JP5813556B2 - 露光描画装置、プログラム及び露光描画方法 - Google Patents

Description

本発明は、露光描画装置、プログラム及び露光描画方法に係り、特に、基板に対して画像を描画する露光描画装置、当該露光描画装置により実行されるプログラム、及び、基板に対して画像を描画する露光描画方法に関する。

露光描画装置を用いて被露光基板に対して露光処理を行う際に、描画される回路パターンの描画位置を調整するために、被露光基板にはアライメント用のマークが形成されている。露光描画装置では、被露光基板をカメラ等の撮影部により撮影することによりこのアライメント用のマークの位置を検出し、検出した位置に基づいて描画領域の位置合わせを行っている。

これに関する技術として、特許文献１には、アライメント用のマークの位置の検出に要する時間を短縮することができる露光描画装置が開示されている。この露光描画装置は、撮影部により得られる画像の範囲内にアライメント用のマークが存在しない場合、画像の範囲内に存在する探索用のマーク及び予め記憶されたアライメント用のマークと探索用のマークとの位置関係に基づいてアライメント用のマークの座標が算出され、算出された座標に基づいて撮影部を移動させる。この構成により、アライメントマークの位置の検出精度を低下させることなくアライメントマークの位置の検出に要する時間を短縮することができる。

また、露光描画装置を用いて被露光基板に対して露光処理を行う際に、各々の被露光基板を識別するための識別用のマークを形成する方法が提案されている。例えば、特許文献２には、被露光基板の一端縁に沿って予め定められた約束に沿って整列する複数の識別用のマークを設ける方法が開示されている。この方法では、被露光基板の一端縁に溝を設けることにより識別用のマークが形成される。

特開２０１１−２２７３６３号公報 特開平４−８２６５０号公報

被露光基板に回路パターンを描画する際に、被露光基板に誤った回路パターンが描画されたり誤った露光条件で回路パターンが描画されたりすることによって不良品が発生することを防止するために、露光処理に際して各々の被露光基板を識別できることが望まれていた。

上記特許文献２に開示されている露光描画装置では、各々の被露光基板を識別することができるが、露光処理を行うために必要な構成とは別個に、識別用のマークを形成するための専用の装置が必要となる、という問題があった。露光描画装置に備えられている構成、例えば上記特許文献１に開示されているアライメント用のマーク等を利用して各々の被露光基板を識別できることが望ましい。

本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、露光処理を行う際に各々の被露光基板を簡易に識別できる露光描画装置、プログラム及び露光描画方法を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、請求項１記載の露光描画装置は、第１面及び該第１面に対向する第２面を有する被露光基板を露光することにより回路パターンを描画する露光手段と、前記被露光基板の予め定められた位置に露光位置の基準とする第１マークを形成すると共に、前記第１マークに対する相対位置を前記被露光基板毎に異ならせることにより該相対位置によって前記被露光基板を識別する識別情報を表す第２マークを形成するマーク形成手段と、前記被露光基板に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御する制御手段と、前記相対位置によって表される識別情報に対応させて前記露光に関する情報を記憶する記憶手段と、を具備している。

請求項１に記載の露光描画装置によれば、露光手段により、第１面及び該第１面に対向する第２面を有する被露光基板を露光することにより回路パターンが描画される。

ここで、本発明では、マーク形成手段により、前記被露光基板の前記第２面の予め定められた位置に露光位置の基準とする第１マークが形成されると共に、前記第１マークに対する相対位置を前記被露光基板毎に異ならせることにより該相対位置によって前記被露光基板を識別する識別情報を表す第２マークが形成され、制御手段により、前記被露光基板に回路パターンが描画されるように前記露光手段が制御され、記憶手段により、前記相対位置によって表される識別情報に対応させて前記露光に関する情報が記憶される。

このように、請求項１記載の露光描画装置によれば、第１面及び第２面に回路パターンが描画される被露光基板に対して、第１マーク及び第２マークを形成し、被露光基板の識別情報として第１マークに対する第２マークの相対位置を使用することで、露光処理を行う際に各々の被露光基板を簡易に識別できる。

なお、本発明は、請求項２に記載の発明のように、前記マーク形成手段によって形成された前記第１マーク及び前記第２マークの位置を検出する検出手段と、前記検出手段により検出された前記位置に基づいて前記第１マークに対する前記第２マークの相対位置を導出する導出手段とを備え、前記制御手段は、前記第１面に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御すると共に、前記記憶手段から前記導出手段により導出された相対位置で表される識別情報に対応する前記第１面の露光に関する情報を取得し、当該情報が前記第１面の露光が正常に行われたことを示している場合に、前記検出手段により検出された前記第１マークの位置に基づいて定まる前記第２面の露光位置に基づいて前記第２面に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御するようにしても良い。これにより、第２面を露光する際に、第１面の露光に関する情報に基づいて露光条件を決定することができる結果、誤った露光条件で露光されて不良品が発生することを防止できる。

また、本発明は、請求項３に記載の発明のように、前記マーク形成手段によって形成された前記第１マーク及び前記第２マークの位置を検出する検出手段と、前記検出手段により検出された前記位置に基づいて前記第１マークに対する前記第２マークの相対位置を導出する導出手段とを備え、前記制御手段は、前記第１面に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御すると共に、前記記憶手段から前記導出手段により導出された相対位置で表される識別情報に対応する前記第１面の露光に関する情報を取得し、当該情報が前記第１面の露光が正常に行われなかったことを示している場合に、前記第２面に回路パターンが描画されないように前記露光手段を制御するようにしても良い。これにより、第１面の露光が正常に行われていないに気付かずに第２面の露光を行ってしまうことが防止される。

また、本発明は、請求項４に記載の発明のように、前記露光に関する情報は、前記第１面の露光が正常に行われたか否かを示す情報、前記第１面の露光に関する情報に前記倍率の情報、前記第１面に描画された回路パターンを示す情報、及び前記被露光基板の露光順を示す情報の少なくとも一つを含んでいるようにしても良い。これにより、第１面の露光条件と第２面の露光条件とを対応させることができる結果、不良品の発生を防止することができる。

また、本発明は、請求項５に記載の発明のように、前記第１マーク及び前記第２マークを同一の形状とするようにしても良い。これにより、第１マークを形成する装置、または第１マークを形成する装置と同様の構成を有する装置を用いて、第１マーク及び第２マークを形成することができる。

また、本発明は、請求項６に記載の発明のように、前記検出手段は、前記第１マーク及び前記第２マークを撮影して得られた画像に基づいて前記第１マーク及び前記第２マークの位置を検出するようにしても良い。これにより、第１マーク及び第２マークの位置を簡易に検出することができる。

また、本発明は、請求項７に記載の発明のように、前記マーク形成手段は、前記被露光基板に紫外線ビームを照射することにより前記第１マーク及び前記第２マークを形成するようにしても良い。これにより、第１マーク及び第２マークを簡易に形成することができる。

また、本発明は、請求項８に記載の発明のように、前記マーク形成手段は、前記第２マークを異なる位置に複数形成するようにしても良い。これにより、被露光基板の識別可能な数を増やすことができる。

また、上記目的を達成するために、請求項９記載の露光描画装置は、第１面及び該第１面に対向する第２面の少なくとも一方の面に、露光位置の基準とする第１マークが予め定められた位置に形成され、前記第１マークに対する相対位置を前記被露光基板毎に異ならせることにより該相対位置によって前記被露光基板を識別する識別情報を表す第２マークが形成された被露光基板を露光することによりに回路パターンを描画する露光手段と、前記マーク形成手段によって形成された前記第１マーク及び第２マークの位置を検出する検出手段と、前記検出手段により検出された前記位置に基づいて前記第１マークに対する前記第２マークの相対位置を導出する導出手段と、前記検出手段によって検出された前記第１マークの位置に基づいて定まる前記第１面の露光位置に基づいて前記第１面に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御して、前記導出手段により導出された相対位置で表される識別情報に対応させて前記第１面の露光に関する情報を記憶手段に記憶させると共に、前記記憶手段から前記導出手段により導出された相対位置で表される識別情報に対応する前記第１面の露光に関する情報を取得し、当該情報に基づいて露光条件を決定して、前記検出手段によって検出された前記第１マークの位置に基づいて定まる前記第２面の露光位置に基づいて前記第２面に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御する制御手段と、を具備している。

請求項９に記載の露光描画装置によれば、第２面を露光する際に、第１面の露光に関する情報に基づいて露光条件を決定することができる結果、誤った露光条件で露光されて不良品が発生することを防止できる。

一方、上記目的を達成するために、請求項１０に記載のプログラムは、第１面及び該第１面に対向する第２面を有する被露光基板を露光することにより回路パターンを描画する露光手段を備えた露光描画装置において実行されるプログラムであって、コンピュータを、前記被露光基板の予め定められた位置に露光位置の基準とする第１マークを形成すると共に、前記第１マークに対する相対位置を前記被露光基板毎に異ならせることにより該相対位置によって前記被露光基板を識別する識別情報を表す第２マークを形成するマーク形成手段と、前記被露光基板に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御する制御手段と、前記相対位置によって表される識別情報に対応させて前記露光に関する情報を記憶する記憶手段と、として機能させる。

従って、請求項１０に記載のプログラムによれば、コンピュータを請求項１に記載の発明と同様に作用させることができるので、請求項１に記載の発明と同様に、露光処理を行う際に各々の被露光基板を簡易に識別できる。

なお、請求項１０に記載の発明は、請求項１１に記載の発明のように、コンピュータを、前記マーク形成手段によって形成された前記第１マーク及び前記第２マークの位置を検出する検出手段と、前記検出手段により検出された前記位置に基づいて前記第１マークに対する前記第２マークの相対位置を導出する導出手段と、としてさらに機能させ、前記制御手段は、前記第１面に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御し、前記第２面に前記第１マーク及び第２マークを形成するように前記マーク形成手段を制御すると共に、前記記憶手段から前記導出手段により導出された相対位置で表される識別情報に対応する前記第１面の露光に関する情報を取得し、当該情報に基づいて露光条件を決定して、前記検出手段により検出された前記第１マークの位置に基づいて定まる前記第２面の露光位置に基づいて前記第２面に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御するようにしても良い。これにより、請求項２に記載の発明と同様に、誤った露光条件で露光されて不良品が発生することを防止できる。

一方、上記目的を達成するために、請求項１２に記載の露光描画方法は、第１面及び該第１面に対向する第２面を有する被露光基板を露光することにより回路パターンを描画する露光手段を備えた露光描画装置における露光描画方法であって、前記被露光基板の前記第２面の予め定められた位置に露光位置の基準とする第１マークを形成すると共に、前記第１マークに対する相対位置を前記被露光基板毎に異ならせることにより該相対位置によって前記被露光基板を識別する識別情報を表す第２マークを形成するマーク形成ステップと、前記被露光基板の前記第１面に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御する第１制御ステップと、前記相対位置によって表される識別情報に対応させて前記第１面の露光に関する情報を記憶手段に記憶する記憶ステップと、を備えている。

従って、請求項１２に記載の露光描画方法によれば、請求項１に記載の発明と同様に作用するので、請求項１に記載の発明と同様に、露光処理を行う際に各々の被露光基板を簡易に識別できる。

なお、請求項１２に記載の発明は、請求項１３に記載の発明のように、前記マーク形成ステップによって形成された前記第１マーク及び前記第２マークの位置を検出する検出ステップと、前記検出ステップにより検出された前記位置に基づいて前記第１マークに対する前記第２マークの相対位置を導出する導出ステップと、前記記憶手段から前記導出手段により導出された相対位置で表される識別情報に対応する前記第１面の露光に関する情報を取得し、当該情報に基づいて露光条件を決定して、前記検出ステップにより検出された前記第１マークの位置に基づいて定まる前記第２面の露光位置に基づいて前記第２面に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御する第２制御ステップと、をさらに行うようにしても良い。これにより、請求項２に記載の発明と同様に、誤った露光条件で露光されて不良品が発生することを防止できる。

本発明によれば、露光処理を行う際に各々の被露光基板を簡易に識別できる、という効果を奏する。

実施形態に係る露光描画システムの全体の構成を示す構成図である。 実施形態に係る露光描画システムの機能を示すブロック図である。 （Ａ）は、第１実施形態に係る露光描画システムの被露光基板の表面に露光を行った場合の当該表面の一例を示す正面図であり、（Ｂ）は、第１実施形態に係る被露光基板の裏面に露光を行った場合の当該裏面の一例を示す正面図である。 実施形態に係る第１露光描画装置及び第２描画露光描画装置の構成を示す斜視図である。 実施形態に係る第１露光描画装置及び第２露光描画装置の紫外線光源について説明するための拡大断面図である。 実施形態に係る露光描画システムの反転装置における反転機構の構成を示す概略側正面図である。 実施形態に係る第１露光描画装置及び第２露光描画装置の電気系統を示す構成図である。 実施形態に係る露光描画システムにおいてステージの移動方向と撮影部の移動方向との関係を示す図である。 実施形態に係る露光描画システムの制御装置の電気系統の構成を示すブロック図である。 第１実施形態に係る露光描画システムによる露光処理を説明するための概略図である。 第１実施形態に係る露光前処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。 第１実施形態に係る露光前処理を説明するための概略正面図である。 第１実施形態に係る第１露光処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。 第１実施形態に係る第１露光処理を説明するための概略正面図である。 第１実施形態に係る露光描画システムにおける露光状態情報の一例を示す模式図である。 第１実施形態に係る第２露光処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。 第１実施形態に係る第２露光処理を説明するための概略正面図である。 第１実施形態に係る露光描画システムにおけるアライメント用のマーク及び識別用のマークの相対位置の一例を示す図である。 第１実施形態に係る露光描画システムにおけるアライメント用のマーク及び識別用のマークの相対位置の一例を示す図である。 第１実施形態に係る露光描画システムにおけるアライメント用のマーク（識別用のマーク）の相対位置の一例を示す図である。 （Ａ）は、第２実施形態に係る露光描画システムの被露光基板の表面に露光を行った場合の当該表面の一例を示す正面図であり、（Ｂ）は、第２実施形態に係る被露光基板の裏面に露光を行った場合の当該裏面の一例を示す正面図である。 第２実施形態に係る露光描画システムによる露光処理を説明するための概略図である。 第２実施形態に係る第１露光処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。 第２実施形態に係る第２露光処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。

〔第１実施形態〕
以下、本実施形態に係る露光描画システムについて添付図面を用いて詳細に説明する。なお、本実施形態では、露光描画システム１として、プリント配線基板及びフラットパネルディスプレイ用ガラス基板等の平板基板を被露光基板（後述する被露光基板Ｃ）として、被露光基板Ｃの主面である第１面（以下、「表面」ともいう。）Ｃ１、及び第１面Ｃ１と対向する主面である第２面（以下、「裏面」ともいう。）Ｃ２の双方に対して露光描画を行うシステムを例として説明する。

図１は、本実施形態に係る露光描画システム１の全体の構成を示す構成図である。また、図２は、本実施形態に係る露光描画システム１の機能を示すブロック図である。図１及び図２に示すように、露光描画システム１は、被露光基板Ｃの第１面Ｃ１に対して露光を行うとともに被露光基板Ｃの第２面Ｃ２にマーク（後述するアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２）を形成する第１露光描画装置２、被露光基板Ｃの表裏を反転する反転装置３、被露光基板Ｃの第２面Ｃ２に対して露光を行う第２露光描画装置４、被露光基板Ｃを第１露光描画装置２に搬送する第１搬送部５、被露光基板Ｃを第１露光描画装置２から反転装置３に搬送する第２搬送部６、被露光基板Ｃを反転装置３から第２露光描画装置４に搬送する第３搬送部７、被露光基板Ｃを第２露光描画装置４から搬送する第４搬送部８、及び、被露光基板Ｃの第１面Ｃ１と第２面Ｃ２との露光を相互に対応させるように制御する制御装置９を備えている。

図３（Ａ）は、第１実施形態に係る露光描画システム１において被露光基板Ｃの第１面Ｃ１に露光を行った場合の当該第１面Ｃ１の一例を示す正面図であり、図３（Ｂ）は、第１実施形態に係る露光描画システム１において被露光基板Ｃの第２面Ｃ２に露光を行った場合の当該第２面Ｃ２の一例を示す正面図である。

