WO2014050405A1 - 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 - Google Patents
露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2014050405A1 WO2014050405A1 PCT/JP2013/072818 JP2013072818W WO2014050405A1 WO 2014050405 A1 WO2014050405 A1 WO 2014050405A1 JP 2013072818 W JP2013072818 W JP 2013072818W WO 2014050405 A1 WO2014050405 A1 WO 2014050405A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- exposure
- information
- image
- job
- exposed
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
Definitions
- the present invention relates to an exposure drawing apparatus, an exposure drawing system, a program, and an exposure drawing method, and more particularly, to an exposure drawing apparatus and an exposure drawing system that draw images on both sides of a substrate to be exposed, and the exposure drawing apparatus and the exposure drawing system.
- the present invention relates to a program to be executed and an exposure drawing method for drawing an image on both sides of a substrate to be exposed.
- an exposure drawing apparatus that exposes a substrate to be exposed, which is a printed circuit board, to a light beam modulated based on image information and draws an image on the substrate to be exposed. Also, in order to draw an image on both surfaces of the substrate to be exposed, two exposure drawing apparatuses are arranged in parallel, one is used for drawing the first surface, and the other is drawn on the second surface opposite to the first surface.
- An exposure and drawing system for use in the field has also been developed.
- the substrate to be exposed is conveyed to a predetermined position of the exposure drawing device for the second surface, An image is drawn on the second surface of the substrate to be exposed by the exposure drawing apparatus.
- Patent Document 1 discloses a throughput of a transfer process of a substrate to be exposed when images are drawn on the first surface and the second surface of the substrate to be exposed using two exposure drawing devices, respectively. An exposure drawing system with improved image quality is disclosed.
- Each exposure drawing apparatus included in the exposure drawing system includes a stage on which the substrate to be exposed is placed, stage moving means for moving the stage linearly, and light on the first surface of the substrate to be exposed placed on the stage. And a drawing unit having beam scanning means for scanning the beam.
- Each exposure drawing apparatus includes an upstream unit disposed on the upstream side of the drawing unit in the moving direction of the stage, and a downstream unit disposed on the downstream side of the drawing unit in the moving direction of the stage.
- Each exposure drawing apparatus carries the substrate to be exposed onto the stage in the drawing unit by holding the substrate to be exposed in the upstream unit and moving it in the transport direction that is the same as the moving direction of the stage.
- a carrying-in means is provided.
- Each exposure drawing apparatus includes unloading means for unloading the exposed substrate to the downstream unit so as to hold the exposed substrate on the stage in the drawing unit and move it in the transport direction.
- each exposure drawing apparatus when the light beam is scanned on the first surface of the substrate to be exposed, the stage is moved from the upstream side to the downstream side in the transport direction, and the substrate to be exposed is carried to the stage located on the upstream side, The substrate to be exposed is unloaded from the stage located on the downstream side.
- an operator draws an image drawn on the exposed substrate and an exposure condition for drawing on the exposure drawing apparatus.
- Enter job information indicating a request (job).
- job information indicating a request (job).
- job information indicating a request (job).
- the exposure drawing process may fail and the exposed substrate that has become defective may be removed.
- the exposure drawing process may fail and the exposed substrate that has become defective may be removed.
- each surface of the substrate to be exposed does not correspond to each other.
- the present invention has been made in view of the above problem, and an exposure drawing apparatus capable of preventing images that do not correspond to each other from being drawn on each side when drawing images on both sides of the substrate to be exposed,
- An object of the present invention is to provide an exposure drawing system, a program, and an exposure drawing method.
- an exposure drawing apparatus includes first job information in which image information indicating an image to be drawn on a first surface of a substrate to be exposed is associated with exposure condition information indicating an exposure condition.
- the first drawing means for drawing the image indicated by the first job information on the first surface by exposing the first surface based on the second surface, and a second opposite to the first surface of the substrate to be exposed
- Storage means for storing a plurality of second job information in which image information indicating an image to be drawn on a surface and exposure condition information indicating an exposure condition are associated with each other; and the plurality of second information stored in the storage means Among the job information, the second job information having the same exposure condition information as the exposure condition information indicated by the first job information used for drawing the image on the first surface of the substrate to be exposed by the first drawing means.
- a second rendering means for rendering the second surface of the image represented by the second job information.
- the storage means associates a plurality of image information indicating an image to be drawn on the second surface opposite to the first surface of the substrate to be exposed and exposure condition information indicating the exposure condition.
- the second job information is stored.
- the second drawing unit uses the first drawing unit among the plurality of second job information stored in the storage unit to draw an image on the first surface of the substrate to be exposed. By exposing the second surface of the substrate to be exposed on which the image is drawn on the first surface based on the second job information having the same exposure condition information as the exposure condition information indicated by the first job information, An image indicated by the second job information is drawn on the second surface.
- the second job information having the same exposure condition information as the exposure condition information of the first job information used when drawing the image on the first surface is used. Since images are drawn on two surfaces, it is possible to prevent images that do not correspond to each other from being drawn on each surface when images are drawn on both surfaces of the substrate to be exposed.
- the exposure condition includes a size of the substrate to be exposed, a number of exposure targets of the substrate to be exposed, and a mark for determining an image drawing area on the substrate to be exposed. It may include at least one of the arrangement pattern of the marks when provided and the photosensitive material type of the substrate to be exposed. Thereby, an image can be drawn on each surface of the substrate to be exposed under the applied exposure conditions.
- an exposure drawing system is a first in which image information indicating an image drawn on a first surface of a substrate to be exposed is associated with exposure condition information indicating an exposure condition.
- a first exposure drawing apparatus comprising a transmission means for sending exposure condition information of the first job information used for drawing an image on one surface; and drawing on a second surface opposite to the first surface of the substrate to be exposed
- Storage means for storing a plurality of second job information in which image information indicating an image to be performed and exposure condition information indicating an exposure condition are associated with each other, receiving means for receiving the dew condition information transmitted by the transmitting means, And the storage means An image on the first surface by the first drawing unit based on the second job information having the same exposure condition information as the exposure condition information received by the receiving unit from the plurality of stored second job information.
- a second exposure drawing apparatus having a second drawing means for drawing an image indicated by the second job information on the second surface by exposing the second surface of the substrate to be exposed. is doing.
- the first drawing unit of the first exposure drawing apparatus associates the image information indicating the image drawn on the first surface of the substrate to be exposed with the exposure condition information indicating the exposure condition.
- the exposure condition information of the first job information used for drawing an image on the first surface of the substrate to be exposed by the first drawing means is sent by the sending means of the first exposure drawing apparatus.
- the second storage means of the second exposure / drawing apparatus stores the image information indicating the image to be drawn on the second surface opposite to the first surface of the substrate to be exposed and the exposure conditions.
- a plurality of pieces of second job information associated with the exposure condition information shown are stored.
- the dew condition information transmitted by the transmitting unit is received by the receiving unit of the second exposure drawing apparatus.
- the second drawing means of the second exposure drawing apparatus has the exposure condition information identical to the exposure condition information received by the receiving means from the plurality of second job information stored in the storage means.
- An image indicated by the second job information is drawn on the second surface by exposing the second surface of the exposed substrate on which the image is drawn on the first surface by the first drawing unit based on job information. Is done.
- the second exposure drawing apparatus has the same exposure condition information as the exposure condition information of the first job information used when drawing the image on the first surface. Since the image is drawn on the second surface using the two-job information, it is possible to prevent the images that do not correspond to each other from being drawn on each surface when the images are drawn on both surfaces of the exposed substrate.
- the transmission unit of the first exposure drawing apparatus may transmit exposure condition information when drawing by the first drawing unit is normally completed. As a result, it is possible to more reliably prevent images that do not correspond to each other from being drawn on each side when drawing images on both sides of the exposed substrate, as compared with the case where the present invention is not applied. .
- the transmission unit of the first exposure drawing apparatus transmits error information indicating that an error has occurred when the drawing by the first drawing unit ends abnormally.
- the second exposure drawing apparatus has the same exposure condition information as the exposure condition information received by the receiving means in the plurality of second job information stored by the storage means.
- a receiving unit that receives selection of any one of the plurality of second job information is provided, and the second exposure drawing apparatus includes:
- the second drawing unit may draw an image on the second surface based on the second job information whose selection is received by the receiving unit.
- a second storage unit that stores the first job information and the second job information, and the first job information stored by the second storage unit are stored in the first storage unit.
- the apparatus further includes a control device including a second transmission unit that transmits to the exposure drawing apparatus and transmits the second job information to the second exposure drawing apparatus, and the first exposure drawing apparatus transmits the second job information by the second transmission unit.
- Second receiving means for receiving the received first job information, wherein the first drawing means of the first exposure drawing apparatus uses the first job information received by the second receiving means, An image indicated by the first job information is drawn on the first surface, and the second exposure drawing apparatus further comprises third receiving means for receiving the second job information transmitted by the second transmitting means; Second exposure Said storage means image device, the second job information received by said third receiving means may be a plurality store. As a result, the entire system can be comprehensively managed by the control device.
- control device further includes a second accepting unit that accepts input of the first job information and the second job information
- second storage unit of the control device includes: The first job information and the second job information received by the second receiving unit may be stored. Thereby, the image corresponding to each other can be drawn on each surface of the substrate to be exposed using the job information input by the user.
- an exposure drawing system is a first in which image information indicating an image drawn on a first surface of a substrate to be exposed is associated with exposure condition information indicating an exposure condition.
- image information indicating an image drawn on a first surface of a substrate to be exposed is associated with exposure condition information indicating an exposure condition.
- a first exposure drawing apparatus comprising a first transmission means for transmitting exposure condition information of the first job information used for drawing an image on one surface; and a second surface opposite to the first surface of the substrate to be exposed.
- Storage means for storing a plurality of second job information in which image information indicating an image to be drawn and exposure condition information indicating an exposure condition are associated with each other, and receiving the exposure condition information transmitted by the first transmission means
- First receiving means and front Control comprising second transmission means for transmitting the second job information having the same exposure condition information as the exposure condition information received by the first reception means among the plurality of second job information stored by the storage means.
- a second exposure drawing apparatus comprising second drawing means for drawing an image indicated by the second job information on the second surface by exposing the second surface of the substrate to be exposed on which the image is drawn on one surface And have.
- the first drawing unit of the first exposure drawing apparatus associates the image information indicating the image drawn on the first surface of the substrate to be exposed with the exposure condition information indicating the exposure condition. By exposing the first surface based on the received first job information, an image indicated by the first job information is drawn on the first surface. Further, the first transmission unit of the first exposure drawing apparatus transmits the exposure condition information of the first job information used for drawing the image on the first surface of the substrate to be exposed by the first drawing unit.
- image information indicating an image to be drawn on the second surface opposite to the first surface of the substrate to be exposed and exposure condition information indicating the exposure conditions are stored by the storage unit of the control device.
- a plurality of second job information each associated with is stored.
- the exposure condition information transmitted by the first transmission means is received by the first reception means of the control device.
- the second job having the same exposure condition information as the exposure condition information received by the first receiving means among the plurality of second job information stored by the storage means by the second transmitting means of the control device. Information is sent.
- the second receiving information of the second exposure drawing apparatus is received by the second receiving means of the second exposure drawing apparatus, and the second job information transmitted by the second sending means is received.
- the control device is the same as the exposure condition information of the first job information received from the first exposure drawing device and used when drawing the image on the first surface. Since the second job information having the exposure condition information is transmitted to the second exposure drawing apparatus, it is possible to mutually draw each surface when drawing an image on both sides of the exposed substrate without adding a new function to the exposure drawing apparatus. It is possible to prevent drawing of an incompatible image.
- the exposure condition includes a size of the substrate to be exposed, a number of exposure targets of the substrate to be exposed, and a mark for determining an image drawing area on the substrate to be exposed. It may include at least one of the arrangement pattern of the marks when provided and the photosensitive material type of the substrate to be exposed. Thereby, an image can be drawn on each surface of the substrate to be exposed under the applied exposure conditions.
- a program according to the present invention uses a computer to cause the first drawing means to display image information indicating an image to be drawn on the first surface of the substrate to be exposed and exposure condition information indicating an exposure condition.
- the first control means that exposes the first surface based on the first job information associated with the first job information to draw the image indicated by the first job information on the first surface, and the second drawing means Of the plurality of second job information, image information indicating an image drawn on a second surface opposite to the first surface of the substrate to be exposed and exposure condition information indicating exposure conditions are associated with each other.
- a second control means for rendering the image represented by the second job information on the second surface to function as a.
- the computer can be operated in the same manner as the exposure drawing apparatus according to the present invention, when the image is drawn on both surfaces of the substrate to be exposed, similarly to the exposure drawing apparatus. It is possible to prevent drawing of images that do not correspond to each other on each surface.
- the first drawing means includes image information indicating an image drawn on the first surface of the substrate to be exposed and exposure condition information indicating the exposure conditions.
- the first job information Based on the second job information having the same exposure condition information as the exposure condition information of the first job information used for drawing the image on the first surface of the substrate to be exposed by the drawing means, an image is formed on the first surface.
- the drawn second surface of the exposed substrate By exposing, and a, and a second control step of rendering the second surface of the image represented by the second job information.
- the exposure drawing method according to the present invention it operates in the same manner as the exposure drawing apparatus according to the present invention. Therefore, as with the exposure drawing apparatus, when drawing an image on both sides of the substrate to be exposed, It is possible to prevent the drawing of images that do not correspond to each other.
- the exposed substrate C is a flat substrate such as a printed wiring board or a glass substrate for a flat panel display.
- the exposure drawing system 1 is opposite to the first exposure drawing apparatus 2 that performs exposure on the first surface of the substrate C to be exposed and the first surface of the substrate C to be exposed.
- a second exposure drawing apparatus 3 for performing exposure on the second surface is provided.
- the exposure drawing system 1 is provided between the first exposure drawing device 2 and the second exposure drawing device 3, and includes a reversing device 4 for inverting the front and back of the substrate C to be exposed, a first surface of the substrate C to be exposed, A control device 5 for controlling exposure on the second surface is provided.
- the first exposure drawing apparatus 2 and the control apparatus 5 are connected to each other by the wired cable 8a, and the second exposure drawing apparatus 3 and the control apparatus 5 are connected to each other by the wired cable 8a. Communication is performed between the apparatus 2 and the second exposure drawing apparatus 3 via the wired cable 8a. Similarly, the first exposure drawing apparatus 2 and the second exposure drawing apparatus 3 are connected by a wired cable 8b, and these exposure drawing apparatuses communicate via the wired cable 8b.
- the configuration of the first exposure drawing apparatus 2 and the second exposure drawing apparatus 3 according to the present embodiment will be described.
- the 1st exposure drawing apparatus 2 and the 2nd exposure drawing apparatus 3 have the same structure, the 1st exposure drawing apparatus 2 is demonstrated here and the description about the 2nd exposure drawing apparatus 3 is abbreviate
- the first exposure drawing apparatus 2 includes a flat stage 10 for fixing the substrate C to be exposed.
- a plurality of suction holes (not shown) for sucking air are provided on the upper surface of the stage 10.
- the air between the substrate C to be exposed and the stage 10 is sucked through the suction hole, so that the substrate C to be exposed is vacuum-sucked to the stage 10. .
- the stage 10 is supported by a flat base 12 movably provided on the upper surface of the table-like base 11. That is, one or a plurality of (in this embodiment, two) guide rails 14 are provided on the upper surface of the base 11.
- the base 12 is supported so as to be freely movable along the guide rail 14, and is moved by being driven by a drive mechanism (stage drive unit 42 described later) constituted by a motor or the like.
- the stage 10 moves along the guide rail 14 in conjunction with the movement of the base 12.
- the direction in which the stage 10 moves is defined as the Y direction
- the direction perpendicular to the Y direction in the horizontal plane is defined as the X direction
- the direction orthogonal to the Y direction in the vertical plane is defined as the Z direction.
- a gate-shaped gate 15 is provided on the upper surface of the base body 11 so as to straddle the two guide rails 14.
- the exposed substrate C placed on the stage 10 moves so as to enter and exit along the guide rail 14 through the opening of the gate 15.
- An exposure unit 16 that exposes a light beam toward the opening is attached to the upper part of the opening of the gate 15. When the stage 10 moves along the guide rail 14 and is positioned at the opening by the exposure unit 16, the light beam is exposed on the upper surface of the substrate C to be exposed placed on the stage 10.
- the exposure unit 16 includes a plurality (16 in the present embodiment) of exposure heads 16a. Each of the exposure heads 16 a is arranged in a matrix in the exposure unit 16.
- the exposure unit 16 is connected to an optical fiber 18 drawn from a light source unit 17 described later and a signal cable 20 drawn from an image processing unit 19 described later.
- Each of the exposure heads 16a has a digital micromirror device (DMD) as a reflective spatial light modulation element.
- the exposure head 16 a modulates the light beam from the light source unit 17 by controlling the DMD based on the image information input from the image processing unit 19.
- the first exposure drawing apparatus 2 exposes the substrate C to be exposed by irradiating the substrate C with this modulated light beam.
- the spatial light modulator is not limited to the reflective type, and may be a transmissive spatial light modulator such as liquid crystal.
- the image area P1 that is an area exposed by the exposure head 16a has a rectangular shape in which one side is inclined at a predetermined inclination angle with respect to the moving direction (Y direction) of the stage 10. It is.
- FIG. 3A shows only a part of the plurality of exposure heads 16a according to this embodiment.
- the substrate C to be exposed is moved along with the movement of the stage 10 as shown in FIG. 3B.
- a strip-shaped exposed region P2 is formed for each exposure head 16a.
- Each of the exposure heads 16a arranged in a matrix is arranged in the X direction so as to be shifted by a distance obtained by multiplying the length of the long side of the image region P1 by a natural number (in this embodiment, 1).
- Each of the exposed regions P2 is formed so as to partially overlap with the adjacent exposed region P2.
- a gate-type gate 22 is further provided on the upper surface of the base 11 so as to straddle the two guide rails 14.
- the exposed substrate C placed on the stage 10 moves so as to enter and exit the opening of the gate 22 along the guide rail 14.
- the photographing unit 23 is a CCD camera or the like having a built-in strobe with a very short light emission time.
- a rail 23a is provided on the upper part of the opening of the gate 22 along a direction (X direction) perpendicular to the moving direction (Y direction) of the stage 10 in the horizontal plane. It is provided so that it can move by being guided by 23a.
- the imaging unit 23 images the upper surface of the substrate C to be exposed placed on the stage 10.
- the first exposure drawing apparatus 2 includes a first transfer unit 6 that transfers a substrate C to be exposed carried from the outside to a predetermined position of the first exposure drawing apparatus 2, and a substrate C to be exposed. Is transported from the first exposure drawing device 2 to a predetermined position of the reversing device 4.
- the second exposure drawing apparatus 3 includes a first transfer unit 6 that transfers the substrate C to be exposed from the reversing device 4 to a predetermined position of the second exposure drawing apparatus 3, and the substrate C to be exposed of the second exposure drawing apparatus 3.
- a second transport unit 7 for transporting to the outside is provided.
- the first transport unit 6 and the second transport unit 7 have a plurality of rotating rollers and a drive motor that rotates the rotating rollers.
- Each of the plurality of rotating rollers is laid in parallel, and a sprocket or pulley that receives a rotational force transmitted by a belt or a wire is attached to one end of the rotating roller.
- a transmission method using a cylindrical magnet can be employed in addition to the belt or the wire.
- the first exposure drawing apparatus 2 is an auto carrier hand (hereinafter referred to as “automatic carrier hand”) that transports the substrate C to be exposed, which has been transported to the predetermined position by the first transport unit 6 from the predetermined position to the stage 10.
- AC hand AC hand
- the AC hand 24 is formed in a flat plate shape and is movably provided in the X direction and the Z direction.
- the lower surface of the AC hand 24 is provided with a plurality of suction holes 25 for sucking air. The AC hand 24 sucks air between the AC hand 24 and the exposed substrate C through the suction hole 25 when the lower surface of the AC hand 24 moves to a position where the lower surface of the AC hand 24 contacts the upper surface of the exposed substrate C.
- the substrate C is sucked and held on the lower surface of the AC hand 24 by vacuum suction. Further, when the AC hand 24 moves to the upper surface of the stage 10 with the substrate to be exposed C sucked and held on the lower surface of the AC hand 24, the substrate C to be exposed is pushed downward and pressed against the stage 10 Z. A pressing portion 26 that is movable in the direction is provided.
- the AC hand 24 of the first exposure drawing apparatus 2 sucks and holds the unexposed substrate C that has been transported to the first transport unit 6 and moves it upward and places it on the upper surface of the stage 10. Further, the AC hand 24 of the first exposure drawing apparatus 2 moves the exposed substrate C upward by attracting and holding the exposed substrate C exposed on the first surface placed on the upper surface of the stage 10. Move to the second transport unit 7. The exposed substrate C whose first surface has moved to the second transport unit 7 is exposed to the outside of the first exposure drawing apparatus 2 by the second transport unit 7.
- the AC hand 24 of the second exposure drawing apparatus 3 sucks and holds the exposed substrate C exposed to the first surface conveyed to the first conveyance unit 6 and moves the exposed substrate C upward. It is placed on the upper surface of the stage 10.
- the AC hand 24 of the second exposure drawing apparatus 3 moves the upper surface by sucking and holding the exposed substrate C on which the first surface and the second surface placed on the upper surface of the stage 10 are exposed.
- the exposure substrate C is moved to the second transport unit 7.
- the exposed substrate C having the exposed first and second surfaces moved to the second transport unit 7 is carried out of the exposure drawing system 1 by the second transport unit 7.
- the reversing device 4 includes a flat plate-like subframe 30 that is pivotally supported by a rotation shaft L.
- the subframe 30 reverses the front and back of the substrate C to be exposed by rotating 180 degrees while holding the substrate C to be exposed inside.
- a carry-in entrance 31 through which the substrate C to be exposed is carried into the sub-frame 30 is provided on the side of the sub-frame 30 on the side where the first exposure drawing apparatus 2 is located. It has been. Furthermore, a plurality of roller pairs 34 driven by a motor 33 are provided inside the subframe 30. The roller pair 34 conveys the substrate C to be exposed housed in the subframe 30 in a sandwiched state. The exposed substrate C is transported into the subframe 30 through the carry-in port 31 by the roller pair 34, and the front and back are reversed by the rotation of the subframe 30, and the subframe through the carry-in port 31 by the roller pair 34. 30 to the outside. In addition, when the subframe 30 finishes carrying out the substrate C to be exposed, the subframe 30 is rotated 180 degrees again in order to carry the next substrate C to be exposed.
- the first exposure drawing apparatus 2 is provided with a system control unit 40 that is electrically connected to each part of the apparatus.
- the system control unit 40 controls each part of the first exposure drawing apparatus 2. Is centrally controlled.
- the first exposure drawing apparatus 2 includes a job storage unit 41, a stage drive unit 42, a display device 43, an input device 44, a shooting drive unit 46, and an external input / output unit 48.
- the system control unit 40 has a CPU (Central Processing Unit), RAM (Random Access Memory), ROM (Read Only Memory), and HDD (Hard Disk Drive). Further, the system control unit 40 causes the CPU to emit a light beam from the light source unit 17 and output corresponding image information from the image processing unit 19 at a timing according to the movement of the stage 10. In this way, the system control unit 40 controls the exposure of the light beam to the substrate C to be exposed by the exposure head 16a.
- CPU Central Processing Unit
- RAM Random Access Memory
- ROM Read Only Memory
- HDD Hard Disk Drive
- the job storage unit 41 includes a RAM and a non-volatile memory, and stores job information indicating a job to be executed.
- the job according to the present embodiment exposes and draws the same image on the first surface of one or more exposed substrates C of the same type under the same conditions, and exposes the same image on the second surface under the same conditions. This is a batch exposure processing request for drawing. Details of the job information will be described later.
- the job storage unit 41 stores job information of a job to be executed in a list format, but is not limited thereto, and may be stored in a queue format.
- the stage drive unit 42 has a drive mechanism constituted by a motor or a hydraulic pump, and drives the stage 10 under the control of the system control unit 40.
- the display device 43 is a display unit such as a liquid crystal display that displays various information under the control of the system control unit 40.
- the input device 44 is an input means such as a touch sensor or operation buttons for inputting various information by a user operation.
- the imaging drive unit 46 has a drive mechanism constituted by a motor or a hydraulic pump, and drives the imaging unit 23 under the control of the system control unit 40.
- the external input / output unit 48 inputs / outputs various information to / from various information processing apparatuses including the second exposure drawing apparatus 3 and the control apparatus 5 connected to the first exposure drawing apparatus 2.
- the external input / output unit 48 of the second exposure drawing apparatus 3 inputs various information to and from various information processing apparatuses including the first exposure drawing apparatus 2 and the control apparatus 5 connected to the second exposure drawing apparatus 3. Output.
- the control device 5 includes a control unit 50 that controls the exposure drawing process in the exposure drawing system 1.
- the control device 5 includes a storage unit 51 having a ROM, an HDD, and the like that store programs and various data necessary for exposure drawing processing by the control unit 50.
- the storage unit 51 also stores job information, a job setting processing program, a first job execution processing program, a second job execution processing program, and a job selection processing program of the second embodiment.
- control device 5 includes a display unit 52 such as a liquid crystal display that displays various types of information based on the control of the control unit 50, and an input unit 53 such as a keyboard and a mouse that inputs various types of information through user operations. Furthermore, the control device 5 includes a communication interface 54 that transmits and receives various types of information to and from the first exposure drawing device 2 and the second exposure drawing device 3 based on the control of the control unit 50.
- display unit 52 such as a liquid crystal display that displays various types of information based on the control of the control unit 50
- input unit 53 such as a keyboard and a mouse that inputs various types of information through user operations.
- control device 5 includes a communication interface 54 that transmits and receives various types of information to and from the first exposure drawing device 2 and the second exposure drawing device 3 based on the control of the control unit 50.
- the control device 5 accepts input of information regarding a job by a user operation. Further, when the control device 5 receives input of information related to the job, the control device 5 generates job information corresponding to each of the first exposure drawing device 2 and the second exposure drawing device 3, and each of the generated job information corresponds to the corresponding exposure drawing. Send to device.
- the first exposure drawing apparatus 2 and the second exposure drawing apparatus 3 receive job information
- the first exposure drawing apparatus 2 and the second exposure drawing apparatus 3 store the received job information in the job storage unit 41, and the exposed substrate C according to the contents of the stored job.
- the first exposure drawing apparatus 2 stores a plurality of pieces of job information
- the first exposure drawing apparatus 2 executes the job indicated by the job information in the order in which the pieces of job information are received.
- the second exposure drawing apparatus 3 according to the present embodiment sequentially executes jobs corresponding to the jobs executed by the first exposure drawing apparatus 2.
- the control device 5 causes the first exposure drawing apparatus 2 to draw an image on the first surface of the substrate C to be exposed, and the second exposure drawing apparatus 3 sets the exposure information of the substrate C to be exposed.
