JPH0452296A - 銅めっき方法 - Google Patents
銅めっき方法Info
- Publication number
- JPH0452296A JPH0452296A JP2162192A JP16219290A JPH0452296A JP H0452296 A JPH0452296 A JP H0452296A JP 2162192 A JP2162192 A JP 2162192A JP 16219290 A JP16219290 A JP 16219290A JP H0452296 A JPH0452296 A JP H0452296A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- anode
- electrolyte
- plating
- chamber
- cathode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 64
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 33
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 32
- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 32
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 28
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 20
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 12
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 10
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 abstract description 11
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 8
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 13
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- -1 platinum group metal oxide Chemical class 0.000 description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 210000005056 cell body Anatomy 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical compound O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 2,3-dihydroxybutanedioic acid (2S,3S)-3,4-dimethyl-2-phenylmorpholine Chemical compound OC(C(O)C(O)=O)C(O)=O.C[C@H]1[C@@H](OCCN1C)c1ccccc1 VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 0.000 description 1
- XKTYXVDYIKIYJP-UHFFFAOYSA-N 3h-dioxole Chemical compound C1OOC=C1 XKTYXVDYIKIYJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 229940116318 copper carbonate Drugs 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- GEZOTWYUIKXWOA-UHFFFAOYSA-L copper;carbonate Chemical compound [Cu+2].[O-]C([O-])=O GEZOTWYUIKXWOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000003014 ion exchange membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002898 organic sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003204 osmotic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/38—Electroplating: Baths therefor from solutions of copper
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/24—Reinforcing the conductive pattern
- H05K3/241—Reinforcing the conductive pattern characterised by the electroplating method; means therefor, e.g. baths or apparatus
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S205/00—Electrolysis: processes, compositions used therein, and methods of preparing the compositions
- Y10S205/92—Electrolytic coating of circuit board or printed circuit, other than selected area coating
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、プリント回路基板等の被めっき材に電解銅め
