KR20150060682A - 노광 묘화 장치, 노광 묘화 시스템, 프로그램, 및 노광 묘화 방법 - Google Patents

노광 묘화 장치, 노광 묘화 시스템, 프로그램, 및 노광 묘화 방법 Download PDF

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Abstract

피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해버리는 것을 방지할 수 있는 노광 묘화 장치, 노광 묘화 시스템, 프로그램 및 노광 묘화 방법을 제공한다. 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건 정보가 대응된 제 1 작업 정보(60A)에 의거하여 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 작업 정보(60A)에 의해 나타내어지는 화상을 제 1 면에 묘화하고, 피노광 기판의 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건 정보가 각각 대응된 복수의 제 2 작업 정보(60B)를 기억하고, 복수의 제 2 작업 정보(60A) 중 제 1 면에 대한 화상의 묘화에 사용한 제 1 작업 정보(60A)에 의해 나타내어지는 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 제 2 작업 정보(60B)에 의거하여 상기 제 1 면에 화상을 묘화한 피노광 기판의 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 제 2 면에 묘화한다.

Description

노광 묘화 장치, 노광 묘화 시스템, 프로그램, 및 노광 묘화 방법{EXPOSURE/RENDERING DEVICE, EXPOSURE/RENDERING SYSTEM, PROGRAM, AND EXPOSURE/RENDERING METHOD}
본 발명은 노광 묘화 장치, 노광 묘화 시스템, 프로그램, 및 노광 묘화 방법에 관한 것이며, 특히 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화하는 노광 묘화 장치 및 노광 묘화 시스템과, 상기 노광 묘화 장치 및 노광 묘화 시스템에 의해 실행되는 프로그램과, 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화하는 노광 묘화 방법에 관한 것이다.
종래, 인쇄 기판인 피노광 기판에 화상 정보에 의거하여 변조된 광빔을 노광하고, 상기 피노광 기판에 화상을 묘화하는 노광 묘화 장치가 개발되고 있다. 또한, 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화하기 위해서 이 노광 묘화 장치를 2대 병렬시켜 한쪽을 제 1 면의 묘화에 사용하고, 다른쪽을 제 1 면과는 반대의 제 2 면의 묘화에 사용하는 노광 묘화 시스템도 개발되고 있다. 이 노광 묘화 시스템에서는 제 1 면용의 노광 묘화 장치에 의해 피노광 기판의 제 1 면에 화상이 묘화된 후, 상기 피노광 기판이 제 2 면용의 노광 묘화 장치의 소정 위치까지 반송되고, 상기 노광 묘화 장치에 의해 피노광 기판의 제 2 면에 화상이 묘화된다.
이 노광 묘화 시스템에 관한 기술로서, 특허문헌 1에는 2대의 노광 묘화 장치를 사용해서 피노광 기판의 제 1 면 및 제 2 면에 각각 화상을 묘화할 때의 피노광 기판의 반송 처리의 스루풋을 향상시킨 노광 묘화 시스템이 개시되어 있다.
이 노광 묘화 시스템이 갖는 각 노광 묘화 장치는 피노광 기판이 탑재되는 스테이지와, 스테이지를 직선형상으로 이동시키는 스테이지 이동 수단과, 스테이지에 탑재된 피노광 기판의 제 1 면에 광빔을 주사하는 빔 주사 수단을 갖는 묘화 유닛을 구비한다. 또한, 각 노광 묘화 장치는 스테이지의 이동 방향이며 묘화 유닛의 상류측에 배치된 상류측 유닛과, 스테이지의 이동 방향이며 묘화 유닛의 하류측에 배치된 하류측 유닛을 구비한다. 또한, 각 노광 묘화 장치는 상류측 유닛의 피노광 기판을 유지해서 스테이지의 이동 방향과 동일한 방향인 반송 방향으로 이동시키도록 하여 묘화 유닛 내의 스테이지 상에 피노광 기판을 반입하는 반입 수단을 구비한다. 또한, 각 노광 묘화 장치는 묘화 유닛 내의 스테이지 상의 피노광 기판을 유지해서 반송 방향으로 이동시키도록 하여 하류측 유닛에 피노광 기판을 반출하는 반출 수단을 구비한다.
각 노광 묘화 장치에서는 피노광 기판의 제 1 면에 광빔을 주사할 때에 스테이지를 반송 방향의 상류측으로부터 하류측으로 이동시키고, 상류측에 위치하는 스테이지에 피노광 기판을 반입하고, 하류측에 위치하는 스테이지로부터 피노광 기판을 반출한다.
일본 특허 공개 2002-341550호
일반적으로, 노광 묘화 장치를 사용해서 피노광 기판에 화상을 묘화할 때에는 작업자가 노광 묘화 장치에 대하여 피노광 기판에 묘화하는 화상 및 묘화할 때의 노광 조건이 지정된 처리 요구(작업)를 나타내는 작업 정보를 입력한다. 복수의 피노광 기판에 동일한 화상을 동일한 노광 조건에서 연속해서 묘화할 경우에는 작업 정보에 있어서 일련의 처리가 일괄적으로 나타내어진다. 그리고, 노광 묘화 장치는 입력된 작업 정보에 의거하여 피노광 기판에 대한 노광 묘화 처리를 행한다.
상기 특허문헌 1에 개시된 노광 묘화 시스템에서는 2대의 노광 묘화 장치의 각각을 사용해서 피노광 기판의 편면씩 화상을 묘화하기 때문에 작업자는 한쪽의 노광 묘화 장치에 제 1 면의 작업 정보를 입력하고, 다른쪽의 노광 묘화 장치에 제 2 면의 작업 정보를 입력한다. 이와 같이 작업자가 각 노광 묘화 장치에 대하여 별개로 작업 정보를 입력하기 때문에 작업자가 입력을 잘못했을 경우에는 피노광 기판의 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상이 묘화되어버릴 가능성이 있다는 문제가 있었다.
또한, 한쪽의 노광 묘화 장치에 있어서 노광 묘화 처리에 실패하여 불량품이 된 피노광 기판이 제거되는 경우가 있다. 이 경우, 작업 정보의 입력이 바르게 행해졌을 경우에도 다른쪽의 노광 묘화 장치에 입력된 작업 정보가 갱신되지 않았을 경우에는 피노광 기판의 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해버릴 가능성이 있다는 문제도 있었다.
본 발명은 상기 문제를 감안하여 이루어진 것이며, 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해버리는 것을 방지할 수 있는 노광 묘화 장치, 노광 묘화 시스템, 프로그램, 및 노광 묘화 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명에 의한 노광 묘화 장치는 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 1 면에 묘화하는 제 1 묘화 수단과, 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대의 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 각각 대응된 복수의 제 2 작업 정보를 기억하는 기억 수단과, 상기 기억 수단이 기억하고 있는 상기 복수의 제 2 작업 정보 중 상기 제 1 묘화 수단으로 피노광 기판의 상기 제 1 면에 대한 화상의 묘화에 사용한 상기 제 1 작업 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 상기 제 2 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 면에 화상을 묘화한 피노광 기판의 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 2 면에 묘화하는 제 2 묘화 수단을 구비하고 있다.
본 발명에 의한 노광 묘화 장치에 의하면, 제 1 묘화 수단에 의해 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상이 상기 제 1 면에 묘화된다.
여기에서, 본 발명에서는 기억 수단에 의해 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대의 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 각각 대응된 복수의 제 2 작업 정보가 기억된다. 그리고, 본 발명에서는 제 2 묘화 수단에 의해 상기 기억 수단이 기억하고 있는 상기 복수의 제 2 작업 정보 중 상기 제 1 묘화 수단으로 피노광 기판의 상기 제 1 면에 대한 화상의 묘화에 사용한 상기 제 1 작업 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 상기 제 2 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 면에 화상을 묘화한 피노광 기판의 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상이 상기 제 2 면에 묘화된다.
이와 같이 본 발명의 노광 묘화 장치에 의하면 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 제 1 작업 정보의 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 제 2 작업 정보를 사용해서 제 2 면에 화상을 묘화하므로 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해버리는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명에 의한 노광 묘화 장치는 상기 노광 조건이 상기 피노광 기판의 사이즈, 상기 피노광 기판의 노광 대상으로 하는 매수, 상기 피노광 기판에 화상의 묘화 영역을 결정하기 위한 마크가 형성되어 있을 경우의 상기 마크의 배치 패턴, 및 상기 피노광 기판의 감재종 중 적어도 1개를 포함하도록 해도 좋다. 이에 따라 적용한 노광 조건으로 피노광 기판의 각 면에 화상을 묘화할 수 있다.
한편, 상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템은 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 1 면에 묘화하는 제 1 묘화 수단 및 상기 제 1 묘화 수단으로 피노광 기판의 상기 제 1 면에 대한 화상의 묘화에 사용한 상기 제 1 작업 정보의 노광 조건 정보를 송신하는 송신 수단을 구비한 제 1 노광 묘화 장치와, 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대의 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 각각 대응된 복수의 제 2 작업 정보를 기억하는 기억 수단, 상기 송신 수단에 의해 송신된 상기 노광 조건 정보를 수신하는 수신 수단, 및 상기 기억 수단에 의해 기억하고 있는 상기 복수의 제 2 작업 정보로부터 상기 수신 수단에 의해 수신한 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 상기 제 2 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 묘화 수단으로 상기 제 1 면에 화상을 묘화한 피노광 기판의 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 2 면에 묘화하는 제 2 묘화 수단을 구비한 제 2 노광 묘화 장치를 갖고 있다.
본 발명에 의한 노광 묘화 시스템에 의하면 제 1 노광 묘화 장치의 제 1 묘화 수단에 의해 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상이 상기 제 1 면에 묘화된다. 또한, 제 1 노광 묘화 장치의 송신 수단에 의해 상기 제 1 묘화 수단으로 피노광 기판의 상기 제 1 면에 대한 화상의 묘화에 사용한 상기 제 1 작업 정보의 노광 조건 정보가 송신된다.
한편, 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템에서는 제 2 노광 묘화 장치의 제 2 기억 수단에 의해 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대의 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 각각 대응된 복수의 제 2 작업 정보가 기억된다. 또한, 제 2 노광 묘화 장치의 수신 수단에 의해 상기 송신 수단에 의해 송신된 상기 노광 조건 정보가 수신된다. 또한, 제 2 노광 묘화 장치의 제 2 묘화 수단에 의해 상기 기억 수단에 의해 기억하고 있는 상기 복수의 제 2 작업 정보로부터 상기 수신 수단에 의해 수신한 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 상기 제 2 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 묘화 수단으로 상기 제 1 면에 화상을 묘화한 피노광 기판의 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상이 상기 제 2 면에 묘화된다.