図３（Ａ）に示すように、被露光基板Ｃの第１面Ｃ１には、第１露光描画装置２により表面用画像（本実施形態では、「Ｆ」の形状の画像）Ｐ１が描画される。また、図３（Ｂ）に示すように、被露光基板Ｃの第２面Ｃ２には、第２露光描画装置４により裏面用画像（本実施形態では、上記第１面Ｃ１における「Ｆ」の形状の画像に対応する第２面Ｃ２の領域を囲う、矩形の枠の形状の画像）Ｐ２が、第１面Ｃ１の表面用画像Ｐ１が描画される座標系（以下、「画像座標系」という。）に対応する画像座標系で描画される。

また、被露光基板Ｃの第２面Ｃ２には、正面視上部中央側及び正面視下部中央側に、第１露光描画装置２により複数（本実施形態では、２つ）のアライメント用のマークＭ１がそれぞれ異なる位置に描画される。このアライメント用のマークＭ１は、被露光基板Ｃの第１面Ｃ１及び第２面Ｃ２にそれぞれ描画される表面用画像Ｐ１の位置と裏面用画像Ｐ２の位置とを相互に対応させるためのマークである。被露光基板Ｃには、位置を特定するために２つ以上のアライメント用のマークＭ１が描画される。

また、第２面Ｃ２には、正面視左部中央側及び正面視右部中央側に、第１露光描画装置２により複数（本実施形態では、２つ）の識別用のマークＭ２がそれぞれ異なる位置に描画される。この識別用のマークＭ２は、アライメント用のマークＭ１に対する相対位置を被露光基板Ｃ毎に異ならせることによってその相対位置によって被露光基板Ｃを識別する識別情報を表すマークである。被露光基板Ｃには、当該被露光基板を識別するために１つ以上の識別用のマークＭ２が描画される。

本実施形態に係る露光描画システム１において、被露光基板Ｃの搬送方向の上流側に、第１露光描画装置２が設けられている。第１露光描画装置２は、第１搬送部５により搬送された未露光の被露光基板Ｃが装置内に搬入されると、上述したように、被露光基板Ｃの第１面Ｃ１に対して露光を行い表面用画像Ｐ１を描画するとともに被露光基板Ｃの第２面Ｃ２にアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２を形成する。

本実施形態に係る露光描画システム１では、アライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２は、同一形状、具体的にφ０．５ｍｍからφ１ｍｍ程度の円形で描画されるが、サイズや形状はこれに限定されず、大きさは表面用画像Ｐ１及び裏面用画像Ｐ２の描画と重ならないサイズであればよく、形状は、十字型の形状や矩形型の形状等、任意に設定されて良い。

また、アライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２は同一サイズ、同一形状でなくても良いが、同一サイズ、同一形状とすることで、同一の構成（本実施形態では、紫外線光源２４）を用いてアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２のそれぞれを簡易に描画することができる。また、アライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２を同一サイズ、同一形状とすることで、同様の手法（本実施形態では、撮影部２３により撮影する手法）で位置を検出することができる。

また、第１露光描画装置２は、紫外線光源２４の位置によってアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の位置を計測し、アライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置と、第１面Ｃ１の露光に関する情報と対応付けて制御装置９の記憶装置（後述する記憶部４１）に記憶させる。

第１露光描画装置２の被露光基板Ｃの搬送方向の下流側には、被露光基板Ｃの表裏を反転する反転装置３が設けられている。反転装置３は、第１露光描画装置２により第１面Ｃ１が露光されかつアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２が描画された被露光基板Ｃが搬入されると、次のプロセスで被露光基板Ｃの第２面Ｃ２に露光を行うために、被露光基板Ｃの表裏を反転させる。

反転装置３の被露光基板Ｃの搬送方向の下流側には、被露光基板Ｃの第２面Ｃ２に対して露光を行う第２露光描画装置４が設けられている。第２露光描画装置４は、反転装置３により反転された被露光基板Ｃが装置内に搬入されると、被露光基板Ｃの第２面Ｃ２に対して露光を行い裏面用画像Ｐ２を描画する。この際、第２露光描画装置４は、第１露光描画装置２により被露光基板Ｃに描画されたアライメント用のマークＭ１を用いて位置合わせを行った上で第２面Ｃ２に対して露光を行う。また、第２露光描画装置４は、アライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の位置を検出して、制御装置９から、アライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置に対応付けられた第１面の露光に関する情報を取得し、取得した情報に基づいて露光条件を決定して第２面Ｃ２の露光を行う。

また、本実施形態に係る露光描画システム１は、第１露光描画装置２まで被露光基板Ｃを搬送して第１露光描画装置２に搬入するする第１搬送装置５、第１露光描画装置２から排出された被露光基板Ｃを反転装置３まで搬送して反転装置３に搬入する第２搬送装置６、反転装置３から排出された被露光基板Ｃを第２露光描画装置４まで搬送して第２露光描画装置４に搬送する第３搬送装置７、及び、第２露光描画装置４から排出された被露光基板Ｃを搬送する第４搬送装置８を備えている。

上記各搬送装置は、複数の回転ローラと回転ローラを回転する駆動モータとを有している。回転ローラは複数本が平行に敷設され、回転ローラの一端にはベルト又はワイヤーによって伝達される回転力を受けるスプロケット又は滑車が取り付けられる。回転ローラを回転する駆動モータの回転力を伝達する手段としては、ベルト又はワイヤー以外に円筒状のマグネットによる伝達方法も採用できる。

また、露光描画システム１には、第１露光描画装置２による第１面Ｃ１の露光と、第２露光描画装置４による第２面Ｃ２の露光とをそれぞれ対応させるように制御する制御装置９が設けられている。

なお、本実施形態では、被露光基板Ｃのスループット（時間当たりの生産量）を高めるために、第１露光描画装置２及び第２露光描画装置４の２台の露光描画装置を用いて第１露光描画装置２が被露光基板Ｃの第１面Ｃ１を露光し第２露光描画装置４が被露光基板Ｃの第２面Ｃ２を露光するが、これに限定されず、被露光基板Ｃを第１面Ｃ１から第２面Ｃ２へと反転する反転装置３を使って第１露光描画装置２のみで被露光基板Ｃの両面を描画することも可能である。

次に、第１露光描画装置２及び第２露光描画装置４の構成について説明する。

図４は、本実施形態に係る第１露光描画装置２及び第２描画露光描画装置４の構成を示す斜視図である。ここでは、第１露光描画装置２の構成について説明し、第２露光描画装置４の構成に関しては、第１露光描画装置２と共通する構成については説明を省略し、第１露光描画装置２との差異についてのみ説明する。また、以下では、ステージ１０が移動する方向をＹ方向と定め、このＹ方向に対して水平面内で直交する方向をＸ方向と定め、Ｙ方向に鉛直面内で直交する方向をＺ方向と定め、さらにＺ軸を中心として時計回りに回転する回転方向をθ方向と定める。

図４に示すように、第１露光描画装置２は、被露光基板Ｃを固定するための平板状のステージ１０を備えている。ステージ１０は移動可能に構成されていて、ステージ１０に固定された被露光基板Ｃは、ステージ１０の移動に伴って被露光基板Ｃを露光位置まで移動し、後述する露光部１６により光ビームを照射されて回路パターン等の画像が描画される。

ステージ１０は、卓状の基体１１の上面に移動可能に設けられた平板状の基台１２に支持されている。また、基台１２とステージ１０との間にモータ等により構成された移動駆動機構（図示省略）を有する移動機構部１３が設けられていて、ステージ１０は、移動機構部１３により、基台１２に対して、ステージ１０に載置された被露光基板Ｃの高さ方向（Ｚ方向）に平行移動する。

基体１１の上面には、１本または複数本（本実施形態では、２本）のガイドレール１４が設けられている。基台１２は、ガードレール１４により往復自在に移動可能に支持されていて、モータ等により構成されたステージ駆動部（後述するステージ駆動部７１）により移動する。そして、ステージ１０は、この移動可能な基台１２の上面に支持されることにより、ガイドレール１４に沿って移動する。

基体１１の上面には、ガイドレール１４を跨ぐように門型のゲート１５が立設されており、このゲート１５には、露光部１６が取り付けられている。露光部１６は、複数個（本実施形態では、１６個）の露光ヘッド１６ａで構成されていて、ステージ１０の移動経路上に固定配置されている。露光部１６には、光源ユニット１７から引き出された光ファイバ１８と、画像処理ユニット１９から引き出された信号ケーブル２０とがそれぞれ接続されている。

各露光ヘッド１７は、反射型の空間光変調素子としてのデジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有し、画像処理ユニット１９から入力される画像データに基づいてＤＭＤを制御して光源ユニット１７からの光ビームを変調し、この光ビームを被露光基板Ｃに照射することにより、第１露光描画装置２による露光が行われる。なお、空間光変調素子として、液晶等の透過型の空間光変調素子を用いても良い。

基体１１の上面には、さらにガイドレール１４を跨ぐように、ゲート２２が設けられている。ゲート２２には、ステージ１０に載置された被露光基板Ｃを撮影するための１個または複数個（本実施形態では、３個）の撮像部２３が取り付けられている。撮影部２３は、１回の発光時間が極めて短いストロボを内蔵したＣＣＤカメラ等である。各々の撮影部２３は、水平面内においてステージ１０の移動方向（Ｙ方向）に対して垂直な方向（Ｘ方向）に移動可能に設置されている。

第１露光描画装置２は、撮影部２３による撮影画像に基づいてアライメント用のマークＭ１の位置を検出し、検出した位置に基づいて表面用画像Ｐ１の第１面Ｃ１に対する露光位置を調整する。

一方、第２露光描画装置４は、撮影部２３による撮影画像に基づいてアライメント用のマークＭ１の位置を検出し、検出した位置に基づいて裏面用画像Ｐ２の第２面Ｃ２に対する露光位置を調整する。また、第２露光描画装置４は、撮影部２３により識別用のマークＭ２が撮影された画像からアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の位置を検出するとともにアライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置を導出し、導出した相対位置に基づいて各々の被露光基板Ｃを識別する。

なお、撮影部２３は、アライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の総数に応じた個数で設けられることが理想的であるが、これに限定されず、１つの撮影部２３が設けられるとともに、この撮影部２３を移動させることにより複数のアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２を連続的に撮影するようにしても良い。

図５は、本実施形態に係る第１露光描画装置２及び第２露光描画装置４の紫外線光源２４について説明するための拡大断面図である。図５に示すように、移動機構部１３には、被露光基板Ｃに対してアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２を描画するための複数（本実施形態では、４つ）紫外線光源２４が設けられている。複数の紫外線光源２４は、水平面上において平行移動するモータ等により構成された移動機構２４ａを有していて、移動機構２４ａにより水平面上において平行移動する。

一方、ステージ１０には、各辺において、外周側から内周側に向かって伸びたスリット状の挿通孔２５が設けられている。紫外線光源２４から発生した紫外線ビームＵＶは、挿通孔２５を通過した後に被露光基板Ｃに照射される。これにより、被露光基板Ｃのステージ１０に接している側の面にアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２が描画される。紫外線ビームＵＶの照射時間は、被露光基板Ｃに塗布されている感光材料に応じて各々最適な時間が設定されると良い。

なお、第１露光描画装置２は複数の紫外線光源２４を備えているが、第２露光描画装置４は必ずしも紫外線光源２４を備えている必要はない。また、第１露光描画装置２には、複数の紫外線光源２４が設けられるが、これに限定されず、１つの紫外線光源２４が設けられ、この１つの紫外線光源２４を移動機構１３の全体において移動可能に構成することにより、単一の紫外線光源２４を用いて、アライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の双方を含んだ全てのマークを描画するようにしても良い。

第１露光描画装置２では、このように同一の構成の紫外線光源２４を用いてアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の双方を描画することができるため、新たな構成を追加することなく被露光基板Ｃを識別することができる。

第１露光描画装置２は、第１搬送装置５により搬送されてきた被露光基板Ｃを第１露光描画装置２の内部に搬入するオートキャリアハンド（以下、ＡＣハンド）２６を備えている。ＡＣハンド２６は平板状に形成されるとともに、水平面と平行に水平方向及び鉛直方向に移動可能に設けられている。また、ＡＣハンド２６の下面には、エアを吸引することにより被露光基板Ｃを真空吸着により吸着保持する吸着部２７を有する吸着機構と、被露光基板Ｃを下方に向けて押し付ける上下移動自在な押付部２８を有する押付機構とが設けられている。ＡＣハンド２６は、第１搬送装置５に載置された未露光の被露光基板Ｃを吸着機構により吸着保持することにより上方に吊り上げ、吊り上げた被露光基板Ｃをステージ１０の上面の予め定められた位置に載置する。被露光基板Ｃを載置させる際には、押付機構により被露光基板Ｃをステージ１０に押し付けながら吸着部６３による吸着を解除することにより、ステージ１０の真空吸着が働き、被露光基板Ｃはステージ１０にしっかり固定される。

また、ＡＣハンド２６は、ステージ１０の上面に載置された露光済みの被露光基板Ｃを吸着機構により吸着保持することにより上方に吊り上げ、吊り上げた被露光基板Ｃを吸着保持した状態で第２搬送装置６まで移動させた上で、吸着機構による吸着を解除することにより、被露光基板Ｃを第２搬送装置６に移動させる。

図６は、本実施形態に係る露光描画システム１の反転装置３における反転機構の構成を示す概略側正面図である。図６に示すように、反転装置３は、被露光基板Ｃを挟み込む複数のローラ３ａを有するローラユニット３ｂを備えている。ローラユニット３ｂは、支持棒４ｃにより支持されていて、被露光基板Ｃが挟み込まれた際、支持棒４ｃにより持ち上げられた状態でローラユニット３ｂの中央部に設けられた回転軸３ｄを中心として回転する。ローラユニット３ｂが１８０度回転した後に、被露光基板Ｃがローラユニット３ｂから解放されることにより、被露光基板Ｃの表裏が反転する。なお、反転機構の構成は上述した構成に限定されず、被露光基板Ｃの一端を持ち上げて被露光基板Ｃを１８０度回転させて被露光基板Ｃの表裏を反転させる方法や、その他の従来既知の方法を用いても良い。

図７は、本実施形態に係る第１露光描画装置２及び第２露光描画装置４の電気系統を示す構成図である。

図７に示すように、第１露光描画装置２及び第２露光描画装置４には、装置各部にそれぞれ電気的に接続されるシステム制御部３０が設けられており、このシステム制御部３０が各部を統括的に制御している。システム制御部３０は、ＡＣハンド２６を制御して被露光基板Ｃのステージ１０への搬入動作及び排出動作を行わせる。また、システム制御部３０は、ステージ駆動部３１を制御してステージ１０の移動を行わせながら、紫外線光源２４の移動を駆動して被露光基板Ｃにアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２を描画させ、あるいは撮影部２３の移動を駆動してアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の撮影を行うとともに、光源ユニット１７及び画像処理ユニット１９を制御して露光ヘッド１６ａに露光処理を行わせる。

操作装置３２は、システム制御部３０の制御により情報を表示する表示部と、ユーザ操作により受け付けられた情報をシステム制御部３０に入力する入力部とを有する。

移動制御部３３は、システム制御部３０の制御により、ステージ１０の移動時に被露光基板Ｃに描画された複数のアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の各々が、複数の撮影部２３の各々の撮影領域の中央を通過するように、撮影部２３の移動駆動を制御している。また、移動制御部３３は、システム制御部３０の制御により移動機構２４ａを駆動して、各々の紫外線光源２４をシステム制御部３０により指示された位置まで位置させる。

図８は、本実施形態に係る露光描画システム１においてステージ１０の移動方向と撮影部２３の移動方向との関係を示す図である。図８に示すように、撮影部２３の移動方向は、水平面内においてステージ１０の移動方向（Ｘ方向）に対して垂直な方向（Ｙ方向）である。被露光基板Ｃに描画されたアライメント用のマークＭ１及び識別用マークＭ２を撮影部２３で撮影する際に、ステージ１０を移動させることによりＸ方向の位置を調整し、撮影部２３を移動させることによりＹ方向の位置を調整することで、アライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２が撮影部２３の撮影領域に含まれるようにステージ１０及び撮影部２３の相対位置が制御される。

図９は、第１実施形態に係る露光描画システム１の制御装置９の電気系統の構成を示すブロック図である。図９に示すように、制御装置９は、露光描画システム１における露光処理を制御する制御部４０、制御部４０による露光処理に必要な露光処理プログラムや各種データを記憶するＲＯＭ及びＨＤＤ等を有する記憶部４１、制御部４０の制御に基づいてデータを表示するディスプレイ等の表示部４２、ユーザ操作によりデータを入力するキーボード等の入力部４３、及び、制御部４０の制御に基づいて第１露光描画装置２及び第２露光描画装置４に対するデータの送受信を行う通信インタフェース４４を備えている。

ここで、第１実施形態に係る露光描画システム１では、被露光基板Ｃの第１面Ｃ１に露光した後に第２面Ｃ２に露光する際に、第１面Ｃ１の露光の際の露光状態に対応させて第２面Ｃ２の露光を行う機能を備えている。

図１０は、第１実施形態に係る露光描画システム１による露光処理を説明するための概略図である。図１０に示すように、露光描画システム１は、第１面Ｃ１に対する露光処理時に、第２面Ｃ２にアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２を形成するとともに、第１面Ｃ１に表面用画像Ｐ１を描画する。また、露光描画システム１は、被露光基板Ｃの識別情報とするアライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置を、第１面Ｃ１の露光に関する情報とをそれぞれ対応付けて、制御装置９の記憶部４１に記憶させる。

次に、露光描画システム１は、第２面Ｃ２に対する露光処理時に、第２面Ｃ２に形成されたアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の位置を検出し、アライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置に対応する第１面Ｃ１の露光に関する情報を取得する。また、露光描画システム１は、第１面Ｃ１に描画された表面用画像Ｐ１に対して位置が対応するように、アライメント用のマークＭ１の位置に基づいて描画位置を決定するとともに、第１面Ｃ１の露光に関する情報に基づいて露光条件を決定して、第２面Ｃ２に裏面用画像Ｐ２を描画する。

ここで、本実施形態に係る露光描画システム１による処理の流れを、露光前処理、第１面Ｃ１の第１露光処理、及び第２面Ｃ２の第２露光処理に分けて説明する。

図１１は、本実施形態に係る露光前処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートであり、当該プログラムは第１露光描画装置２のシステム制御部３０に備えられた記録媒体であるＲＯＭの所定領域に予め記憶されている。また、図１２は、本実施形態に係る露光前処理を説明するための概略正面図である

第１露光描画装置２のシステム制御部３０は、予め定められたタイミング（本実施形態では、被露光基板Ｃがステージ１０に載置されたタイミング）で、当該露光前処理プログラムを実行する。

被露光基板Ｃがステージ１０に載置されると、ステップＳ１０１において、システム制御部３０は、紫外線光源２４の各々の位置を設定する。図１２に示すように、本実施形態では、アライメント用のマークＭ１を形成する紫外線光源２４が被露光基板Ｃの第１面Ｃ１の正面視上下方向の端部に、識別用のマークＭ２を形成する紫外線光源２４が第１面Ｃ１の正面視左右方向の端部にそれぞれ位置するように設定される。なお、この際、アライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置が被露光基板Ｃの識別情報として使用されるため、紫外線光源２４の移動精度及び撮影部２３の移動精度や撮影精度を考慮した上で当該相対位置が被露光基板Ｃ毎に固有になるように、紫外線光源２４の各々の位置が設定される。

ステップＳ１０３において、システム制御部３０は、ステップＳ１０１にて設定された位置に、紫外線光源２４の各々を移動させる。また、ステップＳ１０５において、システム制御部３０は、撮影部２３による撮影位置にステージ１０を移動させる。この際、システム制御部３０は、ステージ１０をガイドレール１４に沿ってＹ方向に移動させるとともに、撮影部２３による撮影領域に紫外線光源２４が含まれる位置にステージ１０を移動させて停止する。

ステップＳ１０７において、システム制御部３０は、紫外線光源２４の位置を計測する。この際、システム制御部３０は、撮影部２３の各々の撮影領域に紫外線光源２４の各々が含まれる位置に撮影部２３を移動させて被露光基板Ｃの第１面Ｃ１を撮影させ、撮影部２３から撮影画像を取得する。システム制御部３０は、取得した撮影画像から、撮影部２３の各々の位置を計測して、露光前処理プログラムを終了する。図１３に示すように、露光前処理の段階では、ステージ座標系において予め定められた位置に各々の紫外線光源２４が配置される。

第１露光描画装置２のシステム制御部３０は、露光前処理が完了したタイミングで、第１露光処理を実行する。図１３は、本実施形態に係る第１露光処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートであり、当該プログラムは第１露光描画装置２のシステム制御部３０に備えられた記録媒体であるＲＯＭの所定領域に予め記憶されている。また、図１４は、本実施形態に係る第１露光処理を説明するための概略正面図である。

ステップＳ２０１において、システム制御部３０は、被露光基板Ｃに対する露光位置にステージ１０を移動させる。この際、システム制御部３０は、ステージ１０をガイドレール１４に沿ってＹ方向に移動させるとともに、露光ヘッド１６ａによる露光対象位置が、被露光基板Ｃにおいて表面用画像Ｐ１を描画する際の開始位置と一致する位置までステージ１０を移動させて停止させる。

ステップＳ２０３において、システム制御部３０は、各露光ヘッド１６ａによる露光を開始し、被露光基板Ｃの第１面Ｃ１に表面用画像Ｐ１を描画する。また、ステップＳ２０５において、システム制御部２０は、紫外線光源２４から紫外線ビームＵＶを発生させ、被露光基板Ｃの第２面Ｃ２にアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２を描画する。なお、ステップ２０３の被露光基板Ｃの第１面Ｃ１に対する処理とステップＳ２０５の被露光基板Ｃの第２面Ｃ２に対する処理は、相互の処理を妨げるものではなく、同時並行して行うことができるため、ステップＳ２０３及びステップＳ２０５の処理を同時に行っても良く、あるいは、ステップＳ２０３の処理の前にステップＳ２０５の処理を行っても良い。図１４に示すように、被露光基板Ｃの第１面Ｃ１に表面用画像Ｐ１が描画され、第２面Ｃ２にアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２が描画される。

このように、被露光基板Ｃの第１面Ｃ１に表面用画像Ｐ１を描画するのに際して、第２面Ｃ２にアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２を描画することにより、アライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２を描画する処理を別途行う必要がない。これにより、露光描画処理のサイクルタイムに影響を及ぼすことなく、アライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の焼き出しのホールディングタイムを長く確保して撮影画像におけるアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２のコントラストを向上させることができる。

なお、アライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２は、紫外線ビームＵＶを照射されて焼き出されることにより被露光基板Ｃにおいて視認可能に表示されるため、撮影部２３で撮影することにより、描画後即座にその位置や形状を確認することができる。

ステップＳ２０７において、システム制御部３０は、ステップＳ１０７において計測された紫外線光源２４の位置と、ステップＳ２０３における表面用画像Ｐ１の描画位置との位置関係を制御装置９の記憶部４１に記憶させる。

また、ステップＳ２０９において、ステップＳ１０７において計測された紫外線光源２４の位置関係から、アライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置を導出してこの相対位置を被露光基板Ｃの識別情報とし、ステップＳ２０３における描画の際の第１面Ｃ１の露光に関する情報を識別情報に対応付けて、露光状態情報５０として制御装置９の記憶部４１に記憶させる。

図１５は、第１実施形態に係る露光描画システム１における露光状態情報５０の一例を示す模式図である。図１５に示すように、本実施形態では、露光状態情報５０において、アライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置を示す識別情報５１に対して、第１面Ｃ１に露光された画像を示す画像情報５１、第１面Ｃ１に露光された画像の倍率を示す倍率情報５２、第１面Ｃ１の露光に成功したか失敗したかを示す結果情報５３、及び被露光基板Ｃの露光順を示す番号を示す番号情報５４等が対応付けられた情報である。露光状態情報５０は、第２面Ｃ２の露光時に参照される。なお、アライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置は、アライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の位置ベクトルで表される。

ステップＳ２１１において、システム制御部３０は、被露光基板Ｃの載置位置までステージ１０を移動させて、第１露光処理プログラムを終了する。ステージ１０が被露光基板Ｃの載置位置まで移動すると、被露光基板Ｃは、ＡＣハンド２６に吸着保持されることにより第２搬送装置６に移動し、第２搬送装置６により反転装置３に搬送され、反転装置３により表裏が反転された上で第３搬送装置７により第２露光描画装置４に搬送される。

第２露光描画装置４のシステム制御部３０は、予め定められたタイミング（本実施形態では、被露光基板Ｃがステージ１０に載置されたタイミング）で、第２露光処理プログラムを実行する。

図１６は、本実施形態に係る第２露光処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートであり、当該プログラムは第２露光描画装置４のシステム制御部３０に備えられた記録媒体であるＲＯＭの所定領域に予め記憶されている。また、図１７は、本実施形態に係る第２露光処理を説明するための概略正面図である。

