JPS6172216A - 露光方法 - Google Patents
露光方法Info
- Publication number
- JPS6172216A JPS6172216A JP59192498A JP19249884A JPS6172216A JP S6172216 A JPS6172216 A JP S6172216A JP 59192498 A JP59192498 A JP 59192498A JP 19249884 A JP19249884 A JP 19249884A JP S6172216 A JPS6172216 A JP S6172216A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- light
- laser
- exposure
- sides
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
本発明は、ロール状またはシート状の基板（以下、特に
限定する場合を除き、単に基板という。
限定する場合を除き、単に基板という。
また、ここでいう基板とは、食刻またはメツ番可能な金
属板もしくは金属箔、プラスチックスの板もしくはフィ
ルムをいうものとする。）の両面に感光膜をコーティン
グし、さらに両面に同一画像を面対象に露光して現像し
、その後エツチングして基板を貫通させ一定のパターン
製品を得るケミカルブラッキング方法、または、基板の
両面に感光膜をコーティングし、さらに両面に異なる画
像を霧光して現像し、その後基板をｊｔＡさせることな
く工７チ／グしてプリント基板などを得る両面食刻方法
、あるいは、基板の両面に感光膜をコーチイノブレ、さ
らに両面に、同一画像を面対象に、もしくは異なる画像
を露光して現像し、その少メッキすることにより、基板
の両面に回路や画像を得る両面描画方法に適用される露
光方法に関する。
属板もしくは金属箔、プラスチックスの板もしくはフィ
ルムをいうものとする。）の両面に感光膜をコーティン
グし、さらに両面に同一画像を面対象に露光して現像し
、その後エツチングして基板を貫通させ一定のパターン
製品を得るケミカルブラッキング方法、または、基板の
両面に感光膜をコーティングし、さらに両面に異なる画
像を霧光して現像し、その後基板をｊｔＡさせることな
く工７チ／グしてプリント基板などを得る両面食刻方法
、あるいは、基板の両面に感光膜をコーチイノブレ、さ
らに両面に、同一画像を面対象に、もしくは異なる画像
を露光して現像し、その少メッキすることにより、基板
の両面に回路や画像を得る両面描画方法に適用される露
光方法に関する。
〈従来技術〉
従来のケミカルブランキング方法は、同一画像を焼付け
たフィルムを２枚全くずれることなく改ねて三辺を閉じ
合わせて袋フィルムを作り、この袋フィルムに、両面に
感光膜をコーティングした２ｔＨ板を入れてから、両面
露光プリンター・において、真空吸引により１袋フィル
ムと基板の’Ｊ着を１Δってから基板の両面を同時に露
光して現像し、その後工７チノグして基板を貫通させ一
定のパターノ製品を得る方法を採っていた。
たフィルムを２枚全くずれることなく改ねて三辺を閉じ
合わせて袋フィルムを作り、この袋フィルムに、両面に
感光膜をコーティングした２ｔＨ板を入れてから、両面
露光プリンター・において、真空吸引により１袋フィル
ムと基板の’Ｊ着を１Δってから基板の両面を同時に露
光して現像し、その後工７チノグして基板を貫通させ一
定のパターノ製品を得る方法を採っていた。
従って、袋フィルムと両面露光プリンターが必要になっ
ており、作業も至難であり４時間を多くかかっていた。
ており、作業も至難であり４時間を多くかかっていた。
また従来の両面食刻方法や両面描画方法においても 袋
フィルムと両面露光プリンターが必要になっているか、
フィルムと片面露光プリンターがν・要になっている。
フィルムと両面露光プリンターが必要になっているか、
フィルムと片面露光プリンターがν・要になっている。
そして、フィルムと露光プリンターを使用することは
製造工程全体を基板フレキシブルな連続ものとして全自
動ライン処理が実現できない最大のネックになっていた
。
製造工程全体を基板フレキシブルな連続ものとして全自
動ライン処理が実現できない最大のネックになっていた
。
く本発明の目的〉
本発明は、上述した点に鑑み案出したもので。
フィルム及び露光プリンターを必要としない、同一また
は異なった画像を基板の両面に露光する露光方法を提供
するものである。
は異なった画像を基板の両面に露光する露光方法を提供
するものである。
〈発明の構成〉
本発明の露光方法は、両面に感光膜をコーティングした
ノ、（仮を所定速度で移動し この基板の両面に同時に
、レーザー装置より発しコンピュータで制御される変調
器で画素情報に対応する光の明暗として変調されるレー
ザー光を、コンピュータにより変調器と同期制御される
ポリゴンミラー。
ノ、（仮を所定速度で移動し この基板の両面に同時に
、レーザー装置より発しコンピュータで制御される変調
器で画素情報に対応する光の明暗として変調されるレー
ザー光を、コンピュータにより変調器と同期制御される
ポリゴンミラー。
パルカーミラーあるいは変向器などの光を振る装、１η
によって、）、（板の移動方向に略直交する方向に走査
し基板の移動と相まって同一または異なった画像を形成
するように露光する。ことを特徴とするものである。
によって、）、（板の移動方向に略直交する方向に走査