- Job information 60B for drawing an image on the second surface is generated. That is, even for jobs related to the same substrate C to be exposed, exposure drawing processing is performed on the first surface and the second surface by separate exposure drawing apparatuses. Two-side job information 60B is generated separately.
- the job information 60A and 60B are information in which job identification information 61, image information 62, and exposure condition information 63 are associated with each job, as shown in FIGS. 7A and 7B.
- the job identification information 61 is information for identifying each job.
- the image information 62 is information indicating an image to be drawn.
- the exposure condition information 63 is information indicating the exposure conditions when exposing the light beam to draw an image corresponding to the substrate C to be exposed.
- the exposure condition information 63 includes substrate size information indicating the substrate size of the exposure target substrate C (hereinafter referred to as “target substrate”) to be drawn, and drawing number information indicating the number of drawing of the target substrate. Contains.
- the exposure condition information 63 includes mark information in which a mark arrangement pattern in the case where a mark for determining a drawing area of an image corresponding to the target substrate is provided is indicated by coordinates, and Sensitive material type information indicating the sensitive material type of the target substrate is included.
- the information included in the exposure condition information 63 is not limited to these, and any information may be used as long as it is information used when performing exposure drawing processing, such as information indicating the intensity of the light beam and information indicating the moving speed of the stage 10. It may be the information.
- the operator When the operator wants the first exposure drawing apparatus 2 and the second exposure drawing apparatus 3 to execute a job, the operator inputs each information included in the job information 60A and 60B to the control apparatus 5 via the input unit 53. .
- the control device 5 performs job setting processing for generating job information 60A for the first surface and job information 60B for the second surface based on each input information and storing the job information 60B for the second surface in the storage unit 51. Do.
- FIG. 8 is a flowchart showing a processing flow of a job setting processing program executed by the control unit 50 of the control device 5 when an execution instruction is input via the input unit 53.
- the program is stored in advance in a predetermined area of the ROM of the storage unit 51.
- the display unit 52 is controlled to display a job input screen for assisting the user in inputting information related to the job.
- the job input screen 70 includes a drawing target surface selection column 71 for selecting whether the input is related to the first surface job or the second surface job.
- the job input screen 70 has an image input field 72 for inputting image identification information indicating an image to be drawn.
- the image identification information is a file name of a file including image information, a URL (Uniform Resource Locator) indicating a storage location of the image file, or the like.
- the job input screen 70 also has a substrate type input field 73 for inputting substrate type information indicating the substrate type of the substrate C to be exposed that is applied to the job to be input.
- the job input screen 70 has a drawing number input field 74 for inputting drawing number information indicating the number of drawing of the substrate C to be exposed in the target job. Furthermore, the job input screen 70 has an input end button 75 for designating information indicating that the input has ended.
- selection candidates are displayed in a list display or the like for each input field, and any one of the displayed selection candidates is selected via the input unit 53. good.
- the user uses the input unit 53 to select a drawing target surface in the drawing target surface selection column 71, inputs information corresponding to each input column, and then designates an input end button 75.
- the process waits until the input end button 75 is designated, thereby waiting until the input of information related to the job is completed.
- job information 60A, 60B is generated based on the drawing target surface selected in the drawing target surface selection column 71 and each information input in each input column, and the generated job information 60A, 60B is generated. Is stored in the storage unit 51.
- the control unit 50 sets the image information of the image indicated by the information input in the image input column 72 as the image information 62, and the drawing number input column 74. The information input to is used as the drawing number information, and job information 60A for the first surface is generated.
- substrate size information, mark information, and sensitive material type information are determined from the information input in the substrate type input field 73.
- the substrate size information, the mark information, and the photosensitive material type information are stored in the storage unit 51 in association with each substrate type of the substrate C to be exposed.
- the substrate size information, mark information, and sensitive material type information corresponding to the substrate type indicated by the information input in the substrate type input field 73 are converted into the substrate size of the job information 60A. Information, mark information, and sensitive material type information.
- the control unit 50 sets the image information of the image indicated by the information input in the image input field 72 as the image information 62, and enters the drawing number input field 74.
- the input information is used as the drawing number information, and job information 60B for the second surface is generated.
- the control unit 50 also determines and applies the substrate size information, the mark information, and the sensitive material type information in the job information 60B as in the job information 60A.
- step S107 it is determined whether or not the job information generated in the process of step S105 is the job information 60A on the first surface.
- the process proceeds to step S109, and the generated job information 60A is transmitted to the first exposure drawing apparatus 2 via the wired cable 8a.
- the first exposure drawing apparatus 2 stores the received job information 60 ⁇ / b> A in its own job storage unit 41.
- step S107 the job information generated by the process in step S105 is regarded as the second-side job information 60B, and the process proceeds to step S111.
- step S111 the generated job information 60B is transmitted to the second exposure drawing apparatus 3 via the wired cable 8a, and then the job setting processing program is terminated.
- the second exposure drawing apparatus 3 stores the received job information 60B in its own job storage unit 41.
- the control device 5 performs the job information 60 ⁇ / b> A on the first surface and the job on the second surface based on information input by the user.
- Information 60B is generated.
- the job information 60A for the first surface generated by the control device 5 is stored in the order received in the job storage unit 41 of the first exposure drawing device 2, and the job information 60B for the second surface is stored in the second exposure drawing device 3.
- the first exposure drawing apparatus 2 When the first exposure drawing apparatus 2 receives and stores the job information 60A from the control apparatus 5, the first exposure drawing apparatus 2 draws an image on the first surface of the substrate C to be exposed using the stored job information 60A in accordance with a predetermined user operation. The first job execution process is performed.
- FIG. 11 is a flowchart showing the flow of processing of the first job execution processing program executed by the system control unit 40 of the first exposure drawing apparatus 2 at this time.
- the program is stored in advance in a predetermined area of the ROM provided in the system control unit 40.
- the timing at which the program is executed is not limited to the timing according to a predetermined user operation, but may be the timing at which the job information 60A is received.
- step S200 control is performed to display the job information 60A stored in the job storage unit 41 on the display device 43.
- the system control unit 40 performs control to display each job information 60A in a list format.
- the user places the number of exposed substrates C indicated by the drawing number information in the job information 60 ⁇ / b> A to be executed on the upstream side of the first transport unit 6 of the first exposure drawing apparatus 2.
- the user selects and designates the displayed job information 60A via the input device 44, thereby inputting a job execution instruction indicated by the designated job information 60A.
- next step S201 the process waits until the job execution instruction is input.
- job information 60A corresponding to the job instructed to execute hereinafter referred to as “execution first page job”.
- the image information 62 is obtained from In the present embodiment, when acquiring the image information 62 of the image to be drawn, the image information (image information 62 of the job information 60A) stored in the own job storage unit 41 is acquired, but the present invention is not limited to this. . That is, the image identification information may be added to the job information 60A, and the image information of the image to be drawn may be acquired from the control device 5 or an external storage device based on the image identification information.
- an exposure condition for drawing an image on the substrate C to be exposed is determined by executing the execution first surface job.
- the system control unit 40 determines the exposure condition based on the substrate size information, the number of drawn images information, the mark information, and the photosensitive material type information in the job information 60A of the execution first surface job.
- the system control unit 40 photographs the mark provided on the substrate C to be exposed by the photographing unit 23, and measures the position of the mark from the image obtained by the photographing. Further, the system control unit 40 determines a drawing area in which an image is drawn based on the measured mark position. Further, the system control unit 40 deforms the image to be drawn based on the determined size and shape of the drawing area.
- the system control unit 40 determines the intensity of the light beam to be exposed, the moving speed of the stage 10 (or the exposure time of the light beam), and the like according to the photosensitive material type indicated by the photosensitive material type information.
- an exposure drawing process for drawing an image by exposing a light beam to the substrate C to be exposed is started according to the determined exposure condition.
- the system control unit 40 draws the deformed image on the exposed substrate C by exposing the light beam modulated based on the deformed image with the exposure head 16a. .
- step S209 it is determined whether or not a predetermined error has occurred.
- the system control unit 40 performs the exposure drawing process due to deformation or positioning failure of the substrate C to be exposed, failure of a part used when performing exposure drawing of the light source unit 17, the image processing unit 19, the exposure unit 16, and the like. It is determined that an error has occurred, for example, when stopped halfway. If the determination in step S209 is affirmative, the process proceeds to step S211, error information indicating that an error has occurred is transmitted to the control device 5, and the first job execution processing program is terminated. On the other hand, the control device 5 that has received the error information performs control to display the error information on the display unit 52.
- the system control unit 40 may transmit error information to the second exposure drawing apparatus 3.
- the second exposure drawing apparatus 3 that has received the error information performs control to display the error information on the display device 43, or the job information 60B of the job corresponding to the execution first page job in which the error has occurred. Or delete it.
- step S209 if a positive determination is made in step S209, the process proceeds to step S213.
- step S213 it is determined whether or not the exposure drawing process for one substrate to be exposed C has been completed. If a negative determination is made in step S213, the process returns to step S209. On the other hand, if a positive determination is made in step S213, the process proceeds to step S215.
- step S215 the exposure condition information 63 of the execution first surface job is transmitted to the second exposure drawing apparatus 3.
- the exposure condition information 63 of the execution first surface job is transmitted from the first exposure drawing apparatus 2 to the second exposure drawing apparatus 3, but the present invention is not limited to this.
- the information to be transmitted may be information including the exposure condition information 63 of the execution first surface job by the second exposure drawing apparatus 3, and may be, for example, the job information 60A itself.
- the transmitted information may be predetermined information (for example, only substrate size information, substrate size and mark information, etc.) included in the exposure condition information 63 of the execution first page job.
- next step S217 it is determined whether or not the execution first page job has been completed.
- the system control unit 40 determines that the execution first surface job has been completed when the exposure drawing process for the exposure target substrate C having the drawing number indicated in the drawing number information of the exposure condition information 63 is completed.
- step S217 If the determination in step S217 is negative, the process returns to step S209. If the determination is affirmative, the first job execution processing program is terminated.
- the second exposure drawing apparatus 3 When the second exposure drawing apparatus 3 according to the present embodiment receives the exposure condition information 63 of the execution first surface job from the first exposure drawing apparatus 2, the second exposure drawing apparatus 3 converts the exposure condition information 63 and the job information 60 ⁇ / b> B received from the control device 5. Based on this, a second job execution process for drawing an image on the second surface of the substrate C to be exposed is performed.
- FIG. 12 is a flowchart showing the flow of processing of the second job execution processing program executed by the system control unit 40 of the second exposure drawing apparatus 3 at this time.
- the program is stored in advance in a predetermined area of the ROM provided in the system control unit 40.
- the timing at which the program is executed is not limited to the timing at which the job identification information of the job to be executed is received, but is the timing at which a predetermined execution instruction is input by the user via the input device 44. Also good.
- step S301 whether or not a plurality of job information 60B having the same exposure condition information 63 as the exposure condition information 63 of the received execution first page job exists in the job information 60B stored in the job storage unit 41. Determine whether or not.
- step S301 determines whether the job information 60B stored in the job storage unit 41 or a non-selection button for selecting no job.
- the job selection screen 76 has a selection button 77 for selecting any one of the job information 60B stored in the job storage unit 41, and a non-selection button for selecting no job.
- a selection button 78 is provided. The user designates one of the selection buttons 77 or the non-selection button 78 using the input device 44.
- step S304 the process waits until any selection button 77 or non-selection button 78 is selected.
- step S305 it is determined whether any job is selected. At this time, when any selection button 77 is selected, the system control unit 40 determines that any job is selected (positive determination), and when any non-selection button 78 is selected, any job. Is determined not to have been selected (negative determination).
- step S305 If the determination in step S305 is affirmative, the selected job is designated as an execution target (hereinafter referred to as “execution second side job”), and the process proceeds to step S309 described later. On the other hand, if a negative determination is made in step S305, the process proceeds to step S317, error information indicating that the job is not selected is transmitted to the control device 5, and the second job execution processing program is terminated. On the other hand, the control device 5 performs control to display the received error information on the display unit 52.
- step S301 if a negative determination is made in step S301, the process proceeds to step S307.
- step S307 the job information 60B stored in the job storage unit 41 includes job information 60B indicating a job on the second surface having the same exposure condition information 63 as the exposure condition information 63 on the received execution first surface job. Determine if there is only one
- step S307 If a negative determination is made in step S307, the process proceeds to step S317, error information indicating that there is no job to be executed is transmitted to the control device 5, and the second job execution processing program is terminated. On the other hand, the control device 5 performs control to display the received error information on the display unit 52.
- step S307 determines whether the job information 60B determined to exist by the processing in step S307 is set as the execution second page job, and the process proceeds to step S309.
- the job information 60B determined to exist by the process of step S307 may be displayed on the display device 43, and an input of a job execution instruction indicated by the job information 60B may be received. In this case, after receiving the execution instruction input, the process proceeds to step S309.
- step S309 image information 62 of an image to be drawn on the second surface of the substrate C to be exposed is acquired from the job information 60B of the execution second surface job.
- the image information (image information 62 of the job information 60B) stored in the own job storage unit 41 is acquired, but the present invention is not limited to this. That is, the image identification information may be added to the job information 60B, and the image information of the image to be drawn may be acquired from the control device 5 or an external storage device based on the image identification information.
- an exposure condition for drawing an image on the substrate C to be exposed in the execution second surface job that is a job to be executed is determined.
- the system control unit 40 sets the exposure condition based on the substrate size information, the number-of-drawing-number information, the mark information, and the photosensitive material type information in the job information 60B of the execution second-side job by the same method as in step S205. decide.