ステップＳ３０１において、システム制御部３０は、被露光基板Ｃが載置されたステージ１０を、ステップＳ２０７において描画されたアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の各々が、撮像装置２３の各々の撮像領域に含まれる位置に移動させる。この際、システム制御部３０は、ステージ１０をガイドレール１４に沿ってＹ方向に移動させて停止させる。なお、撮影部２３による撮影領域は、被露光基板Ｃの第２面Ｃ２において描画されるアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２が全て含まれる大きさに被露光基板Ｃの設置誤差を含めた領域より大きいものとする。これにより、被露光基板Ｃの設置位置が予め設定されている設置位置に対してずれた場合であっても、アライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の全体が領域撮影部２３の撮影領域に含まれ、アライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の位置を計測できる。

ステップＳ３０３において、システム制御部３０は、撮像部２３によりアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２が撮像されている撮像画像から、アライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の位置を計測する。また、ステップＳ３０５において、システム制御部３０は、ステップＳ３０３において計測されたアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の位置から、アライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置を導出する。

ステップＳ３０７において、システム制御部３０は、ステップＳ３０３において計測されたアライメント用のマークＭ１の位置と、ステップＳ２０７において記憶された紫外線光源２４の位置と表面用画像Ｐ１の描画位置との位置関係とに基づいて、被露光基板Ｃの第２面Ｃ２に対して裏面用画像Ｐ２を描画する位置を決定するための画像座標系を設定する。図１７に示すように、第２露光処理の段階では、第１面Ｃ１に露光を行う際に第２面Ｃ２に描画されたアライメント用のマークＭ１の位置に基づいて画像座標系が設定されるため、ステージ座標系と画像座標系との相対位置が第１露光処理の段階とは異なっている場合もある。

ステップＳ３０９において、システム制御部３０は、ステップＳ３０７において設定された画像座標系に基づいて、被露光基板Ｃに対する露光位置にステージ１０を移動させる。この際、システム制御部３０は、ステージ１０をガイドレール１４に沿ってＹ方向に移動させるとともに、露光ヘッド１６ａによる露光対象位置が、被露光基板Ｃにおいて裏面用画像Ｐ２を描画する際の開始位置と一致する位置までステージ１０を移動させて停止させる。

ステップＳ３１１において、システム制御部３０は、露光状態情報５０から、ステップＳ３０５において導出されたアライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置に対応する第１面Ｃ１の露光に関する情報を取得する。

ステップＳ３１３において、システム制御部３０は、ステップＳ３１１において取得した第１面Ｃ１の露光に関する情報に対応するようにして、各露光ヘッド１６ａによる露光を開始し、被露光基板Ｃの第２面Ｃ２に裏面用画像Ｐ２を描画する。図１７に示すように、画像座標系に基づいて、被露光基板Ｃの第２面Ｃ２に裏面用画像Ｐ２が描画される。この際、第１面Ｃ１の露光に関する情報に基づいて、露光順が誤っていないこと、第１面Ｃ１の露光に成功していること等が判定された上で、描画される回路パターン、描画される回路パターンの倍率等が決定される。第１面Ｃ１の露光に関する情報に含まれる露光順を示す情報を被露光基板Ｃに描画しても良い。また、システム制御部３０は、露光順が誤っている場合には、制御装置９の表示部４２にその旨を表示させる等の警告処理を行っても良い。さらに、第１面Ｃ１の露光に失敗している場合には、第２面Ｃ２の露光を行わずにその被露光基板Ｃを第２露光描画装置４の外部に排出するようにしても良い。

ステップＳ３１５において、システム制御部３０は、被露光基板Ｃの載置位置までステージ１０を移動させて、第２露光処理プログラムを終了する。ステージ１０が被露光基板Ｃの載置位置まで移動すると、第１面Ｃ１及び第２面Ｃ２の両面に回路パターン等の画像が描画された被露光基板Ｃは、ＡＣハンド２６に吸着保持されることにより第４搬送装置８に移動し、第４搬送装置８により搬送される。

このようにして、本実施形態に係る露光描画システム１では、露光処理を行う際に、アライメント用のマークＭ１を形成する紫外線光源２４と同一の紫外線光源２４、または同一の構成を有する紫外線光源２４を用いて、被露光基板Ｃの各々を識別するための識別用のマークＭ２を簡易に形成するとともに、アライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置を識別情報とすることで、被露光基板Ｃの各々の簡易に識別することができる。

なお、第１実施形態に係る露光描画システム１では、アライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置を、アライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の位置ベクトルとしているが、これに限定されない。

図１８は、第１実施形態に係る露光描画システム１におけるアライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置の一例を示す図である。図１８に示すように、アライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の相互間距離をそれぞれ導出して、導出した相互間距離を相対位置としても良い。

また、第１実施形態に係る露光描画システム１では、２個の識別用のマークＭ２を描画するが、これに限定されず、単数の識別用のマークＭ２を描画しても良く、あるいは、３個以上の識別用のマークＭ２を描画しても良い。描画される識別用のマークＭ２の個数が多いほど、アライメント用のマークＭ１に対する相対距離の種類が増えるため、識別可能な被露光基板Ｃの数を増やすことができる。

図１９は、第１実施形態に係る露光描画システム１におけるアライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置の一例を示す図である。図１９に示すように、各々のアライメント用のマークＭ１から単一の識別用のマークＭ２までの相互間距離、または各々のアライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の位置ベクトルを導出して、相対位置としても良い。

また、第１実施形態に係る露光描画システム１では、アライメント用のマークＭ１とは別個に識別用のマークＭ２を描画するが、これに限定されず、識別用のマークＭ２を描画せずに、アライメント用のマークＭ１を位置合わせ用及び識別用の双方に用いても良い。この場合には、アライメント用のマークＭ１の何れかが識別用のマークＭ２として機能する。アライメント用のマークＭ１の位置を変更する際に、描画される回路パターン等の画像の位置が変更されないようにして（例えば、複数のアライメント用のマークＭ１を結んだ線が同一線上となり、かつ中点が同一となるようにして）変更する。

図２０は、第１実施形態に係る露光描画システム１におけるアライメント用のマークＭ１（識別用のマーク）の相対位置の一例を示す図である。図２０に示すように、アライメント用のマークＭ１を第１面Ｃ１及び第２面Ｃ２の位置合わせに用いる他に、複数のアライメント用のマークＭ１の相互間距離を導出して、導出した相互間距離を相対位置としても良い。この場合には、識別用のマークＭ２を描画する処理を省略することができる。

〔第２実施形態〕
以下、第２実施形態に係る露光描画システム１について添付図面を用いて詳細に説明する。第２実施形態に係る露光描画システム１は、第１実施形態に係る露光描画システム１と同様に図１、図４乃至図９に示す構成を有している。なお、第１実施形態と同一の構成には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。

第２実施形態に係る露光描画システム１では、第１実施形態と同様に、被露光基板Ｃの第１面Ｃ１に露光した後に第２面Ｃ２に露光する際に、第１面Ｃ１の露光の際の露光状態に対応させて第２面Ｃ２の露光を行う機能を備えている。

図２１（Ａ）は、第２実施形態に係る露光描画システム１において被露光基板Ｃの第１面Ｃ１に露光を行った場合の当該第１面Ｃ１の一例を示す正面図であり、図２１（Ｂ）は、第２実施形態に係る露光描画システム１において被露光基板Ｃの第２面Ｃ２に露光を行った場合の当該第２面Ｃ２の一例を示す正面図である。

図２１（Ａ）に示すように、被露光基板Ｃの第１面Ｃ１には、第１露光描画装置２により表面用画像Ｐ１が描画される。また、図２１（Ｂ）に示すように、被露光基板Ｃの第２面Ｃ２には、第２露光描画装置４により裏面用画像Ｐ２が、第１面Ｃ１の表面用画像Ｐ１が描画される座標系（以下、「画像座標系」という。）に対応する画像座標系で描画される。また、被露光基板Ｃの第１面Ｃ１及び第２面Ｃ２には、正面視上部中央側及び正面視下部中央側に、第１露光描画装置２により複数（本実施形態では、２つ）のアライメント用のマークＭ１が予め描画されており、第１面Ｃ１及び第２面Ｃ２には、正面視左部中央側及び正面視右部中央側に、第１露光描画装置２により複数（本実施形態では、２つ）の識別用のマークＭ２が予め描画されている。

図２２は、第２実施形態に係る露光描画システム１による露光処理を説明するための概略図である。図２２に示すように、露光描画システム１は、第１面Ｃ１に対する露光処理時に、第１面Ｃ１に形成されたアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の位置を検出して、検出した位置に基づいて位置合わせを行った上で第１面Ｃ１に表面用画像Ｐ１を描画する。また、露光描画システム１は、被露光基板Ｃの識別情報とするアライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置を、第１面Ｃ１の露光処理時の露光状態とをそれぞれ対応付けて、制御装置９の記憶部４１に記憶させる。

次に、露光描画システム１は、第２面Ｃ２に対する露光処理時に、第２面Ｃ２に形成されたアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の位置を検出し、アライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置に対応する第１面Ｃ２の露光に関する情報を取得する。また、露光描画システム１は、第１面Ｃ１に描画された表面用画像Ｐ１の描画位置と対応するように、アライメント用のマークＭ１の位置に基づいて描画位置を決定するとともに、第１面Ｃ１の露光に関する情報に基づいて第２面Ｃ２の露光条件を決定して、第２面Ｃ２に裏面用画像Ｐ２を描画する。

ここで、第２実施形態に係る露光描画システム１による露光処理の流れを説明する。

第１露光描画装置２のシステム制御部３０は、予め定められたタイミング（本実施形態では、被露光基板Ｃがステージ１０に載置されたタイミング）で、露光処理を実行する。図２３は、本実施形態に係る露光処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートであり、当該プログラムは第１露光描画装置２のシステム制御部３０に備えられた記録媒体であるＲＯＭの所定領域に予め記憶されている。

ステップＳ４０１において、システム制御部３０は、被露光基板Ｃが載置されたステージ１０を、被露光基板Ｃの第１面Ｃ１に予め描画されたアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の各々が、撮像装置２３の各々の撮像領域に含まれる位置に移動させる。この際、システム制御部３０は、ステージ１０をガイドレール１４に沿ってＹ方向に移動させて停止させる。

ステップＳ４０３において、システム制御部３０は、撮像部２３によりアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２が撮像されている撮像画像から、アライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の位置を計測する。また、ステップＳ４０５において、システム制御部３０は、ステップＳ４０３において計測されたアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の位置から、アライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置を導出する。

ステップＳ４０７において、システム制御部３０は、ステップＳ４０３において計測されたアライメント用のマークＭ１の位置に基づいて、被露光基板Ｃの第１面Ｃ１に対して表面用画像Ｐ１を描画する位置を決定するための画像座標系を設定する。

ステップＳ４０９において、システム制御部３０は、ステップＳ４０７において設定された画像座標系に基づいて、被露光基板Ｃに対する露光位置にステージ１０を移動させる。この際、システム制御部３０は、ステージ１０をガイドレール１４に沿ってＹ方向に移動させるとともに、露光ヘッド１６ａによる露光対象位置が、被露光基板Ｃにおいて裏面用画像Ｐ２を描画する際の開始位置と一致する位置までステージ１０を移動させて停止させる。

ステップＳ４１１において、システム制御部３０は、各露光ヘッド１６ａによる露光を開始し、被露光基板Ｃの第１面Ｃ１に表面用画像Ｐ１を描画する。

また、ステップＳ４１３において、ステップＳ４０５において導出されたアライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置を被露光基板Ｃの識別情報とし、ステップＳ４１１における描画の際の露光状態を識別情報に対応付けて、露光状態情報５０として記憶部４１に記憶する。

ステップＳ４１５において、システム制御部３０は、ステージ１０を被露光基板Ｃが載置された位置まで移動させて、第１露光処理プログラムを終了する。ステージ１０が被露光基板Ｃが載置された位置まで移動すると、被露光基板Ｃは、ＡＣハンド２６に吸着保持されることにより第２搬送装置６に移動し、第２搬送装置６により反転装置３に搬送され、反転装置３により表裏が反転された上で第３搬送装置７により第２露光描画装置４に搬送される。

第２露光描画装置４のシステム制御部３０は、予め定められたタイミング（本実施形態では、被露光基板Ｃがステージ１０に載置されたタイミング）で、第２露光処理プログラムを実行する。

図２４は、本実施形態に係る第２露光処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートであり、当該プログラムは第２露光描画装置４のシステム制御部３０に備えられた記録媒体であるＲＯＭの所定領域に予め記憶されている。

ステップＳ５０１において、システム制御部３０は、被露光基板Ｃが載置されたステージ１０を、被露光基板Ｃの第２面Ｃ２に予め描画されているアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の各々が、撮像装置２３の各々の撮像領域に含まれる位置に移動させる。この際、システム制御部３０は、ステージ１０をガイドレール１４に沿ってＹ方向に移動させて停止させる。

ステップＳ５０３において、システム制御部３０は、撮像部２３によりアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２が撮像されている撮像画像から、アライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の位置を計測する。また、ステップＳ５０５において、システム制御部３０は、ステップＳ５０３において計測されたアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の位置から、アライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置を導出する。

ステップＳ５０７において、システム制御部３０は、ステップＳ５０３において計測されたアライメント用のマークＭ１の位置と、ステップＳ５０３において計測されたアライメント用のマークＭ１の位置に基づいて、被露光基板Ｃの第２面Ｃ２に対して裏面用画像Ｐ２を描画する位置を決定するための画像座標系を設定する。

ステップＳ５０９において、システム制御部３０は、ステップＳ５０７において設定された画像座標系に基づいて、ステージ１０を露光位置に移動させる。この際、システム制御部３０は、ステージ１０をガイドレール１４に沿ってＹ方向に移動させるとともに、ステージ１０を露光ヘッド１６ａによる露光対象位置が、被露光基板Ｃにおいて裏面用画像Ｐ２を描画する際の開始位置と一致する位置までステージ１０を移動させて停止させる。

ステップＳ５１１において、システム制御部３０は、露光状態情報５０から、ステップＳ５０５において導出されたアライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置に対応する第１面Ｃ１の露光状態を取得する。

ステップＳ５１３において、システム制御部３０は、ステップＳ５１１において取得した第１面Ｃ１の露光状態に対応するようにして、各露光ヘッド１６ａによる露光を開始し、被露光基板Ｃの第２面Ｃ２に裏面用画像Ｐ２を描画する。

ステップＳ５１５において、システム制御部３０は、ステージ１０を被露光基板Ｃが載置された位置まで移動させて、第２露光処理プログラムを終了する。ステージ１０が被露光基板Ｃが載置された位置まで移動すると、第１面Ｃ１及び第２面Ｃ２の両面に画像が描画された被露光基板Ｃは、ＡＣハンド２６に吸着保持されることにより第４搬送装置８に移動し、第４搬送装置８により搬送される。

このようにして、第２実施形態に係る露光描画システム１では、露光処理を行う際に、被露光基板Ｃの各々を識別するための識別用のマークＭ２を前もって形成した被露光基板Ｃに対して、アライメント用のマークＭ１に対する識別用のマークＭ２の相対位置を識別情報として第１面Ｃ１の露光に関する情報を、第２面Ｃ２の露光の際に参照することで、第１面Ｃ１及び第２面Ｃ２との露光条件を対応させることができる。

なお、ステップＳ１０７において紫外線光源２４の位置を計測する方法は、撮影部２３による撮影画像を用いる方法に限定されず、紫外線光源２４の移動機構２４ａにより、例えばステッピングモータのパルス、ロータリーエンコーダにより計測しても良い。あるいは、紫外線光源２４の位置を、光学式の距離センサまたは超音波を利用した距離センサにより計測しても良い。

また、第１実施形態及び第２実施形態に係る露光描画システム１では、被露光基板Ｃにアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２を紫外線光源２４を用いて描画するが、これに限定されず、インクを吹き付けたり転写させたりすることにより描画しても良い。

また、第１実施形態及び第２実施形態に係る露光描画システム１では、図１１、図１３及び図２３に示すフローチャートの処理が第１露光描画装置２のシステム制御部３０の制御により行われ、図１６及び図２４に示すフローチャートの処理が第２露光描画装置４のシステム制御部３０の制御により行われるが、これに限定されず、上記フローチャートの一連の処理が制御装置９の制御部４０の制御により行われても良い。

また、第２実施形態に係る露光描画システム１では、第１面Ｃ１及び第２面Ｃ２の双方にアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２が描画されているが、これに限定されず、何れか一方の面にアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２が描画されていても良い。この場合には、第１露光描画装置２または第２露光描画装置４において、例えば撮影部２３がステージ１０の下方にも設けられている等、ステージ１０に載置された被露光基板Ｃの上面及び下面の双方のアライメント用のマークＭ１及び識別用のマークＭ２の位置を検出できるように構成される。

１…露光描画システム，２…第１露光描画装置，３…反転装置，４…第２露光描画装置，５…第１搬送装置，６…第２搬送装置，７…第３搬送装置，８…第４搬送装置，９…制御装置，１０…ステージ，１１…基体，１２…基台，１３…移動機構部，１４…ガイドレール，１５…ゲート，１６…露光部，１６ａ…露光ヘッド，１７…光源ユニット，１８…光ファイバ，１９…画像処理ユニット，２０…信号ケーブル，２２…ゲート，２３…撮影部，２４…紫外線光源，２４ａ…移動機構，３０…システム制御部，３１…ステージ駆動部，３２…操作装置，３３…移動駆動部，４０…制御部，４１…記憶部，４２…表示部，４３…入力部，４４…通信インタフェース，Ｃ…被露光基板，Ｃ１…表面，Ｃ２…裏面，Ｍ１…アライメント用のマーク，Ｍ２…識別用のマーク，Ｐ１…表面用画像，Ｐ２…裏面用画像，ＵＶ…紫外線ビーム。

Claims (13)

1. 第１面及び該第１面に対向する第２面を有する被露光基板を露光することにより回路パターンを描画する露光手段と、
   前記被露光基板の前記第２面の予め定められた位置に露光位置の基準とする第１マークを形成すると共に、前記第１マークに対する相対位置を前記被露光基板毎に異ならせることにより該相対位置によって前記被露光基板を識別する識別情報を表す第２マークを形成するマーク形成手段と、
   前記被露光基板に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御する制御手段と、
   前記相対位置によって表される識別情報に対応させて前記露光に関する情報を記憶する記憶手段と、
   を備えた露光描画装置。
2. 前記マーク形成手段によって形成された前記第１マーク及び前記第２マークの位置を検出する検出手段と、
   前記検出手段により検出された前記位置に基づいて前記第１マークに対する前記第２マークの相対位置を導出する導出手段とを備え、
   前記制御手段は、前記第１面に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御すると共に、前記記憶手段から前記導出手段により導出された相対位置で表される識別情報に対応する前記第１面の露光に関する情報を取得し、当該情報が前記第１面の露光が正常に行われたことを示している場合に、前記検出手段により検出された前記第１マークの位置に基づいて定まる前記第２面の露光位置に基づいて前記第２面に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御する
   請求項１記載の露光描画装置。
3. 前記マーク形成手段によって形成された前記第１マーク及び前記第２マークの位置を検出する検出手段と、
   前記検出手段により検出された前記位置に基づいて前記第１マークに対する前記第２マークの相対位置を導出する導出手段とを備え、
   前記制御手段は、前記第１面に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御すると共に、前記記憶手段から前記導出手段により導出された相対位置で表される識別情報に対応する前記第１面の露光に関する情報を取得し、当該情報が前記第１面の露光が正常に行われなかったことを示している場合に、前記第２面に回路パターンが描画されないように前記露光手段を制御する
   請求項１記載の露光描画装置。
4. 前記露光に関する情報は、前記第１面の露光が正常に行われたか否かを示す情報、前記第１面の露光に関する情報に前記倍率の情報、前記第１面に描画された回路パターンを示す情報、及び前記被露光基板の露光順を示す情報の少なくとも一つを含んでいる
   請求項１乃至３の何れか１項記載の露光描画装置。
5. 前記第１マーク及び前記第２マークを同一の形状とした
   請求項１乃至４のいずれか１項記載の露光描画装置。
6. 前記検出手段は、前記第１マーク及び前記第２マークを撮影して得られた画像に基づいて前記第１マーク及び前記第２マークの位置を検出する
   請求項１乃至５の何れか１項記載の露光描画装置。
7. 前記マーク形成手段は、前記被露光基板に紫外線ビームを照射することにより前記第１マーク及び前記第２マークを形成する
   請求項１乃至６の何れか１項記載の露光描画装置。
8. 前記マーク形成手段は、前記第２マークを異なる位置に複数形成する
   請求項１乃至７の何れか１項記載の露光描画装置。
9. 第１面及び該第１面に対向する第２面の少なくとも一方の面に、露光位置の基準とする第１マークが予め定められた位置に形成され、前記第１マークに対する相対位置を前記被露光基板毎に異ならせることにより該相対位置によって前記被露光基板を識別する識別情報を表す第２マークが形成された被露光基板を露光することによりに回路パターンを描画する露光手段と、
   前記マーク形成手段によって形成された前記第１マーク及び第２マークの位置を検出する検出手段と、
   前記検出手段により検出された前記位置に基づいて前記第１マークに対する前記第２マークの相対位置を導出する導出手段と、
   前記検出手段によって検出された前記第１マークの位置に基づいて定まる前記第１面の露光位置に基づいて前記第１面に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御して、前記導出手段により導出された相対位置で表される識別情報に対応させて前記第１面の露光に関する情報を記憶手段に記憶させると共に、前記記憶手段から前記導出手段により導出された相対位置で表される識別情報に対応する前記第１面の露光に関する情報を取得し、当該情報に基づいて露光条件を決定して、前記検出手段によって検出された前記第１マークの位置に基づいて定まる前記第２面の露光位置に基づいて前記第２面に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御する制御手段と、
   を備えた露光描画装置。
10. 第１面及び該第１面に対向する第２面を有する被露光基板を露光することにより回路パターンを描画する露光手段を備えた露光描画装置において実行されるプログラムであって、
    コンピュータを、
    前記被露光基板の前記第２面の予め定められた位置に露光位置の基準とする第１マークを形成すると共に、前記第１マークに対する相対位置を前記被露光基板毎に異ならせることにより該相対位置によって前記被露光基板を識別する識別情報を表す第２マークを形成するマーク形成手段と、
    前記被露光基板に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御する制御手段と、
    前記相対位置によって表される識別情報に対応させて前記露光に関する情報を記憶する記憶手段と、
    として機能させるプログラム。
11. コンピュータを、
    前記マーク形成手段によって形成された前記第１マーク及び前記第２マークの位置を検出する検出手段と、
    前記検出手段により検出された前記位置に基づいて前記第１マークに対する前記第２マークの相対位置を導出する導出手段ととしてさらに機能させ、
    前記制御手段は、前記第１面に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御すると共に、前記記憶手段から前記導出手段により導出された相対位置で表される識別情報に対応する前記第１面の露光に関する情報を取得し、当該情報に基づいて露光条件を決定して、前記検出手段により検出された前記第１マークの位置に基づいて定まる前記第２面の露光位置に基づいて前記第２面に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御する
    請求項１０記載のプログラム。
12. 第１面及び該第１面に対向する第２面を有する被露光基板を露光することにより回路パターンを描画する露光手段を備えた露光描画装置における露光描画方法であって、
    前記被露光基板の前記第２面の予め定められた位置に露光位置の基準とする第１マークを形成すると共に、前記第１マークに対する相対位置を前記被露光基板毎に異ならせることにより該相対位置によって前記被露光基板を識別する識別情報を表す第２マークを形成するマーク形成ステップと、
    前記被露光基板の前記第１面に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御する第１制御ステップと、
    前記相対位置によって表される識別情報に対応させて前記第１面の露光に関する情報を記憶手段に記憶する記憶ステップと、
    を行う露光描画方法。
13. 前記マーク形成ステップによって形成された前記第１マーク及び前記第２マークの位置を検出する検出ステップと、
    前記検出ステップにより検出された前記位置に基づいて前記第１マークに対する前記第２マークの相対位置を導出する導出ステップと、
    前記記憶手段から前記導出手段により導出された相対位置で表される識別情報に対応する前記第１面の露光に関する情報を取得し、当該情報に基づいて露光条件を決定して、前記検出ステップにより検出された前記第１マークの位置に基づいて定まる前記第２面の露光位置に基づいて前記第２面に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御する第２制御ステップと、
    をさらに行う請求項１２記載の露光描画方法。