない問題がある。

従って、本厚名の目的は、フォトリソグラフィーにより
ファインパターンの形成及び位置精度の優れたカバーリ
ングが可能で、且つ現像をアルカリ水溶液により行うこ
とができ、また水溶液フラックスに充分耐える密着性を
有すると共に耐熱性、機械的性質及び化学的性質にも優
れた、光硬化性組成物を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者等は、鋭意研究した結果、ベースポリマーとし
て特定の感光性変性無水マレイン酸共重合体を用い、こ
れに光重合性モノマー及び光開始剤をそれぞれ特定量添
加することにより、前記目的を達成する光硬化性組成物
が得られることを知見した。

本発明は、上記知見に基づきなされたもので、 (a)無水マレイン酸と不飽和炭化水素化合物との共重合
体（以下、未変性無水マレイン酸共重合体という）の無
水マレイン酸構成単位の酸無水環を、下記一般式（Ｉ）
及び（II）で表される化合物で開環した後、一般式
（Ｉ）で表される化合物で開環した部分をイミド閉環
し、次いで、上記共重合体中に開環により形成されたカ
ルボキシル基の一部及び上記共重合体の酸無水環の一部
に、下記一般式（III）で表される化合物の（メタ）ア
クリロイル基を付加させており、下記一般式（Ｉ）、
（II）及び（III）で表される化合物による上記酸無水
環の開環率が４０％以上で、且つ上記共重合体中の下記
一般式（III）で表される化合物の（メタ）アクリロイ
ル基の付加率〔付加した（（メタ）アクリロイル基の数
／上記酸無水環の数）×１００〕が１％以上である変性
無水マレイン酸共重合体からなるベースポリマー１００
重量部に、 (b)光重合性モノマー５〜５００重量部、及び (c)光開始剤１〜５０重量部を添加してなる光硬化性組成物を提供するものである。

一般式（Ｉ）（上式中、Ｒ_１は炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香
族基を示す。）一般式（II）ＨＯ−Ｒ_２（上式中、Ｒ_２は炭素数１〜１２の飽和化合物残基を示
す。）一般式（III）（上式中、Ｒ_３は炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香
族基を示し、Ｒ_４は水素又はメチル基を示す）。

以下に本発明の光硬化性組成物について詳述する。

本発明でペースポリマーとして用いられる変性無水マレ
イン酸共重合体は、上述の如き特定の構造からなるもの
で、前記一般式（Ｉ）、（II）及び（III）で表される
化合物による酸無水環の開環率が４０％未満であると、
弱アルカリ水溶液に対する溶解性が低下するため、レジ
ストパターン作製時の現像性が悪化し、また、上記開環
率が過大であると、形成されたレジスト皮膜の耐湿特性
が悪くなる。そのため、上記変性無水マレイン酸共重合
体としては、上記開環率が５０〜９０％であるものを用
いるのが好ましい。

また、上記変性無水マレイン酸共重合体は、前記一般式
（Ｉ）及び（II）で表される化合物による前記酸無水環
の開環率における割合が１：９〜８：２であることが好
ましく、また、耐熱性及びタック性等の観点から、一般
式（Ｉ）で表される化合物で開環した部分の８０％以上
がイミド閉環されていることが好ましい。

また、上記変性無水マレイン酸共重合体において、前記
一般式（III）で表される化合物の（メタ）アクリロイ
ル基の付加率が１％未満であると、光硬化性が不充分と
なり、製膜性及び硬化皮膜の物性が悪化する。また、上
記付加率が過大であると、組成物中の感光基濃度が高く
なり過ぎてプリベイク時に熱重合を起こしたり、保存安
定性が悪くなったり、更にカルボキシル基濃度の低下に
より現像性の低下を招く。そのため、上記変性無水マレ
イン酸共重合体としては、上記付加率が２〜５０％であ
るものを用いるのが好ましい。

また、上記変性無水マレイン酸共重合体は、前記一般式
（Ｉ）及び（II）で表される化合物による酸無水環の開
環により形成されたカルボキシル基に付加した前記一般
式（III）で表される化合物の（メタ）アクリロイル基
と、酸無水環に付加した前記一般式（III）で表される
化合物の（メタ）アクリロイル基との割合が、２：１〜
１０：１であることが好ましい。