- job A and job A ′ have the same exposure condition information 63
- job B and job B ′ have the same exposure condition information 63
- job information 60A for job A for drawing an image corresponding to the first surface job information 60A for job B, and the like are stored.
- the second exposure drawing apparatus 3 stores job information 60B of job A 'and job information 60B of job B' for drawing an image corresponding to the second surface.
- the second exposure drawing apparatus 3 sets the job A ′ having the same exposure condition information 63 as the job A as an execution target.
- step S313 similarly to the process in step S207 of the first job execution processing program described above, an exposure drawing process is performed in which a light beam is exposed on the exposed substrate C to draw an image according to the determined exposure condition. Start.
- step S315 it is determined whether or not a predetermined error has occurred.
- the system control unit 40 performs the exposure drawing process due to deformation or positioning failure of the substrate C to be exposed, failure of a part used when performing exposure drawing of the light source unit 17, the image processing unit 19, the exposure unit 16, and the like. It is determined that an error has occurred, for example, when stopped halfway.
- step S317 error information indicating that an error has occurred is transmitted to the control device 5, and the second job execution processing program is terminated.
- the control device 5 performs control to display the received error information on the display unit 52.
- step S315 when it becomes affirmation determination by step S315, it transfers to step S319.
- step S319 it is determined whether or not the exposure drawing process for the substrate C to be exposed has been completed. If a negative determination is made in step S319, the process returns to step S315. If an affirmative determination is made, the process proceeds to step S321.
- step S321 it is determined whether or not the execution second side job has been completed.
- the system control unit 40 determines that the execution second-side job is completed when the exposure drawing process for the exposure target substrate C having the drawing number indicated in the drawing number information of the exposure condition information 63 is completed. If a negative determination is made in step S321, the process proceeds to step S323.
- step S323 the process waits until it receives exposure condition information for drawing an image on the next exposed substrate C in the execution second-surface job.
- step S325 it is determined whether or not the received exposure condition information is the same as the exposure condition information of the job information 60B of the execution second side job. If the determination in step S325 is affirmative, the execution of the second execution side job is continued, and the process proceeds to step S315. On the other hand, if a negative determination is made in step S325, the process proceeds to step S317, and error information indicating that exposure condition information different from the exposure condition information of the job information 60B of the execution second-surface job has been received is indicated by the control device 5. To end the first job execution processing program.
- step S321 determines whether the first job execution processing program is terminated.
- information indicating the first job executed is transmitted from the first exposure drawing apparatus 2 to the second exposure drawing apparatus 3, and the corresponding job is selected and executed by the second exposure drawing apparatus 3.
- the first exposure drawing apparatus 2 transmits information indicating the first job to be executed to the control apparatus 5, the control apparatus 5 selects a corresponding job, and the selected job is subjected to the second exposure drawing. Transmit to device 3.
- FIG. 14 is a flowchart showing the flow of processing of the job setting processing program executed by the control unit 50 of the control device 5 at this time.
- the program is stored in advance in a predetermined area of the ROM of the storage unit 51.
- steps S401 to S405 processing similar to that in steps S101 to S105 of the first embodiment is performed.
- the generated job information 60A for the first surface is transmitted to the first exposure drawing apparatus 2 via the wired cable 8a, and the job setting processing program is terminated.
- the first exposure drawing apparatus 2 stores the received job information 60 ⁇ / b> A in the job storage unit 41.
- the first exposure drawing apparatus 2 After storing the job information 60A, the first exposure drawing apparatus 2 performs a first job execution process for drawing an image on the first surface of the substrate C to be exposed based on the job information 60A in accordance with a predetermined user operation.
- FIG. 15 is a flowchart showing the flow of processing of the first job execution processing program executed by the system control unit 40 of the first exposure drawing apparatus 2 at this time.
- the program is stored in advance in a predetermined area of the ROM provided in the system control unit 40.
- the timing at which the program is executed is not limited to the timing in accordance with a predetermined user operation, and may be the timing at which the job information 60A is received.
- steps S500 to S513 processing similar to that in steps S201 to S213 of the first embodiment is performed.
- step S515 the exposure condition information 63 in the job information 60A of the execution first surface job is transmitted to the control device 5.
- step S517 processing similar to that in step S217 in the first embodiment is performed, and the first job execution processing program is terminated.
- control apparatus 5 When the control apparatus 5 according to the present embodiment receives the exposure condition information of the job information 60A from the first exposure drawing apparatus 2, the same exposure as the received exposure condition information is received from the job information 60B stored in the storage unit 51. Job selection processing for selecting job information 60B having condition information is performed.
- FIG. 16 is a flowchart showing the flow of processing of the job selection processing program executed by the control unit 50 of the control device 5 at this time.
- the program is stored in advance in a predetermined area of the ROM of the storage unit 51.
- the timing at which the program is executed is not limited to the timing at which the exposure condition information is received, but may be the timing at which a predetermined execution instruction is input by the user via the input unit 53.
- step S601 the second side job having the same exposure condition information 63 as the received execution first side job exposure condition information 63 among the second side job information 60B stored in the storage unit 51. It is determined whether or not the information 60B exists.
- step S601 determines whether the determination in step S601 is affirmative. If the determination in step S601 is affirmative, the process proceeds to step S605, and the second surface job information 60B having the same exposure condition information 63 as the exposure condition information 63 of the execution first surface job is transferred to the second exposure drawing apparatus 3. Transmission is performed via the wired cable 8a. The second exposure drawing apparatus 3 stores the received second-side job information 60B in the job storage unit 41.
- step S601 the process proceeds to step S605 to indicate that there is no second-side job information 60B having the same exposure condition information 63 as the exposure condition information 63 of the execution first-side job. Control to display error information on the display unit 52 is performed.
- the second exposure drawing apparatus 3 When the second exposure drawing apparatus 3 according to the present embodiment receives the job information 60B on the second surface from the control device 5, the second exposure drawing apparatus 3 draws an image on the second surface of the substrate C to be exposed based on the received job information 60B. The second job execution process is performed.
- FIG. 17 is a flowchart showing the flow of processing of the second job execution processing program executed by the system control unit 40 of the second exposure drawing apparatus 3 at this time.
- the program is stored in advance in a predetermined area of the ROM provided in the system control unit 40.
- the timing at which the program is executed is not limited to the timing at which the job information 60B is received, but may be the timing at which a predetermined execution instruction is input by the user via the input device 44.
