TWI725393B - 用於戒指攝影的轉盤與光箱 - Google Patents

Abstract

一種用於戒指攝影的轉盤，包括真空幫浦、具有中空軸的馬達、連接真空幫浦與中空軸的氣壓管以及具有吸氣孔的盤面，其中吸氣孔與中空軸氣密連通。當真空幫浦啟動時，吸氣孔所提供的真空吸力會讓戒指站立於盤面的承載面上。當馬達啟動時，盤面會帶動戒指轉動。另外，本發明更提出一種用於戒指攝影的光箱，包括上述轉盤以及箱體。箱體包括底座，並且底座具有頂面以及形成於頂面上的開孔，其中真空幫浦設置於頂面下或箱體外、馬達設置於頂面下，並且盤面嵌設於開孔中。

Description

用於戒指攝影的轉盤與光箱

本發明是有關於一種用於戒指攝影(ring photography)的轉盤(turntable)及包含有此轉盤的光箱(light box)，且特別是有關於一種以真空幫浦(vacuum pump)吸附戒指站立以進行戒指攝影的轉盤及包含有此轉盤的光箱。

傳統的戒指攝影，通常是利用戒指展示架(ring holder)、蠟(wax)或透明狀黏性顆粒(clear adhesive dots)讓戒指穩定地站立在台面或盤面上，以便進行平面(2D)、360度或立體(3D)拍攝。

然而，利用戒指展示架讓戒指站立時，戒指展示架不但很容易會被拍攝到，也通常會遮擋住戒指的部分區域。即便是利用尺寸較小的蠟或透明狀黏性顆粒讓戒指站立，也很難避免蠟或透明狀黏性顆粒從戒指的底部暴露出來而被拍攝到影像中。而且，蠟或透明狀黏性顆粒使用後也容易殘留在戒指上，導致使用者在拍攝完畢之後還要耗費額外的時間清理戒指，而且清理時也容易會刮傷戒指的表面。然而，若是不使用這些物品輔助戒指站立，就只能讓戒指平躺在台面或盤面上拍攝。因此，亟需提出新的戒指攝影方案，方便使用者在更乾淨的純色背景(pure color background)前對站立中的戒指進行平面、360度或立體拍攝。

為了解決上述問題，本發明提供一種轉盤，其真空幫浦可提供真空吸附力(vacuum suction)讓戒指穩定地站立於盤面(platter)上，並 且其馬達(motor)可帶動戒指隨著盤面轉動。

為了解決上述問題，本發明更提供一種光箱，其轉盤透過真空吸附不但能讓戒指穩定地站立於盤面上轉動，其箱體(box)還能提供乾淨的純色背景協助戒指進行平面、360度或立體拍攝。

本發明提供一種適用於戒指攝影的轉盤，其包括一個真空幫浦、一個馬達、一條氣壓管(air hose)以及一個盤面。馬達具有一個中空軸(hollow shaft)，且氣壓管連接真空幫浦與中空軸。再者，盤面上具有與中空軸氣密連通(airtight communication)的一個吸氣孔(suction hole)。當真空幫浦啟動時，吸氣孔所提供的真空吸附力會讓戒指站立於盤面的一個承載面(loading surface)上。而且，當馬達啟動時，盤面會帶動戒指轉動。

在本發明的一個實施例中，上述的轉盤更包括至少一個氣壓接頭(air connector)，並且氣壓管經由氣壓接頭連接中空軸與真空幫浦至少其中之一。

在本發明的一個實施例中，上述的盤面更具有至少一個刻凹痕(notch)。刻凹痕形成於承載面，並由吸氣孔向外延伸，並且其深度小於或等於盤面的厚度。其中，刻凹痕的數量可以是多個，並且這些刻凹痕可以繞著吸氣孔的中心呈對稱排列、放射狀排列或是非對稱排列。

