TW201413398A - 曝光微影裝置、曝光微影系統、儲存程式的記錄媒體和曝光微影方法 - Google Patents

曝光微影裝置、曝光微影系統、儲存程式的記錄媒體和曝光微影方法 Download PDF

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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Abstract

本發明提供一種曝光微影裝置、曝光微影系統、儲存程式的記錄媒體和曝光微影方法。基於將表示圖像的圖像資訊與曝光條件資訊相對應所得的第1任務資訊60A,將被曝光基板的第1面曝光,藉此將該第1任務資訊60A所示的圖像微影於第1面,並對將表示圖像的圖像資訊與曝光條件資訊分別相對應所得的多個第2任務資訊60B進行記憶,基於多個第2任務資訊60B中的具有與對第1面微影圖像時所使用的第1任務資訊60A所示的曝光條件資訊相同的曝光條件資訊的第2任務資訊60B,將在該第1面已微影圖像的被曝光基板的第2面曝光,藉此將圖像微影於第2面。

Description

曝光微影裝置、曝光微影系統、儲存程式的記錄媒 體和曝光微影方法
本發明是有關於一種曝光微影裝置、曝光微影系統、儲存程式的記錄媒體和曝光微影方法,特別是有關於一種在被曝光基板的兩面微影圖像的曝光微影裝置及曝光微影系統,儲存藉由該曝光微影裝置及曝光微影系統而執行的程式的記錄媒體,和在被曝光基板的兩面微影圖像的曝光微影方法。
先前,開發出一種曝光微影裝置,其在作為印刷基板的被曝光基板上,對基於圖像資訊而調變的光束進行曝光,並在該被曝光基板上微影圖像。而且,亦開發出一種曝光微影系統,其為了在被曝光基板的兩面微影圖像,而使該曝光微影裝置2台並列,將其中一個用於第1面的微影,將另一個用於與第1面相反的第2面的微影。該曝光微影系統中,在藉由第1面用的曝光微影裝置而在被曝光基板的第1面微影圖像後,將該被曝光基板搬送至第2面用的曝光微影裝置的規定位置為止,並藉由該曝光微 影裝置在被曝光基板的第2面微影圖像。
作為該曝光微影系統的相關技術,專利文獻1中揭示了一種曝光微影系統,其提高了使用2台曝光微影裝置而在被曝光基板的第1面及第2面分別微影圖像時的被曝光基板的搬送處理的產量。
該曝光微影系統所具有的各曝光微影裝置包括微影單元,該微影單元包括:載置被曝光基板的平台,使平台呈直線狀移動的平台移動機構,以及對載置於平台的被曝光基板的第1面掃描光束的光束掃描機構。而且,各曝光微影裝置包括:在平台的移動方向上配置於微影單元的上游側的上游側單元;以及在平台的移動方向上配置於微影單元的下游側的下游側單元。而且,各曝光微影裝置包括搬入機構,該搬入機構以保持上游側單元的被曝光基板而使其向與平台的移動方向為同一方向的搬送方向移動的方式,將被曝光基板搬入至微影單元內的平台上。而且,各曝光微影裝置包括搬出機構,該搬出機構以保持微影單元內的平台上的被曝光基板而使其向搬送方向移動的方式,將被曝光基板搬出至下游側單元。
各曝光微影裝置中,當對被曝光基板的第1面掃描光束時,使平台自搬送方向的上游側向下游側移動,將被曝光基板搬入至位於上游側的平台,且將被曝光基板自位於下游側的平台搬出。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2002-341550號公報
一般而言,在使用曝光微影裝置而在被曝光基板微影圖像時,作業人員對曝光微影裝置輸入任務(job)資訊,該任務資訊表示指定了在被曝光基板上微影的圖像、及微影時的曝光條件的處理要求(任務)。當以相同的曝光條件在多個被曝光基板連續地微影相同的圖像時,任務資訊中將一連串的處理總括而表示。而且,曝光微影裝置基於所輸入的任務資訊來對被曝光基板進行曝光微影處理。
上述專利文獻1所揭示的曝光微影系統中,因使用2台曝光微影裝置的各個逐個對被曝光基板的單面微影圖像,故作業人員對其中一個曝光微影裝置輸入第1面的任務資訊,並對另一曝光微影裝置輸入第2面的任務資訊。如此,作業人員對各曝光微影裝置各別地輸入任務資訊,因而在作業人員錯誤輸入的情況下,存在如下問題:有可能在被曝光基板的各面微影出相互不對應的圖像。
而且,有時在其中一個曝光微影裝置中曝光微影處理失敗,而要除去作為次品的被曝光基板。該情況下,即便在正確進行任務資訊的輸入的情況下,亦存在如下問題:在輸入至另一曝光微影裝置的任務資訊未得到更新的情況下,有可能在被曝光基 板的各面微影相互不對應的圖像。
本發明鑒於上述問題而完成,其目的在於提供一種可防止在對被曝光基板的兩面微影圖像時,在各面微影出相互不對應的圖像的曝光微影裝置、曝光微影系統、儲存程式的記錄媒體和曝光微影方法。
為了達成上述目的,本發明的曝光微影裝置包括:第1微影機構,基於第1任務資訊將被曝光基板的第1面曝光,藉此將上述第1任務資訊所示的第1圖像微影於上述第1面,其中上述第1任務資訊是將表示該第1圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊相對應所得,該第1圖像是微影在上述被曝光基板的上述第1面的圖像;記憶機構,對多個第2任務資訊進行記憶,上述多個第2任務資訊是將表示第2圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊分別相對應所得,該第2圖像是微影在上述被曝光基板的與上述第1面相反的第2面的圖像;以及第2微影機構,基於上述記憶機構所記憶的上述多個第2任務資訊中具有與利用上述第1微影機構對上述被曝光基板的上述第1面微影圖像時所使用之上述第1任務資訊所示的曝光條件資訊相同的曝光條件資訊的第2任務資訊,對在上述第1面已微影圖像的上述被曝光基板的上述第2面進行曝光,以將上述第2任務資訊所示的第2圖像微影於上述第2面。
根據本發明的曝光微影裝置,藉由第1微影機構,基於 第1任務資訊將上述第1面曝光,藉此將該第1任務資訊所示的第1圖像微影於上述第1面,上述第1任務資訊是將表示該第1圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊相對應所得,該第1圖像是微影在上述被曝光基板的上述第1面的圖像。
此處,本發明中,藉由記憶機構,對多個第2任務資訊進行記憶,上述多個第2任務資訊是將表示第2圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊分別相對應所得,該第2圖像是微影在上述被曝光基板的與上述第1面相反的第2面的圖像。而且,本發明中,藉由第2微影機構,基於藉由上述記憶機構所記憶的上述多個第2任務資訊中具有與利用上述第1微影機構對被曝光基板的上述第1面微影圖像時所使用之上述第1任務資訊所示的曝光條件資訊相同的曝光條件資訊的第2任務資訊,對在該第1面已微影圖像的被曝光基板的上述第2面曝光,以將該第2任務資訊所示的第2圖像微影於上述第2面。
如此,根據本發明的曝光微影裝置,使用具有與在第1面微影圖像時所使用的第1任務資訊的曝光條件資訊相同的曝光條件資訊的第2任務資訊,在第2面微影圖像,因而可防止在被曝光基板的兩面微影圖像時在各面微影出相互不對應的圖像。
另外,本發明的曝光微影裝置中,亦可為上述曝光條件包括:上述被曝光基板的尺寸,作為曝光對象的上述被曝光基板的塊數,為了決定圖像的微影區域而在上述被曝光基板上設置著標記時的上述標記的配置圖案,及上述被曝光基板的感光材料種 類的至少一個。藉此,可在適合的曝光條件下於被曝光基板的各面微影圖像。
另一方面,為了達成上述目的,本發明的曝光微影系統包括第1曝光微影裝置以及第2曝光微影裝置,上述第1曝光微影裝置包括:第1微影機構,基於將表示第1圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊相對應所得的第1任務資訊,將被曝光基板的第1面曝光,藉此將上述第1任務資訊所示的第1圖像微影於上述第1面,該第1圖像是微影在上述被曝光基板的上述第1面的圖像;及發送機構,將利用上述第1微影機構對被曝光基板的上述第1面微影圖像時所使用之上述第1任務資訊的曝光條件資訊進行發送;上述第2曝光微影裝置包括:記憶機構,對多個第2任務資訊進行記憶,上述多個第2任務資訊是將表示第2圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊分別相對應所得,該第2圖像是微影在上述被曝光基板的與上述第1面相反的第2面的圖像;接收機構,接收上述發送機構所發送的上述曝光條件資訊;及第2微影機構,基於上述記憶機構所記憶的上述多個第2任務資訊中具有與上述接收機構所接收的曝光條件資訊相同的曝光條件資訊的第2任務資訊,對藉由上述第1微影機構在上述第1面已微影圖像的上述被曝光基板的上述第2面進行曝光,以將上述第2任務資訊所示的第2圖像微影於上述第2面。