- steps S701 to S705 processing similar to that in steps S301 to S305 in the first embodiment is performed.
- steps S707 to S723 processing similar to that in steps S309 to S325 of the first embodiment is performed, and the second job execution processing program is terminated.
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法を提供する。被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報60Aに基づいて第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報60Aにより示される画像を第1面に描画し、被露光基板の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報60Bを記憶し、複数の第2ジョブ情報60Aのうち第1面に対する画像の描画に用いた第1ジョブ情報60Aにより示される露光条件情報と同一の露光条件情報を有する第2ジョブ情報60Bに基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を第2面に描画する。
Description
本発明は、露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法に係り、特に、被露光基板の両面に画像を描画する露光描画装置及び露光描画システムと、当該露光描画装置及び露光描画システムにより実行されるプログラムと、被露光基板の両面に画像を描画する露光描画方法とに関する。
従来、プリント基板である被露光基板に、画像情報に基づいて変調された光ビームを露光し、当該被露光基板に画像を描画する露光描画装置が開発されている。また、被露光基板の両面に画像を描画するために、この露光描画装置を2台並列させ、一方を第1面の描画に使用し、他方を第1面とは反対の第2面の描画に使用する露光描画システムも開発されている。この露光描画システムでは、第1面用の露光描画装置によって被露光基板の第1面に画像が描画された後、当該被露光基板が第2面用の露光描画装置の所定位置まで搬送され、当該露光描画装置によって被露光基板の第2面に画像が描画される。
この露光描画システムに関する技術として、特許文献1には、2台の露光描画装置を用いて被露光基板の第1面及び第2面にそれぞれ画像を描画する際の被露光基板の搬送処理のスループットを向上させた露光描画システムが開示されている。
この露光描画システムが有する各露光描画装置は、被露光基板が載置されるステージと、ステージを直線状に移動させるステージ移動手段と、ステージに載置された被露光基板の第1面に光ビームを走査するビーム走査手段とを有する描画ユニットを備える。また、各露光描画装置は、ステージの移動方向で、描画ユニットの上流側に配置された上流側ユニットと、ステージの移動方向で、描画ユニットの下流側に配置された下流側ユニットとを備える。また、各露光描画装置は、上流側ユニットの被露光基板を保持してステージの移動方向と同一方向である搬送方向に移動させるようにして、描画ユニット内のステージ上に被露光基板を搬入する搬入手段を備える。また、各露光描画装置は、描画ユニット内のステージ上の被露光基板を保持して搬送方向に移動させるようにして、下流側ユニットに被露光基板を搬出する搬出手段を備える。
各露光描画装置では、被露光基板の第1面に光ビームを走査するときに、ステージを搬送方向の上流側から下流側に移動させ、上流側に位置するステージに被露光基板を搬入し、下流側に位置するステージから被露光基板を搬出する。
一般に、露光描画装置を用いて被露光基板に画像を描画する際には、作業者が露光描画装置に対して、被露光基板に描画する画像、及び描画する際の露光条件が指定された処理要求(ジョブ)を示すジョブ情報を入力する。複数の被露光基板に同一の画像を同一の露光条件で連続して描画する場合には、ジョブ情報において一連の処理が一括りにされて表される。そして、露光描画装置は、入力されたジョブ情報に基づいて被露光基板に対する露光描画処理を行う。
上記特許文献1に開示された露光描画システムでは、2台の露光描画装置の各々を用いて被露光基板の片面ずつ画像を描画するため、作業者は、一方の露光描画装置に第1面のジョブ情報を入力し、他方の露光描画装置に第2面のジョブ情報を入力する。このように、作業者が各露光描画装置に対して別個にジョブ情報を入力するため、作業者が入力を誤った場合には、被露光基板の各面で相互に対応しない画像が描画されてしまう可能性がある、という問題があった。
また、一方の露光描画装置において露光描画処理に失敗し、不良品となった被露光基板が取り除かれることがある。この場合、ジョブ情報の入力が正しく行われていた場合であっても、他方の露光描画装置に入力されたジョブ情報が更新されなかった場合には、被露光基板の各面で相互に対応しない画像を描画してしまう可能性がある、という問題もあった。
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明に係る露光描画装置は、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画する第1描画手段と、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報を記憶する記憶手段と、前記記憶手段が記憶している前記複数の第2ジョブ情報のうち前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報により示される露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報に基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画する第2描画手段と、を備えている。
本発明に係る露光描画装置によれば、第1描画手段により、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像が前記第1面に描画される。
ここで、本発明では、記憶手段により、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報が記憶される。そして、本発明では、第2描画手段により、前記記憶手段が記憶している前記複数の第2ジョブ情報のうち前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報により示される露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報に基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像が前記第2面に描画される。
このように、本発明の露光描画装置によれば、第1面に画像を描画した際に用いた第1ジョブ情報の露光条件情報と同一の露光条件情報を有する第2ジョブ情報を用いて第2面に画像を描画するので、被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる。
なお、本発明に係る露光描画装置は、前記露光条件が、前記被露光基板のサイズ、前記被露光基板の露光対象とする枚数、前記被露光基板に画像の描画領域を決定するためのマークが設けられている場合の該マークの配置パターン、及び前記被露光基板の感材種の少なくとも1つを含むようにしても良い。これにより、適用した露光条件で被露光基板の各面に画像を描画することができる。
一方、上記目的を達成するために、本発明に係る露光描画システムは、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画する第1描画手段、及び前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報を送信する送信手段を備えた第1露光描画装置と、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報を記憶する記憶手段、前記送信手段により送信された前記露条件情報を受信する受信手段、及び前記記憶手段により記憶している前記複数の第2ジョブ情報から前記受信手段により受信した露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報に基づいて前記第1描画手段で前記第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を該第2面に描画する第2描画手段を備えた第2露光描画装置と、を有している。
本発明に係る露光描画システムによれば、第1露光描画装置の第1描画手段により、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像が前記第1面に描画される。また、第1露光描画装置の送信手段により、前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報が送信される。
一方、本発明に係る露光描画システムでは、第2露光描画装置の第2記憶手段により、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報が記憶される。また、第2露光描画装置の受信手段により、前記送信手段により送信された前記露条件情報が受信される。さらに、第2露光描画装置の第2描画手段により、前記記憶手段により記憶している前記複数の第2ジョブ情報から前記受信手段により受信した露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報に基づいて前記第1描画手段で前記第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像が該第2面に描画される。
このように、本発明の露光描画システムによれば、第2露光描画装置が、第1面に画像を描画した際に用いた第1ジョブ情報の露光条件情報と同一の露光条件情報を有する第2ジョブ情報を用いて第2面に画像を描画するので、被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる。
なお、本発明に係る露光描画システムは、前記第1露光描画装置の前記送信手段が、前記第1描画手段による描画が正常に終了した場合の露光条件情報を送信するようにしても良い。これにより、本発明を適用しない場合に比較して、より確実に、被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる。
また、本発明に係る露光描画システムは、前記第1露光描画装置の前記送信手段が、前記第1描画手段による描画が異常に終了した場合、エラーが発生した旨を示すエラー情報を送信するようにしても良い。これにより、本発明を適用しない場合に比較して、より確実に、被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる。
また、本発明に係る露光描画システムは、前記第2露光描画装置が、前記記憶手段により記憶している前記複数の第2ジョブ情報に前記受信手段により受信した露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報が複数存在した場合、複数存在する前記第2ジョブ情報のうち何れか1つの前記第2ジョブ情報の選択を受け付ける受付手段を更に備え、前記第2露光描画装置の前記第2描画手段が、前記受付手段により選択が受け付けられた前記第2ジョブ情報に基づいて前記第2面に画像を描画するようにしても良い。これにより、第1面に画像を描画した際に用いた第1ジョブ情報の露光条件情報と同一の露光条件情報を有する第2ジョブ情報が複数存在していても、被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる。
また、本発明に係る露光描画システムは、前記第1ジョブ情報及び前記第2ジョブ情報を記憶する第2記憶手段、及び前記第2記憶手段により記憶している前記第1ジョブ情報を前記第1露光描画装置に送信し、前記第2ジョブ情報を前記第2露光描画装置に送信する第2送信手段を備えた制御装置を更に備え、前記第1露光描画装置が、前記第2送信手段により送信された前記第1ジョブ情報を受信する第2受信手段を更に備え、前記第1露光描画装置の前記第1描画手段が、前記第2受信手段により受信した前記第1ジョブ情報を用いて、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画し、前記第2露光描画装置が、前記第2送信手段により送信された前記第2ジョブ情報を受信する第3受信手段を更に備え、前記第2露光描画装置の前記記憶手段が、前記第3受信手段により受信した前記第2ジョブ情報を複数記憶するようにしても良い。これにより、制御装置によって、システム全体を統括的に管理することができる。
特に、本発明に係る露光描画システムは、前記制御装置が、前記第1ジョブ情報及び前記第2ジョブ情報の入力を受け付ける第2受付手段を更に備え、前記制御装置の前記第2記憶手段は、前記第2受付手段により受け付けた前記第1ジョブ情報及び前記第2ジョブ情報を記憶するようにしても良い。これにより、ユーザが入力したジョブ情報を用いて、被露光基板の各面に相互に対応する画像を描画させることができる。
一方、上記目的を達成するために、本発明に係る露光描画システムは、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画する第1描画手段、及び前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報を送信する第1送信手段を備えた第1露光描画装置と、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報を記憶する記憶手段、前記第1送信手段により送信された露光条件情報を受信する第1受信手段、及び前記記憶手段により記憶された前記複数の第2ジョブ情報のうち前記第1受信手段により受信した露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報を送信する第2送信手段を備えた制御装置と、前記第2送信手段により送信された前記第2ジョブ情報を受信する第2受信手段、及び前記第2受信手段により受信した前記第2ジョブ情報に基づいて前記第1描画手段により前記第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を該第2面に描画する第2描画手段を備えた第2露光描画装置と、を有している。
本発明に係る露光描画システムによれば、第1露光描画装置の第1描画手段により、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像が前記第1面に描画される。また、第1露光描画装置の第1送信手段により、前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報が送信される。
一方、本発明に係る露光描画システムでは、制御装置の記憶手段により、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報が記憶される。また、制御装置の第1受信手段により、前記第1送信手段により送信された露光条件情報が受信される。さらに、制御装置の第2送信手段により、前記記憶手段により記憶された前記複数の第2ジョブ情報のうち前記第1受信手段により受信した露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報が送信される。
さらに、本発明に係る露光描画システムでは、第2露光描画装置の第2受信手段により、前記第2送信手段により送信された前記第2ジョブ情報が受信され、第2露光描画装置の第2描画手段により、前記第2受信手段により受信した前記第2ジョブ情報に基づいて前記第1描画手段により前記第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像が該第2面に描画される。
このように、本発明の露光描画システムによれば、制御装置が、第1露光描画装置から受信した、第1面に画像を描画した際に用いた第1ジョブ情報の露光条件情報と同一の露光条件情報を有する第2ジョブ情報を第2露光描画装置に送信するので、露光描画装置に新たな機能を追加することなく、被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる。
なお、本発明に係る露光描画システムは、前記露光条件が、前記被露光基板のサイズ、前記被露光基板の露光対象とする枚数、前記被露光基板に画像の描画領域を決定するためにマークが設けられている場合の該マークの配置パターン、及び前記被露光基板の感材種の少なくとも1つを含むようにしても良い。これにより、適用した露光条件で被露光基板の各面に画像を描画することができる。
一方、上記目的を達成するために、本発明に係るプログラムは、コンピュータを、第1描画手段に、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画させる第1制御手段と、第2描画手段に、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報のうち、前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報に基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画させる第2制御手段と、として機能させる。
従って、本発明に係るプログラムによれば、コンピュータを本発明に係る露光描画装置と同様に作用させることができるので、当該露光描画装置と同様に、被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる。
さらに、上記目的を達成するために、本発明に係る露光描画方法は、第1描画手段に、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画させる第1制御ステップと、第2描画手段に、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報のうち、前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報に基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画させる第2制御ステップと、を有している。
従って、本発明に係る露光描画方法によれば、本発明に係る露光描画装置と同様に作用するので、当該露光描画装置と同様に、被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる。
本発明によれば、被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止することができる、という効果を奏する。
[第1実施形態]
以下、実施形態に係る露光描画装置について添付図面を用いて詳細に説明する。なお、各実施形態では、本発明を、被露光基板(後述する被露光基板C)に光ビームを露光して回路パターンを示す画像を描画する露光描画システムに適用した場合を例に挙げて説明する。また、被露光基板Cは、プリント配線基板、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板などの平板基板である。