っきを効率的に行うための方法に関する。
っきを効率的に行うための方法に関する。
(従来技術とその問題点)
両面に銅箔層を形成したプリント回路基板の表面及び裏
面の回路部分を接続するためには、必要な部分に貫通孔
つまりスルーホールを形成し、該スルーホールの内面に
銅めっきを施して前記両回路を接続するようになってい
る。該スルーホールめっきを行う場合には、前記プリン
ト基板に前記スルーホールを形成した後、パラジウム含
有浴を使用して活性化を行い、次いで無電解銅めっきを
プリント回路基板全体に行いめっき薄層を付着させた後
、更に電解銅めっきを行うようにする。
面の回路部分を接続するためには、必要な部分に貫通孔
つまりスルーホールを形成し、該スルーホールの内面に
銅めっきを施して前記両回路を接続するようになってい
る。該スルーホールめっきを行う場合には、前記プリン
ト基板に前記スルーホールを形成した後、パラジウム含
有浴を使用して活性化を行い、次いで無電解銅めっきを
プリント回路基板全体に行いめっき薄層を付着させた後
、更に電解銅めっきを行うようにする。
プリント回路基板の電解銅めっきに不溶性金属電極を使
用する技術として、不溶性金属電極から成る陽極とプリ
ント回路基板用液めっき材から成る電極を隔膜により分
離し、銅イオン及び添加剤を含有する溶液を電解液とし
て電解し前記被めっき材の表面及びスルーホールのめっ
きを行う銅めっき方法が提案されている(特開平1−2
97884号公報)。
用する技術として、不溶性金属電極から成る陽極とプリ
ント回路基板用液めっき材から成る電極を隔膜により分
離し、銅イオン及び添加剤を含有する溶液を電解液とし
て電解し前記被めっき材の表面及びスルーホールのめっ
きを行う銅めっき方法が提案されている(特開平1−2
97884号公報)。
この方法によると、陽極液を銅イオンを含まないめっき
液とは異なる電解液即ち陽極液を陰極液とはまったく別
のものとしてもよい。しかしこの場合電解液が相違する
ことから隔膜に浸透圧差が生じ、短時間に液面差を生じ
る等の問題があり、両極液とも別個に循環ポンプを設け
る等の設備上複雑さがあり結果的にコストアップに繋が
る。
液とは異なる電解液即ち陽極液を陰極液とはまったく別
のものとしてもよい。しかしこの場合電解液が相違する
ことから隔膜に浸透圧差が生じ、短時間に液面差を生じ
る等の問題があり、両極液とも別個に循環ポンプを設け
る等の設備上複雑さがあり結果的にコストアップに繋が
る。
逆に陽極液と陰極液に同じめっき液を使用する場合には
、めっき液中に含まれる添加剤の不溶性金属陽極上での
消耗を抑制するため、−度陽極液を満たした後はしばら
く陽極室への電解液供給を停止し、必要に応じて断続的
に補給するといったメンテナンス上の問題が生ずる。
、めっき液中に含まれる添加剤の不溶性金属陽極上での
消耗を抑制するため、−度陽極液を満たした後はしばら
く陽極室への電解液供給を停止し、必要に応じて断続的
に補給するといったメンテナンス上の問題が生ずる。
陽極液への電解液補給は、隔膜を通しての陰極室から陽
極室への浸透によって行ってもよいが、長期的には隔膜
の目づまり等が生ずることがあり信幀性のある方法では
ない。
極室への浸透によって行ってもよいが、長期的には隔膜
の目づまり等が生ずることがあり信幀性のある方法では
ない。
陽極室での水の電気分解による陽極液の減少に対応しつ
つ、不溶性陽極によるめっき液中の添加剤を抑制する恒
久的な方法は知られていない。
つ、不溶性陽極によるめっき液中の添加剤を抑制する恒
久的な方法は知られていない。
(発明の目的)
本発明は、これらの従来技術の欠点を解消し、陽極液量
の減少に起因するめっき不良を回避しかつめっき添加剤
の消耗も最小限に抑制できる銅めっき方法を提供するこ
とを目的とする。
の減少に起因するめっき不良を回避しかつめっき添加剤
の消耗も最小限に抑制できる銅めっき方法を提供するこ
とを目的とする。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、めっき用電解槽を隔膜により不溶性金属電極
から成る陽極が収容された陽極室と被めっき材である陰
極が収容された陰極室に分離し、銅イオン及び添加剤を
含有する溶液を電解液として電解し、前記被めっき材に
銅めっきを行う方法において、前記陰極室への前記電解
液の供給を該陰極空中の銅イオン濃度が一定値を維持す
るように行い、かつ前記陽極室への前記電解液の供給量
を0.2〜11s+l/KAHとすることを特徴とする
銅めっき方法である。
から成る陽極が収容された陽極室と被めっき材である陰
極が収容された陰極室に分離し、銅イオン及び添加剤を
含有する溶液を電解液として電解し、前記被めっき材に
銅めっきを行う方法において、前記陰極室への前記電解
液の供給を該陰極空中の銅イオン濃度が一定値を維持す
るように行い、かつ前記陽極室への前記電解液の供給量
を0.2〜11s+l/KAHとすることを特徴とする
銅めっき方法である。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明の銅めっき方法は、電解銅めっき時の添加剤の不
溶性陽極での消耗を最小限に抑制しつつ、陽極液の減少
によるめっき不良を回避するために電解槽の陽極室に、
陰極室に供給する電解液と同じ銅イオンと添加剤を含有
するごく少量又は必要最低限のの電解液を供給すること
を特徴とする。
溶性陽極での消耗を最小限に抑制しつつ、陽極液の減少
によるめっき不良を回避するために電解槽の陽極室に、
陰極室に供給する電解液と同じ銅イオンと添加剤を含有
するごく少量又は必要最低限のの電解液を供給すること
を特徴とする。
本発明方法では、陽極として例えば白金族金属酸化物を
チタン基材等に被覆して成る不溶性金属電極所謂DSE
電極を使用することができる。該DSE電極は溶性電極
と比較すると陽極電位(酸素発生電位)が約10100
O高いが、白金族金属を基材に被覆した電極や鉛電極と
比較すると陽極電位が500〜800mV低いため添加
側分解をある程度有効に防止することができる。しかし
該白金族金属被覆電極や鉛電極を本発明方法で使用して
も差支えない、この陽極の形状は、多孔状、板状、棒状
、上部が開口するボックス状等任意とすることができる
。該陽極を電解槽内に設置するには、通常の食塩電解槽
のように底部から給電棒を立設し該給電棒に連結するよ
うにしても、電解槽の上縁間にビームを架設し、該ビー
ムに前記陽極に連結した例えば逆J字型の給電体の上端
を吊下げるようにしてもよい。
チタン基材等に被覆して成る不溶性金属電極所謂DSE
電極を使用することができる。該DSE電極は溶性電極
と比較すると陽極電位(酸素発生電位)が約10100
O高いが、白金族金属を基材に被覆した電極や鉛電極と
比較すると陽極電位が500〜800mV低いため添加
側分解をある程度有効に防止することができる。しかし
該白金族金属被覆電極や鉛電極を本発明方法で使用して
も差支えない、この陽極の形状は、多孔状、板状、棒状
、上部が開口するボックス状等任意とすることができる
。該陽極を電解槽内に設置するには、通常の食塩電解槽
のように底部から給電棒を立設し該給電棒に連結するよ
うにしても、電解槽の上縁間にビームを架設し、該ビー
ムに前記陽極に連結した例えば逆J字型の給電体の上端
を吊下げるようにしてもよい。
又陰極は、めっきすべき被めっき材好ましくはプリント
回路基板とし、該プリント回路基板は例えば合成樹脂上
に銅箔を薄く被覆しかつ所定位置に多数の貫通孔つまり
スルーホールを穿設した複合板である。該被めっき材は
、本発明方法により電解めっきを行う前に該電解めっき
を円滑に行うためにその表面に化学めっきにより薄い銅
めっき層を形成しておくことが望ましい。該被めっき材
は通常30C11X30C1程度の板であるが、本発明
方法では一度の操業で多数の被めっき材を処理できるよ
うに多数の被めっき材を上下及び左右方向に並べ合わせ
て1枚の大きな平板状とし所定の治具で電解槽内に設置
することが好ましい。
回路基板とし、該プリント回路基板は例えば合成樹脂上
に銅箔を薄く被覆しかつ所定位置に多数の貫通孔つまり
スルーホールを穿設した複合板である。該被めっき材は
、本発明方法により電解めっきを行う前に該電解めっき
を円滑に行うためにその表面に化学めっきにより薄い銅
めっき層を形成しておくことが望ましい。該被めっき材
は通常30C11X30C1程度の板であるが、本発明
方法では一度の操業で多数の被めっき材を処理できるよ
うに多数の被めっき材を上下及び左右方向に並べ合わせ
て1枚の大きな平板状とし所定の治具で電解槽内に設置
することが好ましい。
使用する隔膜は、添加剤の通過をほぼ完全に抑止できる
ものであることが望ましい。該添加剤は液中でイオンで
なくコロイド状態で存在することが多く、該添加剤の粒
径は互いに凝集しあるいは周囲に水分子を伴って数μm
〜数十μmとなっていると考えられるので、前記隔膜の
目開きは10μm以下とすることが望ましい。その材質
は特に限定されないが、液の不透過性及び抵抗損の観点
からイオン交換膜が最適である。
ものであることが望ましい。該添加剤は液中でイオンで
なくコロイド状態で存在することが多く、該添加剤の粒
径は互いに凝集しあるいは周囲に水分子を伴って数μm
〜数十μmとなっていると考えられるので、前記隔膜の
目開きは10μm以下とすることが望ましい。その材質
は特に限定されないが、液の不透過性及び抵抗損の観点
からイオン交換膜が最適である。
本発明方法では、被めっき材表面に十分銅イオンを送り
込みかつ陰極室内で発生するガスを除去するため空気を
送って液攪拌を行うことが望ましい。
込みかつ陰極室内で発生するガスを除去するため空気を
送って液攪拌を行うことが望ましい。
本発明方法に使用する電解槽は、新規なものを製造して
も、従来の溶性陽極用として使用されてきた電解槽を転
換して使用してもよい。該転換は前記溶性陽極を不溶性
金属電極等と交換し該陽極及び陰極を隔膜で区画し、か
つ銅イオンと添加剤を含有する電解液を外部から供給す
るラインを設置するという比較的簡単な作業で行うこと
ができる。
も、従来の溶性陽極用として使用されてきた電解槽を転
換して使用してもよい。該転換は前記溶性陽極を不溶性
金属電極等と交換し該陽極及び陰極を隔膜で区画し、か
つ銅イオンと添加剤を含有する電解液を外部から供給す
るラインを設置するという比較的簡単な作業で行うこと
ができる。
本発明方法の電解液に含まれる添加剤としては例えば1
.3−ジオキソラン重合体又はポリプロピレングリコー
ル、ポリプロピレンプロパノール等のポリエーテル類及
び有機硫黄化合物、フェナジン染料等の窒素化合物等が
ある。
.3−ジオキソラン重合体又はポリプロピレングリコー
ル、ポリプロピレンプロパノール等のポリエーテル類及
び有機硫黄化合物、フェナジン染料等の窒素化合物等が
ある。
電流濃度、印加電圧、電流密度、液温等の電解条件自体
は従来の電解銅めっき方法と同様で良く、例えば電流濃
度は0.1〜3.OA#!、印加電圧は1.5〜6.0
■、陽極電流密度は1〜IOA/da+2、陰極電流密
度は1〜10A/daI2、液温は15〜35°C程度
とする。
は従来の電解銅めっき方法と同様で良く、例えば電流濃
度は0.1〜3.OA#!、印加電圧は1.5〜6.0
■、陽極電流密度は1〜IOA/da+2、陰極電流密
度は1〜10A/daI2、液温は15〜35°C程度
とする。
陰極空中の銅イオン濃度を一定値に維持するため銅イオ
ンの補給は電解液に適宜の銅化合物例えば炭酸銅を不足
分の前記添加剤とともに溶解して電解槽の陰極室にその
全部又は殆どを供給することが望ましい。陽極室への供
給は、水の電気分解あるいは蒸発による減少を補う量で
よく、隔膜を透過してくる量及び陽極室壁に設けた細孔
を通しての自然循環を利用して間接的に行うことができ
るが、勿論直接供給してもよい。
ンの補給は電解液に適宜の銅化合物例えば炭酸銅を不足
分の前記添加剤とともに溶解して電解槽の陰極室にその
全部又は殆どを供給することが望ましい。陽極室への供
給は、水の電気分解あるいは蒸発による減少を補う量で
よく、隔膜を透過してくる量及び陽極室壁に設けた細孔
を通しての自然循環を利用して間接的に行うことができ
るが、勿論直接供給してもよい。
この場合に陽極室へ直接供給されあるいは陰極室から隔
膜又は陽極室壁に設けた細孔を透過して供給される電解
液供給速度が0.2ml/KAHを下回ると電解により
分解して減少する陽極室内の電解液量を補充することが
十分にできない。又該供給速度が11ml / K A
Hを越えると添加剤分解量が増加して高価な添加剤を
多量に補充する必要が生ずる。従って本発明の銅めっき