根據本發明的曝光微影系統,藉由第1曝光微影裝置的第1微影機構,基於將表示第1圖像的圖像資訊與表示曝光條件 的曝光條件資訊相對應所得的第1任務資訊將上述第1面曝光,藉此將該第1任務資訊所示的第1圖像微影於上述第1面,該第1圖像是微影在上述被曝光基板的上述第1面的圖像。而且,藉由第1曝光微影裝置的發送機構,將利用上述第1微影機構對被曝光基板的上述第1面微影圖像時所使用之上述第1任務資訊的曝光條件資訊進行發送。
另一方面,本發明的曝光微影系統中,藉由第2曝光微影裝置的記憶機構,對多個第2任務資訊進行記憶,上述多個第2任務資訊是將表示第2圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊分別相對應所得,該第2圖像是微影在上述被曝光基板的與上述第1面相反的第2面的圖像。而且,藉由第2曝光微影裝置的接收機構,接收上述發送機構所發送的上述曝光條件資訊。進而,藉由第2曝光微影裝置的第2微影機構,基於上述記憶機構所記憶的上述多個第2任務資訊中具有與上述接收機構所接收的曝光條件資訊相同的曝光條件資訊的第2任務資訊,對藉由上述第1微影機構在上述第1面已微影圖像的上述被曝光基板的上述第2面進行曝光,以將上述第2任務資訊所示的第2圖像微影於上述第2面。
如此,根據本發明的曝光微影系統,第2曝光微影裝置使用第2任務資訊在第2面微影圖像,因而可防止在被曝光基板的兩面微影圖像時在各面微影出相互不對應的圖像,上述第2任務資訊具有與在第1面微影圖像時所使用的第1任務資訊的曝光 條件資訊相同的曝光條件資訊。
另外,本發明的曝光微影系統中,亦可為上述第1曝光微影裝置的上述發送機構將上述第1微影機構的微影正常結束的情況下的曝光條件資訊進行發送。藉此,相比於不使用本發明的情況,能夠更確實地防止在被曝光基板的兩面微影圖像時在各面微影出相互不對應的圖像。
另外,本發明的曝光微影系統中,亦可為上述曝光條件包括:上述被曝光基板的尺寸,作為曝光對象的上述被曝光基板的塊數,為了決定圖像的微影區域而在上述被曝光基板上設置著標記時的上述標記的配置圖案,及上述被曝光基板的感光材料種類的至少一個。藉此,可在適合的曝光條件下於被曝光基板的各面微影圖像。
而且,本發明的曝光微影系統中,亦可為上述第1曝光微影裝置的上述發送機構在上述第1微影機構的微影異常結束的情況下,將表示已發生錯誤的意旨的錯誤資訊進行發送。藉此,相比於不使用本發明的情況,能夠更確實地防止在被曝光基板的兩面微影圖像時在各面微影出相互不對應的圖像。
而且,本發明的曝光微影系統中,亦可為上述第2曝光微影裝置還包括受理機構,上述受理機構於存在多個藉由上述記憶機構所記憶的上述多個第2任務資訊中,具有與上述接收機構所接收的曝光條件資訊相同的曝光條件資訊的第2任務資訊時,對多個存在的上述第2任務資訊中的任一個的上述第2任務資訊 的選擇進行受理,上述第2曝光微影裝置的上述第2微影機構基於由上述受理機構而受理有上述選擇的上述第2任務資訊,在上述第2面微影圖像。藉此,即便存在多個具有與在第1面微影圖像時所使用的第1任務資訊的曝光條件資訊相同的曝光條件資訊的第2任務資訊,亦可防止在被曝光基板的兩面微影圖像時在各面微影出相互不對應的圖像。
而且,本發明的曝光微影系統亦可還包括控制裝置,上述控制裝置包括:第2記憶機構,對上述第1任務資訊及上述第2任務資訊進行記憶;及第2發送機構,將藉由上述第2記憶機構所記憶的上述第1任務資訊發送至上述第1曝光微影裝置,將上述第2任務資訊發送至上述第2曝光微影裝置,上述第1曝光微影裝置還包括第2接收機構,上述第2接收機構接收藉由上述第2發送機構所發送的上述第1任務資訊,上述第1曝光微影裝置的上述第1微影機構使用由上述第2接收機構所接收的上述第1任務資訊,將上述第1任務資訊所示的第1圖像微影於上述第1面,上述第2曝光微影裝置還包括第3接收機構,上述第3接收機構接收藉由上述第2發送機構所發送的上述第2任務資訊,上述第2曝光微影裝置的上述記憶機構對多個藉由上述第3接收機構所接收的上述第2任務資訊進行記憶。藉此,藉由控制裝置,可統一地對系統整體進行管理。
尤其,本發明的曝光微影系統中,亦可為上述控制裝置還包括第2受理機構,上述第2受理機構對上述第1任務資訊及 上述第2任務資訊的輸入進行受理,上述控制裝置的上述第2記憶機構對上述第2受理機構所受理的上述第1任務資訊及上述第2任務資訊進行記憶。藉此,使用用戶輸入的任務資訊,可在被曝光基板的各面微影相互對應的圖像。
另一方面,為了達成上述目的,本發明的曝光微影系統包括第1曝光微影裝置、控制裝置以及第2曝光微影裝置,上述第1曝光微影裝置包括:第1微影機構,基於第1任務資訊將被曝光基板的第1面曝光,藉此將上述第1任務資訊所示的第1圖像微影於上述第1面,其中上述第1任務資訊是將表示該第1圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊相對應所得,該第1圖像是微影在上述被曝光基板的上述第1面的圖像;及第1發送機構,將利用上述第1微影機構對上述被曝光基板的上述第1面微影圖像時所使用之上述第1任務資訊的曝光條件資訊進行發送,上述控制裝置包括:記憶機構,對多個第2任務資訊進行記憶,上述多個第2任務資訊是將表示第2圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊分別相對應所得,該第2圖像是在上述被曝光基板的與上述第1面相反的第2面微影的圖像;第1接收機構,接收藉由上述第1發送機構所發送的曝光條件資訊;及第2發送機構,對藉由上述記憶機構所記憶的上述多個第2任務資訊中,具有與上述第1接收機構所接收的曝光條件資訊相同的曝光條件資訊的第2任務資訊進行發送,上述第2曝光微影裝置包括:第2接收機構,接收上述第2發送機構所發送的上述第2任務資 訊;及第2微影機構,基於上述第2接收機構所接收的上述第2任務資訊,將藉由上述第1微影機構在上述第1面已微影圖像的上述被曝光基板的上述第2面曝光,藉此將上述第2任務資訊所表示的第2圖像微影於上述第2面。
根據本發明的曝光微影系統,藉由第1曝光微影裝置的第1微影機構,基於第1任務資訊將被曝光基板的第1面曝光,藉此將該第1任務資訊所示的第1圖像微影於上述第1面,其中上述第1任務資訊是將表示該第1圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊相對應所得,該第1圖像是微影在上述被曝光基板的上述第1面的圖像。而且,藉由第1曝光微影裝置的第1發送機構,將利用上述第1微影機構對上述被曝光基板的上述第1面微影圖像時所使用之上述第1任務資訊的曝光條件資訊進行發送。
另一方面,本發明的曝光微影系統中,藉由控制裝置的記憶機構,對多個第2任務資訊進行記憶,該多個第2任務資訊將表示第2圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊分別相對應所得,該第2圖像是在上述被曝光基板的與上述第1面相反的第2面微影的圖像。而且,藉由控制裝置的第1接收機構,接收上述第1發送機構所發送的曝光條件資訊。進而,藉由控制裝置的第2發送機構,對藉由上述記憶機構所記憶的上述多個第2任務資訊中,具有與上述第1接收機構所接收的曝光條件資訊相同的曝光條件資訊的第2任務資訊進行發送。
進而,本發明的曝光微影系統中,藉由第2曝光微影裝置的第2接收機構,接收由上述第2發送機構所發送的上述第2任務資訊,藉由第2曝光微影裝置的第2微影機構,基於上述第2接收機構所接收的上述第2任務資訊,將藉由上述第1微影機構在上述第1面已微影圖像的上述被曝光基板的上述第2面曝光,藉此將該第2任務資訊所示的第2圖像微影於該第2面。
如此,根據本發明的曝光微影系統,控制裝置將自第1曝光微影裝置接收的、具有與在第1面微影圖像時所使用的第1任務資訊的曝光條件資訊相同的曝光條件資訊的第2任務資訊,發送至第2曝光微影裝置,因而無須對曝光微影裝置追加新的功能,從而可防止在被曝光基板的兩面微影圖像時在各面微影出相互不對應的圖像。