図1に示すように、本実施形態に係る露光描画システム1は、被露光基板Cの第1面に対する露光を行う第1露光描画装置2、及び被露光基板Cの第1面とは反対の第2面に対する露光を行う第2露光描画装置3を備えている。また、露光描画システム1は、第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3の間に設けられ、被露光基板Cの表裏を反転する反転装置4、及び被露光基板Cの第1面及び第2面に対する露光を制御する制御装置5を備えている。
また、第1露光描画装置2と制御装置5との間、第2露光描画装置3と制御装置5との間は、それぞれ有線ケーブル8aで接続されており、制御装置5は、第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3との間で、有線ケーブル8aを介して通信する。同様に、第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3は有線ケーブル8bで接続されており、これらの各露光描画装置は、有線ケーブル8bを介して通信する。
次に、本実施形態に係る第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3の構成について説明する。なお、第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3は同一の構成を有するため、ここでは第1露光描画装置2について説明し、第2露光描画装置3についての説明を省略する。
図2に示すように、本実施形態に係る第1露光描画装置2は、被露光基板Cを固定するための平板状のステージ10を備えている。また、ステージ10の上面には、空気を吸入する複数の吸入孔(図示省略)が設けられている。ステージ10の上面に被露光基板Cが載置された際に、被露光基板C及びステージ10間の空気が吸入孔を介して吸入されることで被露光基板Cがステージ10に真空吸着される。
また、ステージ10は、卓状の基体11の上面に移動可能に設けられた平板状の基台12に支持されている。すなわち、基体11の上面には、1本または複数本(本実施形態では、2本)のガイドレール14が設けられている。基台12は、ガイドレール14に沿って自在に移動できるように支持されており、モータなどにより構成された駆動機構(後述するステージ駆動部42)により駆動されて移動する。ステージ10は、基台12の移動に連動してガイドレール14に沿って移動する。
なお、以下では、ステージ10が移動する方向をY方向と定め、このY方向に対して水平面内で直交する方向をX方向と定め、Y方向に鉛直面内で直交する方向をZ方向と定める。
基体11の上面には、2本のガイドレール14を跨ぐように立設された門型のゲート15が設けられている。ステージ10に載置された被露光基板Cは、ゲート15の開口部をガイドレール14に沿って出入りするようにして移動する。ゲート15の開口部の上部には、当該開口部に向けて光ビームを露光する露光部16が取り付けられている。この露光部16により、ステージ10がガイドレール14に沿って移動して上記開口部に位置している場合に、ステージ10に載置された被露光基板Cの上面に光ビームが露光される。
本実施形態に係る露光部16は、複数個(本実施形態では、16個)の露光ヘッド16aを含んで構成されている。露光ヘッド16aの各々は、露光部16においてマトリクス状に配列されている。また、露光部16には、後述する光源ユニット17から引き出された光ファイバ18と、後述する画像処理ユニット19から引き出された信号ケーブル20とがそれぞれ接続されている。
露光ヘッド16aの各々は、反射型の空間光変調素子としてのデジタルマイクロミラーデバイス(DMD)を有している。露光ヘッド16aは、画像処理ユニット19から入力される画像情報に基づいてDMDを制御することで光源ユニット17からの光ビームを変調する。第1露光描画装置2は、この変調した光ビームを被露光基板Cに照射することにより被露光基板Cに対する露光を行う。なお、空間光変調素子は反射型に限定されず、液晶などの透過型の空間光変調素子であっても良い。
図3Aに示すように、露光ヘッド16aで露光される領域である画像領域P1は、一方の辺が、ステージ10の移動方向(Y方向)に対して予め定められた傾斜角で傾斜した矩形状である。なお、図3Aにおいては、本実施形態に係る複数の露光ヘッド16aのうちの一部のみを示している。また、ステージ10がゲート15の開口部を移動する際に露光ヘッド16aにより被露光基板Cに光ビームが露光されると、図3Bに示すように、ステージ10の移動に伴って被露光基板Cに露光ヘッド16a毎に帯状の露光済み領域P2が形成される。マトリクス状に配列された露光ヘッド16aの各々は、X方向に、画像領域P1の長辺の長さを自然数倍(本実施形態では、1倍)した距離ずつずらして配置されている。そして、露光済み領域P2の各々は、隣接する露光済み領域P2と部分的に重ねられて形成される。
図2に示すように、基体11の上面には、さらに、2本のガイドレール14を跨ぐように立設された門型のゲート22が設けられている。ステージ10に載置された被露光基板Cは、ゲート22の開口部をガイドレール14に沿って出入りするようにして移動する。
ゲート22の開口部の上部には、開口部を撮影するための1個または複数個(本実施形態では、3個)の撮影部23が取り付けられている。撮影部23は、1回の発光時間が極めて短いストロボを内蔵したCCDカメラなどである。また、ゲート22の開口部の上部には、水平面内においてステージ10の移動方向(Y方向)に対して垂直な方向(X方向)に沿ってレール23aが設けられ、撮影部23の各々はレール23aに案内されて移動可能に設けられている。この撮影部23により、ステージ10がガイドレール14に沿って移動して上記開口部に位置している場合に、ステージ10に載置された被露光基板Cの上面が撮影される。
図1及び図2に示すように、第1露光描画装置2は、外部から搬入された被露光基板Cを第1露光描画装置2の所定位置まで搬送する第1搬送部6、被露光基板Cを第1露光描画装置2から反転装置4の所定位置まで搬送する第2搬送部7を備えている。同様に、第2露光描画装置3は、被露光基板Cを反転装置4から第2露光描画装置3の所定位置まで搬送する第1搬送部6、被露光基板Cを第2露光描画装置3の外部へ搬送する第2搬送部7を備えている。
第1搬送部6及び第2搬送部7は、複数の回転ローラと当該回転ローラを回転する駆動モータとを有している。上記複数の回転ローラは、各々が平行に敷設され、回転ローラの一端にはベルト又はワイヤーによって伝達される回転力を受けるスプロケット又は滑車が取り付けられる。回転ローラを回転する駆動モータの回転力を伝達する手段としては、ベルト又はワイヤー以外に円筒状のマグネットによる伝達方法も採用できる。
また、図2に示すように、第1露光描画装置2は、第1搬送部6により所定位置まで搬送されてきた被露光基板Cを、当該所定位置からステージ10まで搬送するオートキャリアハンド(以下、ACハンド)24を備えている。ACハンド24は平板状に形成されるとともに、X方向及びZ方向に移動可能に設けられている。ACハンド24の下面には、空気を吸入する複数の吸入孔25が設けられている。ACハンド24は、ACハンド24の下面が被露光基板Cの上面に接する位置に移動した際に、ACハンド24及び被露光基板Cの間の空気を吸入孔25で吸入することにより、被露光基板CをACハンド24の下面に真空吸着させて吸着保持する。また、ACハンド24の下面には、被露光基板Cを吸着保持した状態でACハンド24がステージ10の上面まで移動した際に、被露光基板Cを下方に向けて押し出してステージ10に押し付けるZ方向に移動自在な押付部26が設けられている。
第1露光描画装置2のACハンド24は、第1搬送部6まで搬送されてきた未露光の被露光基板Cを吸着保持して上方に移動させ、ステージ10の上面に載置する。また、第1露光描画装置2のACハンド24は、ステージ10の上面に載置された第1面が露光済みの被露光基板Cを吸着保持することにより上方に移動させ、被露光基板Cを第2搬送部7まで移動させる。第2搬送部7まで移動した第1面が露光済みの被露光基板Cは、第2搬送部7により第1露光描画装置2の外部へ搬出される。
また、第2露光描画装置3のACハンド24は、第1搬送部6まで搬送されてきた第1面が露光済みの被露光基板Cを吸着保持して上方に移動させ、被露光基板Cをステージ10の上面に載置する。また、第2露光描画装置3のACハンド24は、ステージ10の上面に載置された第1面及び第2面が露光済みの被露光基板Cを吸着保持することにより上方に移動させ、被露光基板Cを第2搬送部7まで移動させる。第2搬送部7まで移動した第1面及び第2面が露光済みの被露光基板Cは、第2搬送部7により露光描画システム1の外部へ搬出される。
次に、本実施形態に係る反転装置4の構成について説明する。
図4に示すように、反転装置4は、回動軸Lに回動自在に軸支された平板状のサブフレーム30を備えている。サブフレーム30は、被露光基板Cを内部に保持した状態で180度回転することにより被露光基板Cの表裏を反転させる。
また、図4に示すように、サブフレーム30が有する側面のうちの第1露光描画装置2が位置する側の側面に、被露光基板Cがサブフレーム30の内部に搬入される搬入口31設けられている。さらに、サブフレーム30の内部にはモータ33で駆動される複数のローラ対34が設けられている。ローラ対34は、サブフレーム30の内部に収納された被露光基板Cを挟持した状態で搬送する。被露光基板Cは、ローラ対34によって搬入口31を介してサブフレーム30の内部に搬送されると共に、サブフレーム30の回転によって表裏が反転され、ローラ対34によって搬入口31を介してサブフレーム30の外部に搬送される。なお、サブフレーム30は、被露光基板Cの搬出を終えると、次の被露光基板Cを内部に搬入するために再び180度回動する。
次に、本実施形態に係る第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3の電気系の構成について説明する。なお、第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3は同一の電気系の構成を有するため、ここでは第1露光描画装置2について説明し、第2露光描画装置3についての説明を省略する。
図5に示すように、第1露光描画装置2には、装置各部にそれぞれ電気的に接続されるシステム制御部40が設けられており、このシステム制御部40により第1露光描画装置2の各部が統括的に制御される。また、第1露光描画装置2は、ジョブ記憶部41、ステージ駆動部42、表示装置43、入力装置44、撮影駆動部46、及び外部入出力部48を有している。
システム制御部40は、CPU(Central Processing Unit)、RAM(Random AccessMemory)、ROM(Read Only Memory)、及びHDD(Hard Disk Drive)を有している。また、システム制御部40は、上記CPUにより、ステージ10の移動に応じたタイミングで、光源ユニット17から光ビームを出射させると共に、対応する画像情報を画像処理ユニット19により出力させる。システム制御部40は、このようにして露光ヘッド16aによる被露光基板Cに対する光ビームの露光を制御する。
ジョブ記憶部41は、RAMや不揮発性メモリを有し、実行対象とするジョブを示すジョブ情報を記憶する。本実施形態におけるジョブは、同一種類の1枚または複数枚の被露光基板Cの第1面に同一の画像を同一条件で露光描画すると共に、第2面にも同一の画像を同一条件で露光描画する一括りの露光処理要求である。なお、ジョブ情報の詳細については後述する。本実施形態では、ジョブ記憶部41は、実行対象とするジョブのジョブ情報をリスト形式で記憶するが、これに限定されず、キュー形式で記憶しても良い。
ステージ駆動部42は、モータまたは油圧ポンプなどにより構成された駆動機構を有しており、システム制御部40の制御によってステージ10を駆動する。
表示装置43は、システム制御部40の制御により各種情報を表示する液晶ディスプレイ等の表示手段である。
入力装置44は、ユーザ操作により各種情報を入力するタッチセンサや操作ボタン等の入力手段である。
撮影駆動部46は、モータまたは油圧ポンプなどにより構成された駆動機構を有しており、システム制御部40の制御によって撮影部23を駆動する。
外部入出力部48は、第1露光描画装置2に接続された第2露光描画装置3及び制御装置5を含む各種情報処理装置との間で各種情報の入出力を行う。なお、第2露光描画装置3の外部入出力部48は、第2露光描画装置3に接続された第1露光描画装置2及び制御装置5を含む各種情報処理装置との間で各種情報の入出力を行う。
次に、本実施形態に係る制御装置5の電気系の構成について説明する。
図6に示すように、制御装置5は、露光描画システム1における露光描画処理を制御する制御部50を備えている。また、制御装置5は、制御部50による露光描画処理に必要なプログラムや各種データを記憶するROM及びHDD等を有する記憶部51を備えている。なお、記憶部51は、ジョブ情報、ジョブ設定処理プログラム、第1ジョブ実行処理プログラム、第2ジョブ実行処理プログラム、及び第2実施形態のジョブ選択処理プログラムも記憶している。
また、制御装置5は、制御部50の制御に基づいて各種情報を表示する液晶ディスプレイ等の表示部52、及びユーザ操作により各種情報を入力するキーボードやマウス等の入力部53を備えている。さらに、制御装置5は、制御部50の制御に基づいて第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3に対する各種情報の送受信を行う通信インタフェース54を備えている。
ここで、本実施形態に係る制御装置5は、ユーザ操作によるジョブに関する情報の入力を受け付ける。また、制御装置5は、ジョブに関する情報の入力を受け付けた際、第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3に各々対応するジョブ情報を生成し、生成したジョブ情報を各々対応する露光描画装置に送信する。本実施形態に係る第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3は、ジョブ情報を受信した際、受信したジョブ情報をジョブ記憶部41に記憶し、記憶したジョブの内容に従って被露光基板Cに対する露光描画処理を実行する。この際、本実施形態に係る第1露光描画装置2は、複数のジョブ情報を記憶している場合には、各ジョブ情報を受信した順に、各ジョブ情報によって示されるジョブを実行する。なお、本実施形態に係る第2露光描画装置3は、第1露光描画装置2で実行されたジョブに対応するジョブを順次実行する。
ジョブ情報の生成に際し、制御装置5は、第1露光描画装置2に被露光基板Cの第1面に画像を描画させるためのジョブ情報60A、及び第2露光描画装置3に被露光基板Cの第2面に画像を描画させるためのジョブ情報60Bをそれぞれ生成する。すなわち、同一の被露光基板Cに関するジョブであっても、第1面及び第2面に対してそれぞれ別個の露光描画装置で露光描画処理を行うため、第1面用のジョブ情報60A、及び第2面用のジョブ情報60Bをそれぞれ別個に生成する。
ジョブ情報60A、60Bは、一例として図7A及び図7Bに示すように、ジョブ識別情報61と、画像情報62と、露光条件情報63とがそれぞれジョブ毎に対応付けられた情報である。なお、ジョブ識別情報61は、各々のジョブを識別するための情報である。また、画像情報62は、描画対象とする画像を示す情報である。また、露光条件情報63は、被露光基板Cに対応する画像を描画するために光ビームを露光する際の露光条件を示す情報である。本実施形態に係る露光条件情報63は、描画対象とする被露光基板C(以下、「対象基板」という。)の基板サイズを示す基板サイズ情報、及び対象基板の描画枚数を示す描画枚数情報を含んでいる。また、本実施形態に係る露光条件情報63は、対象基板に対応する画像の描画領域を決定するためのマークが設けられている場合の当該マークの配置パターンが座標で示されたマーク情報、及び対象基板の感材種を示す感材種情報等を含んでいる。しかしながら、露光条件情報63に含まれる情報はこれらに限定されず、光ビームの強度を示す情報、ステージ10の移動速度を示す情報等、露光描画処理を行う際に使用される情報であれば任意の情報であって良い。
作業者は、第1露光描画装置2及び第2露光描画装置3にジョブを実行させたい場合に、入力部53を介して、ジョブ情報60A、60Bに含まれる各情報を制御装置5に入力する。これに応じて、制御装置5は、入力された各情報に基づいて第1面用のジョブ情報60A、及び第2面用のジョブ情報60Bを生成して記憶部51に記憶するジョブ設定処理を行う。
次に、図8を参照して、本実施形態に係る露光描画システム1の作用を説明する。なお、図8は、入力部53を介して実行指示が入力された際に制御装置5の制御部50によって実行されるジョブ設定処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。当該プログラムは、記憶部51のROMの所定領域に予め記憶されている。
まず、ステップS101では、ユーザによるジョブに関する情報の入力を補助するためのジョブ入力画面を表示部52に表示させる制御を行う。図9に示すように、本実施形態に係るジョブ入力画面70は、第1面のジョブに関する入力か第2面のジョブに関する入力かを選択する描画対象面選択欄71を有している。また、ジョブ入力画面70は、描画する画像を示す画像識別情報を入力する画像入力欄72を有している。画像識別情報は、画像情報を含むファイルのファイル名や、画像ファイルの格納先を示すURL(Uniform Resource Locator)等である。また、ジョブ入力画面70は、入力対象とするジョブに適用される被露光基板Cの基板種類を示す基板種類情報を入力する基板種類入力欄73を有している。また、ジョブ入力画面70は、対象とするジョブにおける被露光基板Cの描画枚数を示す描画枚数情報を入力する描画枚数入力欄74を有している。さらに、ジョブ入力画面70は、入力が終了した旨を示す情報を指定するための入力終了ボタン75を有している。なお、各入力欄に各情報を入力する際、入力欄毎にリスト表示等によって選択候補が表示され、表示された選択候補の何れか1つを入力部53を介して選択するようにしても良い。ユーザは、入力部53を用いて、描画対象面選択欄71で描画対象とする面を選択し、各入力欄に対応する情報を入力した後、入力終了ボタン75を指定する。
そこで、次のステップS103では、入力終了ボタン75が指定されるまで待機することにより、ジョブに関する情報の入力が終了するまで待機する。
次のステップS105では、描画対象面選択欄71で選択された描画対象の面、及び各入力欄に入力された各情報に基づいてジョブ情報60A、60Bを生成し、生成したジョブ情報60A、60Bを記憶部51に記憶する。この際、制御部50は、描画対象面選択欄71で第1面が選択された場合、画像入力欄72に入力された情報が示す画像の画像情報を画像情報62とし、描画枚数入力欄74に入力された情報を描画枚数情報とし、第1面のジョブ情報60Aを生成する。また、ジョブ情報60Aでは、基板種類入力欄73に入力された情報から、基板サイズ情報、マーク情報、及び感材種情報を決定する。すなわち、本実施形態に係る露光描画システム1では、被露光基板Cの基板種類毎に、基板サイズ情報、マーク情報、及び感材種情報がそれぞれ対応付けられて記憶部51に記憶されている。そして、本実施形態に係る露光描画システム1では、基板種類入力欄73に入力された情報が示す基板種類に対応する基板サイズ情報、マーク情報、及び感材種情報を、ジョブ情報60Aの基板サイズ情報、マーク情報、及び感材種情報とする。
また、制御部50は、描画対象面選択欄71で第2面が選択された場合、画像入力欄72に入力された情報が示す画像の画像情報を画像情報62とし、描画枚数入力欄74に入力された情報を描画枚数情報として、第2面のジョブ情報60Bを生成する。また、制御部50は、ジョブ情報60Bでも、ジョブ情報60Aと同様にして、基板サイズ情報、マーク情報、及び感材種情報を決定して適用する。