尚、本発明における上記酸無水環の開環率は、反応物の
ＩＲを測定することにより算出した。即ち、上記開環率
は、６５０cm^-1〔ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ），ア
ミドに基づくピーク〕をベースにし、１７７０cm^-1及び
１８５０cm^-1（酸無水環のＣ＝Ｏに基づくピーク）の変
化量から算出した。また、本発明における（メタ）アク
リロイル基の付加率は、反応物のＮＭＲを測定すること
により算出した。即ち、上記付加率は、オクタメチルシ
クロテトラシロサン（ＯＭＣＴ）を内部基準物質として
ヒドロシアルキレン（メタ）アクリレートの二重結合プ
ロトンとの検量線を作成し、プロトン数の変化量から算
出した。

上記変性無水マレイン酸共重合体の出発原料である未変
性無水マレイン酸共重合体を構成するための不飽和炭化
水素化合物としては、例えば、イソブチレン、スチレ
ン、α−メチルスチレン、ｐ−ビニルフェノール等を挙
げることができ、特にイソブチレンが好ましい。

また、前記一般式（Ｉ）で表される化合物としては、例
えば、グリシン、β−アラニン、ｏ−，ｍ−，ｐ−アミ
ノ安息香酸等を挙げることができる。

また、前記一般式（II）で表される化合物としては、例
えば、メタノール、エタノール等のアルコール類、エチ
ルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類を挙
げることができ、特にセロソルブ類が好ましい。

また、前記一般式（III）で表される化合物としては、
例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジル
プロピル（メタ）アクリレート等を挙げることができ
る。

従って、本発明でベースポリマーとして用いられる代表
的な変性無水マレイン酸共重合体としては、下記式（I
V）で示される構成単位からなる未変性無水マレイン酸
共重合体を、その酸無水環を前記一般式（Ｉ）及び（I
I）で表される化合物で開環率４０％以上で、且つ下記
式（Ｖ）で示される構成単位〔酸無水環が前記一般式
（Ｉ）で表される化合物で開環された構成単位〕と下記
式（VI）で示される構成単位〔酸無水環が前記一般式
（II）で表される化合物で開環された構成単位〕との割
合が好ましくは１：９〜８：２、より好ましくは２：８
〜７：３となるように開環した後、下記式（Ｖ）で示さ
れる構成単位の好ましくは８０％以上、より好ましくは
９０％以上を、下記式（VII）で示される構成単位にイ
ミド閉環し、次いで、下記式（VI）及び（VII）で示さ
れる構成単位中のカルボキシル基の一部及び上記共重合
体の酸無水環の一部に前記一般式（III）で表される化
合物の（メタ）アクリロイル基を１％以上、好ましくは
２〜５０％付加したものを挙げることができる。

式（IV）（上式中、Ｒ_５及びＲ_６は、それぞれ、水素、炭素原子
数１〜３のアルキル基又は芳香族基を示す。）式（Ｖ）式（VI）式（VII）〔上式中、Ｒ_１及びＲ_２は、前記一般式（Ｉ）及び（I
I）の場合と同じである。〕本発明で用いられる変性無水マレイン酸共重合体は、無
水マレイン酸構成成分〔酸無水環が前記一般式（Ｉ）、
（II）及び（III）で表される化合物により開環されて
いる構成成分を含む〕と不飽和炭化水素化合物構成成分
との組成比が１：１〜１：１０、数平均分子量（▲
▼）が1.0×１０^４〜2.0×１０^６程度のものを用いるの
が好ましい。

本発明で用いられる変性無水マレイン酸共重合体は、例
えば次のようにして得られる。

先ず、前記未変性無水マレイン酸共重合体と前記一般式
（Ｉ）及び（II）で表される化合物とを有機溶媒中で好
ましくは７０〜１４０℃、特に好ましくは８０〜１００
℃の温度下に２〜６時間程度反応させた後、これにトル
エン、キシレン等の共沸溶媒を添加し、好ましくは８０
〜２００℃、特に好ましくは１００〜１５０℃の温度下
に３〜２０時間程度反応（環化脱水反応）させて、一般
式（Ｉ）で表される化合物で開環した部分をイミド閉環
し、次いで、この反応生成物と前記一般式（III）で表
される化合物とを有機溶媒中で好ましくは７０〜１４０
℃、特に好ましくは８０〜１００℃の温度下に２〜５時
間程度反応させることにより得られる。