另一方面,為了達成上述目的,本發明的儲存程式的記錄媒體將電腦作為如下各機構而發揮功能:第1控制機構,使第1微影機構基於第1任務資訊將被曝光基板的第1面曝光,藉此將上述第1任務資訊所示的第1圖像微影於上述第1面,上述第1任務資訊是將表示該第1圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊相對應所得,該第1圖像是微影在上述被曝光基板的上述第1面的圖像;以及第2控制機構,使第2微影機構基於多個第2任務資訊中具有與利用上述第1微影機構對被曝光基板的上述第1面微影圖像時所使用之上述第1任務資訊的曝光條件資訊相同的曝光條件資訊的第2任務資訊,對在上述第1面已微影圖 像的被曝光基板的上述第2面進行曝光,藉此將上述第2任務資訊所示的第2圖像微影於上述第2面,上述多個第2任務資訊是將表示該第2圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊分別相對應所得,該第2圖像是微影在上述被曝光基板的與上述第1面相反的第2面的圖像。。
因此,根據本發明的儲存程式的記錄媒體,可使電腦與本發明的曝光微影裝置同樣地發揮作用,因而可與該曝光微影裝置同樣地,防止在被曝光基板的兩面微影圖像時在各面微影出相互不對應的圖像。
進而,為了達成上述目的,本發明的曝光微影方法包括:第1控制步驟,使第1微影機構基於第1任務資訊將被曝光基板的第1面曝光,藉此將上述第1任務資訊所示的第1圖像微影於上述第1面,上述第1任務資訊是將表示該第1圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊相對應所得,該第1圖像是在上述被曝光基板的上述第1面微影的圖像;以及第2控制步驟,使第2微影機構基於多個第2任務資訊中具有與利用上述第1微影機構對被曝光基板的上述第1面微影圖像時所使用之上述第1任務資訊的曝光條件資訊相同的曝光條件資訊的第2任務資訊,對在上述第1面已微影圖像的被曝光基板的上述第2面進行曝光,藉此將上述第2任務資訊所示的第2圖像微影於上述第2面,上述多個第2任務資訊是將表示該第2圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊分別相對應所得,該第2圖像是微影在上 述被曝光基板的與上述第1面相反的上述第2面的圖像。
因此,根據本發明的曝光微影方法,與本發明的曝光微影裝置同樣地發揮作用,因而可與該曝光微影裝置同樣地,防止在被曝光基板的兩面微影圖像時在各面微影出相互不對應的圖像。
根據本發明,實現如下效果:防止在被曝光基板的兩面微影圖像時在各面微影出相互不對應的圖像。
1‧‧‧曝光微影系統
2‧‧‧第1曝光微影裝置
3‧‧‧第2曝光微影裝置
4‧‧‧反轉裝置
5‧‧‧控制裝置
6‧‧‧第1搬送部
7‧‧‧第2搬送部
8a、8b‧‧‧有線電纜
10‧‧‧平台
11‧‧‧基體
12‧‧‧基台
14‧‧‧導軌
15‧‧‧閘極
16‧‧‧曝光部
16a‧‧‧曝光頭
17‧‧‧光源單元
18‧‧‧光纖
19‧‧‧圖像處理單元
20‧‧‧信號電纜
23‧‧‧攝影部
23a‧‧‧軌道
24‧‧‧自動載置掌(AC掌)
25‧‧‧吸入孔
26‧‧‧擠壓部
30‧‧‧副框架
31‧‧‧搬入口
33‧‧‧馬達
34‧‧‧滾輪對
40‧‧‧系統控制部
41‧‧‧任務記憶部
42‧‧‧平台驅動部
43‧‧‧顯示裝置
44‧‧‧輸入裝置
46‧‧‧攝影驅動部
48‧‧‧外部輸入輸出部
50‧‧‧控制部
51‧‧‧記憶部
52‧‧‧顯示部
53‧‧‧輸入部
54‧‧‧通信介面
60A‧‧‧第1任務資訊
60B‧‧‧第2任務資訊
61‧‧‧任務識別資訊
62‧‧‧圖像資訊
63‧‧‧曝光條件資訊
70‧‧‧任務輸入畫面
71‧‧‧微影對象面選擇欄
72‧‧‧圖像輸入欄
73‧‧‧基板種類輸入欄
74‧‧‧微影塊數輸入欄
75‧‧‧輸入結束按鈕
76‧‧‧任務選擇畫面
77‧‧‧選擇按鈕
78‧‧‧非選擇按鈕
C‧‧‧被曝光基板
L‧‧‧轉動軸
P1‧‧‧圖像區域
P2‧‧‧已曝光區域
S101~S111、S200~S217、S301~S325、S401~S407、S500~S517、S601~S605、S701~S723‧‧‧步驟
X、Y、Z‧‧‧方向
圖1是表示實施形態的曝光微影系統的整體的構成的概略平面圖。
圖2是表示實施形態的第1曝光微影裝置及第2曝光微影裝置的構成的立體圖。
圖3A是表示實施形態的曝光頭的曝光區域及曝光頭的排列圖案的概略平面圖。
圖3B是表示藉由實施形態的曝光頭而在被曝光基板上微影的圖像的圖像區域的概略平面圖。
圖4是表示實施形態的反轉裝置的構成的一部分斷裂立體圖。
圖5是表示實施形態的第1曝光微影裝置及第2曝光微影裝置的電氣系統的構成的方塊圖。
圖6是表示實施形態的控制裝置的電氣系統的構成的方塊圖。
圖7A是表示實施形態的任務資訊的一例的示意圖。
圖7B是表示實施形態的任務資訊的一例的示意圖。
圖8是表示第1實施形態的任務設定處理程式的處理的流程的流程圖。
圖9是表示第1實施形態的任務輸入畫面的構成例的構成圖。
圖10是用於說明第1實施形態的曝光微影系統的曝光微影處理的示意圖。
圖11是表示第1實施形態的第1任務執行處理程式的處理的流程的流程圖。
圖12是表示第1實施形態的第2任務執行處理程式的處理的流程的流程圖。
圖13是表示第1實施形態的任務選擇畫面的構成例的構成圖。
圖14是表示第2實施形態的任務設定處理程式的處理的流程的流程圖。
圖15是表示第2實施形態的第1任務執行處理程式的處理的流程的流程圖。
圖16是表示第2實施形態的任務選擇處理程式的處理的流程的流程圖。
圖17是表示第2實施形態的第2任務執行處理程式的處理的流程的流程圖。
[第1實施形態]
以下,使用隨附圖式對實施形態的曝光微影裝置進行詳細說明。另外,各實施形態中,以將本發明適用於曝光微影系統的情況為例來進行說明,該曝光微影系統對被曝光基板(後述的被曝光基板C)曝光光束而微影顯示電路圖案的圖像。而且,被曝光基板C為印刷配線基板、平板顯示器用玻璃基板等平板基板。
如圖1所示,本實施形態的曝光微影系統1包括:對被曝光基板C的第1面進行曝光的第1曝光微影裝置2,及對被曝光基板C的與第1面相反的第2面進行曝光的第2曝光微影裝置3。而且,曝光微影系統1包括:設置於第1曝光微影裝置2及第2曝光微影裝置3之間且將被曝光基板C的表背反轉的反轉裝置4,及控制對被曝光基板C的第1面及第2面的曝光的控制裝置5。
而且,第1曝光微影裝置2與控制裝置5之間、第2曝光微影裝置3與控制裝置5之間,分別利用有線電纜8a而連接,控制裝置5在第1曝光微影裝置2與第2曝光微影裝置3之間,經由有線電纜8a而通信。同樣地,第1曝光微影裝置2及第2曝光微影裝置3利用有線電纜8b而連接,該些各曝光微影裝置經由有線電纜8b而通信。
其次,對本實施形態的第1曝光微影裝置2及第2曝光微影裝置3的構成進行說明。另外,因第1曝光微影裝置2及第2曝光微影裝置3具有相同的構成,故此處對第1曝光微影裝置2進行說明,並省略關於第2曝光微影裝置3的說明。
圖2所示,本實施形態的第1曝光微影裝置2包括用以將被曝光基板C固定的平板狀的平台10。而且,在平台10的上表面,設置著吸入空氣的多個吸入孔(圖示省略)。當在平台10的上表面載置被曝光基板C時,被曝光基板C及平台10間的空氣經由吸入孔而被吸入,藉此被曝光基板C真空吸附於平台10。
而且,平台10支持於可移動地設置在桌狀的基體11的上表面的平板狀的基台12上。亦即,在基體11的上表面設置著1根或多根(本實施形態中,2根)導軌14。基台12以沿著導軌14而可自如地移動的方式受到支持,且藉由包含馬達等的驅動機構(後述的平台驅動部42)驅動而移動。平台10與基台12的移動連動地沿著導軌14而移動。
另外,以下,將平台10移動的方向規定為Y方向,將相對於該Y方向而在水平面內正交的方向規定為X方向,將與Y方向在鉛垂面內正交的方向規定為Z方向。
在基體11的上表面,設置著以跨越2根導軌14的方式而立設的門型的閘極15。載置於平台10的被曝光基板C以沿著導軌14而進出閘極15的開口部的方式移動。在閘極15的開口部的上部,安裝著朝向該開口部而曝光光束的曝光部16。在藉由該曝光部16,而平台10沿著導軌14移動並位於上述開口部的情況下,對載置於平台10的被曝光基板C的上表面曝光光束。
本實施形態的曝光部16包含多個(本實施形態中為16個)曝光頭16a而構成。曝光頭16a的各個在曝光部16中呈矩陣 (matrix)狀排列。而且,在曝光部16上分別連接著自後述的光源單元17抽出的光纖18、及自後述的圖像處理單元19抽出的信號電纜20。