次のステップS107では、上記ステップS105の処理において生成したジョブ情報が、第1面のジョブ情報60Aであるか否かを判定する。ステップS107で肯定判定となった場合はステップS109に移行し、生成したジョブ情報60Aを第1露光描画装置2に有線ケーブル8aを介して送信する。これに対して第1露光描画装置2は、受信したジョブ情報60Aを自身のジョブ記憶部41に記憶する。
一方、ステップS107で否定判定となった場合は上記ステップS105の処理によって生成したジョブ情報が第2面のジョブ情報60Bであったと見なしてステップS111に移行する。
ステップS111では、生成したジョブ情報60Bを第2露光描画装置3に有線ケーブル8aを介して送信した後、本ジョブ設定処理プログラムを終了する。これに対して第2露光描画装置3は、受信したジョブ情報60Bを自身のジョブ記憶部41に記憶する。
このように、本実施形態に係る露光描画システム1では、図10に示すように、制御装置5が、ユーザによって入力された情報に基づいて第1面のジョブ情報60A、及び第2面のジョブ情報60Bを生成する。そして、制御装置5によって生成された第1面のジョブ情報60Aは第1露光描画装置2のジョブ記憶部41に受信された順に記憶され、第2面のジョブ情報60Bは第2露光描画装置3のジョブ記憶部41に受信された順に記憶される。
第1露光描画装置2は、制御装置5からジョブ情報60Aを受信して記憶すると、予め定められたユーザ操作に従って、記憶したジョブ情報60Aを用いて被露光基板Cの第1面に画像を描画する第1ジョブ実行処理を行う。
次に、図11を参照して、本実施形態に係る第1ジョブ実行処理を実行する際の第1露光描画装置2の作用を説明する。なお、図11は、この際に第1露光描画装置2のシステム制御部40によって実行される第1ジョブ実行処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。当該プログラムは、システム制御部40が備えているROMの所定領域に予め記憶されている。なお、当該プログラムが実行されるタイミングは、予め定められたユーザ操作に従ったタイミングに限らず、ジョブ情報60Aを受信したタイミングであっても良い。
始めに、ステップS200では、ジョブ記憶部41に記憶しているジョブ情報60Aを表示装置43に表示させる制御を行う。この際、システム制御部40は、複数のジョブ情報60Aが記憶されている場合には、各ジョブ情報60Aをリスト形式で表示させる制御を行う。ユーザは、実行対象とするジョブ情報60Aの描画枚数情報により示される枚数の被露光基板Cを第1露光描画装置2の第1搬送部6の上流側に配置する。そして、ユーザは、入力装置44を介して、表示されたジョブ情報60Aを選択指定することにより、指定したジョブ情報60Aによって示されるジョブの実行指示を入力する。
次のステップS201では、上記ジョブの実行指示が入力されるまで待機し、次のステップS203では、実行が指示されたジョブ(以下、「実行第1面ジョブ」という。)に対応するジョブ情報60Aから画像情報62を取得する。なお、本実施形態では、描画する画像の画像情報62を取得する際、自身のジョブ記憶部41に記憶されている画像情報(ジョブ情報60Aの画像情報62)を取得するが、これに限定されない。すなわち、ジョブ情報60Aに上記画像識別情報を付与しておき、当該画像識別情報に基づいて、描画する画像の画像情報を、制御装置5や外部の記憶装置から取得しても良い。
次のステップS205では、実行第1面ジョブの実行により被露光基板Cに画像を描画する際の露光条件を決定する。この際、システム制御部40は、実行第1面ジョブのジョブ情報60Aにおける基板サイズ情報、描画枚数情報、マーク情報、及び感材種情報に基づいて露光条件を決定する。本実施形態では、まず、システム制御部40は、撮影部23により被露光基板Cに設けられた上記マークを撮影し、撮影によって得られた画像から当該マークの位置を計測する。また、システム制御部40は、計測したマークの位置に基づいて画像を描画する描画領域を決定する。さらに、システム制御部40は、決定した描画領域のサイズや形状に基づいて描画対象とする画像を変形させる。そして、システム制御部40は、上記感材種情報が示す感材種に応じて、露光する光ビームの強度、ステージ10の移動速度(または光ビームの露光時間)等を決定する。
次のステップS207では、決定した露光条件に応じて、被露光基板Cに光ビームを露光して画像を描画する露光描画処理を開始する。本実施形態に係る露光描画処理では、システム制御部40は、変形させた画像に基づいて変調させた光ビームを露光ヘッド16aにより露光することにより当該変形させた画像を被露光基板Cに描画する。
次のステップS209では、予め定められたエラーが発生したか否かを判定する。この際、システム制御部40は、被露光基板Cの変形や位置決め不良、光源ユニット17や画像処理ユニット19、露光部16等の露光描画を行う際に用いられる部位の故障等により露光描画処理が途中で停止した場合等に、エラーが発生したと判定する。ステップS209で肯定判定となった場合はステップS211に移行し、エラーが発生した旨を示すエラー情報を制御装置5に送信し、本第1ジョブ実行処理プログラムを終了する。これに対し、エラー情報を受信した制御装置5は、エラー情報を表示部52に表示させる制御を行う。なお、システム制御部40は、エラー情報を第2露光描画装置3に送信しても良い。これに対し、エラー情報を受信した第2露光描画装置3は、当該エラー情報を表示装置43に表示する制御を行ったり、エラーが発生した実行第1面ジョブに対応するジョブのジョブ情報60Bを削除したりする。
一方、ステップS209で肯定判定となった場合はステップS213に移行する。
ステップS213では、1枚の被露光基板Cに対する露光描画処理が完了したか否かを判定する。ステップS213で否定判定となった場合は上記ステップS209に戻る一方、ステップS213で肯定判定となった場合はステップS215に移行する。
ステップS215では、実行第1面ジョブの露光条件情報63を第2露光描画装置3に送信する。なお、本実施形態では、第1露光描画装置2から第2露光描画装置3に実行第1面ジョブの露光条件情報63を送信するが、これに限定されない。すなわち、送信される情報は、第2露光描画装置3が実行第1面ジョブの露光条件情報63を含んだ情報であれば良いため、例えばジョブ情報60Aそのものであっても良い。また、送信される情報は、実行第1面ジョブの露光条件情報63に含まれる予め定められた情報(例えば基板サイズ情報のみ、基板サイズ及びマーク情報等)であってもよい。
次のステップS217では、実行第1面ジョブが完了したか否かを判定する。この際、システム制御部40は、露光条件情報63の描画枚数情報に示される描画枚数の被露光基板Cに対する露光描画処理が完了した場合に、実行第1面ジョブが完了したと判定する。
ステップS217で否定判定となった場合は上記ステップS209に戻る一方、肯定判定となった場合は本第1ジョブ実行処理プログラムを終了する。
本実施形態に係る第2露光描画装置3は、実行第1面ジョブの露光条件情報63を第1露光描画装置2から受信すると、露光条件情報63と制御装置5から受信したジョブ情報60Bとに基づいて、被露光基板Cの第2面に画像を描画する第2ジョブ実行処理を行う。
次に、図12を参照して、本実施形態に係る第2ジョブ実行処理を実行する際の第2露光描画装置3の作用を説明する。なお、図12は、この際に第2露光描画装置3のシステム制御部40によって実行される第2ジョブ実行処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。当該プログラムは、システム制御部40が備えているROMの所定領域に予め記憶されている。なお、当該プログラムが実行されるタイミングは、実行対象のジョブのジョブ識別情報を受信したタイミングに限らず、ユーザにより入力装置44を介して予め定められた実行指示が入力されたタイミング等であっても良い。
始めに、ステップS301では、ジョブ記憶部41に記憶しているジョブ情報60Bに、受信した実行第1面ジョブの露光条件情報63と同一の露光条件情報63を有するジョブ情報60Bが複数存在するか否かを判定する。
ステップS301で肯定判定となった場合はステップS303に移行し、ユーザによるジョブの選択を補助するためのジョブ選択画面76を表示装置43に表示する制御を行う。図13に示すように、本実施形態に係るジョブ選択画面76は、ジョブ記憶部41に記憶されているジョブ情報60Bの何れか1つを選択する選択ボタン77、及び何れのジョブも選択しない非選択ボタン78を有している。ユーザは、入力装置44を用いて、何れかの選択ボタン77または非選択ボタン78を指定する。
次のステップS304では、何れかの選択ボタン77または非選択ボタン78が選択されるまで待機する。
次のステップS305では、何れかのジョブが選択されたか否かを判定する。この際、システム制御部40は、何れかの選択ボタン77が選択された場合、何れかのジョブが選択されたと判定(肯定判定)し、非選択ボタン78が選択された場合、何れかのジョブが選択されなかったと判定(否定判定)する。
ステップS305で肯定判定となった場合は、選択されたジョブを実行対象とするジョブ(以下、「実行第2面ジョブ」という。)とし、後述するステップS309に移行する。一方、ステップS305で否定判定となった場合はステップS317に移行し、ジョブが選択されなった旨を示すエラー情報を制御装置5に送信して、本第2ジョブ実行処理プログラムを終了する。これに対し、制御装置5は、受信したエラー情報を表示部52に表示する制御を行う。
一方、ステップS301で否定判定となった場合はステップS307に移行する。
ステップS307では、ジョブ記憶部41に記憶しているジョブ情報60Bに、受信した実行第1面ジョブの露光条件情報63と同一の露光条件情報63を有する第2面のジョブを示すジョブ情報60Bが1つのみ存在するか否かを判定する
ステップS307で否定判定となった場合はステップS317に移行し、実行対象とするジョブが存在しない旨を示すエラー情報を制御装置5に送信し、本第2ジョブ実行処理プログラムを終了する。これに対し、制御装置5は、受信したエラー情報を表示部52に表示する制御を行う。
一方、ステップS307で肯定判定となった場合は、上記ステップS307の処理によって存在すると判定されたジョブ情報60Bを実行第2面ジョブとし、ステップS309に移行する。なお、この際、上記ステップS307の処理によって存在すると判定されたジョブ情報60Bを表示装置43に表示し、当該ジョブ情報60Bにより示されるジョブの実行指示の入力を受け付けても良い。この場合には、実行指示の入力を受け付けた後に、ステップS309に移行する。
ステップS309では、実行第2面ジョブのジョブ情報60Bから被露光基板Cの第2面に描画する画像の画像情報62を取得する。なお、本実施形態では、画像情報62を取得する際、自身のジョブ記憶部41に記憶されている画像情報(ジョブ情報60Bの画像情報62)を取得するが、これに限定されない。すなわち、ジョブ情報60Bに上記画像識別情報を付与しておき、当該画像識別情報に基づいて、描画する画像の画像情報を、制御装置5や外部の記憶装置から取得しても良い。
次のステップS311では、実行対象とするジョブである実行第2面ジョブにおいて被露光基板Cに画像を描画する際の露光条件を決定する。この際、システム制御部40は、上記ステップS205と同様の手法で、実行第2面ジョブのジョブ情報60Bにおける基板サイズ情報、描画枚数情報、マーク情報、及び感材種情報に基づいて露光条件を決定する。
一例として図7A及び図7Bに示すように、ジョブAとジョブA’とは同一の露光条件情報63を有し、ジョブBとジョブB’とは同一の露光条件情報63を有するとする。また、一例として図10に示すように、第1露光描画装置2において、第1面に対応する画像を描画するジョブAのジョブ情報60A、ジョブBのジョブ情報60A等が記憶されているとする。さらに、第2露光描画装置3において、第2面に対応する画像を描画するジョブA’のジョブ情報60B、ジョブB’のジョブ情報60Bが記憶されているとする。この状態で第1露光描画装置2においてジョブAが実行された場合、第2露光描画装置3では、ジョブAと同一の露光条件情報63を有するジョブA’が実行対象とされる。
次のステップS313では、前述した第1ジョブ実行処理プログラムのステップS207の処理と同様に、決定した露光条件に応じて、被露光基板Cに光ビームを露光して画像を描画する露光描画処理を開始する。
次のステップS315では、予め定められたエラーが発生したか否かを判定する。この際、システム制御部40は、被露光基板Cの変形や位置決め不良、光源ユニット17や画像処理ユニット19、露光部16等の露光描画を行う際に用いられる部位の故障等により露光描画処理が途中で停止した場合等に、エラーが発生したと判定する。ステップS315で肯定判定となった場合はステップS317に移行し、エラーが発生した旨を示すエラー情報を制御装置5に送信し、本第2ジョブ実行処理プログラムを終了する。これに対し、制御装置5は、受信したエラー情報を表示部52に表示する制御を行う。
一方、ステップS315で肯定判定となった場合はステップS319に移行する。
ステップS319では、被露光基板Cに対する露光描画処理が完了したか否かを判定する。ステップS319で否定判定となった場合は上記ステップS315に戻る一方、肯定判定となった場合はステップS321に移行する。
次のステップS321では、実行第2面ジョブが完了したか否かを判定する。この際、システム制御部40は、露光条件情報63の描画枚数情報に示される描画枚数の被露光基板Cに対する露光描画処理が完了した場合に、実行第2面ジョブが完了したと判定する。ステップS321で否定判定となった場合はステップS323に移行する。
ステップS323では、実行第2面ジョブにおける次の被露光基板Cに対する画像の描画を行うための露光条件情報を受信するまで待機する。
次のステップS325では、受信した露光条件情報が、実行第2面ジョブのジョブ情報60Bの露光条件情報と同一であるか否かを判定する。ステップS325で肯定判定となった場合は、実行第2面ジョブの実行を継続し、上記ステップS315に移行する。一方、ステップS325で否定判定となった場合はステップS317に移行し、実行第2面ジョブのジョブ情報60Bの露光条件情報とは異なった露光条件情報を受信した旨を示すエラー情報を制御装置5に送信して、本第1ジョブ実行処理プログラムを終了する。
一方、ステップS321で肯定判定となった場合は本第1ジョブ実行処理プログラムを終了する。
[第2実施形態]
以下、第2実施形態に係る露光描画システム1について添付図面を用いて詳細に説明する。
上記第1実施形態では、第1露光描画装置2から第2露光描画装置3に実行第1面ジョブを示す情報を送信し、第2露光描画装置3で対応するジョブを選択して実行する。一方、第2実施形態では、第1露光描画装置2から制御装置5に実行第1面ジョブを示す情報を送信し、制御装置5で対応するジョブを選択し、選択したジョブを第2露光描画装置3に送信する。
なお、第2実施形態に係る露光描画システム1の構成は、第1実施形態に係る露光描画システム1と同様であるので、ここでは説明は省略する。
次に、図14を参照して、本実施形態に係るジョブ設定処理を実行する際の制御装置5の作用を説明する。なお、図14は、この際に制御装置5の制御部50によって実行されるジョブ設定処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。当該プログラムは、記憶部51のROMの所定領域に予め記憶されている。
まず、ステップS401乃至S405では、第1実施形態のステップS101乃至S105と同様の処理を行う。
次のステップS407では、生成した第1面のジョブ情報60Aを第1露光描画装置2に有線ケーブル8aを介して送信して、本ジョブ設定処理プログラムを終了する。第1露光描画装置2は、受信したジョブ情報60Aをジョブ記憶部41に記憶する。
第1露光描画装置2は、ジョブ情報60Aを記憶すると、予め定められたユーザ操作に従って、ジョブ情報60Aに基づいて被露光基板Cの第1面に画像を描画する第1ジョブ実行処理を行う。
次に、図15を参照して、本実施形態に係る第1ジョブ実行処理を実行する際の第1露光描画装置2の作用を説明する。なお、図15は、この際に第1露光描画装置2のシステム制御部40によって実行される第1ジョブ実行処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。当該プログラムは、システム制御部40が備えているROMの所定領域に予め記憶されている。なお、当該プログラムが実行されるタイミングは、予め定められたユーザ操作に従ったタイミングに限らず、ジョブ情報60Aを受信したタイミング等であっても良い。
ステップS500乃至S513では、第1実施形態のステップS201乃至S213と同様の処理を行う。
ステップS515では、実行第1面ジョブのジョブ情報60Aにおける露光条件情報63を制御装置5に送信する。
次のステップS517では、第1実施形態のステップS217と同様の処理を行い、本第1ジョブ実行処理プログラムを終了する。
本実施形態に係る制御装置5は、ジョブ情報60Aの露光条件情報を第1露光描画装置2から受信すると、記憶部51に記憶しているジョブ情報60Bから、受信した露光条件情報と同一の露光条件情報を有するジョブ情報60Bを選択するジョブ選択処理を行う。
次に、図16を参照して、本実施形態に係るジョブ選択処理を実行する際の制御装置5の作用を説明する。なお、図16は、この際に制御装置5の制御部50によって実行されるジョブ選択処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。当該プログラムは、記憶部51のROMの所定領域に予め記憶されている。なお、当該プログラムが実行されるタイミングは、露光条件情報を受信したタイミングに限らず、ユーザにより入力部53を介して予め定められた実行指示が入力されたタイミング等であっても良い。
まず、ステップS601では、記憶部51に記憶している第2面のジョブ情報60Bのうち、受信した実行第1面ジョブの露光条件情報63と同一の露光条件情報63を有する第2面のジョブ情報60Bが存在するか否かを判定する。
ステップS601で肯定判定となった場合はステップS605に移行し、実行第1面ジョブの露光条件情報63と同一の露光条件情報63を有する第2面のジョブ情報60Bを第2露光描画装置3に有線ケーブル8aを介して送信する。第2露光描画装置3は、受信した第2面のジョブ情報60Bをジョブ記憶部41に記憶する。
一方、ステップS601で否定判定となった場合はステップS605に移行し、実行第1面ジョブの露光条件情報63と同一の露光条件情報63を有する第2面のジョブ情報60Bが存在しない旨を示すエラー情報を表示部52に表示する制御を行う。
本実施形態に係る第2露光描画装置3は、上記第2面のジョブ情報60Bを制御装置5から受信すると、受信したジョブ情報60Bに基づいて、被露光基板Cの第2面に画像を描画する第2ジョブ実行処理を行う。
次に、図17を参照して、本実施形態に係る第2ジョブ実行処理を実行する際の第2露光描画装置3の作用を説明する。なお、図17は、この際に第2露光描画装置3のシステム制御部40によって実行される第2ジョブ実行処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。当該プログラムは、システム制御部40が備えているROMの所定領域に予め記憶されている。なお、当該プログラムが実行されるタイミングは、ジョブ情報60Bを受信したタイミングに限らず、ユーザにより入力装置44を介して予め定められた実行指示が入力されたタイミング等であっても良い。