し基板の移動と相まって同一または異なった画像を形成
するように露光する。ことを特徴とするものである。
〈実施例〉
本発明の露光方法の実施例を第１図に示す。
基板ｌは、二対の押えロール（図では、一対の押えロー
ルのみを示す、）２．３によって振れないように抑えら
れ１図において紙面と垂直方向に所定速度で移動される
。
ルのみを示す、）２．３によって振れないように抑えら
れ１図において紙面と垂直方向に所定速度で移動される
。
この基板１の両面には、前工程において、感光膜がコー
ティングされている。そして、感光ｎりには、紫外域か
ら可視域にわたって非常に高い感光性を示す材料が用い
られている０例えば、特開昭５９−４５３０３号に係る
。アルゴンイオンレーザ−光をはじめ、各種光源に対し
て数層Ｊ／ｃ謂２〜数１０川Ｊ／ｃａ”と言う非常に高
い感光性を示す感光性樹脂が開発されているので、それ
が用いられている。
ティングされている。そして、感光ｎりには、紫外域か
ら可視域にわたって非常に高い感光性を示す材料が用い
られている０例えば、特開昭５９−４５３０３号に係る
。アルゴンイオンレーザ−光をはじめ、各種光源に対し
て数層Ｊ／ｃ謂２〜数１０川Ｊ／ｃａ”と言う非常に高
い感光性を示す感光性樹脂が開発されているので、それ
が用いられている。
他方、レーザー装！（Ａｒイオンレーザ−やＨａ −Ｎ
ｅカスレーザーや炭酸ガスレーサーヤｙＡｃレーザーな
どいずれでも良い、但し、半導体レーザーは、紫外域か
ら可視域のレーザー光を発振できる開発を待って将来に
おいて適用可能である。）４より発するレーザー光ｒは
、プリズム６において透過する光ｒ１と、斜面で反射屈
折する光ｒ２に別れ、それぞれがコンピュータ５で制御
される変調器７，８に導かれる。そして、変調器７．８
は、コンピュータ５の制御により、コンピュータ５のメ
モリに記憶されている画素情報に対応して光の明暗とし
てレーザー光ｒｌ、ｒ２を変調する。
ｅカスレーザーや炭酸ガスレーサーヤｙＡｃレーザーな
どいずれでも良い、但し、半導体レーザーは、紫外域か
ら可視域のレーザー光を発振できる開発を待って将来に
おいて適用可能である。）４より発するレーザー光ｒは
、プリズム６において透過する光ｒ１と、斜面で反射屈
折する光ｒ２に別れ、それぞれがコンピュータ５で制御
される変調器７，８に導かれる。そして、変調器７．８
は、コンピュータ５の制御により、コンピュータ５のメ
モリに記憶されている画素情報に対応して光の明暗とし
てレーザー光ｒｌ、ｒ２を変調する。
変調器７．８で変調されたレーザー光ｒｌ、ｒ２は、光
を振る装置（ポリゴンミラー、パルカーミラーあるいは
変向器など）９．１０によって、ノ＾板１の移動方向に
略直交する方向に振られる。この光を振る装Ｂ９．ｌｏ
は、コンピュータ５により、それぞれ直列接続された変
調器７．８と同期制御される。従って、左右の光を振る
装置９．１０は、図において１紙面と垂直方向に離れて
いる二対の押えロールの間を、振れを抑えられて移動す
る基板１の両面に同時に、基板移動方向と略直交する方
向にレーザー光ｒｌ、ｒ２をスキャンし、基板ｌの移動
と相まって同一または異なった画像を形成するように露
光されることになる。
を振る装置（ポリゴンミラー、パルカーミラーあるいは
変向器など）９．１０によって、ノ＾板１の移動方向に
略直交する方向に振られる。この光を振る装Ｂ９．ｌｏ
は、コンピュータ５により、それぞれ直列接続された変
調器７．８と同期制御される。従って、左右の光を振る
装置９．１０は、図において１紙面と垂直方向に離れて
いる二対の押えロールの間を、振れを抑えられて移動す
る基板１の両面に同時に、基板移動方向と略直交する方
向にレーザー光ｒｌ、ｒ２をスキャンし、基板ｌの移動
と相まって同一または異なった画像を形成するように露
光されることになる。
なお、左右の光を振る装置９．１０により、基板移動方
向と略直交する方向に振られたレーザー光ｒｌ、ｒ２は
、Ｆ（ＩＬ／７ズ１１．１２で歪を矯正される。
向と略直交する方向に振られたレーザー光ｒｌ、ｒ２は
、Ｆ（ＩＬ／７ズ１１．１２で歪を矯正される。
なお、変調器は、）、（板の両面に同一画像を露光する
場合には、プリズムの前に１個のみ設ければ足り、基板
の両面に異なった画像を露光する場合には、プリズムの
後に左右各別に設ける必要がある。また、光源であるレ
ーザー装置は、左右各別に設けても良い。
場合には、プリズムの前に１個のみ設ければ足り、基板
の両面に異なった画像を露光する場合には、プリズムの
後に左右各別に設ける必要がある。また、光源であるレ
ーザー装置は、左右各別に設けても良い。
く応用例〉
本発明の露光方法の採用した最も簡単なプリントノル板
の連続製造方法を第２図に示す。
の連続製造方法を第２図に示す。
ノ１（板１は、ＣｕやＮｉや四ニアロイなどの金属フィ
ルム、またはプラスチ、クスフィルム、またはプラスチ
ックスフィルムにＣｕやＮｉなどを両面にラミネートし
たフレキンプルな連続物であり、ロール技に巻かれてい
るものが使用されている。基板１は、教官に設けられる
ピンチロール１３．１４．１５により、比較的遅い定速
度でコーティングタンク１６内の紫外域から可視域にわ
たって非常に高い感光性を示す感光樹脂の液中に潜り込
み浸漬され、樹脂液から引さ出される時に均一な感光膜
の両面コーティングが行われる０次いで 基板ｌは、コ
ーティングタンクエ６を出て移動する中に、赤外線ヒー
タあるいは温風器などの乾燥手段１７．１８により 両
面コーティングされた感光膜が間化される。続いて、二