曝光頭16a的各個包括作為反射型的空間光調變元件的數位微鏡裝置(digital micromirror device,DMD)。曝光頭16a藉由基於自圖像處理單元19輸入的圖像資訊來控制DMD,而對來自光源單元17的光束進行調變。第1曝光微影裝置2藉由將該調變的光束照射至被曝光基板C而對被曝光基板C進行曝光。另外,空間光調變元件不限於反射型,亦可為液晶等透過型的空間光調變元件。
如圖3A所示,作為由曝光頭16a曝光的區域的圖像區域P1,為其中一邊相對於平台10的移動方向(Y方向)以預先規定的傾斜角傾斜的矩形狀。另外,圖3A中僅表示了本實施形態的多個曝光頭16a中的一部分。而且,若平台10在移動閘極15的開口部時藉由曝光頭16a對被曝光基板C曝光光束,則如圖3B所示,伴隨平台10的移動而在被曝光基板C針對每個曝光頭16a形成帶狀的已曝光區域P2。矩陣狀排列的曝光頭16a的各個在X方向上,以每隔圖像區域P1的長邊的長度設為自然數倍(本實施形態中為1倍)的距離錯開而配置。而且,已曝光區域P2的各個與鄰接的已曝光區域P2局部地重疊而形成。
如圖2所示,在基體11的上表面,進而設置著以跨越2根導軌14的方式而立設的門型的閘極22。載置於平台10的被曝 光基板C以沿著導軌14而進出閘極22的開口部的方式移動。
在閘極22的開口部的上部,安裝著用以對開口部進行攝影的1個或多個(本實施形態中為3個)攝影部23。攝影部23為內置了1次的發光時間極短的頻閃儀(strobo)的電荷耦合元件(charge coupled device,CCD)照相機等。而且,在閘極22的開口部的上部,沿著在水平面內相對於平台10的移動方向(Y方向)垂直的方向(X方向)而設置著軌道23a,攝影部23的各個設置成由軌道23a導引而可移動。藉由該攝影部23,在平台10沿著導軌14移動並位於上述開口部的情況下,對載置於平台10的被曝光基板C的上表面進行攝影。
如圖1及圖2所示,第1曝光微影裝置2包括:第1搬送部6,將自外部搬入的被曝光基板C搬送至第1曝光微影裝置2的規定位置為止;以及第2搬送部7,將被曝光基板C自第1曝光微影裝置2搬送至反轉裝置4的規定位置為止。同樣地,第2曝光微影裝置3包括:第1搬送部6,將被曝光基板C自反轉裝置4搬送至第2曝光微影裝置3的規定位置為止;以及第2搬送部7,將被曝光基板C向第2曝光微影裝置3的外部搬送。
第1搬送部6及第2搬送部7包括多個旋轉滾輪及使該旋轉滾輪旋轉的驅動馬達。上述多個旋轉滾輪分別平行敷設,且在旋轉滾輪的一端安裝著接受藉由傳送帶或金屬線(wire)而傳遞的旋轉力的鏈輪(sprocket)或滑輪。作為傳遞使旋轉滾輪旋轉的驅動馬達的旋轉力的方法,除傳送帶或金屬線以外亦可採用圓筒 狀的磁鐵的傳遞方法。
而且,如圖2所示,第1曝光微影裝置2包括自動載置掌(以下,AC掌)24,該自動載置掌將藉由第1搬送部6搬送到規定位置為止的被曝光基板C自該規定位置搬送到平台10為止。AC掌24形成為平板狀,並且設置成沿X方向及Z方向可移動。在AC掌24的下表面設置著吸入空氣的多個吸入孔25。AC掌24在移動到AC掌24的下表面與被曝光基板C的上表面接觸的位置時,利用吸入孔25吸入AC掌24及被曝光基板C之間的空氣,藉此使被曝光基板C真空吸附於AC掌24的下表面而吸附保持。而且,在AC掌24的下表面設置著沿Z方向移動自如的擠壓部26,該擠壓部26當AC掌24在吸附保持著被曝光基板C的狀態下移動至平台10的上表面為止時,將被曝光基板C朝向下方擠出而擠壓至平台10。
第1曝光微影裝置2的AC掌24對搬送至第1搬送部6為止的未曝光的被曝光基板C進行吸附保持並向上方移動,從而載置於平台10的上表面。而且,第1曝光微影裝置2的AC掌24藉由對載置於平台10的上表面的第1面已曝光的被曝光基板C進行吸附保持並向上方移動,從而使被曝光基板C移動至第2搬送部7為止。移動至第2搬送部7為止的第1面已曝光的被曝光基板C藉由第2搬送部7而向第1曝光微影裝置2的外部搬出。
而且,第2曝光微影裝置3的AC掌24對搬送至第1搬送部6為止的第1面已曝光的被曝光基板C進行吸附保持並向 上方移動,從而將被曝光基板C載置於平台10的上表面。而且,第2曝光微影裝置3的AC掌24藉由對載置於平台10的上表面的第1面及第2面已曝光的被曝光基板C進行吸附保持並向上方移動,從而使被曝光基板C移動至第2搬送部7。移動至第2搬送部7為止的第1面及第2面已曝光的被曝光基板C藉由第2搬送部7而向曝光微影系統1的外部搬出。
其次,對本實施形態的反轉裝置4的構成進行說明。
如圖4所示,反轉裝置4包括由轉動軸L轉動自如地軸支撐的平板狀的副框架(subframe)30。副框架30藉由在內部保持著被曝光基板C的狀態下進行180度旋轉,而使被曝光基板C的表背反轉。
而且,如圖4所示,在副框架30所具有的側面中的第1曝光微影裝置2所位於一側的側面,設置著用於將被曝光基板C搬入至副框架30的內部的搬入口31。進而,在副框架30的內部設置著利用馬達33而驅動的多個滾輪對34。滾輪對34在夾持收納於副框架30的內部的被曝光基板C的狀態下進行搬送。被曝光基板C藉由滾輪對34並經由搬入口31而搬送至副框架30的內部,並且藉由副框架30的旋轉而表背反轉,且藉由滾輪對34並經由搬入口31而搬送至副框架30的外部。另外,副框架30在結束被曝光基板C的搬出時,為了將下一被曝光基板C搬入至內部而再次進行180度轉動。
其次,對本實施形態的第1曝光微影裝置2及第2曝光 微影裝置3的電氣系統的構成進行說明。另外,因第1曝光微影裝置2及第2曝光微影裝置3具有相同的電氣系統的構成,故此處對第1曝光微影裝置2進行說明,並省略關於第2曝光微影裝置3的說明。
如圖5所示,在第1曝光微影裝置2中,設置著分別與裝置各部電性連接的系統控制部40,藉由該系統控制部40對第1曝光微影裝置2的各部進行統一地控制。而且,第1曝光微影裝置2包括任務記憶部41、平台驅動部42、顯示裝置43、輸入裝置44、攝影驅動部46及外部輸入輸出部48。
系統控制部40包括中央處理單元(Central Processing Unit,CPU)、隨機存取記憶體(Random Access Memory,)、唯讀記憶體(Read Only Memory,ROM)及硬碟驅動器(Hard Disk Drive,HDD)。而且,系統控制部40藉由上述CPU而在與平台10的移動相應的時序,自光源單元17出射光束,並且藉由圖像處理單元19輸出對應的圖像資訊。系統控制部40如此來控制曝光頭16a對被曝光基板C的光束的曝光。
任務記憶部41包括RAM或非揮發性記憶體,記憶表示作為執行對象的任務的任務資訊。本實施形態中的任務為如下的總括的曝光處理要求,即,在同一種類的1塊或多塊的被曝光基板C的第1面在相同條件下曝光微影相同圖像,並且在第2面亦在相同條件下曝光微影相同圖像。另外,關於任務資訊的詳情將於以後進行敍述。本實施形態中,任務記憶部41以列表形式記憶 作為執行對象的任務的任務資訊,但不限定於此,亦可以佇列(queue)形式進行記憶。
平台驅動部42包括包含馬達或油壓泵等的驅動機構,且藉由系統控制部40的控制來驅動平台10。
顯示裝置43為藉由系統控制部40的控制而顯示各種資訊的液晶顯示器等顯示機構。
輸入裝置44為藉由用戶操作而輸入各種資訊的觸控感測器或操作按鈕等輸入機構。
攝影驅動部46包括包含馬達或油壓泵等的驅動機構,且藉由系統控制部40的控制來驅動攝影部23。
外部輸入輸出部48在包含連接於第1曝光微影裝置2的第2曝光微影裝置3及控制裝置5的各種資訊處理裝置之間進行各種資訊的輸入輸出。另外,第2曝光微影裝置3的外部輸入輸出部48在包含連接於第2曝光微影裝置3的第1曝光微影裝置2及控制裝置5的各種資訊處理裝置之間進行各種資訊的輸入輸出。
其次,對本實施形態的控制裝置5的電氣系統的構成進行說明。
如圖6所示,控制裝置5包括對曝光微影系統1的曝光微影處理進行控制的控制部50。而且,控制裝置5包括具有ROM及HDD等的記憶部51,該記憶部51記憶藉由控制部50進行的曝光微影處理中所需的程式或各種資料。另外,記憶部51亦記憶任 務資訊、任務設定處理程式、第1任務執行處理程式、第2任務執行處理程式、及第2實施形態的任務選擇處理程式。
而且,控制裝置5包括:基於控制部50的控制而顯示各種資訊的液晶顯示器等顯示部52,及藉由用戶操作而輸入各種資訊的鍵盤或滑鼠等輸入部53。進而,控制裝置5包括通信介面54,該通信介面54基於控制部50的控制對第1曝光微影裝置2及第2曝光微影裝置3進行各種資訊的發送接收。
