JP6096453B2 - 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 79
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 195
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- 238000009877 rendering Methods 0.000 claims description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 76
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 6
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
Classifications
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
- G03F7/2032—Simultaneous exposure of the front side and the backside
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/15—Position of the PCB during processing
- H05K2203/1545—Continuous processing, i.e. involving rolls moving a band-like or solid carrier along a continuous production path
-
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
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Description
2 第1露光描画装置
3 第2露光描画装置
4 反転装置
5 制御装置
10 ステージ
16a 露光ヘッド
40 システム制御部
41 ジョブ記憶部
50 制御部
51 記憶部
60A 第1ジョブ情報
60B 第2ジョブ情報
C 被露光基板
Claims (13)
- 被露光基板の第1面を露光することにより前記第1面に画像を描画する第1描画手段と、
前記被露光基板の前記第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報、前記被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第2ジョブ情報、及び前記第1ジョブ情報と前記第2ジョブ情報との対応関係を示す対応情報を記憶する記憶手段と、
前記第1描画手段で前記第1ジョブ情報により示される露光条件で前記第1面を露光することにより前記第1面に前記第1ジョブ情報により示される画像を描画した被露光基板の前記第2面に画像を描画する場合、前記対応情報に基づいて前記第1面に画像を描画した際に用いた第1ジョブ情報に対応付けられた前記第2ジョブ情報により示される露光条件で前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画する第2描画手段と、
を備えた露光描画装置。 - 前記記憶手段は、前記第1ジョブ情報を記憶した第1記憶領域及び前記第2ジョブ情報を記憶した第2記憶領域を含み、前記対応情報を前記第1記憶領域及び前記第2記憶領域の何れか一方に記憶した
請求項1記載の露光描画装置。 - 被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報を記憶する第1記憶手段、
前記第1ジョブ情報により示される露光条件で前記第1面を露光することにより、当該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画する第1描画手段、及び
前記第1描画手段により前記第1面に画像を描画した際に用いた前記第1ジョブ情報を示す情報を送信する送信手段
を備えた第1露光描画装置と、
前記被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第2ジョブ情報、及び前記第1ジョブ情報と前記第2ジョブ情報との対応関係を示す対応情報を記憶する第2記憶手段、
前記送信手段により送信された前記第1ジョブ情報を示す情報を受信する受信手段、
前記対応情報において前記受信手段により受信した前記第1ジョブ情報を示す情報により示される前記第1ジョブ情報に対応付けられた前記第2ジョブ情報に基づいて前記第2面に描画する画像及び露光条件を決定する決定手段、及び
前記決定手段により決定した露光条件で前記第2面を露光することにより前記決定手段により決定した画像を前記第2面に描画する第2描画手段
を備えた第2露光描画装置と、
を有する露光描画システム。 - 前記対応情報は、前記第1ジョブ情報を識別するための識別情報と当該第1ジョブ情報に対応する前記第2ジョブ情報を識別するための識別情報とを対応付けた情報であり、
前記第1ジョブ情報を示す情報は、前記第1ジョブ情報の前記識別情報である
請求項3記載の露光描画システム。 - 前記第1露光描画装置の前記送信手段は、前記第1描画手段による描画が正常に終了した場合のみ、前記第1ジョブ情報を示す情報を送信する
請求項3または4記載の露光描画システム。 - 前記第1露光描画装置の前記送信手段は、前記第1描画手段による描画が異常に終了した場合、エラーが発生した旨を示すエラー情報を送信する
請求項3乃至5の何れか1項記載の露光描画システム。 - 前記第1ジョブ情報、前記第2ジョブ情報及び前記対応情報を記憶する第3記憶手段、及び
前記第3記憶手段により記憶している前記第1ジョブ情報を前記第1露光描画装置に送信し、前記第2ジョブ情報及び前記対応情報を前記第2露光描画装置に送信する第2送信手段
を備えた制御装置を更に備え、
前記第1露光描画装置は、前記第2送信手段により送信された前記第1ジョブ情報を受信する第2受信手段を更に備え、
前記第1露光描画装置の前記第1描画手段は、前記第2受信手段により受信した前記第1ジョブ情報を用いて前記第1面に画像を描画し、
前記第2露光描画装置は、前記第2送信手段により送信された前記第2ジョブ情報及び前記対応情報を受信する第3受信手段を更に備え、
前記第2露光描画装置の前記決定手段は、前記第3受信手段により受信した前記第2ジョブ情報及び前記対応情報を用いて前記第2面に描画する画像及び露光条件を決定する