対の押えロール＋９．２０．２１．２２を通る間に、上
述した本発明の露光方法のよる露光が行われる０図では
、光を振る装置９．１０及びＦθレンズ１１．１２が示
されている。引き続いて、基板１は、現像タンク２３内
の現像液中に潜り込み浸漬され現像が行われる。そして
さらに エツチングタンクまたはメッキタンク２４内の
二ンチ７ダ液またはメー、キ府中に潜り込み浸漬され工
、チノグまたはメッキが行われる。以後１図示しない所
要の処理工程が行われ、プリント基板の連続製造が達成
される、 く未発明の効果〉 以上説明してきたように、木発す１の露光方法は。
ルム、またはプラスチ、クスフィルム、またはプラスチ
ックスフィルムにＣｕやＮｉなどを両面にラミネートし
たフレキンプルな連続物であり、ロール技に巻かれてい
るものが使用されている。基板１は、教官に設けられる
ピンチロール１３．１４．１５により、比較的遅い定速
度でコーティングタンク１６内の紫外域から可視域にわ
たって非常に高い感光性を示す感光樹脂の液中に潜り込
み浸漬され、樹脂液から引さ出される時に均一な感光膜
の両面コーティングが行われる０次いで 基板ｌは、コ
ーティングタンクエ６を出て移動する中に、赤外線ヒー
タあるいは温風器などの乾燥手段１７．１８により 両
面コーティングされた感光膜が間化される。続いて、二
対の押えロール＋９．２０．２１．２２を通る間に、上
述した本発明の露光方法のよる露光が行われる０図では
、光を振る装置９．１０及びＦθレンズ１１．１２が示
されている。引き続いて、基板１は、現像タンク２３内
の現像液中に潜り込み浸漬され現像が行われる。そして
さらに エツチングタンクまたはメッキタンク２４内の
二ンチ７ダ液またはメー、キ府中に潜り込み浸漬され工
、チノグまたはメッキが行われる。以後１図示しない所
要の処理工程が行われ、プリント基板の連続製造が達成
される、 く未発明の効果〉 以上説明してきたように、木発す１の露光方法は。
所定速度で移動する感光膜をコーティングした基板の両
面に、画素情報に対応する光の明暗として変調されるレ
ーザー光を、光を振る装置によって、基板の移動方向に
略直交する方向に走査し基板の移動と相まって同一また
は異なった画像を形成するように露光するものであるか
ら、フィルム及び露光プリンターを必要としないダイレ
クト露光が実現でき、特に、連続露光が実現できること
から ケミカルブランキング方法や両面食刻方法や両面
描画方法についても連続処理の実用が可能であり、ライ
ンの単純化や省力化に極めて有用である。
面に、画素情報に対応する光の明暗として変調されるレ
ーザー光を、光を振る装置によって、基板の移動方向に
略直交する方向に走査し基板の移動と相まって同一また
は異なった画像を形成するように露光するものであるか
ら、フィルム及び露光プリンターを必要としないダイレ
クト露光が実現でき、特に、連続露光が実現できること
から ケミカルブランキング方法や両面食刻方法や両面
描画方法についても連続処理の実用が可能であり、ライ
ンの単純化や省力化に極めて有用である。
第１図は１本発明の露光方法の実施例を示す概略正面図
である。 第２図は、本発明の露光方法の採用した最も簡単なプリ
ント基板の連続５１１造方法を示す概略正面［Ａである
。 ■・・・基板。 ４・・・レーザー装置。 ７．８０・−変調器、 ９．１０＠−・光を振る装置。 特許出願人 株式会社ンンク・ラボラトリ−（！６
１羞仮
である。 第２図は、本発明の露光方法の採用した最も簡単なプリ
ント基板の連続５１１造方法を示す概略正面［Ａである
。 ■・・・基板。 ４・・・レーザー装置。 ７．８０・−変調器、 ９．１０＠−・光を振る装置。 特許出願人 株式会社ンンク・ラボラトリ−（！６
１羞仮
Claims (1)
- 両面に感光膜をコーティングした基板を所定速度で移
動し、この基板の両面に同時に、レーザー装置より発し
コンピュータで制御される変調器で画素情報に対応する
光の明暗として変調されるレーザー光を、コンピュータ
により変調器と同期制御されるポリゴンミラー、バルガ
ーミラーあるいは変向器などの光を振る装置によって、
基板の移動方向に略直交する方向に走査し基板の移動と
相まって同一または異なった画像を形成するように露光
する、ことを特徴とする露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59192498A JPS6172216A (ja) | 1984-09-17 | 1984-09-17 | 露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59192498A JPS6172216A (ja) | 1984-09-17 | 1984-09-17 | 露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6172216A true JPS6172216A (ja) | 1986-04-14 |
Family
ID=16292304
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59192498A Pending JPS6172216A (ja) | 1984-09-17 | 1984-09-17 | 露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6172216A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61251136A (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-08 | Toshiba Mach Co Ltd | レ−ザビ−ム描画方法およびその装置 |