此處,本實施形態的控制裝置5受理藉由用戶操作而進行的與任務有關的資訊的輸入。而且,控制裝置5在受理與任務有關的資訊的輸入時,生成與第1曝光微影裝置2及第2曝光微影裝置3分別對應的任務資訊,並將所生成的任務資訊發送至分別對應的曝光微影裝置。本實施形態的第1曝光微影裝置2及第2曝光微影裝置3在接收任務資訊時,將接收的任務資訊記憶於任務記憶部41中,並根據所記憶的任務的內容而執行對被曝光基板C的曝光微影處理。此時,本實施形態的第1曝光微影裝置2在記憶多個任務資訊的情況下,按照接收到各任務資訊的順序,執行由各任務資訊所示的任務。另外,本實施形態的第2曝光微影裝置3依次執行與由第1曝光微影裝置2執行的任務相對應的任務。
在生成任務資訊時,控制裝置5分別生成用以使第1曝光微影裝置2在被曝光基板C的第1面微影圖像的任務資訊60A、及用以使第2曝光微影裝置3在被曝光基板C的第2面微影圖像 的任務資訊60B。亦即,即便為與同一被曝光基板C相關的任務,亦分別利用各別的曝光微影裝置對第1面及第2面進行曝光微影處理,因而分別各別地生成第1面用的任務資訊60A及第2面用的任務資訊60B。
任務資訊60A、任務資訊60B作為一例,如圖7A及圖7B所示,是將任務識別資訊61、圖像資訊62、曝光條件資訊63、分別針對每個任務相對應所得的資訊。另外,任務識別資訊61是用以識別各自的任務的資訊。而且,圖像資訊62是表示作為微影對象的圖像的資訊。而且,曝光條件資訊63是表示為了在被曝光基板C微影對應的圖像而曝光光束時的曝光條件的資訊。本實施形態的曝光條件資訊63包含:表示作為微影對象的被曝光基板C(以下稱作「對象基板」)的基板尺寸的基板尺寸資訊,及表示對象基板的微影塊數的微影塊數資訊。而且,本實施形態的曝光條件資訊63包含標記資訊、及表示對象基板的感光材料種類的感光材料種類資訊等,該標記資訊由座標來表示在設置著用以決定與對象基板相對應的圖像的微影區域的標記的情況下的該標記的配置圖案。然而,曝光條件資訊63中所含的資訊並不限定於該些,只要為表示光束的強度的資訊,表示平台10的移動速度的資訊等進行曝光微影處理時所使用的資訊,則可為任意的資訊。
在作業人員欲使第1曝光微影裝置2及第2曝光微影裝置3執行任務的情況下,經由輸入部53,將任務資訊60A、任務資訊60B中所含的各資訊輸入至控制裝置5。與其相對應地,控 制裝置5進行任務設定處理,該任務設定處理是基於所輸入的各資訊生成第1面用的任務資訊60A、及第2面用的任務資訊60B並記憶於記憶部51。
其次,參照圖8對本實施形態的曝光微影系統1的作用進行說明。另外,圖8是表示在經由輸入部53而輸入執行指示時藉由控制裝置5的控制部50而執行的任務設定處理程式的處理的流程的流程圖。該程式預先記憶於記憶部51的ROM的規定區域。
首先,步驟S101中,進行使任務輸入畫面顯示於顯示部52的控制,該任務輸入畫面用以輔助由用戶進行的與任務有關的資訊的輸入。如圖9所示,本實施形態的任務輸入畫面70包括微影對象面選擇欄71,該微影對象面選擇欄71選擇與第1面的任務有關的輸入或與第2面的任務有關的輸入。而且,任務輸入畫面70包括輸入表示所微影的圖像的圖像識別資訊的圖像輸入欄72。圖像識別資訊為包含圖像資訊的文件的文件名或表示圖像文件的儲存目的地的統一資源定位符(Uniform Resource Locator,URL)等。而且,任務輸入畫面70包括基板種類輸入欄73,該基板種類輸入欄73輸入適用於作為對象的任務的表示被曝光基板C的基板種類的基板種類資訊。而且,任務輸入畫面70包括微影塊數輸入欄74,該微影塊數輸入欄74輸入作為對象的任務中的表示被曝光基板C的微影塊數的微影塊數資訊。進而,任務輸入畫面70包括輸入結束按鈕75,該輸入結束按鈕75用以指定表示輸入已結束的意旨的資訊。另外,亦可在對各輸入欄輸入各資訊時, 針對每一輸入欄而由列表顯示等顯示選擇候補,經由輸入部53而選擇所顯示的選擇候補中的其中任一個。用戶使用輸入部53,利用微影對象面選擇欄71而選擇作為微影對象的面,在輸入與各輸入欄相對應的資訊後,指定輸入結束按鈕75。
因此,下一步驟S103中,藉由待機直至指定輸入結束按鈕75為止,而待機直至與任務有關的資訊的輸入結束為止。
下一步驟S105中,基於由微影對象面選擇欄71而選擇的微影對象的面及輸入至各輸入欄的各資訊,生成任務資訊60A、任務資訊60B,將所生成的任務資訊60A、任務資訊60B記憶於記憶部51中。此時,控制部50在已由微影對象面選擇欄71選擇了第1面的情況下,將輸入至圖像輸入欄72的資訊所示的圖像的圖像資訊作為圖像資訊62,將輸入至微影塊數輸入欄74的資訊作為微影塊數資訊,從而生成第1面的任務資訊60A。而且,任務資訊60A中,根據輸入至基板種類輸入欄73的資訊,來決定基板尺寸資訊、標記資訊及感光材料種類資訊。亦即,本實施形態的曝光微影系統1中,針對被曝光基板C的每種基板,將基板尺寸資訊、標記資訊及感光材料種類資訊分別相對應而記憶於記憶部51中。而且,本實施形態的曝光微影系統1中,將與輸入至基板種類輸入欄73的資訊所示的基板種類相對應的基板尺寸資訊、標記資訊、及感光材料種類資訊,作為任務資訊60A的基板尺寸資訊、標記資訊、及感光材料種類資訊。
而且,控制部50在已由微影對象面選擇欄71選擇了第 2面的情況下,將輸入至圖像輸入欄72的資訊所示的圖像的圖像資訊作為圖像資訊62,將輸入至微影塊數輸入欄74的資訊作為微影塊數資訊,從而生成第2面的任務資訊60B。而且,控制部50即便對於任務資訊60B而言,亦與任務資訊60A同樣地,決定並使用基板尺寸資訊、標記資訊、及感光材料種類資訊。
下一步驟S107中,判定上述步驟S105的處理中生成的任務資訊是否為第1面的任務資訊60A。在步驟S107中為肯定判定的情況下過渡至步驟S109,將所生成的任務資訊60A經由有線電纜8a而發送至第1曝光微影裝置2。與此相對,第1曝光微影裝置2將所接收到的任務資訊60A記憶於自身的任務記憶部41中。
另一方面,在步驟S107中為否定判定的情況下,將藉由上述步驟S105的處理生成的任務資訊視作第2面的任務資訊60B並過渡至步驟S111。
步驟S111中,在將所生成的任務資訊60B經由有線電纜8a而發送至第2曝光微影裝置3後,結束本任務設定處理程式。與此相對,第2曝光微影裝置3將所接收到的任務資訊60B記憶於自身的任務記憶部41中。
如此,本實施形態的曝光微影系統1中,如圖10所示,控制裝置5基於由用戶輸入的資訊而生成第1面的任務資訊60A及第2面的任務資訊60B。而且,藉由控制裝置5生成的第1面的任務資訊60A按照所接收的順序記憶於第1曝光微影裝置2的 任務記憶部41,第2面的任務資訊60B按照所接收的順序記憶於第2曝光微影裝置3的任務記憶部41。
第1曝光微影裝置2若自控制裝置5接收並記憶任務資訊60A,則根據預先規定的用戶操作,而使用所記憶的任務資訊60A進行在被曝光基板C的第1面微影圖像的第1任務執行處理。
其次,參照圖11,對執行本實施形態的第1任務執行處理時的第1曝光微影裝置2的作用進行說明。另外,圖11表示此時藉由第1曝光微影裝置2的系統控制部40而執行的第1任務執行處理程式的處理的流程的流程圖。該程式預先記憶於系統控制部40所具備的ROM的規定區域。另外,執行該程式的時序並不限於依據預先規定的用戶操作的時序,亦可為接收到任務資訊60A的時序。
起先,步驟S200中,進行使記憶於任務記憶部41中的任務資訊60A顯示於顯示裝置43的控制。此時,系統控制部40在記憶有多個任務資訊60A的情況下,進行以列表形式顯示各任務資訊60A的控制。用戶將藉由作為執行對象的任務資訊60A的微影塊數資訊所示的塊數的被曝光基板C配置於第1曝光微影裝置2的第1搬送部6的上游側。而且,用戶經由輸入裝置44來選擇指定所顯示的任務資訊60A,藉此輸入藉由所指定的任務資訊60A表示的任務的執行指示。
下一步驟S201中,待機直至輸入上述任務的執行指示為止,下一步驟S203中,自與指示執行的任務(以下稱作「執行 第1面任務」)相對應的任務資訊60A獲取圖像資訊62。另外,本實施形態中,在獲取微影的圖像的圖像資訊62時,獲取記憶於自身的任務記憶部41的圖像資訊(任務資訊60A的圖像資訊62),但並不限定於此。亦即,亦可在任務資訊60A中預先賦予上述圖像識別資訊,基於該圖像識別資訊,自控制裝置5或外部的記憶裝置獲取所微影的圖像的圖像資訊。
下一步驟S205中,藉由執行第1面任務的執行來決定在被曝光基板C微影圖像時的曝光條件。此時,系統控制部40基於執行第1面任務的任務資訊60A中的基板尺寸資訊、微影塊數資訊、標記資訊、及感光材料種類資訊來決定曝光條件。本實施形態中,首先,系統控制部40中,藉由攝影部23對設置於被曝光基板C的上述標記進行攝影,並根據藉由攝影所得的圖像計測該標記的位置。而且,系統控制部40基於所計測的標記的位置來決定微影圖像的微影區域。進而,系統控制部40基於所決定的微影區域的尺寸或形狀而使作為微影對象的圖像變形。而且,系統控制部40根據上述感光材料種類資訊所示的感光材料種類,來決定曝光的光束的強度、平台10的移動速度(或光束的曝光時間)等。