이와 같이 본 발명의 노광 묘화 시스템에 의하면 제 2 노광 묘화 장치가 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 제 1 작업 정보의 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 제 2 작업 정보를 사용해서 제 2 면에 화상을 묘화하므로 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해버리는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템은 상기 제 1 노광 묘화 장치의 상기 송신 수단이 상기 제 1 묘화 수단에 의한 묘화가 정상적으로 종료되었을 경우의 노광 조건 정보를 송신하도록 해도 좋다. 이에 따라 본 발명을 적용하지 않을 경우에 비교해서 보다 확실하게 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해버리는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템은 상기 제 1 노광 묘화 장치의 상기 송신 수단이 상기 제 1 묘화 수단에 의한 묘화가 비정상적으로 종료되었을 경우, 에러가 발생한 취지를 나타내는 에러 정보를 송신하도록 해도 좋다. 이에 따라 본 발명을 적용하지 않을 경우에 비교해서 보다 확실하게 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해버리는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템은 상기 제 2 노광 묘화 장치가 상기 기억 수단에 의해 기억하고 있는 상기 복수의 제 2 작업 정보에 상기 수신 수단에 의해 수신한 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 상기 제 2 작업 정보가 복수 존재했을 경우, 복수 존재하는 상기 제 2 작업 정보 중 어느 하나의 상기 제 2 작업 정보의 선택을 접수하는 접수 수단을 더 구비하고, 상기 제 2 노광 묘화 장치의 상기 제 2 묘화 수단이 상기 접수 수단에 의해 선택이 접수된 상기 제 2 작업 정보에 의거하여 상기 제 2 면에 화상을 묘화하도록 해도 좋다. 이에 따라 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 제 1 작업 정보의 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 제 2 작업 정보가 복수 존재하고 있어도 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해버리는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템은 상기 제 1 작업 정보 및 상기 제 2 작업 정보를 기억하는 제 2 기억 수단, 및 상기 제 2 기억 수단에 의해 기억하고 있는 상기 제 1 작업 정보를 상기 제 1 노광 묘화 장치에 송신하고, 상기 제 2 작업 정보를 상기 제 2 노광 묘화 장치에 송신하는 제 2 송신 수단을 구비한 제어 장치를 더 구비하고, 상기 제 1 노광 묘화 장치가 상기 제 2 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 1 작업 정보를 수신하는 제 2 수신 수단을 더 구비하고, 상기 제 1 노광 묘화 장치의 상기 제 1 묘화 수단이 상기 제 2 수신 수단에 의해 수신한 상기 제 1 작업 정보를 사용해서 상기 제 1 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 1 면에 묘화하고, 상기 제 2 노광 묘화 장치가 상기 제 2 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 2 작업 정보를 수신하는 제 3 수신 수단을 더 구비하고, 상기 제 2 노광 묘화 장치의 상기 기억 수단이 상기 제 3 수신 수단에 의해 수신한 상기 제 2 작업 정보를 복수 기억하도록 해도 좋다. 이에 따라 제어 장치에 의해 시스템 전체를 총괄적으로 관리할 수 있다.
특히, 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템은 상기 제어 장치가 상기 제 1 작업 정보 및 상기 제 2 작업 정보의 입력을 접수하는 제 2 접수 수단을 더 구비하고, 상기 제어 장치의 상기 제 2 기억 수단은 상기 제 2 접수 수단에 의해 접수한 상기 제 1 작업 정보 및 상기 제 2 작업 정보를 기억하도록 해도 좋다. 이에 따라 유저가 입력한 작업 정보를 사용해서 피노광 기판의 각 면에 서로 대응하는 화상을 묘화시킬 수 있다.
한편, 상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템은 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 1 면에 묘화하는 제 1 묘화 수단 및 상기 제 1 묘화 수단으로 피노광 기판의 상기 제 1 면에 대한 화상의 묘화에 사용한 상기 제 1 작업 정보의 노광 조건 정보를 송신하는 제 1 송신 수단을 구비한 제 1 노광 묘화 장치와, 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대의 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 각각 대응된 복수의 제 2 작업 정보를 기억하는 기억 수단, 상기 제 1 송신 수단에 의해 송신된 노광 조건 정보를 수신하는 제 1 수신 수단, 및 상기 기억 수단에 의해 기억된 상기 복수의 제 2 작업 정보 중 상기 제 1 수신 수단에 의해 수신한 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 상기 제 2 작업 정보를 송신하는 제 2 송신 수단을 구비한 제어 장치와, 상기 제 2 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 2 작업 정보를 수신하는 제 2 수신 수단, 및 상기 제 2 수신 수단에 의해 수신한 상기 제 2 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 묘화 수단에 의해 상기 제 1 면에 화상을 묘화한 피노광 기판의 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 2 면에 묘화하는 제 2 묘화 수단을 구비한 제 2 노광 묘화 장치를 갖고 있다.
본 발명에 의한 노광 묘화 시스템에 의하면 제 1 노광 묘화 장치의 제 1 묘화 수단에 의해 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상이 상기 제 1 면에 묘화된다. 또한, 제 1 노광 묘화 장치의 제 1 송신 수단에 의해 상기 제 1 묘화 수단으로 피노광 기판의 상기 제 1 면에 대한 화상의 묘화에 사용한 상기 제 1 작업 정보의 노광 조건 정보가 송신된다.
한편, 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템에서는 제어 장치의 기억 수단에 의해 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대의 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 각각 대응된 복수의 제 2 작업 정보가 기억된다. 또한, 제어 장치의 제 1 수신 수단에 의해 상기 제 1 송신 수단에 의해 송신된 노광 조건 정보가 수신된다. 또한, 제어 장치의 제 2 송신 수단에 의해 상기 기억 수단에 의해 기억된 상기 복수의 제 2 작업 정보 중 상기 제 1 수신 수단에 의해 수신한 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 상기 제 2 작업 정보가 송신된다.
또한, 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템에서는 제 2 노광 묘화 장치의 제 2 수신 수단에 의해 상기 제 2 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 2 작업 정보가 수신되어 제 2 노광 묘화 장치의 제 2 묘화 수단에 의해 상기 제 2 수신 수단에 의해 수신한 상기 제 2 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 묘화 수단에 의해 상기 제 1 면에 화상을 묘화한 피노광 기판의 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상이 상기 제 2 면에 묘화된다.
이와 같이 본 발명의 노광 묘화 시스템에 의하면 제어 장치가 제 1 노광 묘화 장치로부터 수신한 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 제 1 작업 정보의 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 제 2 작업 정보를 제 2 노광 묘화 장치에 송신하므로 노광 묘화 장치에 새로운 기능을 추가하는 일 없이 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해버리는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템은 상기 노광 조건이 상기 피노광 기판의 사이즈, 상기 피노광 기판의 노광 대상으로 하는 매수, 상기 피노광 기판에 화상의 묘화 영역을 결정하기 위해서 마크가 형성되어 있을 경우의 상기 마크의 배치 패턴, 및 상기 피노광 기판의 감재종 중 적어도 1개를 포함하도록 해도 좋다. 이에 따라 적용한 노광 조건으로 피노광 기판의 각 면에 화상을 묘화할 수 있다.
한편, 상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명에 의한 프로그램은 컴퓨터를 제 1 묘화 수단에 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 1 면에 묘화시키는 제 1 제어 수단과, 제 2 묘화 수단에 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대의 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 각각 대응된 복수의 제 2 작업 정보 중, 상기 제 1 묘화 수단으로 피노광 기판의 상기 제 1 면에 대한 화상의 묘화에 사용한 상기 제 1 작업 정보의 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 상기 제 2 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 면에 화상을 묘화한 피노광 기판의 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 2 면에 묘화시키는 제 2 제어 수단으로서 기능시킨다.
따라서, 본 발명에 의한 프로그램에 의하면 컴퓨터를 본 발명에 의한 노광 묘화 장치와 마찬가지로 작용시킬 수 있으므로, 상기 노광 묘화 장치와 마찬가지로 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해버리는 것을 방지할 수 있다.
또한, 상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명에 의한 노광 묘화 방법은 제 1 묘화 수단에 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 1 면에 묘화시키는 제 1 제어 스텝과, 제 2 묘화 수단에 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대의 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 각각 대응된 복수의 제 2 작업 정보 중, 상기 제 1 묘화 수단으로 피노광 기판의 상기 제 1 면에 대한 화상의 묘화에 사용한 상기 제 1 작업 정보의 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 상기 제 2 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 면에 화상을 묘화한 피노광 기판의 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 2 면에 묘화시키는 제 2 제어 스텝을 갖고 있다.
따라서, 본 발명에 의한 노광 묘화 방법에 의하면 본 발명에 의한 노광 묘화 장치와 마찬가지로 작용하므로, 상기 노광 묘화 장치와 마찬가지로 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해버리는 것을 방지할 수 있다.
(발명의 효과)
본 발명에 의하면 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해버리는 것을 방지할 수 있다는 효과를 나타낸다.
도 1은 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템의 전체의 구성을 나타내는 개략 평면도이다.
도 2는 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치 및 제 2 노광 묘화 장치의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 3a는 실시형태에 의한 노광 헤드에 의한 노광 영역 및 노광 헤드의 배열 패턴을 나타내는 개략 평면도이다.
도 3b는 실시형태에 의한 노광 헤드에 의해 피노광 기판 상에 묘화되는 화상의 화상 영역을 나타내는 개략 평면도이다.
도 4는 실시형태에 의한 반전 장치의 구성을 나타내는 일부 파단 사시도이다.
도 5는 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치 및 제 2 노광 묘화 장치의 전기계의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 6은 실시형태에 의한 제어 장치의 전기계의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 7a는 실시형태에 의한 작업 정보의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 7b는 실시형태에 의한 작업 정보의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 8은 제 1 실시형태에 의한 작업 설정 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다.
도 9는 제 1 실시형태에 의한 작업 입력 화면의 구성예를 나타내는 구성도이다.
도 10은 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템에 의한 노광 묘화 처리의 설명에 제공하는 모식도이다.
도 11은 제 1 실시형태에 의한 제 1 작업 실행 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다.
도 12는 제 1 실시형태에 의한 제 2 작업 실행 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다.
도 13은 제 1 실시형태에 의한 작업 선택 화면의 구성예를 나타내는 구성도이다.
도 14는 제 2 실시형태에 의한 작업 설정 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다.
도 15는 제 2 실시형태에 의한 제 1 작업 실행 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다.
도 16은 제 2 실시형태에 의한 작업 선택 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다.