在本發明的一個實施例中，上述盤面的材質可以是金屬、不透明塑膠、半透明塑膠、透明塑膠及其組合。

在本發明的一個實施例中，上述的盤面包括一個第一盤面以及一個第二盤面，並且吸氣孔包括貫穿第一盤面的一個第一吸氣孔以及貫穿第二盤面的一個第二吸氣孔。在本發明的一個特定實施例中，第一盤面的頂部更可具有一個凹陷(tray)，並且凹陷的內輪廓與第二盤面的外輪廓相符。而且，凹陷的深度可以大於第二盤面的厚度。在本發明的其它實施例中，第二盤面的底部更可具有一個凸起(protrusion)，並且凹陷的內輪廓與凸起的外輪廓相符。而且，第二盤面的周緣可以齊平於或凸出於第一盤面的周緣。在本發明的其它實施例中，盤面更可包括一個密封件(sealing unit)，其中密封件可以是密封於第一盤面與第二盤面之間的O形環(O-ring)，也可以是密封於第一盤面與第二盤面周圍的氣密膠帶(airtight tape)。此外，第一吸氣孔與第二吸氣孔的至少其中之一的相對兩端的橫截 面尺寸與橫截面形狀至少其中之一不同。

在本發明的一個實施例中，上述吸氣孔為圓孔(round hole)、橢圓孔(ellipse hole)、蛋形孔(oval hole)、細長孔(elongated hole)、正方形孔(square hole)、長方形孔(rectangle hole)、菱形孔(diamond hole)、多邊形孔(polygon hole)、截頭錐形孔(truncated cone hole)、截頭半球狀孔(truncated hemispherical hole)及其組合。

本發明更提供一種適用於戒指攝影的光箱，其包括上述轉盤以及一個箱體。箱體包括一個底座(base)，並且具有一個頂面以及形成於頂面上的一個開孔(opening)。真空幫浦設置於頂面下或箱體外、馬達設置於頂面下，並且盤面嵌設於開孔中。

在本發明的一個實施例中，上述的承載面齊平於或略高於頂面。

在本發明的一個實施例中，上述的箱體更包括配置於底座後方的一個背燈、設置於底座前方的一個前燈、設置於底座一側的一個側燈、設置於底座上方的一個頂燈以及設置於頂面與承載面下方的一個底燈至少其中之一。其中，頂面與承載面呈透明或半透明。

在本發明的一個實施例中，上述的頂面包括鄰接於背燈的一個第一頂面以及遠離於背燈的一個第二頂面。盤面位於第一頂面與第二頂面之間，而承載面則略高於第一頂面，並且略低於第二頂面。

在本發明的一個實施例中，上述的光箱更包括一個腳架，其中腳架配置於該箱體前方，用以固持一相機。

基於上述，本發明提供多種能承載戒指並且具有一個中間吸氣孔的多種盤面組合。而且，還能對中間吸氣孔進一步向外或向下加工，以形成繞著盤面的中心呈對稱排列、放射狀排列或是非對稱排列的一個或多個刻凹痕，讓戒指更容易穩定的站立。依照不同的使用需求，盤面的材質可能由金屬、不透明塑膠、半透明塑膠或透明塑膠盤面組成。舉例來說，盤面可以是一體成型，並且其承載面可以是一個平整的純色表面(pure color flat surface)，用以提供乾淨的純色背景。或者，盤面也可以是由相同或不同材質所組合而成的多層狀盤面(multi-layer platter)，以利盤面的生產加工。於此情況下，盤面的周緣(periphery)可以凸出於承載面，以形成一種 凸緣式盤面(border platter)，用以防止戒指掉出承載面，也可以是一個平整式盤面，用以提供乾淨的純色背景。而且，多個盤面之間例如是以互相嵌合的方式組合而成，以形成一種嵌入式盤面(mounted platter)。

此外，本發明所提供的光箱不但能讓戒指穩定地站立於盤面上轉動，其箱體可具有前燈、側燈、頂燈和底燈至少其中之一，還能提供乾淨的純色背景協助戒指進行平面、360度或立體拍攝。而且，此光箱因具有底燈及背燈，如果採用透明盤面，甚至能在對戒指進行360度或立體拍攝時，對各個拍攝角度的影像執行自動去背功能。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉出多個實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。

10‧‧‧光箱

20‧‧‧戒指

30‧‧‧相機

100、200、300‧‧‧轉盤

110、310‧‧‧真空幫浦

112、124‧‧‧氣壓接頭

114‧‧‧支撐腳

120、320‧‧‧馬達

122‧‧‧中空軸

130‧‧‧氣壓管

140、240、240a、240b、340、340a、340b‧‧‧盤面

142、242a、242b、342a、342b‧‧‧吸氣孔

144、244、344‧‧‧承載面

146‧‧‧刻凹痕

150‧‧‧固定架

246a、346a‧‧‧凹陷

346b‧‧‧凸起

400‧‧‧箱體

410‧‧‧底座

412‧‧‧頂面

414‧‧‧開孔

420‧‧‧背燈

430a、430b‧‧‧前燈

440a、440b‧‧‧側燈

450‧‧‧頂燈

500‧‧‧腳架

510‧‧‧載台

512‧‧‧滑軌

520‧‧‧垂直臂

530‧‧‧滑動塊

532‧‧‧平台

534‧‧‧導溝

540‧‧‧相機雲台

第1圖繪示出依據本發明一個實施例的一種用於戒指攝影的轉盤的結構示意圖，其盤面為一體成型的平整盤面。

第2圖繪示出圖1中的轉盤的局部剖視圖。

第3圖至第5圖繪示出本發明另一個實施例的一種用於戒指攝影的轉盤的結構示意圖，其盤面為多層狀凸緣式盤面。

第6圖至第7圖繪示出本發明再一個實施例的一種用於戒指攝影的轉盤的結構示意圖，其盤面為多層狀平整式盤面。

第8圖繪示出本發明一個實施例的多種吸氣孔的縱截面圖。

第9圖繪示出本發明一個實施例的多種吸氣孔的俯視圖。

第10圖繪示出本發明的吸氣孔及刻凹痕的多種組合的示意圖。

第11圖至第13圖分別繪示出本發明一個實施例的一種用於戒指攝影的光箱的結構示意圖。

第1圖繪示出依據本發明一個實施例的一種用於戒指攝影的轉盤的結構示意圖，而第2圖繪示出圖1中的轉盤的局部剖視圖。請參考 第1圖和第2圖所示，本發明所提供的轉盤100適用於戒指攝影，並且包括一個真空幫浦110、一個馬達120、一條氣壓管130以及一個盤面140。馬達120具有一個中空軸122，且氣壓管130連接真空幫浦110與中空軸122。於此實施例中，轉盤100更可包括一個固定架(fixing rack)150，其中真空幫浦110可經由兩個支撐腳(supporting legs)114支撐，並可設置於固定架150外，而馬達120則可安裝於固定架150內，且中空軸122的上端可穿設於固定架150的頂部。再者，於此實施例中，轉盤100更可包括兩個氣壓接頭112、124，其中氣壓接頭112可連接於真空幫浦110的一側，且氣壓接頭124可連接於馬達120的底部，而氣壓管130則可穿設於固定架150的一側，且其相對兩端可分別套接於氣壓接頭112、124，以使真空幫浦110與中空軸122氣密連通。

再者，盤面140具有一個吸氣孔142，並且吸氣孔142氣密連通於中空軸122。於此實施例中，吸氣孔142例如是直接套接於中空軸122的頂端，以使真空幫浦110與吸氣孔142氣密連通。因此，當真空幫浦110啟動時，吸氣孔142所提供的真空吸附力會讓戒指20站立於盤面140的一個承載面144上。而且，當馬達120啟動時，盤面140a還會帶動戒指20轉動。因此，即可讓戒指20穩定地站立於承載面144上並隨著盤面140轉動，令使用者能對戒指20進行平面、360度或立體拍攝。在本發明的一個實施例中，盤面140例如是一個一體成型式的盤面，且承載面144例如是一個平整的純色表面，用以提供乾淨的純色背景讓使用者能輕易地對戒指20拍攝出具有純色背景的平面、360度或立體影像。

