KR100603130B1 - 고순도 니켈의 제조방법, 고순도 니켈, 동 고순도 니켈로부터 이루어진 스퍼터링 타겟트 및 이 스퍼터링 타겟트에 의해 형성된 박막 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (9)
- 전해액으로서 니켈 함유 용액을 사용하여 전해할 시에, 애노라이트를 pH 2∼5로 조정하며, 애노라이트에 함유되어 있는 철, 코발트, 동 등의 불순물을 산화제를 넣어서, 이 불순물을 수산화물로서 침전 제거하든지, 혹은 예비 전해에 의해 이 불순물을 제거하든지, 또는 Ni 박을 넣어서 치환반응에 의해 이 불순물을 제거하든지의 어느 것이나 1 또는 2 이상의 방법을 조합하는 것에 의해 불순물을 제거한 후, 다시 필터를 사용하여 불순물을 제거하고, 제거 후의 액을 캐소라이트로서 사용하여 전해하는 것을 특징으로 하는 고순도 니켈의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 애노드와 캐소드를 격막(膈膜)으로서 구분하고, 애노라이트를 간헐적 또는 연속적으로 빼내어, 이것에 산화제를 넣어서 철 등의 불순물을 수산화물로서 침전시킨 후, 다시 필터를 사용하여 불순물을 제거하고, 제거 후의 액을 캐소드 측에 간헐적 또는 연속적으로 넣는 것을 특징으로 하는 고순도 니켈의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 애노드와 캐소드를 격막으로서 구분하고, 애노라이트를 간헐적 또는 연속적으로 빼내어, 이 애노라이트를 예비 전해하여 철, 코발트, 동 등의 불순물을 제거한 후, 다시 필터를 사용하여 불순물을 제거하고, 제거 후의 액을 캐소드 측에 간헐적 또는 연속적으로 넣는 것을 특징으로 하는 고순도 니켈의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 애노드와 캐소드를 격막으로서 구분하고, 애노라이트를 간헐적 또는 연속적으로 빼내어, 이 애노라이트에 니켈 박을 넣어서 치환반응에 의해, 철, 코발트, 동 등의 불순물을 제거한 후, 다시 필터를 사용하여 불순물을 제거하고, 제거 후의 액을 캐소드 측에 간헐적 또는 연속적으로 넣는 것을 특징으로 하는 고순도 니켈의 제조방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 필터로서 활성탄을 사용하는 것을 특징으로 하는 고순도 니켈의 제조방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 필터 통과 후의 전해액 중의 철의 농도가 1 mg/L 이하인 것을 특징으로 하는 고순도 니켈의 제조방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 전해에 의해서 얻어진 전석 니켈을 전자 빔 용해 등의 진공 용해를 행하는 것을 특징으로 하는 고순도 니켈의 제조방법.
- 삭제
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 제조한 가스 성분을 제외한 5N(99.999wt%) 이상이며, 불순물로서 O는 30 wt ppm 이하, C, N, S, P, F가 각각 10 wt ppm 이하인 것을 특징으로 하는 고순도 니켈, 동 고순도 니켈로부터 이루어진 타켓트 및 동 타겟트를 사용하여 스퍼터링에 의해 형성된 박막.
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