また、本発明の光硬化性組成物を構成する(b)成分であ
る光重合性モノマーとしては、例えば、２−ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル
（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレ
ート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレ
ート、Ｎ，Ｎ′−メチレンビス（メタ）アクリレート、
ジエチルアミノエチレ（メタ）アクリレート、１，３，
５−トリアクリロイルヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、
トリス（ヒドロキシエチルアクリロイル）イソシアヌレ
ート等を挙げることができる。

上記光重合性モノマーの添加量は、前記ベースポリマー
１００重量部に対して５〜５００重量部、好ましくは３
０〜３００重量部である。５重量部未満であると、光硬
化感度が低下し、架橋密度も減少するため、現像性、製
膜性及び皮膜物性（特に耐熱性、表面硬度）が充分でな
くなり、また５００重量部を超えると、架橋密度が高す
ぎて、溶融ハンダ浴時の熱収縮により皮膜の剥離が起き
る。

また、本発明の光硬化性組成物を構成する(c)成分であ
る光開始剤としては、例えば、ミヒラーズケトン、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、２−ｔ−
ブチルアントラキノン、１，２−ベンゾ−９，１０−ア
ントラキノン、４，４′−ビス（ジエチルアミノ）ベン
ゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、チオキ
サントン、ジエチルチオキサントン、１，５−アセナフ
テン、エチル−ｐ−ジメチルアミノベンゾエート、ベン
ジル等を挙げることができる。

上記光開始剤の添加量は、前記ベースポリマー１００重
量部に対して１〜５０重量部、好ましくは５〜４０重量
部である。１重量部未満であると、光照射による充分な
架橋を行わせることができず、光硬化感度も低下し、ま
た５０重量部を超えると、光硬化感度はそれ以上上昇せ
ず、また硬化皮膜中に光開始剤が残存するため、皮膜物
性に悪影響を及ぼす。

本発明の光硬化性組成物は、有機溶媒可溶性であり、ソ
ルダーレジスト等として使用する場合、有機溶媒に３０
〜９０重量％、好ましくは５０〜９０重量％の割合で前
記(a)成分、前記(b)成分及び前記(c)成分が溶解した溶
液（光硬化性ポリマー溶液）として用いられる。この有
機溶媒としては、特に制限されないが、メチルアルコー
ル、エチルアルコール、ブチルアルコール、ｎ−プロピ
ルアルコール、イソプロピルアルコール等のアルコール
系溶媒、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロ
ソルブ系溶媒等が好ましい。

上記光硬化性ポリマー溶液は、常温での回転粘度が0.１
〜１０００ポイズ、特に１〜５００ポイズ程度にするこ
とが好ましい。

また、上記光硬化性ポリマー溶液には、無機充填剤を添
加することが好ましく、該無機充填剤を添加すると、線
膨張係数が低下するため、硬化収縮が低下し、溶融ハン
ダ浸漬後の密着性及び表面硬度を更に向上させ、印刷適
性にも好影響を与える。かかる無機充填剤としては、マ
イカ（雲母）、クレー、タルク、アルミナホワイト、珪
藻土、ベントナイト、フラストナイト、石英（SiO₂）、
水酸化アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、
珪酸マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、シリカアル
ミナ、窒化珪素等を挙げることができる。

上記無機充填剤の添加量は、前記ベースポリマー１００
重量部に対して０〜１６０重量部、特に４０〜１５０重
量部とするのが好ましい。

また、上記光硬化性ポリマー溶液には、必要に応じ、熱
重合防止剤を添加することができる。かかる熱重合防止
剤としては、ハイドロキノン、メチルエーテルハイドロ
キノン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノー
ル（ＢＨＴ）、ベンゾエート、ベンゾキノン、４−ヒド
ロキシメチル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等を
挙げることができる。

上記熱重合防止剤の添加量は、前記ベースポリマー１０
０重量部に対して0.０１〜５重量部、特に0.０５〜１重
量部とするのが好ましい。

この他、上記光硬化性ポリマー溶液には、必要に応じ、
フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、シア
ニングリーン、チタンホワイト、チタンイエロー、カー
ボンブラック、黄鉛、ハンザイエロー、レーキレッド、
メチルバイオレット、ブリリアントグリーン、ビクトリ
アブルー等の染料又は顔料、印刷適性を向上させるため
にアエロジル（日本アエロジル（株）製）等のチキソト
ロピー性付与剤やジアルキルポリシロキサン等の消泡
剤、難燃性を付与するために五酸化アンチモン等を添加
することができる。

本発明の光硬化性組成物によれば、前記の如く光硬化性
ポリマー溶液を調製することにより、例えば、次のよう
にして絶縁保護膜を形成することができる。

即ち、先ず、上記の光硬化性ポリマー溶液を基板に塗布
し、これを乾燥して有機溶媒を除去する。基板への塗布
は、例えばカーテンコート、ロールコート、シルクスク
リーン、ディップコート、ドクターナイフ法等の方法に
より行うことができる。また、塗膜の乾燥は、熱風乾
燥、遠赤外線乾燥等の方法により、好ましくは１００℃
以下、より好ましくは８０℃以下で行うとよい。この際
減圧はしてもしなくてもよい。

乾燥後、塗膜にネガフイルムを起き、例えば高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドラ
ンプ等を用いて光線を照射する。

次いで、これを、現像溶媒をスプレーするか現像溶媒に
浸漬する等の方法により現像し、未露光の部分を洗い流
す。上記現像溶媒としては、濃度１〜５％程度の炭酸ナ
トリウム水溶液等のアルカリ水溶液を用いることができ
る他、前記光硬化性ポリマー溶液の調製に用いられる有
機溶媒として例示したものを用いることができる。

然る後、熱風乾燥、遠赤外線乾燥等の方法により、好ま
しくは１００〜１５０℃下に３０〜６０分間熱処理する
か、８０〜１２０Ｗ／cm超高圧水銀灯３灯を用いて１〜
４ｍ／minの速度で光照射し、絶縁保護膜を得る。

〔実施例〕

以下に、本発明で用いられる変性無水マレイン酸共重合
体の製造例及び本発明の実施例を挙げて本発明を更に詳
細に説明する。

製造例１〜３及び比較製造例１〜３未変性無水マレイン酸共重合体としてイソバン−０４
（クラレイソプレンケミカル社製、無水マレイン酸とイ
ソブチレンとの共重合体）、前記一般式（Ｉ）で表され
る化合物としてｐ−アミノ安息香酸、前記一般式（II）
で表される化合物としてブチルセロソルブ及び前記一般
式（III）で表される化合物としてグリシジルメタクリ
レートを用い、下記第１表に示す反応条件により、これ
らを有機溶媒中で反応させ、変性無水マレイン酸共重合
体をそれぞれ得た。これらの変性無水マレイン酸共重合
体の酸無水環の開環率、（メタ）アクリロイル基の付加
率、及び一般式（Ｉ）で表される化合物で開環した部分
のイミド閉環された割合を下記第１表に示す。

実施例１〜３及び比較例１〜３製造例１〜３及び比較製造例１〜３でそれぞれ得られた
変性無水マレイン酸共重合体を用い、それぞれ下記の組
成により光硬化性ポリマー溶液をそれぞれ調製し、得ら
れた光硬化性ポリマー溶液を用いて、下記の方法によ
り、光硬化性組成物からなる光硬化保護膜（膜厚：下記
第２表参照）をそれぞれ形成し、該膜の光沢、現像性及
び下記の物性評価をそれぞれ行った。その結果を下記第
２表に示す。

〔組成〕

変性無水マレイン酸共重合体１００重量部（下記第２表参照）ブチルセロソルブ２００重量部光重合性モノマー（クレゾールノボラック型７０重量部エポキシアクリレート）（ジペンタエリスリトール２０重量部ヘキサアクリレート）（トリメチロールプロパン１００重量部トリアクリレート）（ヒドロキシエチルメタク２０重量部リレート）光開始剤（ジエチルチオキサントン）１０重量部（エチル−ｐ−ジメチルア１０重量部ミノベンゾエート）（ベンジル）１０重量部無機充填剤（石英）９０重量部増粘剤（アエロジル＃２００）１０重量部消泡剤（アンチホーム）１０重量部顔料（フタロシアニングリーン）７重量部熱重合禁止剤（ハイドロキノン）１重量部〔光硬化保護膜の形成方法〕塗布：光硬化性ポリマー溶液を、ガラスエポキシ銅張積層板の
銅板上に、スクリーン印刷法により塗布する。