第3圖至第5圖繪示出本發明另一個實施例的一種用於戒指攝影的轉盤的結構示意圖。請參考第3圖至第5圖所示，於此實施例中，轉盤200的盤面240為多層狀凸緣式盤面，其餘元件及連接方式大致上皆與前一實施例相同，於此不再贅述。簡而言之，於此實施例中，盤面240可由一個第一盤面240a以及一個第二盤面240b所組合而成，並且吸氣孔242可包括貫穿第一盤面240a的一個第一吸氣孔242a以及貫穿第二盤面240b的一個第二吸氣孔242b。其中，第一盤面240a的頂部可具有一個凹陷246a，而第二盤面240b的上表面即為盤面240的承載面244，並且凹陷246a的內輪廓可與第二盤面240b的外輪廓相符，以使第二盤面240b能完 全嵌入凹陷246a中，並使第一吸氣孔242a氣密連通於第二吸氣孔242b。除此之外，於此實施例中，凹陷246a的深度更可大於第二盤面240b的厚度，以使第一盤面240a的周緣會凸出於承載面242，進而讓盤面240構成一種凸緣式盤面，用以防止戒指20(繪示於第1圖和第2圖中)掉出承載面244。

在本發明的一個較佳實施例中，第一盤面240a可以是由金屬材料所製成，而第二盤面240b則可以是由不透明的塑膠材料所製成，以使盤面240形成由複合材料所構成的一種多層狀盤面。多層狀盤面的優點在於不但可利用分層製作及加工的方式來提高材料的選擇性，也能降低整體盤面生產加工程序的複雜程度。但是，在其它實施例中，第一盤面240a與第二盤面240b也可以是由其它相同或不同的材料所製成。舉例來說，第一盤面240a與第二盤面240b可分別由金屬、不透明塑膠、半透明塑膠、透明塑膠等材料所製成。

除此之外，盤面240更可包括密封於第一盤面240a與第二盤面240b之間的一個密封件(未繪示)，用以保持第一吸氣孔242a與第二吸氣孔242b之間的氣密度(airtightness)。舉例來說，密封件可以是密封於凹陷246a內壁與第二盤面240b周緣之間或凹陷246a底部與第二盤面240b底面之間的O形環。

第6圖至第7圖繪示出本發明再一個實施例的一種用於戒指攝影的轉盤的結構示意圖。請參考第6圖至第7圖所示，於此實施例中，除了第二盤面340b之外，轉盤300的其餘元件及連接方式大致上皆與前一實施例相同，於此不再贅述。簡而言之，在前一實施例中，第二盤面240b的頂部與底部皆為平整的表面。然而，在本實施例中，第二盤面340b的底部更可具有一個凸起346b，並且第一盤面340a上的凹陷346a的內輪廓與凸起346b的外輪廓相符，以使凸起346b能完全嵌入凹陷346a中，並使第一吸氣孔342a氣密連通於第二吸氣孔342b。而且，第二盤面340b的周緣可以齊平於或凸出於第一盤面340a的周緣，以完全覆蓋住第一盤面340a的頂部，進而讓盤面340構成與第1圖中所示實施例相同的一種平整式盤面。

同樣的，於此實施例中，盤面340亦可利用與前一實施例中 相同的密封件來保持第一吸氣孔342a與第二吸氣孔342b之間的氣密度。另外，如第7圖所示，當第二盤面340b的周緣完全或大致上齊平於第一盤面340a的周緣時，更可以在盤面340的周緣以氣密膠帶作為密封件來覆蓋第一盤面340a與第二盤面340b之間的隙縫。或者，在其它未繪示的實施例中，第二盤面的周緣也可以凸出於第一盤面的周緣，以形成一個尺寸更大的平整式盤面。