도 17은 제 2 실시형태에 의한 제 2 작업 실행 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다.
[제 1 실시형태]
이하, 실시형태에 의한 노광 묘화 장치에 대해서 첨부 도면을 사용해서 상세하게 설명한다. 또한, 각 실시형태에서는 본 발명을 피노광 기판[후술하는 피노광 기판(C)]에 광빔을 노광해서 회로 패턴을 나타내는 화상을 묘화하는 노광 묘화 시스템에 적용했을 경우를 예로 들어 설명한다. 또한, 피노광 기판(C)은 프린트 배선 기판, 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판 등의 평판 기판이다.
도 1에 나타내는 바와 같이 본 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)은 피노광 기판(C)의 제 1 면에 대한 노광을 행하는 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 피노광 기판(C)의 제 1 면과는 반대의 제 2 면에 대한 노광을 행하는 제 2 노광 묘화 장치(3)를 구비하고 있다. 또한, 노광 묘화 시스템(1)은 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)의 사이에 설치되고, 피노광 기판(C)의 표리를 반전하는 반전 장치(4) 및 피노광 기판(C)의 제 1 면 및 제 2 면에 대한 노광을 제어하는 제어 장치(5)를 구비하고 있다.
또한, 제 1 노광 묘화 장치(2)와 제어 장치(5) 사이, 제 2 노광 묘화 장치(3)와 제어 장치(5) 사이는 각각 유선 케이블(8a)로 접속되어 있고, 제어 장치(5)는 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3) 사이에서 유선 케이블(8a)을 통해 통신한다. 마찬가지로, 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)는 유선 케이블(8b)로 접속되어 있고, 이들 각 노광 묘화 장치는 유선 케이블(8b)을 통해 통신한다.
이어서, 본 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)의 구성에 대하여 설명한다. 또한, 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)는 동일한 구성을 갖기 때문에 여기에서는 제 1 노광 묘화 장치(2)에 대하여 설명하고, 제 2 노광 묘화 장치(3)에 관한 설명을 생략한다.
도 2에 나타내는 바와 같이 본 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치(2)는 피노광 기판(C)을 고정하기 위한 평판형상의 스테이지(10)를 구비하고 있다. 또한, 스테이지(10)의 상면에는 공기를 흡입하는 복수의 흡입 구멍(도시 생략)이 형성되어 있다. 스테이지(10)의 상면에 피노광 기판(C)이 탑재되었을 때에 피노광 기판(C) 및 스테이지(10) 사이의 공기가 흡입 구멍을 통해 흡입됨으로써 피노광 기판(C)이 스테이지(10)에 진공 흡착된다.
또한, 스테이지(10)는 탁자형상의 기체(11)의 상면에 이동 가능하게 설치된 평판형상의 기대(12)에 유지되어 있다. 즉, 기체(11)의 상면에는 1개 또는 복수개(본 실시형태에서는 2개)의 가이드 레일(14)이 설치되어 있다. 기대(12)는 가이드 레일(14)을 따라 자유자재로 이동할 수 있도록 유지되어 있고, 모터 등에 의해 구성된 구동 기구[후술하는 스테이지 구동부(42)]에 의해 구동되어서 이동한다. 스테이지(10)는 기대(12)의 이동에 연동해서 가이드 레일(14)을 따라 이동한다.
또한, 이하에서는 스테이지(10)가 이동하는 방향을 Y 방향으로 정하고, 이 Y 방향에 대하여 수평면 내에서 직교하는 방향을 X 방향으로 정하고, Y 방향에 연직면 내에서 직교하는 방향을 Z 방향으로 정한다.
기체(11)의 상면에는 2개의 가이드 레일(14)을 넘도록 세워서 설치된 문형의 게이트(15)가 설치되어 있다. 스테이지(10)에 탑재된 피노광 기판(C)은 게이트(15)의 개구부를 가이드 레일(14)을 따라 출입하도록 해서 이동한다. 게이트(15)의 개구부의 상부에는 상기 개구부를 향해서 광빔을 노광하는 노광부(16)가 부착되어 있다. 이 노광부(16)에 의해 스테이지(10)가 가이드 레일(14)을 따라 이동해서 상기 개구부에 위치하고 있을 경우에 스테이지(10)에 탑재된 피노광 기판(C)의 상면에 광빔이 노광된다.
본 실시형태에 의한 노광부(16)는 복수개(본 실시형태에서는 16개)의 노광 헤드(16a)를 포함해서 구성되어 있다. 노광 헤드(16a)의 각각은 노광부(16)에 있어서 매트릭스형상으로 배열되어 있다. 또한, 노광부(16)에는 후술하는 광원 유닛(17)으로부터 인출된 광 섬유(18)와, 후술하는 화상 처리 유닛(19)으로부터 인출된 신호 케이블(20)이 각각 접속되어 있다.
노광 헤드(16a)의 각각은 반사형의 공간 광변조 소자로서의 디지털 마이크로 디바이스(DMD)를 갖고 있다. 노광 헤드(16a)는 화상 처리 유닛(19)으로부터 입력되는 화상 정보에 의거하여 DMD를 제어함으로써 광원 유닛(17)으로부터의 광빔을 변조한다. 제 1 노광 묘화 장치(2)는 이 변조한 광빔을 피노광 기판(C)에 조사함으로써 피노광 기판(C)에 대한 노광을 행한다. 또한, 공간 광변조 소자는 반사형에 한정되지 않고, 액정 등의 투과형의 공간 광변조 소자이어도 좋다.
도 3a에 나타내는 바와 같이 노광 헤드(16a)에서 노광되는 영역인 화상 영역(P1)은 한쪽 변이 스테이지(10)의 이동 방향(Y 방향)에 대하여 미리 정해진 경사각으로 경사진 직사각형상이다. 또한, 도 3a에 있어서는 본 실시형태에 의한 복수의 노광 헤드(16a) 중 일부만을 나타내고 있다. 또한, 스테이지(10)가 게이트(15)의 개구부를 이동할 때에 노광 헤드(16a)에 의해 피노광 기판(C)에 광빔이 노광되면, 도 3b에 나타내는 바와 같이 스테이지(10)의 이동에 따라 피노광 기판(C)에 노광 헤드(16a)마다 띠형상의 노광이 완료된 영역(P2)이 형성된다. 매트릭스형상으로 배열된 노광 헤드(16a)의 각각은 X 방향으로 화상 영역(P1)의 긴 변의 길이를 자연수배(본 실시형태에서는 1배)한 거리씩 어긋나게 해서 배치되어 있다. 그리고, 노광이 완료된 영역(P2)의 각각은 인접하는 노광이 완료된 영역(P2)과 부분적으로 겹쳐서 형성된다.
도 2에 나타내는 바와 같이 기체(11)의 상면에는 2개의 가이드 레일(14)을 넘도록 세워서 설치된 문형의 게이트(22)가 더 설치되어 있다. 스테이지(10)에 탑재된 피노광 기판(C)은 게이트(22)의 개구부를 가이드 레일(14)을 따라 출입하도록 해서 이동한다.
게이트(22)의 개구부의 상부에는 개구부를 촬영하기 위한 1개 또는 복수개(본 실시형태에서는 3개)의 촬영부(23)가 부착되어 있다. 촬영부(23)는 1회의 발광 시간이 매우 짧은 스트로보를 내장한 CCD 카메라 등이다. 또한, 게이트(22)의 개구부의 상부에는 수평면 내에 있어서 스테이지(10)의 이동 방향(Y 방향)에 대하여 수직인 방향(X 방향)을 따라 레일(23a)이 설치되고, 촬영부(23)의 각각은 레일(23a)로 안내되어서 이동 가능하게 설치되어 있다. 이 촬영부(23)에 의해 스테이지(10)가 가이드 레일(14)을 따라 이동해서 상기 개구부에 위치하고 있을 경우에 스테이지(10)에 탑재된 피노광 기판(C)의 상면이 촬영된다.
도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이 제 1 노광 묘화 장치(2)는 외부로부터 반입된 피노광 기판(C)을 제 1 노광 묘화 장치(2)의 소정 위치까지 반송하는 제 1 반송부(6), 피노광 기판(C)을 제 1 노광 묘화 장치(2)로부터 반전 장치(4)의 소정 위치까지 반송하는 제 2 반송부(7)를 구비하고 있다. 마찬가지로, 제 2 노광 묘화 장치(3)는 피노광 기판(C)을 반전 장치(4)로부터 제 2 노광 묘화 장치(3)의 소정 위치까지 반송하는 제 1 반송부(6), 피노광 기판(C)을 제 2 노광 묘화 장치(3)의 외부로 반송하는 제 2 반송부(7)를 구비하고 있다.
제 1 반송부(6) 및 제 2 반송부(7)는 복수의 회전 롤러와 상기 회전 롤러를 회전하는 구동 모터를 갖고 있다. 상기 복수의 회전 롤러는 각각이 평행하게 부설되고, 회전 롤러의 일단에는 벨트 또는 와이어에 의해 전달되는 회전력을 받는 스프로킷 또는 활차가 부착된다. 회전 롤러를 회전하는 구동 모터의 회전력을 전달하는 수단으로서는 벨트 또는 와이어 이외에 원통형상의 마그넷에 의한 전달 방법도 채용할 수 있다.
또한, 도 2에 나타내는 바와 같이 제 1 노광 묘화 장치(2)는 제 1 반송부(6)에 의해 소정 위치까지 반송되어 온 피노광 기판(C)을 상기 소정 위치로부터 스테이지(10)까지 반송하는 오토캐리어 핸드(이하, AC 핸드)(24)를 구비하고 있다. AC 핸드(24)는 평판형상으로 형성됨과 아울러, X 방향 및 Z 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있다. AC 핸드(24)의 하면에는 공기를 흡입하는 복수의 흡입 구멍(25)이 형성되어 있다. AC 핸드(24)는 AC 핸드(24)의 하면이 피노광 기판(C)의 상면에 접하는 위치로 이동했을 때에 AC 핸드(24) 및 피노광 기판(C)의 사이의 공기를 흡입 구멍(25)으로 흡입함으로써 피노광 기판(C)을 AC 핸드(24)의 하면에 진공 흡착시켜서 흡착 유지한다. 또한, AC 핸드(24)의 하면에는 피노광 기판(C)을 흡착 유지한 상태로 AC 핸드(24)가 스테이지(10)의 상면까지 이동했을 때에 피노광 기판(C)을 하방을 향해 밀어내서 스테이지(10)에 압박하는 Z 방향으로 이동 가능한 압박부(26)가 형성되어 있다.
제 1 노광 묘화 장치(2)의 AC 핸드(24)는 제 1 반송부(6)까지 반송되어 온 미노광의 피노광 기판(C)을 흡착 유지해서 상방으로 이동시키고, 스테이지(10)의 상면에 탑재한다. 또한, 제 1 노광 묘화 장치(2)의 AC 핸드(24)는 스테이지(10)의 상면에 탑재된 제 1 면이 노광이 완료된 피노광 기판(C)을 흡착 유지함으로써 상방으로 이동시키고, 피노광 기판(C)을 제 2 반송부(7)까지 이동시킨다. 제 2 반송부(7)까지 이동한 제 1 면이 노광이 완료된 피노광 기판(C)은 제 2 반송부(7)에 의해 제 1 노광 묘화 장치(2)의 외부로 반출된다.
또한, 제 2 노광 묘화 장치(3)의 AC 핸드(24)는 제 1 반송부(6)까지 반송되어 온 제 1 면이 노광이 완료된 피노광 기판(C)을 흡착 유지해서 상방으로 이동시키고, 피노광 기판(C)을 스테이지(10)의 상면에 탑재한다. 또한, 제 2 노광 묘화 장치(3)의 AC 핸드(24)는 스테이지(10)의 상면에 탑재된 제 1 면 및 제 2 면이 노광이 완료된 피노광 기판(C)을 흡착 유지함으로써 상방으로 이동시키고, 피노광 기판(C)을 제 2 반송부(7)까지 이동시킨다. 제 2 반송부(7)까지 이동한 제 1 면 및 제 2 면이 노광이 완료된 피노광 기판(C)은 제 2 반송부(7)에 의해 노광 묘화 시스템(1)의 외부로 반출된다.
이어서, 본 실시형태에 의한 반전 장치(4)의 구성에 대하여 설명한다.
도 4에 나타내는 바와 같이 반전 장치(4)는 회동축(L)에 회전 가능하게 축지지된 평판형상의 서브 프레임(30)을 구비하고 있다. 서브 프레임(30)은 피노광 기판(C)을 내부에 유지한 상태로 180° 회전함으로써 피노광 기판(C)의 표리를 반전시킨다.
또한, 도 4에 나타내는 바와 같이 서브 프레임(30)이 갖는 측면 중, 제 1 노광 묘화 장치(2)가 위치하는 측의 측면에 피노광 기판(C)이 서브 프레임(30)의 내부에 반입되는 반입구(31)가 형성되어 있다. 또한, 서브 프레임(30)의 내부에는 모터(33)에 의해 구동되는 복수의 롤러 쌍(34)이 설치되어 있다. 롤러 쌍(34)은 서브 프레임(30)의 내부에 수납된 피노광 기판(C)을 협지한 상태로 반송한다. 피노광 기판(C)은 롤러 쌍(34)에 의해 반입구(31)를 통해 서브 프레임(30)의 내부로 반송됨과 아울러, 서브 프레임(30)의 회전에 의해 표리가 반전되고, 롤러 쌍(34)에 의해 반입구(31)를 통해 서브 프레임(30)의 외부로 반송된다. 또한, 서브 프레임(30)은 피노광 기판(C)의 반출을 종료하면, 다음의 피노광 기판(C)을 내부에 반입하기 위해서 다시 180° 회동한다.
이어서, 본 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)의 전기계의 구성에 대하여 설명한다. 또한, 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)는 동일한 전기계의 구성을 갖기 위해서 여기에서는 제 1 노광 묘화 장치(2)에 대하여 설명하고, 제 2 노광 묘화 장치(3)에 관한 설명을 생략한다.
도 5에 나타내는 바와 같이 제 1 노광 묘화 장치(2)에는 장치 각 부에 각각 전기적으로 접속되는 시스템 제어부(40)가 형성되어 있고, 이 시스템 제어부(40)에 의해 제 1 노광 묘화 장치(2)의 각 부가 총괄적으로 제어된다. 또한, 제 1 노광 묘화 장치(2)는 작업 기억부(41), 스테이지 구동부(42), 표시 장치(43), 입력 장치(44), 촬영 구동부(46), 및 외부 입출력부(48)를 갖고 있다.
시스템 제어부(40)는 CPU(Central Processing Unit), RAM(Random Access Memory), ROM(Read Only Memory), 및 HDD(Hard Disk Drive)를 갖고 있다. 또한, 시스템 제어부(40)는 상기 CPU에 의해 스테이지(10)의 이동에 따른 타이밍에서 광원 유닛(17)으로부터 광빔을 출사시킴과 아울러, 대응하는 화상 정보를 화상 처리 유닛(19)에 의해 출력시킨다. 시스템 제어부(40)는 이렇게 해서 노광 헤드(16a)에 의한 피노광 기판(C)에 대한 광빔의 노광을 제어한다.
작업 기억부(41)는 RAM이나 불휘발성 메모리를 갖고, 실행 대상으로 하는 작업을 나타내는 작업 정보를 기억한다. 본 실시형태에 있어서의 작업은 동일 종류의 1매 또는 복수매의 피노광 기판(C)의 제 1 면에 동일한 화상을 동일 조건에서 노광 묘화함과 아울러, 제 2 면에도 동일한 화상을 동일 조건에서 노광 묘화하는 일괄의 노광 처리 요구이다. 또한, 작업 정보의 상세에 관해서는 후술한다. 본 실시형태에서는 작업 기억부(41)는 실행 대상으로 하는 작업의 작업 정보를 리스트 형식으로 기억하지만, 이것에 한정되지 않고, 큐형식으로 기억해도 좋다.
스테이지 구동부(42)는 모터 또는 유압 펌프 등에 의해 구성된 구동 기구를 갖고 있고, 시스템 제어부(40)의 제어에 의해 스테이지(10)를 구동한다.
표시 장치(43)는 시스템 제어부(40)의 제어에 의해 각종 정보를 표시하는 액정 모니터 등의 표시 수단이다.
입력 장치(44)는 유저 조작에 의해 각종 정보를 입력하는 터치 센서나 조작 버튼 등의 입력 수단이다.
촬영 구동부(46)는 모터 또는 유압 펌프 등에 의해 구성된 구동 기구를 갖고 있고, 시스템 제어부(40)의 제어에 의해 촬영부(23)를 구동한다.
외부 입출력부(48)는 제 1 노광 묘화 장치(2)에 접속된 제 2 노광 묘화 장치(3) 및 제어 장치(5)를 포함하는 각종 정보 처리 장치와의 사이에서 각종 정보의 입출력을 행한다. 또한, 제 2 노광 묘화 장치(3)의 외부 입출력부(48)는 제 2 노광 묘화 장치(3)에 접속된 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제어 장치(5)를 포함하는 각종 정보 처리 장치와의 사이에서 각종 정보의 입출력을 행한다.
이어서, 본 실시형태에 의한 제어 장치(5)의 전기계의 구성에 대하여 설명한다.
도 6에 나타내는 바와 같이 제어 장치(5)는 노광 묘화 시스템(1)에 있어서의 노광 묘화 처리를 제어하는 제어부(50)를 구비하고 있다. 또한, 제어 장치(5)는 제어부(50)에 의한 노광 묘화 처리에 필요한 프로그램이나 각종 데이터를 기억하는 ROM 및 HDD 등을 갖는 기억부(51)를 구비하고 있다. 또한, 기억부(51)는 작업 정보, 작업 설정 처리 프로그램, 제 1 작업 실행 처리 프로그램, 제 2 작업 실행 처리 프로그램, 및 제 2 실시형태의 작업 선택 처리 프로그램도 기억하고 있다.
또한, 제어 장치(5)는 제어부(50)의 제어에 의거하여 각종 정보를 표시하는 액정 디스플레이 등의 표시부(52) 및 유저 조작에 의해 각종 정보를 입력하는 키보드나 마우스 등의 입력부(53)를 구비하고 있다. 또한, 제어 장치(5)는 제어부(50)의 제어에 의거하여 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)에 대한 각종 정보의 송수신을 행하는 통신 인터페이스(54)를 구비하고 있다.
여기에서, 본 실시형태에 의한 제어 장치(5)는 유저 조작에 의한 작업에 관한 정보의 입력을 접수한다. 또한, 제어 장치(5)는 작업에 관한 정보의 입력을 접수했을 때, 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)에 각각 대응하는 작업 정보를 생성하고, 생성한 작업 정보를 각각 대응하는 노광 묘화 장치에 송신한다. 본 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)는 작업 정보를 수신했을 때, 수신한 작업 정보를 작업 기억부(41)에 기억하고, 기억한 작업의 내용에 따라서 피노광 기판(C)에 대한 노광 묘화 처리를 실행한다. 이때, 본 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치(2)는 복수의 작업 정보를 기억하고 있을 경우에는 각 작업 정보를 수신한 순서대로 각 작업 정보에 의해 나타내어지는 작업을 실행한다. 또한, 본 실시형태에 의한 제 2 노광 묘화 장치(3)는 제 1 노광 묘화 장치(2)에서 실행된 작업에 대응하는 작업을 순차 실행한다.
작업 정보의 생성에 있어서, 제어 장치(5)는 제 1 노광 묘화 장치(2)에 피노광 기판(C)의 제 1 면에 화상을 묘화시키기 위한 작업 정보(60A) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)에 피노광 기판(C)의 제 2 면에 화상을 묘화시키기 위한 작업 정보(60B)를 각각 생성한다. 즉, 동일한 피노광 기판(C)에 관한 작업이어도 제 1 면 및 제 2 면에 대하여 각각 별개의 노광 묘화 장치로 노광 묘화 처리를 행하기 때문에 제 1 면용의 작업 정보(60A) 및 제 2 면용의 작업 정보(60B)를 각각 별개로 생성한다.
작업 정보(60A, 60B)는 일례로서 도 7a 및 도 7b에 나타내는 바와 같이 작업 식별 정보(61)와, 화상 정보(62)와, 노광 조건 정보(63)가 각각 작업마다 대응된 정보이다. 또한, 작업 식별 정보(61)는 각각의 작업을 식별하기 위한 정보이다. 또한, 화상 정보(62)는 묘화 대상으로 하는 화상을 나타내는 정보이다. 또한, 노광 조건 정보(63)는 피노광 기판(C)에 대응하는 화상을 묘화하기 위해서 광빔을 노광할 때의 노광 조건을 나타내는 정보이다. 본 실시형태에 의한 노광 조건 정보(63)는 묘화 대상으로 하는 피노광 기판(C)(이하, 「대상 기판」이라고 한다)의 기판 사이즈를 나타내는 기판 사이즈 정보 및 대상 기판의 묘화 매수를 나타내는 묘화 매수 정보를 포함하고 있다. 또한, 본 실시형태에 의한 노광 조건 정보(63)는 대상 기판에 대응하는 화상의 묘화 영역을 결정하기 위한 마크가 형성되어 있을 경우의 상기 마크의 배치 패턴이 좌표로 나타내어진 마크 정보 및 대상 기판의 감재종을 나타내는 감재종 정보 등을 포함하고 있다. 그러나, 노광 조건 정보(63)에 포함되는 정보는 이들에 한정되지 않고, 광빔의 강도를 나타내는 정보, 스테이지(10)의 이동 속도를 나타내는 정보 등 노광 묘화 처리를 행할 때에 사용되는 정보이면 임의의 정보이면 좋다.
작업자는 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)에 작업을 실행시키고 싶을 경우에 입력부(53)를 통해 작업 정보(60A, 60B)에 포함되는 각 정보를 제어 장치(5)에 입력한다. 이에 따라, 제어 장치(5)는 입력된 각 정보에 의거하여 제 1 면용의 작업 정보(60A) 및 제 2 면용의 작업 정보(60B)를 생성해서 기억부(51)에 기억하는 작업 설정 처리를 행한다.
이어서, 도 8을 참조해서 본 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)의 작용을 설명한다. 또한, 도 8은 입력부(53)를 통해 실행 지시가 입력되었을 때에 제어 장치(5)의 제어부(50)에 의해 실행되는 작업 설정 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다. 상기 프로그램은 기억부(51)의 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다.
우선, 스텝 S101에서는 유저에 의한 작업에 관한 정보의 입력을 보조하기 위한 작업 입력 화면을 표시부(52)에 표시시키는 제어를 행한다. 도 9에 나타내는 바와 같이 본 실시형태에 의한 작업 입력 화면(70)은 제 1 면의 작업에 관한 입력인지 제 2 면의 작업에 관한 입력인지를 선택하는 묘화 대상면 선택란(71)을 갖고 있다. 또한, 작업 입력 화면(70)은 묘화하는 화상을 나타내는 화상 식별 정보를 입력하는 화상 입력란(72)을 갖고 있다. 화상 식별 정보는 화상 정보를 포함하는 파일의 파일명이나, 화상 파일의 수용처를 나타내는 URL(Uniform Resource Locator) 등이다. 또한, 작업 입력 화면(70)은 입력 대상으로 하는 작업에 적용되는 피노광 기판(C)의 기판 종류를 나타내는 기판 종류 정보를 입력하는 기판 종류 입력란(73)을 갖고 있다. 또한, 작업 입력 화면(70)은 대상으로 하는 작업에 있어서의 피노광 기판(C)의 묘화 매수를 나타내는 묘화 매수 정보를 입력하는 묘화 매수 입력란(74)을 갖고 있다. 또한, 작업 입력 화면(70)은 입력이 종료된 취지를 나타내는 정보를 지정하기 위한 입력 종료 버튼(75)을 갖고 있다. 또한, 각 입력란에 각 정보를 입력할 때, 입력란마다 리스트 표시 등에 의해 선택 후보가 표시되고, 표시된 선택 후보 중 어느 하나 하나를 입력부(53)를 통해 선택하도록 해도 좋다. 유저는 입력부(53)를 사용해서 묘화 대상면 선택란(71)에서 묘화 대상으로 하는 면을 선택하고, 각 입력란에 대응하는 정보를 입력한 후, 입력 종료 버튼(75)을 지정한다.
그래서, 다음 스텝 S103에서는 입력 종료 버튼(75)이 지정될 때까지 대기함으로써 작업에 관한 정보의 입력이 종료될 때까지 대기한다.
다음의 스텝 S105에서는 묘화 대상면 선택란(71)에서 선택된 묘화 대상의 면 및 각 입력란에 입력된 각 정보에 의거하여 작업 정보(60A, 60B)를 생성하고, 생성한 작업 정보(60A, 60B)를 기억부(51)에 기억한다. 이때, 제어부(50)는 묘화 대상면 선택란(71)에서 제 1 면이 선택되었을 경우, 화상 입력란(72)에 입력된 정보가 나타내는 화상의 화상 정보를 화상 정보(62)로 하고, 묘화 매수 입력란(74)에 입력된 정보를 묘화 매수 정보로 하여 제 1 면의 작업 정보(60A)를 생성한다. 또한, 작업 정보(60A)에서는 기판 종류 입력란(73)에 입력된 정보로부터 기판 사이즈 정보, 마크 정보, 및 감재종 정보를 결정한다. 즉, 본 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 피노광 기판(C)의 기판 종류마다 기판 사이즈 정보, 마크 정보, 및 감재종 정보가 각각 대응되어 기억부(51)에 기억되어 있다. 그리고, 본 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 기판 종류 입력란(73)에 입력된 정보가 나타내는 기판 종류에 대응하는 기판 사이즈 정보, 마크 정보, 및 감재종 정보를 작업 정보(60A)의 기판 사이즈 정보, 마크 정보, 및 감재종 정보로 한다.
또한, 제어부(50)는 묘화 대상면 선택란(71)에서 제 2 면이 선택되었을 경우, 화상 입력란(72)에 입력된 정보가 나타내는 화상의 화상 정보를 화상 정보(62)로 하고, 묘화 매수 입력란(74)에 입력된 정보를 묘화 매수 정보로 해서 제 2 면의 작업 정보(60B)를 생성한다. 또한, 제어부(50)는 작업 정보(60B)에서도 작업 정보(60A)와 마찬가지로 해서 기판 사이즈 정보, 마크 정보, 및 감재종 정보를 결정해서 적용한다.
다음의 스텝 S107에서는 상기 스텝 S105의 처리에 있어서 생성한 작업 정보가 제 1 면의 작업 정보(60A)인지의 여부를 판정한다. 스텝 S107에서 긍정 판정이 된 경우에는 스텝 S109로 이행하고, 생성한 작업 정보(60A)를 제 1 노광 묘화 장치(2)에 유선 케이블(8a)을 통해 송신한다. 이에 대하여 제 1 노광 묘화 장치(2)는 수신한 작업 정보(60A)를 자신의 작업 기억부(41)에 기억한다.
한편, 스텝 S107에서 부정 판정이 된 경우에는 상기 스텝 S105의 처리에 의해 생성한 작업 정보가 제 2 면의 작업 정보(60B)이었던 것으로 간주해서 스텝 S111로 이행한다.
스텝 S111에서는 생성한 작업 정보(60B)를 제 2 노광 묘화 장치(3)에 유선 케이블(8a)을 통해 송신한 후, 본 작업 설정 처리 프로그램을 종료한다. 이에 대하여 제 2 노광 묘화 장치(3)는 수신한 작업 정보(60B)를 자신의 작업 기억부(41)에 기억한다.
이와 같이 본 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 도 10에 나타내는 바와 같이 제어 장치(5)가 유저에 의해 입력된 정보에 의거하여 제 1 면의 작업 정보(60A) 및 제 2 면의 작업 정보(60B)를 생성한다. 그리고, 제어 장치(5)에 의해 생성된 제 1 면의 작업 정보(60A)는 제 1 노광 묘화 장치(2)의 작업 기억부(41)에 수신된 순서로 기억되고, 제 2 면의 작업 정보(60B)는 제 2 노광 묘화 장치(3)의 작업 기억부(41)에 수신된 순서로 기억된다.
제 1 노광 묘화 장치(2)는 제어 장치(5)로부터 작업 정보(60A)를 수신해서 기억하면, 미리 정해진 유저 조작에 따라 기억한 작업 정보(60A)를 사용해서 피노광 기판(C)의 제 1 면에 화상을 묘화하는 제 1 작업 실행 처리를 행한다.
이어서, 도 11을 참조해서 본 실시형태에 의한 제 1 작업 실행 처리를 실행할 때의 제 1 노광 묘화 장치(2)의 작용을 설명한다. 또한, 도 11은 이때에 제 1 노광 묘화 장치(2)의 시스템 제어부(40)에 의해 실행되는 제 1 작업 실행 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다. 상기 프로그램은 시스템 제어부(40)가 구비하고 있는 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다. 또한, 상기 프로그램이 실행되는 타이밍은 미리 정해진 유저 조작에 따른 타이밍에 한정되지 않고, 작업 정보(60A)를 수신한 타이밍이어도 좋다.
처음에, 스텝 S200에서는 작업 기억부(41)에 기억하고 있는 작업 정보(60A)를 표시 장치(43)에 표시시키는 제어를 행한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 복수의 작업 정보(60A)가 기억되어 있을 경우에는 각 작업 정보(60A)를 리스트 형식으로 표시시키는 제어를 행한다. 유저는 실행 대상으로 하는 작업 정보(60A)의 묘화 매수 정보에 의해 나타내어지는 매수의 피노광 기판(C)을 제 1 노광 묘화 장치(2)의 제 1 반송부(6)의 상류측에 배치한다. 그리고, 유저는 입력 장치(44)를 통해 표시된 작업 정보(60A)를 선택 지정함으로써 지정한 작업 정보(60A)에 의해 나타내어지는 작업의 실행 지시를 입력한다.
다음의 스텝 S201에서는 상기 작업의 실행 지시가 입력될 때까지 대기하고, 다음의 스텝 S203에서는 실행이 지시된 작업(이하, 「실행 제 1 면 작업」이라고 한다)에 대응하는 작업 정보(60A)로부터 화상 정보(62)를 취득한다. 또한, 본 실시형태에서는 묘화하는 화상의 화상 정보(62)를 취득할 때, 자신의 작업 기억부(41)에 기억되어 있는 화상 정보[작업 정보(60A)의 화상 정보(62)]를 취득하지만, 이것에 한정되지 않는다. 즉, 작업 정보(60A)에 상기 화상 식별 정보를 부여해 두고, 상기 화상 식별 정보에 의거하여 묘화하는 화상의 화상 정보를 제어 장치(5)나 외부의 기억 장치로부터 취득해도 좋다.
다음의 스텝 S205에서는 실행 제 1 면 작업의 실행에 의해 피노광 기판(C)에 화상을 묘화할 때의 노광 조건을 결정한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 실행 제 1 면 작업의 작업 정보(60A)에 있어서의 기판 사이즈 정보, 묘화 매수 정보, 마크 정보, 및 감재종 정보에 의거하여 노광 조건을 결정한다. 본 실시형태에서는 우선, 시스템 제어부(40)는 촬영부(23)에 의해 피노광 기판(C)에 형성된 상기 마크를 촬영하고, 촬영에 의해 얻어진 화상으로부터 상기 마크의 위치를 계측한다. 또한, 시스템 제어부(40)는 계측한 마크의 위치에 의거하여 화상을 묘화하는 묘화 영역을 결정한다. 또한, 시스템 제어부(40)는 결정한 묘화 영역의 사이즈나 형상에 의거하여 묘화 대상으로 하는 화상을 변형시킨다. 그리고, 시스템 제어부(40)는 상기 감재종 정보가 나타내는 감재종에 따라 노광하는 광빔의 강도, 스테이지(10)의 이동 속도(또는 광빔의 노광 시간) 등을 결정한다.
다음의 스텝 S207에서는 결정한 노광 조건에 따라 피노광 기판(C)에 광빔을 노광해서 화상을 묘화하는 노광 묘화 처리를 개시한다. 본 실시형태에 의한 노광 묘화 처리에서는 시스템 제어부(40)는 변형시킨 화상에 의거하여 변조시킨 광빔을 노광 헤드(16a)에 의해 노광함으로써 상기 변형시킨 화상을 피노광 기판(C)에 묘화한다.
다음의 스텝 S209에서는 미리 정해진 에러가 발생했는지의 여부를 판정한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 피노광 기판(C)의 변형이나 위치 결정 불량, 광원 유닛(17)이나 화상 처리 유닛(19), 노광부(16) 등의 노광 묘화를 행할 때에 사용되는 부위의 고장 등에 의해 노광 묘화 처리가 도중에 정지했을 경우 등에 에러가 발생했다고 판정한다. 스텝 S209에서 긍정 판정이 된 경우에는 스텝 S211로 이행하고, 에러가 발생한 취지를 나타내는 에러 정보를 제어 장치(5)에 송신하여 본제 1 작업 실행 처리 프로그램을 종료한다. 이에 대하여 에러 정보를 수신한 제어 장치(5)는 에러 정보를 표시부(52)에 표시시키는 제어를 행한다. 또한, 시스템 제어부(40)는 에러 정보를 제 2 노광 묘화 장치(3)에 송신해도 좋다. 이에 대하여 에러 정보를 수신한 제 2 노광 묘화 장치(3)는 상기 에러 정보를 표시 장치(43)에 표시하는 제어를 행하거나, 에러가 발생한 실행 제 1 면 작업에 대응하는 작업의 작업 정보(60B)를 삭제하거나 한다.
한편, 스텝 S209에서 긍정 판정이 된 경우에는 스텝 S213으로 이행한다.
스텝 S213에서는 1매의 피노광 기판(C)에 대한 노광 묘화 처리가 완료되었는지의 여부를 판정한다. 스텝 S213에서 부정 판정이 된 경우에는 상기 스텝 S209로 리턴되는 한편, 스텝 S213에서 긍정 판정이 된 경우에는 스텝 S215로 이행한다.
스텝 S215에서는 실행 제 1 면 작업의 노광 조건 정보(63)를 제 2 노광 묘화 장치(3)에 송신한다. 또한, 본 실시형태에서는 제 1 노광 묘화 장치(2)로부터 제 2 노광 묘화 장치(3)에 실행 제 1 면 작업의 노광 조건 정보(63)를 송신하지만, 이것에 한정되지 않는다. 즉, 송신되는 정보는 제 2 노광 묘화 장치(3)가 실행 제 1 면 작업의 노광 조건 정보(63)를 포함한 정보이면 좋기 때문에, 예를 들면 작업 정보(60A) 그 자체이어도 좋다. 또한, 송신되는 정보는 실행 제 1 면 작업의 노광 조건 정보(63)에 포함되는 미리 정해진 정보(예를 들면, 기판 사이즈 정보만, 기판 사이즈 및 마크 정보 등)이어도 좋다.
다음의 스텝 S217에서는 실행 제 1 면 작업이 완료되었는지의 여부를 판정한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 노광 조건 정보(63)의 묘화 매수 정보에 나타내어지는 묘화 매수의 피노광 기판(C)에 대한 노광 묘화 처리가 완료되었을 경우에 실행 제 1 면 작업이 완료되었다고 판정한다.
스텝 S217에서 부정 판정이 된 경우에는 상기 스텝 S209로 리턴되는 한편, 긍정 판정이 된 경우에는 본 제 1 작업 실행 처리 프로그램을 종료한다.
본 실시형태에 의한 제 2 노광 묘화 장치(3)는 실행 제 1 면 작업의 노광 조건 정보(63)를 제 1 노광 묘화 장치(2)로부터 수신하면 노광 조건 정보(63)와 제어 장치(5)로부터 수신한 작업 정보(60B)에 의거하여 피노광 기판(C)의 제 2 면에 화상을 묘화하는 제 2 작업 실행 처리를 행한다.
이어서, 도 12를 참조해서 본 실시형태에 의한 제 2 작업 실행 처리를 실행할 때의 제 2 노광 묘화 장치(3)의 작용을 설명한다. 또한, 도 12는 이때에 제 2 노광 묘화 장치(3)의 시스템 제어부(40)에 의해 실행되는 제 2 작업 실행 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다. 상기 프로그램은 시스템 제어부(40)가 구비하고 있는 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다. 또한, 상기 프로그램이 실행되는 타이밍은 실행 대상의 작업의 작업 식별 정보를 수신한 타이밍에 한정되지 않고, 유저에 의해 입력 장치(44)를 통해 미리 정해진 실행 지시가 입력된 타이밍 등이어도 좋다.
처음에, 스텝 S301에서는 작업 기억부(41)에 기억하고 있는 작업 정보(60B)에 수신한 실행 제 1 면 작업의 노광 조건 정보(63)와 동일한 노광 조건 정보(63)를 갖는 작업 정보(60B)가 복수 존재하는지의 여부를 판정한다.
스텝 S301에서 긍정 판정이 된 경우에는 스텝 S303으로 이행하고, 유저에 의한 작업의 선택을 보조하기 위한 작업 선택 화면(76)을 표시 장치(43)에 표시하는 제어를 행한다. 도 13에 나타내는 바와 같이 본 실시형태에 의한 작업 선택 화면(76)은 작업 기억부(41)에 기억되어 있는 작업 정보(60B) 중 어느 하나를 선택하는 선택 버튼(77) 및 어느 작업도 선택하지 않는 비선택 버튼(78)을 갖고 있다. 유저는 입력 장치(44)를 사용해서 어느 하나의 선택 버튼(77) 또는 비선택 버튼(78)을 지정한다.
다음의 스텝 S304에서는 어느 하나의 선택 버튼(77) 또는 비선택 버튼(78)이 선택될 때까지 대기한다.
다음의 스텝 S305에서는 어느 하나의 작업이 선택되었는지의 여부를 판정한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 어느 하나의 선택 버튼(77)이 선택되었을 경우, 어느 하나의 작업이 선택되었다고 판정(긍정 판정)하고, 비선택 버튼(78)이 선택되었을 경우, 어느 하나의 작업이 선택되지 않았다고 판정(부정 판정)한다.
스텝 S305에서 긍정 판정이 된 경우에는 선택된 작업을 실행 대상으로 하는 작업(이하, 「실행 제 2 면 작업」이라고 한다)으로 하고, 후술하는 스텝 S309로 이행한다. 한편, 스텝 S305에서 부정 판정이 된 경우에는 스텝 S317로 이행하고, 작업이 선택되지 않은 취지를 나타내는 에러 정보를 제어 장치(5)에 송신해서 본 제 2 작업 실행 처리 프로그램을 종료한다. 이에 대하여 제어 장치(5)는 수신한 에러 정보를 표시부(52)에 표시하는 제어를 행한다.
한편, 스텝 S301에서 부정 판정이 된 경우에는 스텝 S307로 이행한다.
스텝 S307에서는 작업 기억부(41)에 기억하고 있는 작업 정보(60B)에 수신한 실행 제 1 면 작업의 노광 조건 정보(63)와 동일한 노광 조건 정보(63)를 갖는 제 2 면의 작업을 나타내는 작업 정보(60B)가 1개만 존재하는지의 여부를 판정한다.
스텝 S307에서 부정 판정이 된 경우에는 스텝 S317로 이행하고, 실행 대상으로 하는 작업이 존재하지 않는 취지를 나타내는 에러 정보를 제어 장치(5)에 송신하여 본 제 2 작업 실행 처리 프로그램을 종료한다. 이에 대하여 제어 장치(5)는 수신한 에러 정보를 표시부(52)에 표시하는 제어를 행한다.
한편, 스텝 S307에서 긍정 판정이 된 경우에는 상기 스텝 S307의 처리에 의해 존재하면 판정된 작업 정보(60B)를 실행 제 2 면 작업으로 하고, 스텝 S309로 이행한다. 또한, 이때 상기 스텝 S307의 처리에 의해 존재하면 판정된 작업 정보(60B)를 표시 장치(43)에 표시하고, 상기 작업 정보(60B)에 의해 나타내어지는 작업의 실행 지시의 입력을 접수해도 좋다. 이 경우에는 실행 지시의 입력을 접수한 후에 스텝 S309로 이행한다.
스텝 S309에서는 실행 제 2 면 작업의 작업 정보(60B)로부터 피노광 기판(C)의 제 2 면에 묘화하는 화상의 화상 정보(62)를 취득한다. 또한, 본 실시형태에서는 화상 정보(62)를 취득할 때, 자신의 작업 기억부(41)에 기억되어 있는 화상 정보[작업 정보(60B)의 화상 정보(62)]를 취득하지만, 이것에 한정되지 않는다. 즉, 작업 정보(60B)에 상기 화상 식별 정보를 부여해 두고, 상기 화상 식별 정보에 의거하여 묘화하는 화상의 화상 정보를 제어 장치(5)나 외부의 기억 장치로부터 취득해도 좋다.
다음의 스텝 S311에서는 실행 대상으로 하는 작업인 실행 제 2 면 작업에 있어서 피노광 기판(C)에 화상을 묘화할 때의 노광 조건을 결정한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 상기 스텝 S205와 마찬가지의 방법으로 실행 제 2 면 작업의 작업 정보(60B)에 있어서의 기판 사이즈 정보, 묘화 매수 정보, 마크 정보, 및 감재종 정보에 의거하여 노광 조건을 결정한다.
일례로서 도 7a 및 도 7b에 나타내는 바와 같이 작업 A와 작업 A'는 동일한 노광 조건 정보(63)를 갖고, 작업 B과 작업 B'는 동일한 노광 조건 정보(63)를 갖는 것으로 한다. 또한, 일례로서 도 10에 나타내는 바와 같이 제 1 노광 묘화 장치(2)에 있어서, 제 1 면에 대응하는 화상을 묘화하는 작업 A의 작업 정보(60A), 작업 B의 작업 정보(60A) 등이 기억되어 있는 것으로 한다. 또한, 제 2 노광 묘화 장치(3)에 있어서, 제 2 면에 대응하는 화상을 묘화하는 작업 A'의 작업 정보(60B), 작업 B'의 작업 정보(60B)가 기억되어 있는 것으로 한다. 이 상태에서 제 1 노광 묘화 장치(2)에 있어서 작업 A가 실행되었을 경우, 제 2 노광 묘화 장치(3)에서는 작업 A와 동일한 노광 조건 정보(63)를 갖는 작업 A'가 실행 대상이 된다.
다음의 스텝 S313에서는 상술한 제 1 작업 실행 처리 프로그램의 스텝 S207의 처리와 마찬가지로 결정한 노광 조건에 따라 피노광 기판(C)에 광빔을 노광해서 화상을 묘화하는 노광 묘화 처리를 개시한다.
다음의 스텝 S315에서는 미리 정해진 에러가 발생되었는지의 여부를 판정한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 피노광 기판(C)의 변형이나 위치 결정 불량, 광원 유닛(17)이나 화상 처리 유닛(19), 노광부(16) 등의 노광 묘화를 행할 때에 사용되는 부위의 고장 등에 의해 노광 묘화 처리가 도중에 정지했을 경우 등에 에러가 발생했다고 판정한다. 스텝 S315에서 긍정 판정이 된 경우에는 스텝 S317로 이행하고, 에러가 발생한 취지를 나타내는 에러 정보를 제어 장치(5)에 송신하여 본 제 2 작업 실행 처리 프로그램을 종료한다. 이에 대하여 제어 장치(5)는 수신한 에러 정보를 표시부(52)에 표시하는 제어를 행한다.
한편, 스텝 S315에서 긍정 판정이 된 경우에는 스텝 S319로 이행한다.
스텝 S319에서는 피노광 기판(C)에 대한 노광 묘화 처리가 완료되었는지의 여부를 판정한다. 스텝 S319에서 부정 판정이 된 경우에는 상기 스텝 S315로 리턴되는 한편, 긍정 판정이 된 경우에는 스텝 S321로 이행한다.
다음의 스텝 S321에서는 실행 제 2 면 작업이 완료되었는지의 여부를 판정한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 노광 조건 정보(63)의 묘화 매수 정보에 나타내어지는 묘화 매수의 피노광 기판(C)에 대한 노광 묘화 처리가 완료되었을 경우에 실행 제 2 면 작업이 완료되었다고 판정한다. 스텝 S321에서 부정 판정이 된 경우에는 스텝 S323으로 이행한다.
스텝 S323에서는 실행 제 2 면 작업에 있어서의 다음의 피노광 기판(C)에 대한 화상의 묘화를 행하기 위한 노광 조건 정보를 수신할 때까지 대기한다.
다음의 스텝 S325에서는 수신한 노광 조건 정보가 실행 제 2 면 작업의 작업 정보(60B)의 노광 조건 정보와 동일한지의 여부를 판정한다. 스텝 S325에서 긍정 판정이 된 경우에는 실행 제 2 면 작업의 실행을 계속하고, 상기 스텝 S315로 이행한다. 한편, 스텝 S325에서 부정 판정이 된 경우에는 스텝 S317로 이행하고, 실행 제 2 면 작업의 작업 정보(60B)의 노광 조건 정보와는 다른 노광 조건 정보를 수신한 취지를 나타내는 에러 정보를 제어 장치(5)에 송신해서 본 제 1 작업 실행 처리 프로그램을 종료한다.
한편, 스텝 S321에서 긍정 판정이 된 경우에는 본제 1 작업 실행 처리 프로그램을 종료한다.
[제 2 실시형태]
이하, 제 2 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 대해서 첨부 도면을 사용해서 상세하게 설명한다.
상기 제 1 실시형태에서는 제 1 노광 묘화 장치(2)로부터 제 2 노광 묘화 장치(3)에 실행 제 1 면 작업을 나타내는 정보를 송신하고, 제 2 노광 묘화 장치(3)에 대응하는 작업을 선택해서 실행한다. 한편, 제 2 실시형태에서는 제 1 노광 묘화 장치(2)로부터 제어 장치(5)에 실행 제 1 면 작업을 나타내는 정보를 송신하여 제어 장치(5)에서 대응하는 작업을 선택하고, 선택한 작업을 제 2 노광 묘화 장치(3)에 송신한다.
또한, 제 2 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)의 구성은 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)과 마찬가지이므로 여기에서는 설명은 생략한다.
이어서, 도 14를 참조해서 본 실시형태에 의한 작업 설정 처리를 실행할 때의 제어 장치(5)의 작용을 설명한다. 또한, 도 14는 이때에 제어 장치(5)의 제어부(50)에 의해 실행되는 작업 설정 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다. 상기 프로그램은 기억부(51)의 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다.
우선, 스텝 S401~S405에서는 제 1 실시형태의 스텝 S101~S105와 마찬가지의 처리를 행한다.
다음의 스텝 S407에서는 생성한 제 1 면의 작업 정보(60A)를 제 1 노광 묘화 장치(2)에 유선 케이블(8a)을 통해 송신하여 본 작업 설정 처리 프로그램을 종료한다. 제 1 노광 묘화 장치(2)는 수신한 작업 정보(60A)를 작업 기억부(41)에 기억한다.
제 1 노광 묘화 장치(2)는 작업 정보(60A)를 기억하면, 미리 정해진 유저 조작에 따라 작업 정보(60A)에 의거하여 피노광 기판(C)의 제 1 면에 화상을 묘화하는 제 1 작업 실행 처리를 행한다.
이어서, 도 15를 참조해서 본 실시형태에 의한 제 1 작업 실행 처리를 실행할 때의 제 1 노광 묘화 장치(2)의 작용을 설명한다. 또한, 도 15는 이때에 제 1 노광 묘화 장치(2)의 시스템 제어부(40)에 의해 실행되는 제 1 작업 실행 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다. 상기 프로그램은 시스템 제어부(40)가 구비하고 있는 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다. 또한, 상기 프로그램이 실행되는 타이밍은 미리 정해진 유저 조작에 따른 타이밍에 한정되지 않고, 작업 정보(60A)를 수신한 타이밍 등이어도 좋다.
스텝 S500~S513에서는 제 1 실시형태의 스텝 S201~S213과 마찬가지의 처리를 행한다.
스텝 S515에서는 실행 제 1 면 작업의 작업 정보(60A)에 있어서의 노광 조건 정보(63)를 제어 장치(5)에 송신한다.
다음의 스텝 S517에서는 제 1 실시형태의 스텝 S217과 마찬가지의 처리를 행하여 본 제 1 작업 실행 처리 프로그램을 종료한다.
본 실시형태에 의한 제어 장치(5)는 작업 정보(60A)의 노광 조건 정보를 제 1 노광 묘화 장치(2)로부터 수신하면 기억부(51)에 기억하고 있는 작업 정보(60B)로부터 수신한 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 작업 정보(60B)를 선택하는 작업 선택 처리를 행한다.
이어서, 도 16을 참조해서 본 실시형태에 의한 작업 선택 처리를 실행할 때의 제어 장치(5)의 작용을 설명한다. 또한, 도 16은 이때에 제어 장치(5)의 제어부(50)에 의해 실행되는 작업 선택 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다. 상기 프로그램은 기억부(51)의 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다. 또한, 상기 프로그램이 실행되는 타이밍은 노광 조건 정보를 수신한 타이밍에 한정되지 않고, 유저에 의해 입력부(53)를 통해 미리 정해진 실행 지시가 입력된 타이밍 등이어도 좋다.
우선, 스텝 S601에서는 기억부(51)에 기억하고 있는 제 2 면의 작업 정보(60B) 중, 수신한 실행 제 1 면 작업의 노광 조건 정보(63)와 동일한 노광 조건 정보(63)를 갖는 제 2 면의 작업 정보(60B)가 존재하는지의 여부를 판정한다.
스텝 S601에서 긍정 판정이 된 경우에는 스텝 S605로 이행하고, 실행 제 1 면 작업의 노광 조건 정보(63)와 동일한 노광 조건 정보(63)를 갖는 제 2 면의 작업 정보(60B)를 제 2 노광 묘화 장치(3)에 유선 케이블(8a)을 통해 송신한다. 제 2 노광 묘화 장치(3)는 수신한 제 2 면의 작업 정보(60B)를 작업 기억부(41)에 기억한다.
한편, 스텝 S601에서 부정 판정이 된 경우에는 스텝 S605로 이행하고, 실행 제 1 면 작업의 노광 조건 정보(63)와 동일한 노광 조건 정보(63)를 갖는 제 2 면의 작업 정보(60B)가 존재하지 않는 취지를 나타내는 에러 정보를 표시부(52)에 표시하는 제어를 행한다.
본 실시형태에 의한 제 2 노광 묘화 장치(3)는 상기 제 2 면의 작업 정보(60B)를 제어 장치(5)로부터 수신하면, 수신한 작업 정보(60B)에 의거하여 피노광 기판(C)의 제 2 면에 화상을 묘화하는 제 2 작업 실행 처리를 행한다.
이어서, 도 17을 참조해서 본 실시형태에 의한 제 2 작업 실행 처리를 실행할 때의 제 2 노광 묘화 장치(3)의 작용을 설명한다. 또한, 도 17은 이때에 제 2 노광 묘화 장치(3)의 시스템 제어부(40)에 의해 실행되는 제 2 작업 실행 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다. 상기 프로그램은 시스템 제어부(40)가 구비하고 있는 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다. 또한, 상기 프로그램이 실행되는 타이밍은 작업 정보(60B)를 수신한 타이밍에 한정되지 않고, 유저에 의해 입력 장치(44)를 통해 미리 정해진 실행 지시가 입력된 타이밍 등이어도 좋다.
처음에, 스텝 S701~S705에서는 제 1 실시형태의 스텝 S301~S305와 마찬가지의 처리를 행한다.
스텝 S707~S723에서는 제 1 실시형태의 스텝 S309~S325와 마찬가지의 처리를 행하여 본 제 2 작업 실행 처리 프로그램을 종료한다.
1 : 노광 묘화 시스템 2 : 제 1 노광 묘화 장치
3 : 제 2 노광 묘화 장치 4 : 반전 장치
5 : 제어 장치 10 : 스테이지
16a : 노광 헤드 40 : 시스템 제어부
41 : 작업 기억부 50 : 제어부
51 : 기억부 60A : 제 1 작업 정보
60B : 제 2 작업 정보 C : 피노광 기판

Claims (12)

  1. 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 면을 노광함으로써 그 제 1 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 1 면에 묘화하는 제 1 묘화 수단과,
    피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대의 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 각각 대응된 복수의 제 2 작업 정보를 기억하는 기억 수단과,
    상기 기억 수단이 기억하고 있는 상기 복수의 제 2 작업 정보 중 상기 제 1 묘화 수단으로 피노광 기판의 상기 제 1 면에 대한 화상의 묘화에 사용한 상기 제 1 작업 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 상기 제 2 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 면에 화상을 묘화한 피노광 기판의 상기 제 2 면을 노광함으로써 그 제 2 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 2 면에 묘화하는 제 2 묘화 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 노광 조건은 상기 피노광 기판의 사이즈, 상기 피노광 기판의 노광 대상으로 하는 매수, 상기 피노광 기판에 화상의 묘화 영역을 결정하기 위한 마크가 형성되어 있을 경우의 그 마크의 배치 패턴 및 상기 피노광 기판의 감재종의 적어도 1개를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
  3. 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 면을 노광함으로써 그 제 1 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 1 면에 묘화하는 제 1 묘화 수단, 및
    상기 제 1 묘화 수단으로 피노광 기판의 상기 제 1 면에 대한 화상의 묘화에 사용한 상기 제 1 작업 정보의 노광 조건 정보를 송신하는 송신 수단을 구비한 제 1 노광 묘화 장치와,
    피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대의 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 각각 대응된 복수의 제 2 작업 정보를 기억하는 기억 수단,
    상기 송신 수단에 의해 송신된 상기 노광 조건 정보를 수신하는 수신 수단, 및
    상기 기억 수단에 의해 기억하고 있는 상기 복수의 제 2 작업 정보로부터 상기 수신 수단에 의해 수신한 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 상기 제 2 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 묘화 수단으로 상기 제 1 면에 화상을 묘화한 피노광 기판의 상기 제 2 면을 노광함으로써 그 제 2 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 그 제 2 면에 묘화하는 제 2 묘화 수단을 구비한 제 2 노광 묘화 장치를 갖는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 시스템.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 제 1 노광 묘화 장치의 상기 송신 수단은 상기 제 1 묘화 수단에 의한 묘화가 정상적으로 종료되었을 경우의 노광 조건 정보를 송신하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 시스템.
  5. 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
    상기 제 1 노광 묘화 장치의 상기 송신 수단은 상기 제 1 묘화 수단에 의한 묘화가 비정상적으로 종료되었을 경우, 에러가 발생한 취지를 나타내는 에러 정보를 송신하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 시스템.
  6. 제 3 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 2 노광 묘화 장치는 상기 기억 수단에 의해 기억하고 있는 상기 복수의 제 2 작업 정보에 상기 수신 수단에 의해 수신한 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 상기 제 2 작업 정보가 복수 존재했을 경우, 복수 존재하는 상기 제 2 작업 정보 중 어느 하나의 상기 제 2 작업 정보의 선택을 접수하는 접수 수단을 더 구비하고,
    상기 제 2 노광 묘화 장치의 상기 제 2 묘화 수단은 상기 접수 수단에 의해 선택이 접수된 상기 제 2 작업 정보에 의거하여 상기 제 2 면에 화상을 묘화하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 시스템.
  7. 제 3 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 1 작업 정보 및 상기 제 2 작업 정보를 기억하는 제 2 기억 수단, 및
    상기 제 2 기억 수단에 의해 기억하고 있는 상기 제 1 작업 정보를 상기 제 1 노광 묘화 장치에 송신하고, 상기 제 2 작업 정보를 상기 제 2 노광 묘화 장치에 송신하는 제 2 송신 수단을 구비한 제어 장치를 더 구비하고,
    상기 제 1 노광 묘화 장치는 상기 제 2 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 1 작업 정보를 수신하는 제 2 수신 수단을 더 구비하고,
    상기 제 1 노광 묘화 장치의 상기 제 1 묘화 수단은 상기 제 2 수신 수단에 의해 수신한 상기 제 1 작업 정보를 사용해서 상기 제 1 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 1 면에 묘화하고,
    상기 제 2 노광 묘화 장치는 상기 제 2 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 2 작업 정보를 수신하는 제 3 수신 수단을 더 구비하고,
    상기 제 2 노광 묘화 장치의 상기 기억 수단은 상기 제 3 수신 수단에 의해 수신한 상기 제 2 작업 정보를 복수 기억하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 시스템.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 제어 장치는 상기 제 1 작업 정보 및 상기 제 2 작업 정보의 입력을 접수하는 제 2 접수 수단을 더 구비하고,
    상기 제어 장치의 상기 제 2 기억 수단은 상기 제 2 접수 수단에 의해 접수한 상기 제 1 작업 정보 및 상기 제 2 작업 정보를 기억하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 시스템.
  9. 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 면을 노광함으로써 그 제 1 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 1 면에 묘화하는 제 1 묘화 수단, 및
    상기 제 1 묘화 수단으로 피노광 기판의 상기 제 1 면에 대한 화상의 묘화에 사용한 상기 제 1 작업 정보의 노광 조건 정보를 송신하는 제 1 송신 수단을 구비한 제 1 노광 묘화 장치와,
    피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대의 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 각각 대응된 복수의 제 2 작업 정보를 기억하는 기억 수단,
    상기 제 1 송신 수단에 의해 송신된 노광 조건 정보를 수신하는 제 1 수신 수단, 및
    상기 기억 수단에 의해 기억된 상기 복수의 제 2 작업 정보 중 상기 제 1 수신 수단에 의해 수신한 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 상기 제 2 작업 정보를 송신하는 제 2 송신 수단을 구비한 제어 장치와,
    상기 제 2 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 2 작업 정보를 수신하는 제 2 수신 수단, 및
    상기 제 2 수신 수단에 의해 수신한 상기 제 2 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 묘화 수단에 의해 상기 제 1 면에 화상을 묘화한 피노광 기판의 상기 제 2 면을 노광함으로써 그 제 2 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 그 제 2 면에 묘화하는 제 2 묘화 수단을 구비한 제 2 노광 묘화 장치를 갖는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 시스템.
  10. 제 3 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 노광 조건은 상기 피노광 기판의 사이즈, 상기 피노광 기판의 노광 대상으로 하는 매수, 상기 피노광 기판에 화상의 묘화 영역을 결정하기 위한 마크가 형성되어 있을 경우의 상기 마크의 배치 패턴, 및 상기 피노광 기판의 감재종 중 적어도 1개를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 시스템.
  11. 컴퓨터를,
    제 1 묘화 수단에 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 면을 노광함으로써 그 제 1 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 1 면에 묘화시키는 제 1 제어 수단과,
    제 2 묘화 수단에 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대의 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 각각 대응된 복수의 제 2 작업 정보 중, 상기 제 1 묘화 수단으로 피노광 기판의 상기 제 1 면에 대한 화상의 묘화에 사용한 상기 제 1 작업 정보의 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 상기 제 2 작업 정보에 의거하여 그 제 1 면에 화상을 묘화한 피노광 기판의 상기 제 2 면을 노광함으로써 그 제 2 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 2 면에 묘화시키는 제 2 제어 수단으로서 기능시키기 위한 것을 특징으로 하는 프로그램.
  12. 제 1 묘화 수단에 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 작업 정보에 의거하여 상기 제 1 면을 노광함으로써 그 제 1 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 1 면에 묘화시키는 제 1 제어 스텝과,
    제 2 묘화 수단에 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대의 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 각각 대응된 복수의 제 2 작업 정보 중, 상기 제 1 묘화 수단으로 피노광 기판의 상기 제 1 면에 대한 화상의 묘화에 사용한 상기 제 1 작업 정보의 노광 조건 정보와 동일한 노광 조건 정보를 갖는 상기 제 2 작업 정보에 의거하여 그 제 1 면에 화상을 묘화한 피노광 기판의 상기 제 2 면을 노광함으로써 그 제 2 작업 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 2 면에 묘화시키는 제 2 제어 스텝을 갖는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 방법.
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6096453B2 (ja) * 2012-09-27 2017-03-15 株式会社アドテックエンジニアリング 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法
WO2018225168A1 (ja) * 2017-06-07 2018-12-13 株式会社Ｆｕｊｉ 部品判定システム、および部品判定方法
TWI725393B (zh) * 2019-03-12 2021-04-21 萬里科技股份有限公司 用於戒指攝影的轉盤與光箱

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990083365A (ko) * 1998-04-22 1999-11-25 가나이 쓰토무 반도체제조방법및제조장치,및그것에의해제조된반도체디바이스
JP2001284231A (ja) * 2000-03-31 2001-10-12 Canon Inc 露光装置及びエラー発生時のパターンで処理を振り分ける方法
JP2002341550A (ja) 2001-05-17 2002-11-27 Dainippon Screen Mfg Co Ltd レーザー露光装置
JP2004279446A (ja) * 2003-03-12 2004-10-07 Shinko Electric Ind Co Ltd パターン描画装置、パターン描画方法、および検査装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6172216A (ja) * 1984-09-17 1986-04-14 Shinku Lab:Kk 露光方法
JP4034975B2 (ja) * 2002-02-13 2008-01-16 株式会社ルネサステクノロジ 半導体デバイスの製造方法
JP4317488B2 (ja) * 2004-05-28 2009-08-19 株式会社オーク製作所 露光装置、露光方法および露光処理プログラム
JP4606990B2 (ja) * 2005-10-07 2011-01-05 富士フイルム株式会社 デジタル露光装置
JP2008242218A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Fujifilm Corp 描画装置及び描画方法
JP4922071B2 (ja) * 2007-05-28 2012-04-25 株式会社オーク製作所 露光描画装置
JP5004786B2 (ja) * 2007-12-27 2012-08-22 株式会社オーク製作所 露光装置の反転部
JP2009223262A (ja) * 2008-03-19 2009-10-01 Orc Mfg Co Ltd 露光システムおよび露光方法
JP5333063B2 (ja) * 2009-08-28 2013-11-06 ウシオ電機株式会社 両面露光装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990083365A (ko) * 1998-04-22 1999-11-25 가나이 쓰토무 반도체제조방법및제조장치,및그것에의해제조된반도체디바이스
JP2001284231A (ja) * 2000-03-31 2001-10-12 Canon Inc 露光装置及びエラー発生時のパターンで処理を振り分ける方法
JP2002341550A (ja) 2001-05-17 2002-11-27 Dainippon Screen Mfg Co Ltd レーザー露光装置
JP2004279446A (ja) * 2003-03-12 2004-10-07 Shinko Electric Ind Co Ltd パターン描画装置、パターン描画方法、および検査装置

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