| JPS61251032A (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-08 | Toshiba Mach Co Ltd | レ−ザ描画装置 |
| JPS61251137A (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-08 | Toshiba Mach Co Ltd | レ−ザビ−ム描画方法およびその装置 |
| WO2000039625A3 (en) * | 1998-12-28 | 2000-10-26 | Creo Ltd | Rotational scanning image recording system |
| JP2004501518A (ja) * | 2000-06-21 | 2004-01-15 | ラウノ サルミ | 基盤を個別にマーキングするための方法 |
| JP2006301170A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Fujikura Ltd | 露光装置およびその方法 |
| JP2014071158A (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-21 | Fujifilm Corp | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
| EP2735905A1 (en) * | 2012-11-21 | 2014-05-28 | Boe Technology Group Co. Ltd. | Double-surface manufacturing method and exposure apparatus |
| WO2016047355A1 (ja) * | 2014-09-22 | 2016-03-31 | 富士フイルム株式会社 | パターン状被めっき層含有積層体の製造方法、金属層含有積層体の製造方法、タッチパネルセンサー、タッチパネル、パターン状被めっき層含有積層体、金属層含有積層体 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51141531A (en) * | 1975-05-31 | 1976-12-06 | Canon Inc | Optical scanning device |
| JPS5333568A (en) * | 1976-09-10 | 1978-03-29 | Hitachi Ltd | Pattern formation device for shadow mask |
-
1984
- 1984-09-17 JP JP59192498A patent/JPS6172216A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51141531A (en) * | 1975-05-31 | 1976-12-06 | Canon Inc | Optical scanning device |
| JPS5333568A (en) * | 1976-09-10 | 1978-03-29 | Hitachi Ltd | Pattern formation device for shadow mask |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61251136A (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-08 | Toshiba Mach Co Ltd | レ−ザビ−ム描画方法およびその装置 |
| JPS61251032A (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-08 | Toshiba Mach Co Ltd | レ−ザ描画装置 |
| JPS61251137A (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-08 | Toshiba Mach Co Ltd | レ−ザビ−ム描画方法およびその装置 |
| WO2000039625A3 (en) * | 1998-12-28 | 2000-10-26 | Creo Ltd | Rotational scanning image recording system |
| JP2004501518A (ja) * | 2000-06-21 | 2004-01-15 | ラウノ サルミ | 基盤を個別にマーキングするための方法 |
| JP2006301170A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Fujikura Ltd | 露光装置およびその方法 |
| JP2014071158A (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-21 | Fujifilm Corp | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
| EP2735905A1 (en) * | 2012-11-21 | 2014-05-28 | Boe Technology Group Co. Ltd. | Double-surface manufacturing method and exposure apparatus |
| US9141000B2 (en) | 2012-11-21 | 2015-09-22 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Double-surface manufacturing method and exposure apparatus |
| WO2016047355A1 (ja) * | 2014-09-22 | 2016-03-31 | 富士フイルム株式会社 | パターン状被めっき層含有積層体の製造方法、金属層含有積層体の製造方法、タッチパネルセンサー、タッチパネル、パターン状被めっき層含有積層体、金属層含有積層体 |
| JPWO2016047355A1 (ja) * | 2014-09-22 | 2017-08-03 | 富士フイルム株式会社 | パターン状被めっき層含有積層体の製造方法、金属層含有積層体の製造方法、タッチパネルセンサー、タッチパネル、パターン状被めっき層含有積層体、金属層含有積層体 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4054094A (en) | Laser production of lithographic printing plates | |
| JP3254248B2 (ja) | パターニング装置 | |
| US3410203A (en) | Non-impact printer employing laser beam and holographic images | |
| US4429027A (en) | Photoimaging process | |
| US5588359A (en) | Method for forming a screen for screen printing a pattern of small closely spaced features onto a substrate | |
| JPH09127330A (ja) | カラーフィルタの製造方法及び製造装置及びカラーフィルタ及び表示装置及びこの表示装置を備えた装置 | |
| US4508802A (en) | Multiple registration and imaging process to form a set of registered imaged elements | |
| KR19990028867A (ko) | 유색 필터 인쇄를 위한 방법과 장치 | |
| JPH10510932A (ja) | フォトリソグラフィ法及びその装置 | |
| CN106647185A (zh) | 一种丝网印刷直接制版***及制版方法 | |
| JPS6172216A (ja) | 露光方法 | |
| EP0400738B1 (en) | Method of making opaque grid lines for thermally-transferred color filter array element | |
| US4522903A (en) | Sequential automatic registration and imagewise exposure of a sheet substrate | |
| WO2007010748A1 (ja) | パターン形成方法 | |
| JPH0274022A (ja) | 露光装置およびパターン形成方法 | |
| US4343876A (en) | Dot-enlargement process for photopolymer litho masks | |
| US20090015809A1 (en) | Image Recording Method and Device | |
| KR101458208B1 (ko) | 마스크리스 패턴 형성장치 및 패턴을 형성하는 방법 | |
| JPS60107342A (ja) | スクリ−ン版のレ−ザ製版法 | |
| GB2021276A (en) | Photographic element capable of producing positive and negative images | |
| JP2005189714A (ja) | 露光装置 | |
| US5023166A (en) | Method for forming plate characters in a half-tone gravure platemaking process | |
| US6750894B2 (en) | Method of forming image on support | |
| Shemilt | Laser Pattern Generator for Printed Circuit Artwork | |
| TW444233B (en) | Forming method and forming device for black film pattern, and black film, panel and display device formed thereby |