第8圖繪示出本發明一個實施例的多種吸氣孔的縱截面圖，而第9圖則繪示出本發明一個實施例的多種吸氣孔的俯視圖。簡而言之，為了因應市面上各式各樣的戒指樣式，吸氣孔可具有各種不同的形狀，以便對戒指提供最佳的吸附效果。舉例來說，如第8-1圖所示，此實施例中的盤面可以是一體成型式的盤面，而其吸氣孔可以是直孔(straight hole)，並且吸氣孔的橫截面形狀可以是如第9圖所示的圓形、橢圓形、蛋形、細長形、正方形、長方形、菱形、梯形或其它多邊形。或者，如第8-2圖至第8-4圖所示的實施例中，吸氣孔也可以是由兩種以上具有不同橫截面尺寸及/或形狀的吸氣孔所組合而成，亦即吸氣孔的上端開口與下端開口可具有不同的橫截面尺寸及/或形狀。

更詳細而言，如第8-2圖所示，此實施例中的吸氣孔例如是以兩種不同尺寸的鑽頭經過兩次鑽孔後，形成兩段孔徑不同的同軸圓孔。另外，在第8-3圖所示的實施例中，吸氣孔也可以是由一個截頭圓錐形孔與一個圓孔同軸排列所組合而成的。此外，在第8-4圖所示的實施例中，吸氣孔還可以是由一個圓孔與一個截頭半球狀孔同軸排列所組合而成的。值得注意的是，雖然第8-2圖至第8-4圖所示的這些實施例是在單一盤面上加工而成，但是在其它未繪示的實施例中，這些盤面也可以是由兩層以上盤面所組合而成，並且這些盤面分別具有不同尺寸及/或形狀的吸氣孔。舉例來說，對於第8-2圖的實施例而言，可以由一個具有大圓孔的盤面以及一個具有小圓孔的盤面所組合而成。此外，更可配合戒指的形狀與輪廓而利用額外的加工方式改變吸氣孔在承載面上的形狀，以提高吸氣孔對戒指的真空吸附力。

第10圖繪示出本發明的吸氣孔及刻凹痕的多種組合的示意圖。更詳細而言，如第10-1圖所示，在本發明的一個較佳實施例中，吸氣 孔142呈圓孔狀，而刻凹痕146則是以刀具在承載面144上由吸氣孔142的周圍向外並向下加工而成的一個單一三角錐狀刻凹痕，而且其深度小於盤面140的厚度。但是，在其它類似的實施例中，刻凹痕的深度也可以等於盤面的厚度，亦即刻凹痕會貫穿盤面。或者，在其它實施例中，也可以在盤面上形成多個刻凹痕，且這些刻凹痕可以繞著吸氣孔的中心呈放射狀排列或是呈非對稱排列。

舉例來說，第10-2圖例如是具有兩個三角錐狀的刻凹痕146在吸氣孔142的周圍形成對稱狀排列。再者，第10-3圖則例如是在吸氣孔142鄰近於承載面的一端形成一個細長孔，並且細長孔的寬度例如是小於吸氣孔的直徑。除此之外，第10-4圖例如是具有多個形狀尺寸皆不相同的刻凹痕146在吸氣孔142的周圍呈非對稱排列。這些刻凹痕能讓吸氣孔與戒指表面更貼近，有助於提高吸氣孔對戒指的真空吸附力。

第11圖至第13圖分別繪示出本發明一個實施例的一種用於戒指攝影的光箱的結構示意圖。請參考第11圖與第12圖所示，本發明更提供了一種用於戒指攝影的光箱10，其包括前一實施例中所述的轉盤300(標示於第6圖)、一個底座410以及一個背燈420，其中轉盤300的詳細結構於此不再贅述。值得注意的是，在其它實施例中，也可以用第1圖到第5圖中所示的轉盤100、200來取代轉盤300。