始めに、ステップS701乃至S705では、第1実施形態のステップS301乃至305と同様の処理を行う。
ステップS707乃至S723では、第1実施形態のステップS309乃至S325と同様の処理を行い、本第2ジョブ実行処理プログラムを終了する。
1 露光描画システム
2 第1露光描画装置
3 第2露光描画装置
4 反転装置
5 制御装置
10 ステージ
16a 露光ヘッド
40 システム制御部
41 ジョブ記憶部
50 制御部
51 記憶部
60A 第1ジョブ情報
60B 第2ジョブ情報
C 被露光基板
2 第1露光描画装置
3 第2露光描画装置
4 反転装置
5 制御装置
10 ステージ
16a 露光ヘッド
40 システム制御部
41 ジョブ記憶部
50 制御部
51 記憶部
60A 第1ジョブ情報
60B 第2ジョブ情報
C 被露光基板
Claims (12)
- 被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画する第1描画手段と、
被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報を記憶する記憶手段と、
前記記憶手段が記憶している前記複数の第2ジョブ情報のうち前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報により示される露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報に基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画する第2描画手段と、
を備えた露光描画装置。 - 前記露光条件は、前記被露光基板のサイズ、前記被露光基板の露光対象とする枚数、前記被露光基板に画像の描画領域を決定するためのマークが設けられている場合の該マークの配置パターン、及び前記被露光基板の感材種の少なくとも1つを含む
請求項1記載の露光描画装置。 - 被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画する第1描画手段、及び
前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報を送信する送信手段
を備えた第1露光描画装置と、
被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報を記憶する記憶手段、
前記送信手段により送信された前記露条件情報を受信する受信手段、及び
前記記憶手段により記憶している前記複数の第2ジョブ情報から前記受信手段により受信した露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報に基づいて前記第1描画手段で前記第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を該第2面に描画する第2描画手段
を備えた第2露光描画装置と、
を有する露光描画システム。 - 前記第1露光描画装置の前記送信手段は、前記第1描画手段による描画が正常に終了した場合の露光条件情報を送信する
請求項3記載の露光描画システム。 - 前記第1露光描画装置の前記送信手段は、前記第1描画手段による描画が異常に終了した場合、エラーが発生した旨を示すエラー情報を送信する
請求項3または4記載の露光描画システム。 - 前記第2露光描画装置は、前記記憶手段により記憶している前記複数の第2ジョブ情報に前記受信手段により受信した露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報が複数存在した場合、複数存在する前記第2ジョブ情報のうち何れか1つの前記第2ジョブ情報の選択を受け付ける受付手段を更に備え、
前記第2露光描画装置の前記第2描画手段は、前記受付手段により選択が受け付けられた前記第2ジョブ情報に基づいて前記第2面に画像を描画する
請求項3乃至5の何れか1項記載の露光描画システム。 - 前記第1ジョブ情報及び前記第2ジョブ情報を記憶する第2記憶手段、及び
前記第2記憶手段により記憶している前記第1ジョブ情報を前記第1露光描画装置に送信し、前記第2ジョブ情報を前記第2露光描画装置に送信する第2送信手段
を備えた制御装置を更に備え、
前記第1露光描画装置は、前記第2送信手段により送信された前記第1ジョブ情報を受信する第2受信手段を更に備え、
前記第1露光描画装置の前記第1描画手段は、前記第2受信手段により受信した前記第1ジョブ情報を用いて、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画し、
前記第2露光描画装置は、前記第2送信手段により送信された前記第2ジョブ情報を受信する第3受信手段を更に備え、
前記第2露光描画装置の前記記憶手段は、前記第3受信手段により受信した前記第2ジョブ情報を複数記憶する
請求項3乃至6の何れか1項記載の露光描画システム。 - 前記制御装置は、前記第1ジョブ情報及び前記第2ジョブ情報の入力を受け付ける第2受付手段を更に備え、
前記制御装置の前記第2記憶手段は、前記第2受付手段により受け付けた前記第1ジョブ情報及び前記第2ジョブ情報を記憶する
請求項7記載の露光描画システム。 - 被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画する第1描画手段、及び
前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報を送信する第1送信手段
を備えた第1露光描画装置と、
被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報を記憶する記憶手段、
前記第1送信手段により送信された露光条件情報を受信する第1受信手段、及び
前記記憶手段により記憶された前記複数の第2ジョブ情報のうち前記第1受信手段により受信した露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報を送信する第2送信手段
を備えた制御装置と、
前記第2送信手段により送信された前記第2ジョブ情報を受信する第2受信手段、及び
前記第2受信手段により受信した前記第2ジョブ情報に基づいて前記第1描画手段により前記第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を該第2面に描画する第2描画手段
を備えた第2露光描画装置と、
を有する露光描画システム。 - 前記露光条件は、前記被露光基板のサイズ、前記被露光基板の露光対象とする枚数、前記被露光基板に画像の描画領域を決定するためのマークが設けられている場合の該マークの配置パターン、及び前記被露光基板の感材種の少なくとも1つを含む
請求項3乃至9の何れか1項記載の露光描画システム。 - コンピュータを、
第1描画手段に、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画させる第1制御手段と、
第2描画手段に、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報のうち、前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報に基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画させる第2制御手段と、
として機能させるためのプログラム。 - 第1描画手段に、被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報に基づいて前記第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画させる第1制御ステップと、
第2描画手段に、被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報のうち、前記第1描画手段で被露光基板の前記第1面に対する画像の描画に用いた前記第1ジョブ情報の露光条件情報と同一の露光条件情報を有する前記第2ジョブ情報に基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画させる第2制御ステップと、
を有する露光描画方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020157005395A KR102119429B1 (ko) | 2012-09-27 | 2013-08-27 | 노광 묘화 장치, 노광 묘화 시스템, 프로그램, 및 노광 묘화 방법 |
CN201380049240.4A CN104662479B (zh) | 2012-09-27 | 2013-08-27 | 曝光描绘装置、曝光描绘***、程序及曝光描绘方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012215122A JP6198378B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
JP2012-215122 | 2012-09-27 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2014050405A1 true WO2014050405A1 (ja) | 2014-04-03 |
Family
ID=50387814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2013/072818 WO2014050405A1 (ja) | 2012-09-27 | 2013-08-27 | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6198378B2 (ja) |
KR (1) | KR102119429B1 (ja) |
CN (1) | CN104662479B (ja) |
TW (1) | TWI606307B (ja) |
WO (1) | WO2014050405A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI725393B (zh) * | 2019-03-12 | 2021-04-21 | 萬里科技股份有限公司 | 用於戒指攝影的轉盤與光箱 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6096453B2 (ja) * | 2012-09-27 | 2017-03-15 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
EP3637971B1 (en) * | 2017-06-07 | 2022-07-27 | Fuji Corporation | Component determination system and component determination method |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002341550A (ja) * | 2001-05-17 | 2002-11-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | レーザー露光装置 |
JP2003243280A (ja) * | 2002-02-13 | 2003-08-29 | Hitachi Ltd | 半導体デバイスの製造システム及び製造方法 |
JP2008242218A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Fujifilm Corp | 描画装置及び描画方法 |
JP2008292915A (ja) * | 2007-05-28 | 2008-12-04 | Orc Mfg Co Ltd | 露光描画装置 |
JP2009223262A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-01 | Orc Mfg Co Ltd | 露光システムおよび露光方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6172216A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-14 | Shinku Lab:Kk | 露光方法 |
JPH11307424A (ja) * | 1998-04-22 | 1999-11-05 | Hitachi Ltd | 半導体製造方法および製造装置、ならびにそれにより製造された半導体デバイス |
JP2001284231A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-12 | Canon Inc | 露光装置及びエラー発生時のパターンで処理を振り分ける方法 |
JP4381009B2 (ja) * | 2003-03-12 | 2009-12-09 | 新光電気工業株式会社 | パターン描画装置、パターン描画方法、および検査装置 |
JP4317488B2 (ja) * | 2004-05-28 | 2009-08-19 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置、露光方法および露光処理プログラム |
JP4606990B2 (ja) * | 2005-10-07 | 2011-01-05 | 富士フイルム株式会社 | デジタル露光装置 |
JP5004786B2 (ja) * | 2007-12-27 | 2012-08-22 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置の反転部 |
JP5333063B2 (ja) * | 2009-08-28 | 2013-11-06 | ウシオ電機株式会社 | 両面露光装置 |
-
2012
- 2012-09-27 JP JP2012215122A patent/JP6198378B2/ja active Active
-
2013
- 2013-08-27 WO PCT/JP2013/072818 patent/WO2014050405A1/ja active Application Filing
- 2013-08-27 KR KR1020157005395A patent/KR102119429B1/ko active IP Right Grant
- 2013-08-27 CN CN201380049240.4A patent/CN104662479B/zh active Active
- 2013-09-26 TW TW102134835A patent/TWI606307B/zh active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002341550A (ja) * | 2001-05-17 | 2002-11-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | レーザー露光装置 |
JP2003243280A (ja) * | 2002-02-13 | 2003-08-29 | Hitachi Ltd | 半導体デバイスの製造システム及び製造方法 |
JP2008242218A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Fujifilm Corp | 描画装置及び描画方法 |
JP2008292915A (ja) * | 2007-05-28 | 2008-12-04 | Orc Mfg Co Ltd | 露光描画装置 |
JP2009223262A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-01 | Orc Mfg Co Ltd | 露光システムおよび露光方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI725393B (zh) * | 2019-03-12 | 2021-04-21 | 萬里科技股份有限公司 | 用於戒指攝影的轉盤與光箱 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20150060682A (ko) | 2015-06-03 |
CN104662479A (zh) | 2015-05-27 |
TWI606307B (zh) | 2017-11-21 |
TW201413398A (zh) | 2014-04-01 |
KR102119429B1 (ko) | 2020-06-05 |
JP2014071158A (ja) | 2014-04-21 |
CN104662479B (zh) | 2016-11-16 |
JP6198378B2 (ja) | 2017-09-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4606990B2 (ja) | デジタル露光装置 | |
US8223319B2 (en) | Exposure device | |
JP2013213853A (ja) | 露光描画装置、プログラム及び露光描画方法 | |
JP6198378B2 (ja) | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 | |
JP4922071B2 (ja) | 露光描画装置 | |
KR20160103927A (ko) | 주변 노광 장치, 주변 노광 방법, 프로그램, 및 컴퓨터 기억 매체 | |
KR20060080561A (ko) | 아이디위치 검사기능을 갖는 레이저마킹 시스템 및 그검사방법 | |
JP6389928B2 (ja) | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 | |
JP6096453B2 (ja) | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 | |
JP2008276219A (ja) | デジタルプラットフォーム装置 | |
TW201702758A (zh) | 無罩曝光裝置及曝光方法 | |
JP4317488B2 (ja) | 露光装置、露光方法および露光処理プログラム | |
JP5940328B2 (ja) | 露光描画装置、プログラム及び露光描画方法 | |
CN104425308A (zh) | 测定装置、基板处理***和测定方法 | |
KR20020065872A (ko) | 뇨분석기 | |
JP2009141152A (ja) | パネル搬送装置およびパネル搬送方法 | |
JP2006027827A (ja) | 基板搬送装置及びそれを備えた画像形成装置並びに基板搬送方法 | |
JP2005166927A (ja) | 部品実装装置 | |
JPWO2022215692A5 (ja) | ||
JP2007148224A (ja) | 露光装置 | |
JPH03102350A (ja) | スキャナー装置 | |
JP2008076169A (ja) | 基板検査システム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 13840441 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 20157005395 Country of ref document: KR Kind code of ref document: A |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 13840441 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |