JPH04293052A

JPH04293052A - 光重合性組成物及びこれを用いた積層体

Info

Publication number: JPH04293052A
Application number: JP5874791A
Authority: JP
Inventors: Tatsuya Ichikawa; 立也市川; Yoshitaka Minami; 好隆南; Yuichi Kamakura; 鎌倉　祐一
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd
Current assignee: Resonac Corp
Priority date: 1991-03-22
Filing date: 1991-03-22
Publication date: 1992-10-16

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、感光性樹脂組成物及び
これを用いた積層体（以下、感光性フィルムと称する。）に関し、さらに詳しくは、現像性、耐エッチング性及
び耐めっき性に優れた感光性樹脂組成物及び感光性フィ
ルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、プリント回路板の製造分野におい
て、エッチング、めっき等に用いられるレジスト材料と
しては、感光性樹脂組成物が広く用いられている。プリ
ント回路板は感光性フィルムを銅基板上にラミネートし
て、パターン露光した後、未露光部を現像液で除去し、
エッチング又はめっき処理を施して、パターンを形成さ
せた後、硬化部分を基板上から剥離除去する方法によっ
て製造されている。

【０００３】感光性フィルムを用いたプリント回路板の
製造においては、現像処理した硬化膜の形状によって、
次工程のエッチング、めっき処理後のライン形状が大き
く左右されてしまうことが知られている。つまり、硬化
膜のライン形状（以下、レジスト形状と略称する）に凹
凸があれば、生産したプリント回路板の銅のライン形状
もそれに応じて凹凸が生じ、欠陥となる。

【０００４】また、従来のアルカリ現像型感光性フィル
ムでは、現像時間が長く、作業性に劣るものであった。この現像時間を短縮する方法として、結合剤ポリマー中
のカルボキシル基の含有量を増加させる手法があるが、
この手法ではレジスト形状に凹凸が生じてしまい、未だ
工業的実施は困難である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記の従来
技術の問題を解決し、現像性が良好で、しかもレジスト
形状及び耐めっき性に優れた光重合性組成物及び感光性
フィルムを提供するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の光重合性組成物
は、分子中に少なくとも２個のエチレン性不飽和二重結
合を含有する重合性不飽和化合物、光重合性開始剤及び
結合剤を含有し、結合剤が次の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）
：（Ａ）ｐ−ビニル安息香酸（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和カルボン酸及び（Ｃ）
炭素数１〜１０個の脂肪族炭化水素基を有するアクリレ
ート又はメタクリレートの各群から少なくとも１種ずつ選ばれた成分から誘導さ
れた繰り返し単位から成り、重量平均分子量が５０００
０〜２０００００の多元共重合体であることを特徴とす
る光重合性組成物並びに支持フィルム上に前記光重合性
組成物の層を積層してなる感光性フィルムに関する。

【０００７】本発明に用いる結合剤を構成する繰り返し
単位は、上記のように成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分
（Ｃ）の各群から少なくとも１種ずつ選択された成分か
ら誘導されるものである。ここで、成分（Ａ）のｐ−ビ
ニル安息香酸の好ましい具体例としては、ＰＶＢＡ（北
興化学工業社製、商品名）を挙げることができる。

【０００８】成分（Ｂ）のα，β−エチレン性不飽和カ
ルボン酸の好ましい具体例としては、アクリル酸、メタ
クリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸又はそ
の無水物、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸
、フマル酸モノアルキルエステル等を挙げることができ
る。特に好ましいのはアクリル酸又はメタクリル酸であ
る。

【０００９】成分（Ｃ）は、炭素数が１〜１０個の脂肪
族炭化水素基を有するアクリレート又はメタクリレート
である。ここで、脂肪族炭化水素基は、直鎖若しくは分
岐鎖のアルキル基又はシクロアルキル基であってよい。成分（Ｃ）の好ましい具体例としては、メチルアクリレ
ート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エ
チルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソ
プロピルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イ
ソブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート
、ｓｅｃ　−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル
アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリ
レート等を挙げることができる。これらのうち、メチル
アクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレ
ート及びエチルメタクリレートが特に好ましい。

【００１０】重合体を構成する（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ
）成分の各群には、結合剤として必要な性能を満たすた
めに好ましい含有量の範囲がそれぞれ存在する。成分（
Ａ）は、弱アルカリ水溶液での現像性を付与し、かつエ
ッチング液、めっき液などの薬品に対する耐性を付与す
る成分であり、結合剤の全重量基準で５〜３０重量％が
好ましい。成分（Ａ）が５重量％未満であると、現像性
が悪化する傾向があり、３０重量％を越えると、耐めっ
き性が低下する傾向がある。また、成分（Ｂ）は、弱ア
ルカリ水溶液での現像性を付与するものであり、結合剤
の全重量基準で１０〜３０重量％が好ましい。成分（Ｂ
）が１０重量％未満であると、現像性が悪化する傾向が
あり、３０重量％を越えると、耐めっき性が低下する傾
向がある。

【００１１】なお、成分（Ａ）＋成分（Ｂ）の合計量は
、１５〜６０重量％であることが好ましい。この合計量
が１５重量％未満では弱アルカリ水溶液での現像が困難
であるのに対し、６０重量％を越えると、光重合し、硬
化したレジスト像の弱アルカリ水溶液に対する耐性が不
足してレジスト像に欠陥を生じ易い。

【００１２】一方、成分（Ｃ）は、レジストの弱アルカ
リ現像液、エッチング液、めっき液などの薬品に対する
耐性を付与する成分であり、結合剤の全重量基準で４０
〜８５重量％が好ましい。成分（Ｃ）が４０重量％未満
では、前記薬品への耐性が不足し、８５重量％を越える
と耐アルカリ性が高すぎるため現像性が不足する傾向が
ある。

【００１３】本発明に用いられる結合剤は、上記の成分
（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を通常の方法で共重合させ、
多元共重合体として得られるものである。溶液重合によ
って共重合させる場合、重合溶媒としては、メチルグリ
コール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテルアセテート等が好ま
しい。

【００１４】重合開始剤としては、過酸化ベンゾイル、
アゾビスイソブチロニトリル等が使用できる。

【００１５】本発明の光重合性組成物に結合剤として用
いる多元共重合体の重量平均分子量は、５００００〜２
０００００であることを必要とする。この重量平均分子
量が５００００未満であると、レジストの機械的強度、
耐現像液性、耐溶剤性、耐薬品性等が劣る。また、２０
００００を越えると、現像時間が著しく長くなり、不都
合である。

【００１６】また、本発明に用いる結合剤は、酸価６０
〜２００ｍｇ　ＫＯＨ／ｇの多元共重合体であることが
好ましい。酸価が６０ｍｇ　ＫＯＨ／ｇ未満であると、
現像性が悪化する傾向があり、２００ｍｇ　ＫＯＨ／ｇ
を越えると、耐めっき性が低下する傾向がある。

【００１７】結合剤の好ましい重合体の具体例を次に示
すが、これのみに限定されるものではない。これらの重
合体は、当業者には公知の任意の重合技術により製造す
ることができる。

【００１８】　　結合剤　Ｎｏ．１　　　　　　　　　　単量体　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　配合量（重量％）　　　
　　　　　ｐ−ビニル安息香酸　　　　　　　　　　　
　　　　　　　５．０　　　　　　　　メタクリル酸　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１５．０
　　　　　　　　メチルアクリレート　　　　　　　　
　　　　　　　　３０．０　　　　　　　　メチルメタ
クリレート　　　　　　　　　　　　　　５０．０　　
　　重合溶媒　　；メチルグリコール　　　　重量平均
分子量　　１２００００

【００１９】　　結合剤　Ｎｏ．２　　　　　　　　　　単量体　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　配合量（重量％）　　　　　　　　ｐ−ビニル安息香酸　　　　　　　　
　　　　　　　　１０．０　　　　　　　　メタクリル
酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０
．０　　　　　　　　エチルアクリレート　　　　　　
　　　　　　　　　　３０．０　　　　　　　　メチル
メタクリレート　　　　　　　　　　　　　　５０．０
　　　　重合溶媒　　；メチルグリコール　　　　重量
平均分子量　　１２５０００

【００２０】　　結合剤　Ｎｏ．３　　　　　　　　　　単量体　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　配合量（重量％）　　　
　　　　　ｐ−ビニル安息香酸　　　　　　　　　　　
　　　　　１５．０　　　　　　　　メタクリル酸　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．０
　　　　　　　　メチルメタクリレート　　　　　　　
　　　　　　　５０．０　　　　　　　　シクロヘキシ
ルメタクリレート　　　　　　３０．０　　　　重合溶
媒　　；メチルグリコール　　　　重量平均分子量　　
１４００００

【００２１】結合剤は、本発明の光重合性
組成物中に３０〜８０重量％含まれることが好ましい。結合剤の含有量が３０重量％未満であると、コールドフ
ローを起こす傾向があり、８０重量％を越えると、レジ
スト形状が悪化する傾向がある。

【００２２】本発明の光重合性組成物は、上記のような
結合剤の他に、分子中に少なくとも２個のエチレン性不
飽和二重結合を含有する付加重合性不飽和化合物及び光
開始剤を含むものである。ここで、本発明の光重合性組
成物に好適に用いられる付加重合性不飽和化合物の具体
例としては、テトラエチレングリコールジ（メタ）アク
リレート（メタクリレート又はアクリレートを意味する
、以下同じ）、ポリエチレングリコールジ（メタ）アク
リレート（エチレン基の数が２〜１４のもの）、トリメ
チロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパンプロポキシトリ（メタ）アクリレート
、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、
テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、
ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（プ
ロピレン基の数が２〜１４のもの）、ジペンタエリスリ
トールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ
ポリオキシエチレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェ
ノールＡジオキシエチレンジ（メタ）アクリレート、ビ
スフェノールＡトリオキシエチレンジ（メタ）アクリレ
ート、ビスフェノールＡデカオキシエチレンジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリグリシジル
エーテルトリアクリレート、ビスフェノールＡジグリシ
ジルエーテルジアクリレート等が挙げられる。付加重合性不飽和化合物は、１種又は２種以上用いても
よい。

【００２３】重合性不飽和化合物の含有量は、光重合性
組成物の全重量基準で、好ましくは約７．５〜５５重量
％、より好ましくは約１５〜４５重量％である。この含
有量が７．５重量％未満であると、レジストの機械強度
、耐現像液性、耐薬品性（例えば、耐めっき性）等が劣
る傾向がある。５５重量％を越えると、密着性が低下す
る傾向がある。

【００２４】本発明の組成物に好適に用いられる光重合
開始剤としては、前記重合性不飽和化合物の重合を開始
させうる単一の化合物、又は２種以上の化合物を組合わ
せた光重合開始剤系は全て用いることができる。好まし
い具体例としては、次の化合物を挙げることができる。ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−
ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ’
−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、
４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、
２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン等の
芳香族ケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベン
ゾインエーテル、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン
等のベンゾイン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５
−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフ
ェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダ
ゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，　
５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキ
シフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体
、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニル
イミダゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニ
ル）−５−フェニルイミダゾール二量体、２−（２，４
−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾ
ール二量体、２−（ｐ−メチルメルカプトフェニル）−
４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５
−トリアリールイミダゾール二量体などが挙げられる。

【００２５】光重合開始剤又は光重合開始剤系の含有量
は、好ましくは光重合性組成物の総重量基準で約０．１
〜１０重量％である。該配合量が少なすぎると、充分な
感度が得られず、多すぎると、露光の際に組成物の表面
での光吸収が増加して内部の光硬化が不充分となること
がある。

【００２６】本発明の光重合性組成物には、必要に応じ
て可塑剤、イメージング剤、密着性付与剤、熱重合禁止
剤、染料、顔料、充填剤などを配合することができる。

【００２７】本発明の光重合性組成物は、金属面、例え
ば、銅、ニッケル、クロム、好ましくは銅の上に、液状
レジストとして塗布して乾燥後、保護フィルムを被覆し
て用いるか、又は感光性フィルムとして用いられる。光
重合性組成物層の厚みは、用途により異なるが、通常、
乾燥後の厚みで１０〜１００μｍ程度である。液状レジ
ストとした場合は、保護フィルムとしてポリエチレン、
ポリプロピレン等の不活性なポリオレフィンフィルムが
用いられる。感光性フィルムは、ポリエステル等の支持
フィルム上に光重合性組成物を塗布し、乾燥後、必要に
よりポリオレフィン等の保護フィルムを積層して得るこ
とができる。光重合性組成物は、必要に応じて他の溶剤
と混合して溶液として塗布してもよい。

【００２８】前記の光重合性組成物層は、アートワーク
と呼ばれるネガ又はポジマスクパターンを通して活性光
線が照射された後、現像液で現像され、レジストパター
ンとされる。この際用いられる活性光線としては、例え
ばカーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセ
ノンランプ等の紫外線を有効に放射するものが用いられ
る。現像液としては安全かつ安定であり、操作性が良好
なものが用いられ、例えば、一般の溶剤現像型のフォト
レジストでは、１，１，１−トリクロロエタン等が、ア
ルカリ現像型のフォトレジストでは炭酸ナトリウムの希
薄溶液等が用いられる。現像の方法には、ディップ方式
、バドル方式、スプレー方式等があり、高圧スプレー方
式が解像度向上のためには最も適している。

【００２９】現像後に行われる電気めっきには、硫酸銅
めっき、ピロリン酸銅めっき等の銅めっき、ハイスロー
はんだめっき等のはんだめっき、ワット浴（硫酸ニッケ
ル−塩化ニッケル）めっき、スルファミン酸ニッケルめ
っき等のニッケルめっき、ハード金めっき、ソフト金め
っき等の金めっきなどがある。

【００３０】

【実施例】次に、本発明を実施例によりさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、結合剤としては、前記の結合剤　Ｎｏ．１〜３及
び下記の比較用結合剤　Ｎｏ．４〜６のうちのいずれか
を用いた。

【００３１】　　結合剤　Ｎｏ．４　　　　　　　　　　単量体　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　配合量（重量％）　　　
　　　　　メタクリル酸　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　２５．０　　　　　　　　メチルアク
リレート　　　　　　　　　　　　　　　　３０．０　
　　　　　　　メチルメタクリレート　　　　　　　　
　　　　　　４５．０　　　　重合溶媒　　；メチルグ
リコール　　　　重量平均分子量　　１１００００

【０
０３２】　　結合剤　Ｎｏ．５　　　　　　　　　　単量体　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　配合量（重量％）　　　
　　　　　メタクリル酸　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　２０．０　　　　　　　　メチルアク
リレート　　　　　　　　　　　　　　　　３０．０　
　　　エチルアクリレート　　　　　　　　５０．０　
　　　重合溶媒　　；メチルグリコール　　　　重量平
均分子量　　１０００００

【００３３】　　結合剤　Ｎｏ．６　　　　　　　　　　単量体　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　配合量（重量％）　　　
　　　　　メタクリル酸　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　２０．０　　　　　　　　メチルメタ
クリレート　　　　　　　　　　　　　　３０．０　　
　　　　　　シクロヘキシルメタクリレート　　　　　
　５０．０　　　　重合溶媒　　；メチルグリコール　
　　　重量平均分子量　　１３００００

【００３４】実
施例１〜３及び比較例１〜３結合剤として、前記の結合
剤　Ｎｏ．１〜６のうちのいずれか１種を含み、他の要
素は同一の下記光重合性組成物溶液を得た。　　　　　　　　組　　　　　　　　成　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　重量部　　結合剤の３５
重量％溶液　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１７１．４
　　ベンゾフェノン　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　４．５　　Ｎ，Ｎ’−テトラエ
チル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン　　　　　　
　　０．１７　　ビス（Ｎ，Ｎ−２−エチルヘキシル）
アミノメチレン−５−カルボキシ−　　１，２，３−ベ
ンゾトリアゾール　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１　　ト
リブロモメチルフェニルスルホン　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１
．０　　ロイコクリスタルバイオレット　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　１．０　　マラカイトグリーン　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　０．０４　　ビスフ
ェノールＡデカオキシエチレンジメタクリレート　　　
　　　　　　　　　　　４０．０

【００３５】次いで、この光重合性組成物溶液を２５μ
ｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に均一に
塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で約１０分間乾燥
して感光性フィルムを得た。光重合性組成物層の乾燥後
の膜厚は５０μｍであった。

【００３６】一方、銅箔（厚さ３５μｍ）を両面に積層
したガラスエポキシ材である銅張り積層板（日立化成工
業社製、ＭＣＬ−Ｅ−６１）の銅表面を＃８００のサン
ドペーパーで研磨し、水洗し、空気流で乾燥し、得られ
た銅張り積層板を６０℃に加温し、その銅面上に前記の
光重合性組成物層を１２０℃に加熱しながらラミネート
した。

【００３７】次いで、このようにして得られた基板に、
ネガフィルムを使用して３ｋＷの高圧水銀灯（オーク製
作所社製、ＨＭＷ−２０１Ｂ）で７０ｍＪ／ｃｍ２　の
露光を行った。次いで、ポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを剥ぎ取り、３０℃の１重量％炭酸ナトリウム水
溶液を１．０ｋｇ／ｃｍ２　で６０秒間スプレーするこ
とにより未露光部を除去した。

【００３８】得られた基板を下記のめっき条件でめっき
した。（ａ）脱脂工程エンプレートＰＣ−４５５（メルテックス社製）（２５
容量％）、２５℃で２分（ｂ）水洗工程２〜３槽、各２０〜４０秒（ｃ）ソフトエッチング工程過硫酸ナトリウム（１５０ｇ／ｌ）、２５℃で２分（ｄ
）水洗工程２槽、各２０〜４０秒（ｅ）硫酸浸漬工程１０容量％、２５℃で１〜２分（ｆ）硫酸めっき工程メルテックス社製カッパーグリームＰＣＭ浴組　　　　
成　　　　硫酸銅　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　７５．０ｇ／ｌ硫酸（９８％）　　　　　　　
　　　　　１９０．０ｇ／ｌ塩酸（３５％）　　　　　
　　　　　　　　　　　０．１ｇ／ｌカッパーグリーム
ＰＣＭ　　　　　　　　５．０ｍｌ／ｌ純水　　　　　
　　　　　　　　　　　全量１リットルになるまでの量
２０〜２５℃、２．０〜２．５Ａ／ｄｍ２　、５０〜６
０分（ｇ）水洗工程２〜３槽、各３０〜６０秒（ｈ）ホウフッ化水素酸浸漬工程４２％ホウフッ化水素酸（２０容量％）、２５℃で１〜
２分（ｉ）半田めっきメルテックス社製プルティン浴　　　　　　　　組　　　　成　　　　Ｓｎ（ＢＦ４　）２（４５％）　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６４
ｍｌ／ｌ　　　　Ｐｂ（ＢＦ４　）２（４５％）　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　２２ｍｌ／ｌ　　　　ホウフッ化水素酸（４５％）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２
００ｍｌ／ｌ　　　　プルテンＬＡスターター　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　４０ｍｌ／ｌ　　　　プルテンＬＡコンダクティビテ
ィーソルト　　　　　　　　　　　　　　２０ｇ／ｌ　
　　　純水　　　　　　　　　　　　　　　　全量１リ
ットルになるまでの量　　　　２０〜２５℃、１．０〜
１．８Ａ／ｄｍ２　、１０〜１８分（ｊ）水洗工程２〜３槽、各３０〜６０秒

【００３９】めっき後、乾燥し、直ちにセロテープを貼
り、これを垂直方向に引き剥がして（９０°ピールオー
ルオーフ試験）レジストの剥がれの有無を調べた。次い
で、５０℃の３重量％水酸化ナトリウム水溶液を１．５
ｋｇ／ｃｍ２　で２００秒間スプレーすることにより光
硬化部分を剥離し、乾燥後、上方から光学顕微鏡でめっ
きもぐりの有無を観察した。これらの結果を表１に示す
。

【００４０】

【表１】

【００４１】

【発明の効果】本発明の光重合性組成物は、プリント回
路板の製造に有用であり、現像性、レジスト形状及び耐
めっき性に優れた感光性フィルムを得ることができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　分子中に少なくとも２個のエチレン性
不飽和二重結合を含有する重合性不飽和化合物、光開始
剤及び結合剤を有する光重合性組成物において、前記の
結合剤が次の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）：（Ａ）ｐ−ビ
ニル安息香酸（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和カルボン酸及び（Ｃ）
炭素数１〜１０個の脂肪族炭化水素基を有するアクリレ
ート又はメタクリレートの各群から少なくとも１種ずつ選ばれた成分から誘導さ
れた繰り返し単位から成り、重量平均分子量が５０００
０〜２０００００の多元共重合体であることを特徴とす
る光重合性組成物。
【請求項２】　　結合剤が、酸価６０〜２００ｍｇ　Ｋ
ＯＨ／ｇの多元共重合体である請求項１記載の光重合性
組成物。
【請求項３】　　結合剤が成分（Ａ）を５〜３０重量％
、成分（Ｂ）を１０〜３０重量％及び成分（Ｃ）を４０
〜８５重量％含む多元共重合体である請求項１又は２記
載の光重合性組成物。
【請求項４】　　光重合開始剤　０．１〜１０重量％、
重合性不飽和化合物７．５〜５５重量％及び結合剤３０
〜８０重量％からなる請求項１、２又は３記載の光重合
性組成物。
【請求項５】　　請求項１、２、３又は４記載の光重合
性組成物の層を支持フィルム上に積層してなる積層体。