下一步驟S207中,根據所決定的曝光條件,開始進行對被曝光基板C曝光光束而微影圖像的曝光微影處理。本實施形態的曝光微影處理中,系統控制部40藉由曝光頭16a而曝光基於所變形的圖像而調變的光束,藉此將該變形的圖像微影於被曝光 基板C。
下一步驟S209中,判定是否發生預先規定的錯誤。此時,系統控制部40在因被曝光基板C的變形或定位不良、進行光源單元17或圖像處理單元19、曝光部16等的曝光微影時所使用的部位的故障等而曝光微影處理中途停止的情況下等,判定為發生錯誤。步驟S209中為肯定判定的情況下過渡至步驟S211,並將表示已發生錯誤的意旨的錯誤資訊發送至控制裝置5,從而結束本第1任務執行處理程式。與此相對,接收到錯誤資訊的控制裝置5進行使錯誤資訊顯示於顯示部52的控制。另外,系統控制部40亦可將錯誤資訊發送至第2曝光微影裝置3。與此相對,接收到錯誤資訊的第2曝光微影裝置3進行將該錯誤資訊顯示於顯示裝置43的控制,或刪除與發生錯誤的執行第1面任務相對應的任務的任務資訊60B。
另一方面,在步驟S209中為否定判定的情況下過渡至步驟S213。
步驟S213中,判定對1塊被曝光基板C的曝光微影處理是否完成。在步驟S213中為否定判定的情況下回到上述步驟S209,另一方面,在步驟S213中為肯定判定的情況下過渡至步驟S215中。
步驟S215中,將執行第1面任務的曝光條件資訊63發送至第2曝光微影裝置3。另外,本實施形態中,自第1曝光微影裝置2向第2曝光微影裝置3發送執行第1面任務的曝光條件資 訊63,但並不限定於此。亦即,發送的資訊只要為第2曝光微影裝置3包含執行第1面任務的曝光條件資訊63即可,因而例如亦可為任務資訊60A自身。而且,所發送的資訊亦可為執行第1面任務的曝光條件資訊63中所含的預先規定的資訊(例如僅為基板尺寸資訊、基板尺寸及標記資訊等)。
下一步驟S217中,判定執行第1面任務是否已完成。此時,系統控制部40在對由曝光條件資訊63的微影塊數資訊所示的微影塊數的被曝光基板C的曝光微影處理已完成的情況下,判定執行第1面任務已完成。
在步驟S217中為否定判定的情況下回到上述步驟S209,另一方面,在為肯定判定的情況下,結束本第1任務執行處理程式。
本實施形態的第2曝光微影裝置3若自第1曝光微影裝置2接收執行第1面任務的曝光條件資訊63,則基於曝光條件資訊63與自控制裝置5接收的任務資訊60B,而進行在被曝光基板C的第2面微影圖像的第2任務執行處理。
其次,參照圖12,對執行本實施形態的第2任務執行處理時的第2曝光微影裝置3的作用進行說明。另外,圖12是表示此時藉由第2曝光微影裝置3的系統控制部40執行的第2任務執行處理程式的處理的流程的流程圖。該程式預先記憶於系統控制部40所具備的ROM的規定區域。另外,執行該程式的時序不限於接收到執行對象的任務的任務識別資訊的時序,亦可為藉由用 戶並經由輸入裝置44而輸入了預先規定的執行指示的時序等。
起先,步驟S301中,判定在記憶於任務記憶部41中的任務資訊60B中,是否存在多個具有與所接收到的執行第1面任務的曝光條件資訊63相同的曝光條件資訊63的任務資訊60B。
在步驟S301中為肯定判定的情況下過渡至步驟S303,進行使任務選擇畫面76顯示於顯示裝置43的控制,該任務選擇畫面76用以輔助由用戶進行的任務的選擇。如圖13所示,本實施形態的任務選擇畫面76包括選擇記憶於任務記憶部41的任務資訊60B中的任一個的選擇按鈕77,及不選擇任一任務的非選擇按鈕78。用戶使用輸入裝置44來指定任一選擇按鈕77或非選擇按鈕78。
下一步驟S304中,待機直至選擇任一選擇按鈕77或非選擇按鈕78為止。
下一步驟S305中,判定是否選擇了任一任務。此時,系統控制部40在選擇了任一選擇按鈕77的情況下,判定(肯定判斷)為選擇了任一任務,在選擇了非選擇按鈕78的情況下,判定(否定判断)為未選擇任一任務。
在步驟S305中為肯定判定的情況下,將所選擇的任務作為執行對象的任務(以下稱作「執行第2面任務」),並過渡至後述的步驟S309。另一方面,在步驟S305中為否定判定的情況下過渡至步驟S317,並將表示未選擇任務的意旨的錯誤資訊發送至控制裝置5,從而結束本第2任務執行處理程式。與此相對,控 制裝置5進行將所接收到的錯誤資訊顯示於顯示部52的控制。
另一方面,在步驟S301中為否定判定的情況下過渡至步驟S307。
步驟S307中,判定在記憶於任務記憶部41中的任務資訊60B中,是否僅存在一個如下的任務資訊60B,該任務資訊60B具有與所接收到的執行第1面任務的曝光條件資訊63相同的曝光條件資訊63且表示第2面的任務。
在步驟S307中為否定判定的情況下,過渡至後述的步驟S317,將表示不存在作為執行對象的任務的意旨的錯誤資訊發送至控制裝置5,從而結束本第2任務執行處理程式。與此相對,控制裝置5進行將所接收到的錯誤資訊顯示於顯示部52的控制。
另一方面,在步驟S307中為肯定判定的情況下,將藉由上述步驟S307的處理而判定為存在的任務資訊60B作為執行第2面任務,並過渡至步驟S309。另外,此時,亦可將藉由上述步驟S307的處理而判定為存在的任務資訊60B顯示於顯示裝置43,並受理由該任務資訊60B所示的任務的執行指示的輸入。該情況下,在受理了執行指示的輸入後,過渡至步驟S309。
步驟S309中,自執行第2面任務的任務資訊60B獲取在被曝光基板C的第2面微影的圖像的圖像資訊62。另外,本實施形態中,在獲取圖像資訊62時,獲取記憶於自身的任務記憶部41的圖像資訊(任務資訊60B的圖像資訊62),但並不限定於此。亦即,亦可在任務資訊60B中預先賦予上述圖像識別資訊,基於 該圖像識別資訊,自控制裝置5或外部的記憶裝置獲取所微影的圖像的圖像資訊。
下一步驟S311中,在作為執行對象的任務即執行第2面任務中,決定在被曝光基板C微影圖像時的曝光條件。此時,系統控制部40利用與上述步驟S205相同的手法,基於執行第2面任務的任務資訊60B中的基板尺寸資訊、微影塊數資訊、標記資訊及感光材料種類資訊來決定曝光條件。
作為一例,如圖7A及圖7B所示,設為任務A與任務A’具有相同的曝光條件資訊63,任務B與任務B’具有相同的曝光條件資訊63。而且,作為一例,如圖10所示,第1曝光微影裝置2中,記憶在第1面微影對應的圖像的任務A的任務資訊60A、任務B的任務資訊60A等。進而,第2曝光微影裝置3中,記憶在第2面微影對應的圖像的任務A’的任務資訊60B、任務B’的任務資訊60B。當在該狀態下在第1曝光微影裝置2中執行任務A時,在第2曝光微影裝置3中,將具有與任務A相同的曝光條件資訊63的任務A’作為執行對象。
下一步驟S313中,與上述第1任務執行處理程式的步驟S207的處理同樣地,根據所決定的曝光條件,開始對被曝光基板C曝光光束而微影圖像的曝光微影處理。
下一步驟S315中,判定是否發生預先規定的錯誤。此時,系統控制部40在因被曝光基板C的變形或定位不良、進行光源單元17或圖像處理單元19、曝光部16等的曝光微影時所使用 的部位的故障等而曝光微影處理中途停止的情況下等,判定為發生錯誤。步驟S315中為肯定判定的情況下過渡至步驟S317,並將表示已發生錯誤的意旨的錯誤資訊發送至控制裝置5,從而結束本第2任務執行處理程式。與此相對,控制裝置5進行將所接收到的錯誤資訊顯示於顯示部52的控制。
另一方面,在步驟S315中為肯定判定的情況下過渡至步驟S319。
步驟S319中,判定對被曝光基板C的曝光微影處理是否已完成。在步驟S319中為否定判定的情況下回到上述步驟S315,另一方面,在為肯定判定的情況下過渡至步驟S321。
下一步驟S321中,判定執行第2面任務是否已完成。,此時,系統控制部40在對由曝光條件資訊63的微影塊數資訊所示的微影塊數的被曝光基板C的曝光微影處理已完成的情況下,判定執行第2面任務已完成。在步驟S321中為否定判定的情況下過渡至步驟S323。
步驟S323中,待機至接收到執行第2面任務中的用以對下一被曝光基板C進行圖像的微影的曝光條件資訊為止。
下一步驟S325中,判定所接收到的曝光條件資訊是否與執行第2面任務的任務資訊60B的曝光條件資訊相同。在步驟S325中為肯定判定的情況下,繼續執行第2面任務的執行,並過渡至上述步驟S315。另一方面,在步驟S325中為否定判定的情況下過渡至步驟S317,並將表示接收到與執行第2面任務的任務 資訊60B的曝光條件資訊不同的曝光條件資訊意旨的錯誤資訊發送至控制裝置5,從而結束本第1任務執行處理程式。