方法における陽極室への電解液供給速度は0.2〜1l
sl/KAHとすることが好適である。この電解液供給
速度で銅めっきを行うと、陽極室の電解液量の不足によ
るめっき厚不均−等のめっき不良が回避され、かつ必要
以上の添加剤の分解による浪費を抑制することができる
。
膜又は陽極室壁に設けた細孔を透過して供給される電解
液供給速度が0.2ml/KAHを下回ると電解により
分解して減少する陽極室内の電解液量を補充することが
十分にできない。又該供給速度が11ml / K A
Hを越えると添加剤分解量が増加して高価な添加剤を
多量に補充する必要が生ずる。従って本発明の銅めっき
方法における陽極室への電解液供給速度は0.2〜1l
sl/KAHとすることが好適である。この電解液供給
速度で銅めっきを行うと、陽極室の電解液量の不足によ
るめっき厚不均−等のめっき不良が回避され、かつ必要
以上の添加剤の分解による浪費を抑制することができる
。
第1図は、本発明方法に使用可能な電解槽を例示する縦
断面図である。
断面図である。
箱型の電解槽本体1には、その中央に陰極であるプリン
ト回路基板等の被めっき材2が設置され、液液めっき材
2の両側には10〜30cmの間隔をおいて2個の陽極
構成体3がそれぞれ設置されている。
ト回路基板等の被めっき材2が設置され、液液めっき材
2の両側には10〜30cmの間隔をおいて2個の陽極
構成体3がそれぞれ設置されている。
該陽極構成体3は、前記被めっき材2例の片面に酸化イ
リジウム等の白金族金属酸化物が被覆されかつ中央下部
に電解液供給細孔4が設けられた平板状の不溶性金属陽
極5、該陽極5の前記被覆側に密着した額縁状ガスケッ
ト6、該ガスケット6に密着したシート状の隔膜7、該
隔膜7に密着した複数個の開口部8を有するフレーム9
を積層して成り、各部材はボルト孔を貫通するポル1−
10を締着することにより一体化されている。
リジウム等の白金族金属酸化物が被覆されかつ中央下部
に電解液供給細孔4が設けられた平板状の不溶性金属陽
極5、該陽極5の前記被覆側に密着した額縁状ガスケッ
ト6、該ガスケット6に密着したシート状の隔膜7、該
隔膜7に密着した複数個の開口部8を有するフレーム9
を積層して成り、各部材はボルト孔を貫通するポル1−
10を締着することにより一体化されている。
前記電解槽本体1の陽極構成体3の不溶性金属陽極5及
び隔膜7間に陽極室が形成され、該陽極室以外が陰極室
とされている。
び隔膜7間に陽極室が形成され、該陽極室以外が陰極室
とされている。
この電解槽に銅イオンと添加剤を含有する電解液を満た
して通電を行うと該電解液中の銅イオンが陰極上で還元
されて金属銅として陰極である被めっき材2上に析出し
て銅めっきが行われる。このときに銅めっきと同時に水
電解が生じて陽極液が減少するが、この陽極液の減少分
が前記電解液供給細孔4を通して陰極室から供給され、
常に陽極液量を所定値近傍に維持してめっき不良等の不
都合が生ずることを回避することができる。
して通電を行うと該電解液中の銅イオンが陰極上で還元
されて金属銅として陰極である被めっき材2上に析出し
て銅めっきが行われる。このときに銅めっきと同時に水
電解が生じて陽極液が減少するが、この陽極液の減少分
が前記電解液供給細孔4を通して陰極室から供給され、
常に陽極液量を所定値近傍に維持してめっき不良等の不
都合が生ずることを回避することができる。
(実施例)
次に本発明の銅めっき方法の実施例を記載するが、該実
施例は本発明を限定するものではない。
施例は本発明を限定するものではない。
実施■よ
表面に孔径2.Ommの孔、孔径1.Ommの孔をそれ
ぞれ有する2種類の不溶性金属電極、及び孔を有しない
不溶性金属電極1種類の計3種類の片面に酸化イリジウ
ム被覆を形成した不溶性金属電極を準備した。これらの
同じ孔径の不溶性金属陽極各2枚と中性隔膜2枚を用い
て第1図に示したように2個の陽極構成体を構成した。
ぞれ有する2種類の不溶性金属電極、及び孔を有しない
不溶性金属電極1種類の計3種類の片面に酸化イリジウ
ム被覆を形成した不溶性金属電極を準備した。これらの
同じ孔径の不溶性金属陽極各2枚と中性隔膜2枚を用い
て第1図に示したように2個の陽極構成体を構成した。
前記不溶性金属陽極に設けた細孔は陰極室に開放されて
いるのでこの細孔を通して陰極室の電解液が陽極室に自
然循環により供給された。両陽極構成体間に化学めっき
処理済の縦340閣、横250aaのガラスエポキシ基
板を陰極として設置し、計3種類の第1図に示す銅めっ
き用電解槽を構成し、第1表に示す処理条件でめっきを
行った。陰極を交換しながら同時に通電量に応じて添加
剤を170 ml/ K A Hで補給しながらめっき
を100回繰り返した後、前記電解槽内の添加側量の分
析と100回目の基板のめっき厚の測定を行った。めっ
き厚の測定は、第2図に示すような被めっき材の測定点
針25カ所の表裏面について渦電流法により行った。そ
の結果を第2表〜第5表に示した。第2表は孔径(陽極
室への供め め 鉦 m) 給電解法量)と添加側濃度、平均めっき厚及びめっきば
らつきの関係を示し、第3表、第4表及び第5表はそれ
ぞれ孔径2.OM、孔径1.Om及び無孔の不溶性金属
電極を使用した場合の上記各測定点のめっき厚を示すも
のである。
いるのでこの細孔を通して陰極室の電解液が陽極室に自
然循環により供給された。両陽極構成体間に化学めっき
処理済の縦340閣、横250aaのガラスエポキシ基
板を陰極として設置し、計3種類の第1図に示す銅めっ
き用電解槽を構成し、第1表に示す処理条件でめっきを
行った。陰極を交換しながら同時に通電量に応じて添加
剤を170 ml/ K A Hで補給しながらめっき
を100回繰り返した後、前記電解槽内の添加側量の分
析と100回目の基板のめっき厚の測定を行った。めっ
き厚の測定は、第2図に示すような被めっき材の測定点
針25カ所の表裏面について渦電流法により行った。そ
の結果を第2表〜第5表に示した。第2表は孔径(陽極
室への供め め 鉦 m) 給電解法量)と添加側濃度、平均めっき厚及びめっきば
らつきの関係を示し、第3表、第4表及び第5表はそれ
ぞれ孔径2.OM、孔径1.Om及び無孔の不溶性金属
電極を使用した場合の上記各測定点のめっき厚を示すも
のである。
第2表から、孔径(陽極室への供給電解液量)が太き(
なるほど添加側濃度が減少することが判リ、又陽極室へ
の液量供給を行わないとめっき厚にばらつきが生ずるこ
とも判る。つまり第3表及び第4表から孔径が2.0
llll11(陽極室への供給速度20.9n+I/
K A H)及び1.0+1IIn(陽極室への供給速
度5.2ml/ K A H)であるとめっき厚はそれ
ぞれ44.3〜49.5μm及び44.7〜49.0μ
mで比較的狭い範囲内で良好な分布を示すのに対し、無
孔の場合にはめっき厚は36,6〜49.2μmとなり
広い範囲にばらつき、特に高位置の測定点におけるめっ
き厚が薄く、これは電気分解による陽極室の電解液の液
量不足により通電不良に起因するものと推測できる。
なるほど添加側濃度が減少することが判リ、又陽極室へ
の液量供給を行わないとめっき厚にばらつきが生ずるこ
とも判る。つまり第3表及び第4表から孔径が2.0
llll11(陽極室への供給速度20.9n+I/
K A H)及び1.0+1IIn(陽極室への供給速
度5.2ml/ K A H)であるとめっき厚はそれ
ぞれ44.3〜49.5μm及び44.7〜49.0μ
mで比較的狭い範囲内で良好な分布を示すのに対し、無
孔の場合にはめっき厚は36,6〜49.2μmとなり
広い範囲にばらつき、特に高位置の測定点におけるめっ
き厚が薄く、これは電気分解による陽極室の電解液の液
量不足により通電不良に起因するものと推測できる。
第5表の表裏面の上部2列の測定値を除いた下部3列の
みの測定値からめっき厚のばらつきを算出するとσ。−
+=1.1であり第3表及び第4表の場合のばらつきと
相違が認められなかった。
みの測定値からめっき厚のばらつきを算出するとσ。−
+=1.1であり第3表及び第4表の場合のばらつきと
相違が認められなかった。
又第5表の測定時に電解液量の減少速度を測定したとこ
ろ0.19ml/ K A Hであった。
ろ0.19ml/ K A Hであった。
実施±1
孔径が1.0閣の不溶性金属電極を使用し、陽極室への
電解液供給速度を変化させたこと以外は、実施例1と同
一の条件で被めっき材へのめっきを行い、陽極室への電
解液供給速度変化に対応する添加剤濃度を測定したとこ
ろ、添加剤濃度変化がほぼ生じない電解液供給速度は1
1.hl/KAHであった。この値及び第2表の結果か
ら、陽極室への電解液供給速度11.8a+l/ KA
Hを境にこの値を上回ると電解液(めっき液)中の添加
剤濃度が減少し、この値を下回ると添加剤濃度は増加す
ることが判る。
電解液供給速度を変化させたこと以外は、実施例1と同
一の条件で被めっき材へのめっきを行い、陽極室への電
解液供給速度変化に対応する添加剤濃度を測定したとこ
ろ、添加剤濃度変化がほぼ生じない電解液供給速度は1
1.hl/KAHであった。この値及び第2表の結果か
ら、陽極室への電解液供給速度11.8a+l/ KA
Hを境にこの値を上回ると電解液(めっき液)中の添加
剤濃度が減少し、この値を下回ると添加剤濃度は増加す
ることが判る。
実】111
下部に378インチのねじを切った縦470m、横11
00++a及び厚さ3閣のチタン板の片面に酸化イリジ
ウム被覆を形成した不溶性金属電極を作製した。
00++a及び厚さ3閣のチタン板の片面に酸化イリジ
ウム被覆を形成した不溶性金属電極を作製した。
該電極の被覆方向にゴム製ガスケット、中性隔膜、塩化
ビニル樹脂製フレームを取りつけて陽極構成体を構成し
内部に陽極室を構成した。前記電極の非被覆面には電解
液導入のために、先端に直径1.0閣のテフロン(商品
名パルフロン)製チューブを付設したテフロン製コネク
タを設置した。チューブの先端は陰極室に開放した。該
陽極室を片側3個、計6個を一組として陽極を構成した
。陽極間に化学銅めっきを行ったガラスエポキシ基板(
両面スルーホール、銅膜厚16μm、縦340閣、横2
50鵬、厚さ1.6mm)を1フレームに15枚(縦方
向3枚、横方向5枚)を設置して陰極とした。実施例1
と同一組成の電解液を使用し陰極室に供給した。
ビニル樹脂製フレームを取りつけて陽極構成体を構成し
内部に陽極室を構成した。前記電極の非被覆面には電解
液導入のために、先端に直径1.0閣のテフロン(商品
名パルフロン)製チューブを付設したテフロン製コネク
タを設置した。チューブの先端は陰極室に開放した。該
陽極室を片側3個、計6個を一組として陽極を構成した
。陽極間に化学銅めっきを行ったガラスエポキシ基板(
両面スルーホール、銅膜厚16μm、縦340閣、横2
50鵬、厚さ1.6mm)を1フレームに15枚(縦方
向3枚、横方向5枚)を設置して陰極とした。実施例1
と同一組成の電解液を使用し陰極室に供給した。
陽極室への液流入量は2.4ml/KAHであった。
3.0A/da”で通電を行ったところ36μm相当の
銅めっきが形成された。計15枚の陰極それぞれの第2
図に示した測定点の表裏のめっき厚を測定し、平均めっ
き厚とばらつきを第6表に示した。平均めっき厚は49
.1〜52.0μmの比較的狭い範囲内にありそのばら
つきもσ7−+=1.7であり、かつめっき処理面は光
沢があり製品上全く問題は認められなかった。
銅めっきが形成された。計15枚の陰極それぞれの第2
図に示した測定点の表裏のめっき厚を測定し、平均めっ
き厚とばらつきを第6表に示した。平均めっき厚は49
.1〜52.0μmの比較的狭い範囲内にありそのばら
つきもσ7−+=1.7であり、かつめっき処理面は光
沢があり製品上全く問題は認められなかった。
(発明の効果)
本発明は、銅イオン及び添加剤を含有する溶液を電解液
として電解し被めっき材に銅めっきを行う際に陰極室へ
の電解液の供給を適性に行いつつ、6め (単位μm) 陽極室への前記電解液の供給量を0.2〜l1ml/K
AHとすることを特徴とする銅めっき方法である。
として電解し被めっき材に銅めっきを行う際に陰極室へ
の電解液の供給を適性に行いつつ、6め (単位μm) 陽極室への前記電解液の供給量を0.2〜l1ml/K
AHとすることを特徴とする銅めっき方法である。
本発明方法によると、電解銅めっき処理中に電解で分解
して消費される電解液を補充するために適正な電解液量
が電解槽の陰極室に供給されごく一部の電解液が陽極室
に供給れて陽極室の液量不足に起因する通電不良等によ
るめっき不良が生ずることが抑制される。又添加剤の過
剰な分解を誘発する多量の電解液供給を陽極室に行わな
いようにしているため、不要な添加剤の補充を防止して
経済的な銅めっきを行うことができる。
して消費される電解液を補充するために適正な電解液量
が電解槽の陰極室に供給されごく一部の電解液が陽極室
に供給れて陽極室の液量不足に起因する通電不良等によ
るめっき不良が生ずることが抑制される。又添加剤の過
剰な分解を誘発する多量の電解液供給を陽極室に行わな
いようにしているため、不要な添加剤の補充を防止して
経済的な銅めっきを行うことができる。
第1図は、本発明の銅めっき方法に使用できる電解槽を
例示する分解斜視図、第2図は、実施例における被めっ
き材の銅めっき厚測定点を示す図である。 7・・・隔膜 8・・・開口部 9・−・フレーム 10・・・ポルト ド・−電解槽本体 2・・・被めっき材3・・・陽極構
成体 4・・・電解液供給細孔5・・・不溶性金属陽極
6・・・ガスケット第 ブ 図 第2
例示する分解斜視図、第2図は、実施例における被めっ
き材の銅めっき厚測定点を示す図である。 7・・・隔膜 8・・・開口部 9・−・フレーム 10・・・ポルト ド・−電解槽本体 2・・・被めっき材3・・・陽極構
成体 4・・・電解液供給細孔5・・・不溶性金属陽極
6・・・ガスケット第 ブ 図 第2
Claims (2)
- (1)めっき用電解槽を隔膜により不溶性金属電極から
成る陽極が収容された陽極室と被めっき材である陰極が
収容された陰極室に分離し、銅イオン及び添加剤を含有
する溶液を電解液として電解し、前記被めっき材に銅め
っきを行う方法において、前記陰極室への前記電解液の
供給を該陰極空中の銅イオン濃度が一定値を維持するよ
うに行い、かつ前記陽極室への前記電解液の供給量を0
.2〜11ml/KAHとすることを特徴とする銅めっ
き方法。 - (2)陽極室への電解液の供給を陽極室壁に設けた細孔
を通して自然循環により行う請求項1に記載の方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2162192A JPH0452296A (ja) | 1990-06-20 | 1990-06-20 | 銅めっき方法 |
DE69122910T DE69122910T2 (de) | 1990-06-20 | 1991-06-12 | Verfahren zur Kupfer-Elektroplattierung |
EP91830259A EP0462943B1 (en) | 1990-06-20 | 1991-06-12 | Method of copper plating |
US07/716,870 US5143593A (en) | 1990-06-20 | 1991-06-18 | Method of copper plating |
MYPI91001086A MY129999A (en) | 1990-06-20 | 1991-06-18 | Method of copper plating. |
KR1019910010123A KR920000974A (ko) | 1990-06-20 | 1991-06-19 | 구리 도금법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2162192A JPH0452296A (ja) | 1990-06-20 | 1990-06-20 | 銅めっき方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0452296A true JPH0452296A (ja) | 1992-02-20 |
Family
ID=15749751
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2162192A Pending JPH0452296A (ja) | 1990-06-20 | 1990-06-20 | 銅めっき方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5143593A (ja) |
EP (1) | EP0462943B1 (ja) |
JP (1) | JPH0452296A (ja) |
KR (1) | KR920000974A (ja) |
DE (1) | DE69122910T2 (ja) |
MY (1) | MY129999A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000256896A (ja) * | 1999-03-11 | 2000-09-19 | Ebara Corp | めっき装置 |
JP2002521572A (ja) * | 1998-07-30 | 2002-07-16 | ヴァルター ヒレブラント ゲーエムベーハー ウント コー. ガルヴァノテヒニーク | 亜鉛−ニッケル浴用アルカリ性めっき浴槽 |
JP2006511712A (ja) * | 2002-12-23 | 2006-04-06 | メタケム ゲゼルシャフト ファー シュヒトヒェミー デル メタル エムベーハー | 電気めっき用陽極 |
JP2007046092A (ja) * | 2005-08-09 | 2007-02-22 | Hyomen Shori System:Kk | シート状ワークの銅めっき装置および方法 |
JP2014129591A (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-10 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 電解メッキ装置 |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69219484D1 (de) * | 1992-09-15 | 1997-06-05 | Atr Wire & Cable Co | Verfahren und vorrichtung zur elektrolytischen beschichtung mit kupfer |
US5908540A (en) * | 1997-08-07 | 1999-06-01 | International Business Machines Corporation | Copper anode assembly for stabilizing organic additives in electroplating of copper |