於此實施例中，光箱10例如是具有一個箱體400的一種封閉式光箱，並且底座410與背燈420皆設置於箱體400中。其中，底座410具有一個頂面412以及形成於頂面412上的一個開孔414，而背燈420則配置於底座410後方。再者，真空幫浦310(標示於第6圖)例如是設置於箱體400外，而馬達320(標示於第6圖)則設置於頂面412下，並且盤面340嵌設於開孔414中。而且，盤面340的承載面344例如是齊平於或略高於頂面412，以使承載面344與頂面412能共同構成一個較大的背景供拍照使用。如此一來，只要能適當地控制背燈420，就有機會能透過軟體的輔助在拍攝戒指20時對影像進行自動去背。

另外，由於維持適當的高度差可以讓承載面與頂面之間的邊界線(border)在所拍攝到的影像中變得模糊，進而使影像中整個背景的顏色變得更為一致。因此，在其它未繪示的實施例中，頂面也可以是由鄰接 於背燈的一個第一頂面以及遠離於背燈的一個第二頂面所構成。其中，位於第一頂面與第二頂面之間的承載面可略高於第一頂面，並且可略低於第二頂面。

另外，此實施例中的光箱10更可包括兩個前燈430a、430b、兩個側燈440a、440b、一個頂燈450以及一個底燈(未繪示)。前燈430a、430b設置於底座410的前方，分別當成左前光源與右前光源使用。側燈440a、440b則分別設置於底座410的左右兩側，分別當成左側光源與右側光源使用。頂燈450設置於底座410上方當成上光源使用，而底燈則設置於底座410下方，並且頂面412可呈透明或半透明，讓底燈的光線能透射出頂面412。

值得注意的是，以上的實施例是以光線環境較為穩定的封閉式箱體為例做說明，但是在其它未繪示的實施例中，光箱亦可以是一種開放式箱體。

請參考第13圖所示，在本發明的一個實施例中，上述的光箱10更可包括一個腳架500。其中，腳架500可包括一個載台(stage)510、一個垂直臂(vertical arm)520、一個滑動塊(slidable block)530以及一個相機雲台(tripod head)540。載台510可具有一個滑軌(guiding rail)512，並且垂直臂520的一端滑設於滑軌512上。再者，滑動塊530滑設於垂直臂520，並且具有一個平台(platform)532以及形成於平台532的一個導溝(guiding groove)534。此外，相機雲台540經由導溝534設置於平台532上，以使固設於相機雲台540上的相機30可沿著導溝534相對於平台532滑動。因此，使用者不但可以利用滑軌512快速調整相機30的拍攝距離，也可以利用滑動塊530和導溝534快速調整相機30的高度和水平位置，更能利用相機雲台540水平擺動(pan)、上下傾斜(tilt)與在人像/風景拍攝模式之間轉動(rotate between portrait/landscape mode)相機。

綜合上述，本發明所提供的轉盤能利用真空吸附力讓戒指能穩定地站立於盤面上轉動，因此能協助使用者從任何角度進行戒指攝影。使用者將不再需要使用容易曝光或殘留的傳統戒指展示架、蠟或無酸點膠協助戒指站立。再者，本發明所提出的多層狀盤面設計，再搭配各種形狀的吸氣孔及刻凹痕的組合，讓各種不同樣式的戒指都能順利站立，另外再 利用具有中空軸的馬達帶動戒指轉動，便能對戒指進行平面、360度或立體拍攝。此外，本發明所提出的光箱，更能提供乾淨的純色背景協助戒指進行拍攝，甚至可透過軟體的輔助影像進行自動去背。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非以限定本發明，任何所屬領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，因此本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

20‧‧‧戒指

100‧‧‧轉盤

110‧‧‧真空幫浦

112、124‧‧‧氣壓接頭

114‧‧‧支撐腳

120‧‧‧馬達

122‧‧‧中空軸

130‧‧‧氣壓管

140‧‧‧盤面

144‧‧‧承載面

150‧‧‧固定架

Claims (17)

1. 一種轉盤，適用於戒指攝影，包括：一真空幫浦；一馬達，具有一中空軸；一氣壓管，連接該真空幫浦與該中空軸；以及一盤面，具有與該中空軸氣密連通的一吸氣孔以及至少一刻凹痕，該刻凹痕形成於該承載面、由該吸氣孔向外延伸，且其深度小於或等於該盤面的厚度，當該真空幫浦啟動時，該吸氣孔所提供的一真空吸附力適於使一戒指站立於該盤面的一承載面上，且當該馬達啟動時，該盤面適於帶動該戒指轉動。
2. 如申請專利範圍第1項所述的轉盤，更包括至少一氣壓接頭，其中該氣壓管經由該氣壓接頭連接該中空軸與該真空幫浦至少其中之一。
3. 如申請專利範圍第1項所述的轉盤，其中該刻凹痕的數量為多個，且該些刻凹痕繞著該吸氣孔的中心呈對稱排列、放射狀排列或非對稱排列。
4. 如申請專利範圍第1項所述的轉盤，其中該盤面的材質為金屬、不透明塑膠、半透明塑膠、透明塑膠及其組合。
5. 如申請專利範圍第1項所述的轉盤，其中該盤面包括一第一盤面以及一第二盤面，該吸氣孔包括貫穿該第一盤面的一第一吸氣孔以及貫穿該第二盤面的一第二吸氣孔。
6. 如申請專利範圍第5項所述的轉盤，其中該第一盤面的一頂部具有一凹陷，並且該凹陷的一內輪廓與該第二盤面的一外輪廓相符。
7. 如申請專利範圍第6項所述的轉盤，其中該凹陷的深度大於該第二盤面的厚度。
8. 如申請專利範圍第5項所述的轉盤，其中該第一盤面的一頂部上具有一凹陷，而該第二盤面的一底部具有一凸起，且該凹陷的一內輪廓與該凸起的一外輪廓相符。
9. 如申請專利範圍第8項所述的轉盤，其中該第二盤面的周緣齊平於或凸出於該第一盤面的周緣。
10. 如申請專利範圍第5項所述的轉盤，其中該盤面更包括一密封件，密封於該第一盤面與該第二盤面之間或周圍。
11. 如申請專利範圍第5項所述的轉盤，其中該第一吸氣孔與該第二吸氣孔的至少其中之一的相對兩端的橫截面尺寸與橫截面形狀至少其中之一不同。
12. 如申請專利範圍第1項所述的轉盤，其中該吸氣孔為圓孔、橢圓孔、蛋形孔、細長孔、正方形孔、長方形孔、菱形孔、多邊形孔、截頭錐形孔、截頭半球狀孔及其組合。
13. 一種光箱，適用於戒指攝影，包括：如申請專利範圍第1項所述的該轉盤；以及一箱體，包括一底座，其中該底座具有一頂面以及形成於該頂面上的一開孔，其中該真空幫浦設置於該頂面下或該箱體外、該馬達設置於該頂面下，並且該盤面嵌設於該開孔中。
14. 如申請專利範圍第13項所述的光箱，其中該承載面齊平於或略高於該頂面。
15. 如申請專利範圍第13項所述的光箱，其中該箱體更包括配置於該底座後方的一背燈、設置於該底座前方的一前燈、設置於該底座一側的一側燈、設置於該底座上方的一頂燈以及設置於該頂面與該承載面下方的一底燈至少其中之一，其中該頂面與該承載面呈透明或半透明。
16. 如申請專利範圍第15項所述的光箱，其中該頂面包括鄰接於該背燈的一第一頂面以及遠離於該背燈的一第二頂面，該盤面位於該第一頂面與該第二頂面之間，該承載面略高於該第一頂面並且略低於該第二頂面。
17. 如申請專利範圍第13項所述的光箱，更包括一腳架，其中該腳架配置於該箱體前方，用以固持一相機。

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