另一方面,在步驟S321中為肯定判定的情況下,結束本第1任務執行處理程式。
[第2實施形態]
以下,使用隨附圖式對第2實施形態的曝光微影系統1進行詳細說明。
上述第1實施形態中,自第1曝光微影裝置2對第2曝光微影裝置3發送表示執行第1面任務的資訊,且利用第2曝光微影裝置3來選擇並執行對應的任務。另一方面,第2實施形態中,自第1曝光微影裝置2對控制裝置5發送表示執行第1面任務的資訊,並利用控制裝置5選擇對應的任務,且將所選擇的任務發送至第2曝光微影裝置3。
另外,第2實施形態的曝光微影系統1的構成與第1實施形態的曝光微影系統1相同,因而此處省略說明。
其次,參照圖14,對執行本實施形態的任務設定處理時的控制裝置5的作用進行說明。另外,圖14是表示此時藉由控制裝置5的控制部50執行的任務設定處理程式的處理的流程的流程圖。該程式預先記憶於記憶部51的ROM的規定區域。
首先,步驟S401至步驟S405中,進行與第1實施形態的步驟S101至步驟S105相同的處理。
下一步驟S407中,將所生成的第1面的任務資訊60A 經由有線電纜8a而發送至第1曝光微影裝置2,從而結束本任務設定處理程式。第1曝光微影裝置2將所接收到的任務資訊60A記憶於任務記憶部41。
第1曝光微影裝置2若記憶任務資訊60A,依據預先規定的用戶操作,基於任務資訊60A進行在被曝光基板C的第1面微影圖像的第1任務執行處理。
其次,參照圖15,對執行本實施形態的第1任務執行處理時的第1曝光微影裝置2的作用進行說明。另外,圖15是表示此時藉由第1曝光微影裝置2的系統控制部40執行的第1任務執行處理程式的處理的流程的流程圖。該程式預先記憶於系統控制部40所具備的ROM的規定區域。另外,執行該程式的時序並不限於依據預先規定的用戶操作的時序,亦可為接收到任務資訊60A的時序。
步驟S500至步驟S513中,進行與第1實施形態的步驟S201至步驟S213相同的處理。
步驟S515中,將執行第1面任務的任務資訊60A中的曝光條件資訊63發送至控制裝置5。
下一步驟S517中,進行與第1實施形態的步驟S217相同的處理,從而結束本第1任務執行處理程式。
本實施形態的控制裝置5若自第1曝光微影裝置2接收任務資訊60A的曝光條件資訊,則進行任務選擇處理,即,自記憶於記憶部51的任務資訊60B中選擇具有與所接收到的曝光條件 資訊相同的曝光條件資訊的任務資訊60B。
其次,參照圖16,對執行本實施形態的任務選擇處理時的控制裝置5的作用進行說明。另外,圖16是表示此時藉由控制裝置5的控制部50執行的任務選擇處理程式的處理的流程的流程圖。該程式預先記憶於記憶部51的ROM的規定區域。另外,執行該程式的時序不限於接收到曝光條件資訊的時序,亦可為藉由用戶並經由輸入部53輸入了預先規定的執行指示的時序等。
首先,步驟S601中,判定記憶於記憶部51中的第2面的任務資訊60B中,是否存在具有與所接收到的執行第1面任務的曝光條件資訊63相同的曝光條件資訊63的第2面的任務資訊60B。
在步驟S601中為肯定判定的情況下過渡至步驟S605,將具有與執行第1面任務的曝光條件資訊63相同的曝光條件資訊63的第2面的任務資訊60B,經由有線電纜8a發送至第2曝光微影裝置3。第2曝光微影裝置3將所接收到的第2面的任務資訊60B記憶於任務記憶部41中。
另一方面,在步驟S601中為否定判定的情況下過渡至步驟S605,進行將表示不存在第2面的任務資訊60B的意旨的錯誤資訊顯示於顯示部52的控制,該第2面的任務資訊60B具有與執行第1面任務的曝光條件資訊63相同的曝光條件資訊63。
本實施形態的第2曝光微影裝置3若自控制裝置5接收上述第2面的任務資訊60B,則基於所接收到的任務資訊60B,進 行在被曝光基板C的第2面微影圖像的第2任務執行處理。
其次,參照圖17,對執行本實施形態的第2任務執行處理時的第2曝光微影裝置3的作用進行說明。另外,圖17是表示此時藉由第2曝光微影裝置3的系統控制部40執行的第2任務執行處理程式的處理的流程的流程圖。該程式預先記憶於系統控制部40所具備的ROM的規定區域。另外,執行該程式的時序不限於接收到任務資訊60B的時序,亦可為藉由用戶並經由輸入裝置44輸入了預先規定的執行指示的時序等。
起先,步驟S701至步驟S705中,進行與第1實施形態的步驟S301至步驟S305相同的處理。
步驟S707至步驟S723中,進行與第1實施形態的步驟S309至步驟S325相同的處理,從而結束本第2任務執行處理程式。
2‧‧‧第1曝光微影裝置
3‧‧‧第2曝光微影裝置
5‧‧‧控制裝置
41‧‧‧任務記憶部
51‧‧‧記憶部
60A‧‧‧第1任務資訊
60B‧‧‧第2任務資訊

Claims (12)

  1. 一種曝光微影裝置,包括:第1微影機構,基於第1任務資訊將被曝光基板的第1面曝光,藉此將上述第1任務資訊所示的第1圖像微影於上述第1面,其中上述第1任務資訊是將表示該第1圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊相對應所得,該第1圖像是微影在上述被曝光基板的上述第1面的圖像;記憶機構,對多個第2任務資訊進行記憶,上述多個第2任務資訊是將表示第2圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊分別相對應所得,該第2圖像是微影在上述被曝光基板的與上述第1面相反的第2面的圖像;以及第2微影機構,基於上述記憶機構所記憶的上述多個第2任務資訊中的具有與利用上述第1微影機構對上述被曝光基板的上述第1面微影圖像時所使用之上述第1任務資訊所示的曝光條件資訊相同的曝光條件資訊的第2任務資訊,對在上述第1面已微影圖像的上述被曝光基板的上述第2面進行曝光,以將上述第2任務資訊所示的第2圖像微影於上述第2面。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的曝光微影裝置,其中上述曝光條件包括上述被曝光基板的尺寸、作為曝光對象的上述被曝光基板的塊數、在上述被曝光基板設置著用以決定圖像的微影區域的標記時的上述標記的配置圖案、及上述被曝光基板的感光材料 種類的至少一個。
  3. 一種曝光微影系統,包括第1曝光微影裝置以及第2曝光微影裝置,上述第1曝光微影裝置包括:第1微影機構,基於將表示第1圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊相對應所得的第1任務資訊,將被曝光基板的第1面曝光,藉此將上述第1任務資訊所示的第1圖像微影於上述第1面,該第1圖像是微影在上述被曝光基板的上述第1面的圖像;及發送機構,將利用上述第1微影機構對上述被曝光基板的上述第1面微影圖像時所使用之上述第1任務資訊的上述曝光條件資訊進行發送;上述第2曝光微影裝置包括:記憶機構,對多個第2任務資訊進行記憶,上述多個第2任務資訊是將表示第2圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊分別相對應所得,該第2圖像是微影在上述被曝光基板的與上述第1面相反的第2面的圖像;接收機構,接收上述發送機構所發送的上述曝光條件資訊;及第2微影機構,基於由上述記憶機構所記憶的上述多個第2任務資訊中具有與上述接收機構所接收的曝光條件資訊相同的曝光條件資訊的第2任務資訊,對藉由上述第1微影機構在上述第1 面已微影圖像的上述被曝光基板的上述第2面進行曝光,以將上述第2任務資訊所示的第2圖像微影於上述第2面。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的曝光微影系統,其中上述第1曝光微影裝置的上述發送機構將上述第1微影機構的微影正常結束的情況下的曝光條件資訊進行發送。
  5. 如申請專利範圍第3項或第4項所述的曝光微影系統,其中上述曝光條件包括:上述被曝光基板的尺寸、作為曝光對象的上述被曝光基板的塊數、在上述被曝光基板設置著用以決定圖像的微影區域的標記時的上述標記的配置圖案、及上述被曝光基板的感光材料種類的至少一個。
  6. 如申請專利範圍第3項或第4項所述的曝光微影系統,其中上述第1曝光微影裝置的上述發送機構在上述第1微影機構的微影異常結束的情況下,將表示已發生錯誤的意旨的錯誤資訊進行發送。
  7. 如申請專利範圍第3項或第4項所述的曝光微影系統,其中上述第2曝光微影裝置還包括受理機構,上述受理機構於存在多個上述記憶機構所記憶的上述多個第2任務資訊中,具有與上述接收機構所接收的曝光條件資訊相同的曝光條件資訊的第2任務資訊時,對多個存在的上述第2任務資訊中的任一個上述第2任務資訊的選擇進行受理,上述第2曝光微影裝置的上述第2微影機構基於由上述受理 機構而受理有上述選擇的上述第2任務資訊,在上述第2面微影圖像。
  8. 如申請專利範圍第3項或第4項所述的曝光微影系統,還包括控制裝置,上述控制裝置包括:第2記憶機構,對上述第1任務資訊及上述第2任務資訊進行記憶;及第2發送機構,將上述第2記憶機構所記憶的上述第1任務資訊發送至上述第1曝光微影裝置,將上述第2任務資訊發送至上述第2曝光微影裝置,上述第1曝光微影裝置還包括第2接收機構,上述第2接收機構接收上述第2發送機構所發送的上述第1任務資訊,上述第1曝光微影裝置的上述第1微影機構使用上述第2接收機構所接收的上述第1任務資訊,將上述第1任務資訊所示的第1圖像微影於上述第1面,上述第2曝光微影裝置還包括第3接收機構,上述第3接收機構接收上述第2發送機構所發送的上述第2任務資訊,上述第2曝光微影裝置的上述記憶機構對多個上述第3接收機構所接收的上述第2任務資訊進行記憶。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的曝光微影系統,其中上述控制裝置還包括第2受理機構,上述第2受理機構對上述第1任務資訊及上述第2任務資訊的輸入進行受理,上述控制裝置的上述第2記憶機構對上述第2受理機構所受 理的上述第1任務資訊及上述第2任務資訊進行記憶。
  10. 一種曝光微影系統,包括第1曝光微影裝置、控制裝置.以及第2曝光微影裝置,上述第1曝光微影裝置包括:第1微影機構,基於第1任務資訊將被曝光基板的第1面曝光,藉此將上述第1任務資訊所示的第1圖像微影於上述第1面,其中上述第1任務資訊是將表示該第1圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊相對應所得,該第1圖像是微影在上述被曝光基板的上述第1面的圖像;及第1發送機構,將利用上述第1微影機構對上述被曝光基板的上述第1面微影圖像時所使用之上述第1任務資訊的曝光條件資訊進行發送,上述控制裝置包括:記憶機構,對多個第2任務資訊進行記憶,上述多個第2任務資訊是將表示第2圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊分別相對應所得,該第2圖像是在上述被曝光基板的與上述第1面相反的第2面微影的圖像;第1接收機構,接收上述第1發送機構所發送的曝光條件資訊;及第2發送機構,對上述記憶機構所記憶的上述多個第2任務資訊中,具有與上述第1接收機構所接收的曝光條件資訊相同的曝光條件資訊的第2任務資訊進行發送, 上述第2曝光微影裝置包括:第2接收機構,接收上述第2發送機構所發送的上述第2任務資訊;及第2微影機構,基於上述第2接收機構所接收的上述第2任務資訊,將藉由上述第1微影機構在上述第1面已微影圖像的上述被曝光基板的上述第2面曝光,藉此將上述第2任務資訊所示的第2圖像微影於上述第2面。
  11. 一種記錄媒體,儲存著用以將電腦作為如下各機構而發揮功能的程式:第1控制機構,使第1微影機構基於第1任務資訊將被曝光基板的第1面曝光,藉此將上述第1任務資訊所示的第1圖像微影於上述第1面,上述第1任務資訊是將表示該第1圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊相對應所得,該第1圖像是微影在上述被曝光基板的上述第1面的圖像;以及第2控制機構,使第2微影機構基於多個第2任務資訊中的具有與利用上述第1微影機構對上述被曝光基板的上述第1面微影圖像時所使用之上述第1任務資訊的曝光條件資訊相同的曝光條件資訊的第2任務資訊,對在上述第1面已微影圖像的上述被曝光基板的第2面進行曝光,藉此將上述第2任務資訊所示的第2圖像微影於上述第2面,其中上述多個第2任務資訊是將表示該第2圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊分別相對應所得,該第2圖像是微影在上述被曝光基板的與上述第1面相反 的第2面的圖像。
  12. 一種曝光微影方法,包括:第1控制步驟,使第1微影機構基於第1任務資訊將被曝光基板的第1面曝光,藉此將上述第1任務資訊所示的第1圖像微影於上述第1面,上述第1任務資訊是將表示該第1圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊相對應所得,該第1圖像是在上述被曝光基板的上述第1面微影的圖像;以及第2控制步驟,使第2微影機構基於多個第2任務資訊中的具有與利用上述第1微影機構對上述被曝光基板的上述第1面微影圖像時所使用之上述第1任務資訊的曝光條件資訊相同的曝光條件資訊的第2任務資訊,對在上述第1面已微影圖像的被曝光基板的上述第2面進行曝光,藉此將上述第2任務資訊所示的第2圖像微影於上述第2面,其中上述多個第2任務資訊是將表示該第2圖像的圖像資訊與表示曝光條件的曝光條件資訊分別相對應所得,該第2圖像是微影在上述被曝光基板的與上述第1面相反的上述第2面的圖像。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6096453B2 (ja) * 2012-09-27 2017-03-15 株式会社アドテックエンジニアリング 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法
EP3637971B1 (en) * 2017-06-07 2022-07-27 Fuji Corporation Component determination system and component determination method
TWI725393B (zh) * 2019-03-12 2021-04-21 萬里科技股份有限公司 用於戒指攝影的轉盤與光箱

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6172216A (ja) * 1984-09-17 1986-04-14 Shinku Lab:Kk 露光方法
JPH11307424A (ja) * 1998-04-22 1999-11-05 Hitachi Ltd 半導体製造方法および製造装置、ならびにそれにより製造された半導体デバイス
JP2001284231A (ja) * 2000-03-31 2001-10-12 Canon Inc 露光装置及びエラー発生時のパターンで処理を振り分ける方法
JP2002341550A (ja) * 2001-05-17 2002-11-27 Dainippon Screen Mfg Co Ltd レーザー露光装置
JP4034975B2 (ja) * 2002-02-13 2008-01-16 株式会社ルネサステクノロジ 半導体デバイスの製造方法
JP4381009B2 (ja) * 2003-03-12 2009-12-09 新光電気工業株式会社 パターン描画装置、パターン描画方法、および検査装置
JP4317488B2 (ja) * 2004-05-28 2009-08-19 株式会社オーク製作所 露光装置、露光方法および露光処理プログラム
JP4606990B2 (ja) * 2005-10-07 2011-01-05 富士フイルム株式会社 デジタル露光装置
JP2008242218A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Fujifilm Corp 描画装置及び描画方法
JP4922071B2 (ja) * 2007-05-28 2012-04-25 株式会社オーク製作所 露光描画装置
JP5004786B2 (ja) * 2007-12-27 2012-08-22 株式会社オーク製作所 露光装置の反転部
JP2009223262A (ja) * 2008-03-19 2009-10-01 Orc Mfg Co Ltd 露光システムおよび露光方法
JP5333063B2 (ja) * 2009-08-28 2013-11-06 ウシオ電機株式会社 両面露光装置

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