乾燥（プリベイク）：８０℃の熱風乾燥器中で１５分間乾燥し、溶媒を除去す
る。

露光：２Kw超高圧水銀灯（オーク製作所製）を用い、５００mJ
／cm²の露光を行う。

現像：１％Na₂CO₃水溶液を用い、浸漬撹拌法又はスプレー法
（２Kg／cm²）により現像を行う。現像後、水洗する。

後硬化（ポストキュア）：１５０℃の熱風乾燥器中で３０分間熱処理を行うか、又
は８０Ｗ／cm超高圧水銀灯３灯を用い２ｍ／minの速度
で光照射を行う。

〔物性評価〕

(1)光硬化感度：プリベイク後の塗膜にコダックステップタブレット（グ
レーススケールNo.２）を密着し、1.５Ｊ／cm²で露光を
行い、現像後の残膜状態から完全硬化照射量を止め感度
とした。

(2)解像度：解像力テストパターンを用いて、適性露光を行い、現像
後のパターンより求めた。

(3)鉛筆硬度： JIS-D-0202 8-10に準じて測定した。

(4)密着性： JIS-D-0202 8-12に準じて碁盤目テストを行った。

(5)ハンダ耐熱性：溶融したハンダ浴（２６０℃）中に浸漬後、JIS-D-0202
8-12に準じて碁盤目テストを行った。フラックスはロ
ジン系のものと水溶性（Cl量2.２％）のものを用いた。

(6)耐湿性：２時間煮沸後、JIS-D-0202 8-12に準じて碁盤目テスト
を行った。

〔発明の硬化〕本発明の光硬化性組成物は、フォトリソグラフィーによ
りファインパターンの形成及び位置精度の優れたカバー
リングが可能で、且つ現像をアルカリ水溶液により行う
ことができるため取り扱いが容易であり、また水溶性フ
ラックスに充分耐える密着性を有すると共に耐熱性、機
械的性質及び化学的性質に優れており、更にタック性も
改良されたもので、プリント配線板工業における、ソル
ダーレジスト、マーキングインキ、ハンダレベラ用イン
キ、多層配線板用の層間絶縁材料等として好適に用いら
れる。

また、本発明の光硬化性組成物は、構成成分のペースポ
リマーの製造後、該ポリマーを単離せずに、そのまま反
応液に他の成分を混合することによっても得ることがで
き、従ってその調製が容易である等の効果も併有する。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】(a)無水マレイン酸と不飽和炭化水素化合
物との共重合体の無水マレイン酸構成単位の酸無水環
を、下記一般式（Ｉ）及び（II）で表される化合物で開
環した後、一般式（Ｉ）で表される化合物で開環した部
分をイミド閉環し、次いで、上記共重合体中に開環によ
り形成されたカルボキシル基の一部及び上記共重合体の
酸無水環の一部に、下記一般式（III）で表される化合
物の（メタ）アクリロイル基を付加させてなり、下記一
般式（Ｉ）、（II）及び（III）で表される化合物によ
る上記酸無水環の開環率が４０％以上で、且つ上記共重
合体中の下記一般式（III）で表される化合物の（メ
タ）アクリロイル基の付加率〔付加した（（メタ）アク
リロイル基の数／上記酸無水環の数）×１００〕が１％
以上である変性無水マレイン酸共重合体からなるベース
ポリマー１００重量部に、 (b)光重合性モノマー５〜５００重量部、及び (c)光開始剤１〜５０重量部を添加してなる光硬化性組成物。一般式（Ｉ）（上式中、Ｒ_１は炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香
族基を示す。）一般式（II）ＨＯ−Ｒ_２（上式中、Ｒ_２は炭素数１〜１２の飽和化合物残基を示
す。）一般式（III）（上式中、Ｒ_３は炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香
族基を示し、Ｒ_４は水素又はメチル基を示す）。
【請求項２】上記酸無水環の開環率が５０〜９０％であ
る、特許請求の範囲第１項記載の光硬化性組成物。
【請求項３】上記変性無水マレイン酸共重合体は、上記
一般式（Ｉ）及び（II）で表される化合物による上記酸
無水環の開環率における割合が１：９〜８：２であり、
一般式（Ｉ）で表される化合物で開環した部分の８０％
以上がイミド閉環されている、特許請求の範囲第(1)項
記載の光硬化性組成物。
【請求項４】上記一般式（III）で表される化合物の
（メタ）アクリロイル基の付加率が２〜５０％である、
特許請求の範囲第(1)項記載の光硬化性組成物。
【請求項５】上記一般式（II）で表される化合物がセロ
ソルブ類である、特許請求の範囲第(1)項記載の光硬化
性組成物。