US6024856A (en) * | 1997-10-10 | 2000-02-15 | Enthone-Omi, Inc. | Copper metallization of silicon wafers using insoluble anodes |
JP2000256898A (ja) * | 1999-03-03 | 2000-09-19 | Permelec Electrode Ltd | ウェーハの銅めっき方法 |
TW539652B (en) * | 2000-09-04 | 2003-07-01 | Tsurumi Soda Kk | Material for copper electroplating, method for manufacturing same and copper electroplating method |
US20040050706A1 (en) * | 2000-10-10 | 2004-03-18 | Masaru Seita | Copper electroplating method using insoluble anode |
US6451375B1 (en) * | 2001-01-05 | 2002-09-17 | International Business Machines Corporation | Process for depositing a film on a nanometer structure |
US6784104B2 (en) * | 2001-07-27 | 2004-08-31 | Texas Instruments Incorporated | Method for improved cu electroplating in integrated circuit fabrication |
WO2003092891A1 (en) * | 2002-05-02 | 2003-11-13 | Mykrolis Corporation | Device and method for increasing mass transport at liquid-solid diffusion boundary layer |
US7100954B2 (en) | 2003-07-11 | 2006-09-05 | Nexx Systems, Inc. | Ultra-thin wafer handling system |
JP4957906B2 (ja) * | 2007-07-27 | 2012-06-20 | 上村工業株式会社 | 連続電気銅めっき方法 |
JP5110269B2 (ja) * | 2007-08-09 | 2012-12-26 | 上村工業株式会社 | 電気銅めっき方法 |
CN101275252B (zh) * | 2007-12-26 | 2011-02-16 | 梧州三和新材料科技有限公司 | 一种连续电镀的装置及用途 |
TWI384925B (zh) * | 2009-03-17 | 2013-02-01 | Advanced Semiconductor Eng | 內埋式線路基板之結構及其製造方法 |
US9068272B2 (en) * | 2012-11-30 | 2015-06-30 | Applied Materials, Inc. | Electroplating processor with thin membrane support |
CN103388172B (zh) * | 2013-07-22 | 2016-06-22 | 苏州昕皓新材料科技有限公司 | 一种快速判断电镀添加剂性能的方法 |
CN109056002B (zh) * | 2017-07-19 | 2022-04-15 | 叶旖婷 | 一种通孔隔离法酸性电镀铜工艺及其装置 |
CN111074307A (zh) * | 2020-01-04 | 2020-04-28 | 安徽工业大学 | 一种隔膜电解法镀铜镀液稳定工艺 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3769179A (en) * | 1972-01-19 | 1973-10-30 | Kewanee Oil Co | Copper plating process for printed circuits |
IL43733A (en) * | 1973-12-03 | 1976-06-30 | Yeda Res & Dev | Method of electrodeposition of metals using catalyzed hydrogen |
US4469564A (en) * | 1982-08-11 | 1984-09-04 | At&T Bell Laboratories | Copper electroplating process |
JPS6063987A (ja) * | 1983-09-17 | 1985-04-12 | 沖電気工業株式会社 | 印刷配線基板の製造方法 |
JPH0679922B2 (ja) * | 1988-09-30 | 1994-10-12 | 松下冷機株式会社 | 厨芥収納庫 |
-
1990
- 1990-06-20 JP JP2162192A patent/JPH0452296A/ja active Pending
-
1991
- 1991-06-12 EP EP91830259A patent/EP0462943B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-06-12 DE DE69122910T patent/DE69122910T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-06-18 MY MYPI91001086A patent/MY129999A/en unknown
- 1991-06-18 US US07/716,870 patent/US5143593A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-06-19 KR KR1019910010123A patent/KR920000974A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002521572A (ja) * | 1998-07-30 | 2002-07-16 | ヴァルター ヒレブラント ゲーエムベーハー ウント コー. ガルヴァノテヒニーク | 亜鉛−ニッケル浴用アルカリ性めっき浴槽 |
JP2008150713A (ja) * | 1998-07-30 | 2008-07-03 | Walter Hillebrand Gmbh & Co Galvanotechnik | 亜鉛−ニッケル浴用アルカリ性めっき浴槽及びめっき方法 |
US7807035B2 (en) | 1998-07-30 | 2010-10-05 | Ewh Industrieanlagen Gmbh & Co. Kg | Methods of plating zinc-containing coatings under alkaline conditions |
JP4716568B2 (ja) * | 1998-07-30 | 2011-07-06 | ヴァルター ヒレブラント ゲーエムベーハー ウント コー. ガルヴァノテヒニーク | 亜鉛−ニッケル浴用アルカリ性めっき浴槽 |
US8486235B2 (en) | 1998-07-30 | 2013-07-16 | Ewh Industrieanlagen Gmbh & Co. Kg | Alkaline zinc-nickel bath |
JP2000256896A (ja) * | 1999-03-11 | 2000-09-19 | Ebara Corp | めっき装置 |
JP2006511712A (ja) * | 2002-12-23 | 2006-04-06 | メタケム ゲゼルシャフト ファー シュヒトヒェミー デル メタル エムベーハー | 電気めっき用陽極 |
JP2007046092A (ja) * | 2005-08-09 | 2007-02-22 | Hyomen Shori System:Kk | シート状ワークの銅めっき装置および方法 |
JP2014129591A (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-10 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 電解メッキ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR920000974A (ko) | 1992-01-29 |
DE69122910T2 (de) | 1997-05-07 |
EP0462943B1 (en) | 1996-10-30 |
DE69122910D1 (de) | 1996-12-05 |
US5143593A (en) | 1992-09-01 |
EP0462943A1 (en) | 1991-12-27 |
MY129999A (en) | 2007-05-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0452296A (ja) | 銅めっき方法 | |
KR101580483B1 (ko) | 연속 전기 구리도금 방법 | |
US8540857B1 (en) | Plating method and apparatus with multiple internally irrigated chambers | |
US6852209B2 (en) | Insoluble electrode for electrochemical operations on substrates | |
US4514266A (en) | Method and apparatus for electroplating | |
JPH08507106A (ja) | 金属層の電解析出のための方法と装置 | |
US5082538A (en) | Process for replenishing metals in aqueous electrolyte solutions | |
US6899803B2 (en) | Method and device for the regulation of the concentration of metal ions in an electrolyte and use thereof | |
JP2006316328A (ja) | 2層フレキシブル銅張積層板の製造方法 | |
JP2003245669A (ja) | 電解水素溶解水生成装置 | |
JP3352081B2 (ja) | プリント基板の銅めっき装置 | |
JP2510422B2 (ja) | プリント基板の銅メッキ方法 | |
JPH04362199A (ja) | 電気めっき装置 | |
JP2000256898A (ja) | ウェーハの銅めっき方法 | |
KR100426159B1 (ko) | 금속막의전착방법및이를위한장치 | |
JPH0673393B2 (ja) | プリント基板の銅メッキ方法 | |
AU2008265451B2 (en) | Method for improving nickel cathode morphology | |
Ng et al. | Deposition of copper in cylindrical pores by a pulse plating technique | |
JPH1018062A (ja) | エッチング液再生方法、エッチング液再生装置およびエッチング装置 | |
JP4242248B2 (ja) | 不溶性陽極を使用する錫めっき方法 | |
JPH04284691A (ja) | プリント配線板の電気めっき方法 | |
JPH05302199A (ja) | 不溶性陽極を用いた銅めっき法における銅めっき浴の組成制御方法 | |
JP5676515B2 (ja) | 不溶性金属電極、電解装置、および、めっき方法 | |
CZ281552B6 (cs) | Způsob elektrolytického pokovování | |
JPH0514800B2 (ja) |