請求項3乃至6の何れか1項記載の露光描画システム。 - 前記制御装置は、前記第1ジョブ情報、第2ジョブ情報及び前記対応情報の入力を受け付ける受付手段を更に備え、
前記制御装置の前記第3記憶手段は、前記受付手段により受け付けた前記第1ジョブ情報、第2ジョブ情報及び前記対応情報を記憶する
請求項7記載の露光描画システム。 - 被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報を記憶すると共に、前記第1ジョブ情報、及び前記被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第2ジョブ情報の対応関係を示す対応情報を記憶する第1記憶手段、
前記第1ジョブ情報により示される露光条件で前記第1面を露光することにより、当該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画する第1描画手段、及び
前記対応情報において前記第1描画手段により前記第1面に画像を描画した際に用いた前記第1ジョブ情報に対応付けられた前記第2ジョブ情報を送信する送信手段
を備えた第1露光描画装置と、
前記送信手段により送信された前記第2ジョブ情報を受信する受信手段、及び
前記受信手段により受信した前記第2ジョブ情報により示される露光条件で前記第2面を露光することにより当該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画する第2描画手段
を備えた第2露光描画装置と、
を有する露光描画システム。 - 被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報を記憶する第4記憶手段、
前記第1ジョブ情報により示される露光条件で前記第1面を露光することにより、当該第1ジョブ情報により示される画像を前記第1面に描画する第1描画手段、及び
前記第1描画手段による描画に用いた前記第1ジョブ情報を示す情報を送信する第3送信手段
を備えた第1露光描画装置と、
前記第1ジョブ情報、前記被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第2ジョブ情報、及び前記第1ジョブ情報と前記第2ジョブ情報との対応関係を示す対応情報を記憶する第5記憶手段、
前記第3送信手段により送信された前記第1ジョブ情報を示す情報を受信する第4受信手段、
前記対応情報において、前記第4受信手段により受信した前記第1ジョブ情報を示す情報により示される前記第1ジョブ情報に対応付けられた前記第2ジョブ情報を送信する第4送信手段
を備えた制御装置と、
前記第4送信手段により送信された前記第2ジョブ情報を示す情報を受信する第5受信手段、及び
前記第5受信手段により受信した前記第2ジョブ情報を示す情報により示される露光条件で前記第2面を露光することにより、当該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画する第2描画手段
を備えた第2露光描画装置と、
を有する露光描画システム。 - 前記露光条件は、前記被露光基板のサイズ、前記被露光基板の露光対象とする枚数、前記被露光基板に画像の描画領域を決定するためにマークが設けられている場合の当該マークの配置パターン、及び前記被露光基板の感材種の少なくとも1つを含む
請求項3乃至8の何れか1項記載の露光描画システム。 - コンピュータを、
被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報により示される露光条件で前記第1面を露光することにより前記第1面に前記第1ジョブ情報により示される画像を描画する第1描画手段と、
前記第1ジョブ情報により示される露光条件で前記第1面を露光することにより前記第1面に前記第1ジョブ情報により示される画像を描画した被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に画像を描画する場合、前記第1ジョブ情報と、前記被露光基板の前記第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第2ジョブ情報との対応関係を示す対応情報において、前記第1面に画像を描画した際に用いた第1ジョブ情報に対応付けられた前記第2ジョブ情報により示される露光条件で前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画する第2描画手段と、
として機能させるためのプログラム。 - 被露光基板の第1面を露光することにより前記第1面に画像を描画する第1描画手段で前記第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報、前記被露光基板の前記第1面とは反対の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件を示す露光条件情報とが対応付けられた第2ジョブ情報、及び前記第1ジョブ情報と前記第2ジョブ情報との対応関係を示す対応情報を記憶手段に記憶する記憶ステップと、
前記第1描画手段で前記第1ジョブ情報により示される露光条件で前記第1面を露光することにより前記第1面に前記第1ジョブ情報により示される画像を描画した被露光基板の前記第2面に画像を描画する場合、前記対応情報に基づいて前記第1面に画像を描画した際に用いた第1ジョブ情報に対応付けられた前記第2ジョブ情報により示される露光条件で前記第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を前記第2面に描画する第2描画ステップと、
を有する露光描画方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012215121A JP6096453B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
CN201380049191.4A CN104641299B (zh) | 2012-09-27 | 2013-08-23 | 曝光描绘装置、曝光描绘***、程序及曝光描绘方法 |
PCT/JP2013/072502 WO2014050384A1 (ja) | 2012-09-27 | 2013-08-23 | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
KR1020157006282A KR102119430B1 (ko) | 2012-09-27 | 2013-08-23 | 노광 묘화 장치, 노광 묘화 시스템, 프로그램 및 노광 묘화 방법 |
TW102134836A TWI603160B (zh) | 2012-09-27 | 2013-09-26 | 曝光微影裝置、曝光微影系統、儲存程式的記錄媒體和曝光微影方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012215121A JP6096453B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014071157A JP2014071157A (ja) | 2014-04-21 |
JP6096453B2 true JP6096453B2 (ja) | 2017-03-15 |
Family
ID=50387793
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012215121A Active JP6096453B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6096453B2 (ja) |
KR (1) | KR102119430B1 (ja) |
CN (1) | CN104641299B (ja) |
TW (1) | TWI603160B (ja) |
WO (1) | WO2014050384A1 (ja) |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11307424A (ja) * | 1998-04-22 | 1999-11-05 | Hitachi Ltd | 半導体製造方法および製造装置、ならびにそれにより製造された半導体デバイス |
JP2001284231A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-12 | Canon Inc | 露光装置及びエラー発生時のパターンで処理を振り分ける方法 |
JP2002341550A (ja) | 2001-05-17 | 2002-11-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | レーザー露光装置 |
JP4381009B2 (ja) * | 2003-03-12 | 2009-12-09 | 新光電気工業株式会社 | パターン描画装置、パターン描画方法、および検査装置 |
JP2005014012A (ja) * | 2003-06-24 | 2005-01-20 | Pentax Corp | 描画装置および描画方法 |
US7244534B2 (en) * | 2004-04-23 | 2007-07-17 | Asml Netherlands B.V. | Device manufacturing method |
JP4606990B2 (ja) * | 2005-10-07 | 2011-01-05 | 富士フイルム株式会社 | デジタル露光装置 |
JP4922071B2 (ja) * | 2007-05-28 | 2012-04-25 | 株式会社オーク製作所 | 露光描画装置 |
JP2009223262A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-01 | Orc Mfg Co Ltd | 露光システムおよび露光方法 |
JP2010181519A (ja) * | 2009-02-04 | 2010-08-19 | Adtec Engineeng Co Ltd | 露光装置 |
JP5813556B2 (ja) * | 2012-03-30 | 2015-11-17 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 露光描画装置、プログラム及び露光描画方法 |
JP5961429B2 (ja) * | 2012-03-30 | 2016-08-02 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 露光描画装置及び露光描画方法 |
JP6198378B2 (ja) * | 2012-09-27 | 2017-09-20 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
-
2012
- 2012-09-27 JP JP2012215121A patent/JP6096453B2/ja active Active
-
2013
- 2013-08-23 WO PCT/JP2013/072502 patent/WO2014050384A1/ja active Application Filing
- 2013-08-23 CN CN201380049191.4A patent/CN104641299B/zh active Active
- 2013-08-23 KR KR1020157006282A patent/KR102119430B1/ko active IP Right Grant
- 2013-09-26 TW TW102134836A patent/TWI603160B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI603160B (zh) | 2017-10-21 |
JP2014071157A (ja) | 2014-04-21 |
CN104641299A (zh) | 2015-05-20 |
KR102119430B1 (ko) | 2020-06-05 |
KR20150060693A (ko) | 2015-06-03 |
TW201413399A (zh) | 2014-04-01 |
CN104641299B (zh) | 2016-12-14 |
WO2014050384A1 (ja) | 2014-04-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20140129 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20140421 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150805 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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|
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |