JPH04194857A - 新規な光開始剤系及びこれを用いた光重合性組成物 - Google Patents
新規な光開始剤系及びこれを用いた光重合性組成物Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明ii新規な光開始剤系およびこれを用いた光重合
性組成物に関する。
性組成物に関する。
(従来の技術)
光重合性組成物の用途では一般にUV光源が用いられ凸
版用、シ′リーフ像用、フォトレジスト用等に広く適用
されているが、その感filより高い系が望まれている
。特にレーザビームによる走査露光法に供する場合は、
最も有力な光源であるアルゴンイオンレーザの458,
488.5145nm等の可視光に対し十分高い感度を
持つことが必要である。従来よりこの分野でに感度を増
大させるための光開始剤系について多くの研究がなされ
ている。光開始剤と(〜ではベンツインおよびその誘導
体、置換ま7tは非置換の多核キノン類等多くの物質が
既に知られているが、特に可視光において十分な感度を
有するものは知られていない。
版用、シ′リーフ像用、フォトレジスト用等に広く適用
されているが、その感filより高い系が望まれている
。特にレーザビームによる走査露光法に供する場合は、
最も有力な光源であるアルゴンイオンレーザの458,
488.5145nm等の可視光に対し十分高い感度を
持つことが必要である。従来よりこの分野でに感度を増
大させるための光開始剤系について多くの研究がなされ
ている。光開始剤と(〜ではベンツインおよびその誘導
体、置換ま7tは非置換の多核キノン類等多くの物質が
既に知られているが、特に可視光において十分な感度を
有するものは知られていない。
(発明が解決しようとする課題)
本発明は新規な光開始剤系およびこれを用いた可視光に
対して高い感度を有する光重合性組成物を提供するもの
である。
対して高い感度を有する光重合性組成物を提供するもの
である。
(課題を解決するための手段)
本発明に。
(1) 下記式[1〕で表わされるアミノベンジリデ
ンカルボニル化合物 (式中、 R11R4,R6および九けそれぞれ独立に
炭素数1〜6のアルキル基であり、R5,R78,拗。
ンカルボニル化合物 (式中、 R11R4,R6および九けそれぞれ独立に
炭素数1〜6のアルキル基であり、R5,R78,拗。
Ra、 Ra−&o、 RoおよびR,Uそれぞれ独立
に水素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数1〜12のア
ルキル基、アリール基壇几は炭素数1〜12のアルコキ
シ基であり、Xは酸素原子、硫黄原子ま几は炭素数1〜
12のアルキル基、炭素数7−20のアラルキル基もし
くはアリール基で置換されたもしくは置換されていない
窒素原子である。)および (2)下記式〔■〕で表わされるN−アリール−α−ア
ミノ散 (式中* R13* R+4* R+s + R++
sおよびRI7はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜
12のアルキル基またはハロゲン原子であり、R18は
炭素数1〜12のアルキル基、/クロアルキル基、炭素
数1〜12のヒドロキシアルキル基、炭素数2〜12の
アルコキシアルキル基、炭素数1〜12のアミノアルキ
ル基ま友はアリール基であり、R19およびRJ2oは
それぞれ独立に水素原子またに炭素数1〜8のアルキル
基である。) および (3) 下記式[111)で表わされるチタノセン化
合物謁 (式中、 R21,Rn、 R43,Ra4+ Rs
、Rs、 Rm、 Ra1l。
に水素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数1〜12のア
ルキル基、アリール基壇几は炭素数1〜12のアルコキ
シ基であり、Xは酸素原子、硫黄原子ま几は炭素数1〜
12のアルキル基、炭素数7−20のアラルキル基もし
くはアリール基で置換されたもしくは置換されていない
窒素原子である。)および (2)下記式〔■〕で表わされるN−アリール−α−ア
ミノ散 (式中* R13* R+4* R+s + R++
sおよびRI7はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜
12のアルキル基またはハロゲン原子であり、R18は
炭素数1〜12のアルキル基、/クロアルキル基、炭素
数1〜12のヒドロキシアルキル基、炭素数2〜12の
アルコキシアルキル基、炭素数1〜12のアミノアルキ
ル基ま友はアリール基であり、R19およびRJ2oは
それぞれ独立に水素原子またに炭素数1〜8のアルキル
基である。) および (3) 下記式[111)で表わされるチタノセン化
合物謁 (式中、 R21,Rn、 R43,Ra4+ Rs
、Rs、 Rm、 Ra1l。
賜およびR91l−tそれぞれ独立に水素原子、ノ\ロ
ゲン原子、炭素数1〜20のアルコキシ基または複素環
である。) を含有してなる光重合開始剤系およびこの光重合開始剤
系と常圧において少なくとも100℃の沸点を有する付
加重合性化合物を含有してなる光重合性組成物に関する
。
ゲン原子、炭素数1〜20のアルコキシ基または複素環
である。) を含有してなる光重合開始剤系およびこの光重合開始剤
系と常圧において少なくとも100℃の沸点を有する付
加重合性化合物を含有してなる光重合性組成物に関する
。
式〔■〕で表わされるアミノベンジリデンカルボニル化
合物としては、2.6−ビス(p−N、N−ジエチルア
ミノベンジリデン)−4−メチル−4−アザシクロヘキ
サノン、26−ビスIp−N、N−ジエチルアミノベン
ジリデン)−4−エトキシカルボニル−4−アザシクロ
へキサノン、26−ビス(p KN−ジエチルアミノ
ベンシリテン)−4−ベンゾイル−4−アザシクロヘキ
サノン、Z6−ビス(p−N、N−ジエチルアミノベン
ジリデン)−4−エチル−4−アザシクロヘキサノン。
合物としては、2.6−ビス(p−N、N−ジエチルア
ミノベンジリデン)−4−メチル−4−アザシクロヘキ
サノン、26−ビスIp−N、N−ジエチルアミノベン
ジリデン)−4−エトキシカルボニル−4−アザシクロ
へキサノン、26−ビス(p KN−ジエチルアミノ
ベンシリテン)−4−ベンゾイル−4−アザシクロヘキ
サノン、Z6−ビス(p−N、N−ジエチルアミノベン
ジリデン)−4−エチル−4−アザシクロヘキサノン。
2.6−ビス(p−N、N−ジエチルアミンベンジリデ
ン)−4−フェネチル−4−アザシクロへキサノン、z
6−ビス(p−N、N−ジエチルアミノベンシリテン)
−4−ベンジル−4−アザシクロヘキサノン、z6−ビ
ス(p−N、N−ジエチルアミノベンジリデン)−4−
アセチル−4−アザシクロへキサノン、26−ビス(O
−クロロ−p −N。
ン)−4−フェネチル−4−アザシクロへキサノン、z
6−ビス(p−N、N−ジエチルアミノベンシリテン)
−4−ベンジル−4−アザシクロヘキサノン、z6−ビ
ス(p−N、N−ジエチルアミノベンジリデン)−4−
アセチル−4−アザシクロへキサノン、26−ビス(O
−クロロ−p −N。
N−ジエチルアミノベンジリデン)−4−メチル−4−
アザシクロヘキサノン、2.6−ヒス(p−N、N−ジ
エチルアミノベンジリデン)−4−オキソシクロヘキサ
ノン、z6−ビス(p−N、N−ジエチルアミノベンジ
リデン)−4−フェニルシクロヘキサノンなどがあげら
れる。
アザシクロヘキサノン、2.6−ヒス(p−N、N−ジ
エチルアミノベンジリデン)−4−オキソシクロヘキサ
ノン、z6−ビス(p−N、N−ジエチルアミノベンジ
リデン)−4−フェニルシクロヘキサノンなどがあげら
れる。
式〔■〕で表わされるN−アリール−α−アミノ酸とし
てa、p−クロロ−N−エチルフェニルクリシン、N−
メ+ルフェニルグリシン、p−クロロ−N−メチルフェ
ニルグリシン、 p−7’ロム−N−メチルフェニル
グリシン、p−シアノ−N−フェニルグリシン、p−ク
ロロ−N−フェニルグリシン、p−クロローN−プロピ
ルフェニルグリシン、p−シアノ−N−メチルフェニル
グリシンなどがあげられる。
てa、p−クロロ−N−エチルフェニルクリシン、N−
メ+ルフェニルグリシン、p−クロロ−N−メチルフェ
ニルグリシン、 p−7’ロム−N−メチルフェニル
グリシン、p−シアノ−N−フェニルグリシン、p−ク
ロロ−N−フェニルグリシン、p−クロローN−プロピ
ルフェニルグリシン、p−シアノ−N−メチルフェニル
グリシンなどがあげられる。
式(I[I]で表わされるチタノセン化合物としては。
ビス(シクロペンタジェニル)−ビス−[Z6−シフル
オロー3−(ピロール−1−イル)−フェニル]チタン
、ビス(シクロペンタジェニル)−ビス−(2に6−ジ
フルオロフェニル)チタン、ビス(シクロペンタジェニ
ル)−ビス口(ピロール−1−イル)フェニル]チタン
、ビス(シクロペンタジェニル)−ビスーrz6−ジプ
ロムー3−(ピロール−1−イル)−フェニル]チタン
、ビス(シクロペンタジェニル)−ビス−(2,6−シ
ブロムフェニル)チタンなどがあげラレる。
オロー3−(ピロール−1−イル)−フェニル]チタン
、ビス(シクロペンタジェニル)−ビス−(2に6−ジ
フルオロフェニル)チタン、ビス(シクロペンタジェニ
ル)−ビス口(ピロール−1−イル)フェニル]チタン
、ビス(シクロペンタジェニル)−ビスーrz6−ジプ
ロムー3−(ピロール−1−イル)−フェニル]チタン
、ビス(シクロペンタジェニル)−ビス−(2,6−シ
ブロムフェニル)チタンなどがあげラレる。
光重合性組成物に含まれる付加重合性化合物に常圧にお
いて少なくとも100℃の沸点を有するものが用いられ
る。常圧において沸点が100℃より低いようなもので
は系内に含有する溶剤を乾燥等によって除去する際ま几
は活性光線を照射する際該付加重合性化合物が揮散して
特性上および作業性上好ましくないからである。また該
付加重合性化合物は光開始剤等と均−表組放物にする几
めに、用いられる有機溶剤に可溶なものが好ましい。
いて少なくとも100℃の沸点を有するものが用いられ
る。常圧において沸点が100℃より低いようなもので
は系内に含有する溶剤を乾燥等によって除去する際ま几
は活性光線を照射する際該付加重合性化合物が揮散して
特性上および作業性上好ましくないからである。また該
付加重合性化合物は光開始剤等と均−表組放物にする几
めに、用いられる有機溶剤に可溶なものが好ましい。
有機溶剤は2例えばアセトン、メチルエチルケトン、ト
ルエン、クロロホルム、メタノール、エタノール、1.
1.1−トリクロロエタン等が用いられる。
ルエン、クロロホルム、メタノール、エタノール、1.
1.1−トリクロロエタン等が用いられる。
常圧において少なくとも100℃の沸点を有する付加重
合性化合物としては多価アルコールとα。
合性化合物としては多価アルコールとα。
β−不飽和カルボン酸とを縮合して得られるもの。
例えばジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート(
ジアクリレートまたはジメタアクリレートの意味、以下
同じ)、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート
、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、1.
3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、R3−
ブタンジオール(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタ(メタ)アクリレート、22−ビス(4−
アクリロキシジエトキシフエニル)フロパン、12−ビ
ス(4−メタクIJ r:1キンベンタエトキシフユニ
ル)プロパン等、7’lJシジル基含有化合物にα、β
−不飽和カルボン醗を付加し2て得られるもの9例えば
トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリ(
メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエ
ーテルジ(メタ)アクリレート、新中村化学■製、商品
名f3PE−500(Z2−ヒス(4−メタクリロキシ
ポリエトキシフェニル)プロパンの混合物)等、不飽和
アミド例えばメチレンビスアクリルアミド、エチレンビ
スアクリルアミド、1,6−へキサメチレンビスアクリ
ルアミド等、ビニルエステル例えばジビニルサクシネー
ト、ジビニルアジペート、ジビニルフタレート、ジビニ
ルテレフタレーh、ジビニルベンゼン−1,3−シスル
*ネートなどがあげられる。
ジアクリレートまたはジメタアクリレートの意味、以下
同じ)、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート
、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、1.
3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、R3−
ブタンジオール(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタ(メタ)アクリレート、22−ビス(4−
アクリロキシジエトキシフエニル)フロパン、12−ビ
ス(4−メタクIJ r:1キンベンタエトキシフユニ
ル)プロパン等、7’lJシジル基含有化合物にα、β
−不飽和カルボン醗を付加し2て得られるもの9例えば
トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリ(
メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエ
ーテルジ(メタ)アクリレート、新中村化学■製、商品
名f3PE−500(Z2−ヒス(4−メタクリロキシ
ポリエトキシフェニル)プロパンの混合物)等、不飽和
アミド例えばメチレンビスアクリルアミド、エチレンビ
スアクリルアミド、1,6−へキサメチレンビスアクリ
ルアミド等、ビニルエステル例えばジビニルサクシネー
ト、ジビニルアジペート、ジビニルフタレート、ジビニ
ルテレフタレーh、ジビニルベンゼン−1,3−シスル
*ネートなどがあげられる。
この付加重合性化合物は、1橿ま次は2種以上が用いら
れる。
れる。
本発明においては、常圧において少なくと本100℃の
沸点を肩する付加重合性化合物100重量部(高分子量
有機重合体を用いる場合には。
沸点を肩する付加重合性化合物100重量部(高分子量
有機重合体を用いる場合には。
この付加重合性化合物と高分子量有機重合体との総量1
00重量部)に対して、上記の式〔■〕で表わされるア
ミノベンジリデンカルボニル化合物t0.01〜10重
量部、上記の式[11)で表わされるN−アリール−α
−アミノ酸を0.05〜20重量部、上記の式〔■〕で
表わされるチタノセン化合物を0.05〜20重量部の
範囲で用いることが好ましい。
00重量部)に対して、上記の式〔■〕で表わされるア
ミノベンジリデンカルボニル化合物t0.01〜10重
量部、上記の式[11)で表わされるN−アリール−α
−アミノ酸を0.05〜20重量部、上記の式〔■〕で
表わされるチタノセン化合物を0.05〜20重量部の
範囲で用いることが好ましい。
本発明になる光重合性組成物は、必要に応じて1種以上
の高分子量有機重合体を含有しても良い。
の高分子量有機重合体を含有しても良い。
該高分子量有機重合体は熱可塑性であり2分子量は、1
0,000〜700,000を有するものが好ましい。
0,000〜700,000を有するものが好ましい。
例えば次のものが用いられる。
(3)コポリエステル
多価アルコール、例えばジエチレングリコール。
トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、
トリメチロールプロパン、ネオペンチルグリコール等と
多価カルボン醒1例えばテレフタル酸、イソフタル酸、
セバシン酸、アジピン酸等とから製造したコポリエステ
ル (13) ビニルポリマ メタクリル酸、アクリル酸、メタクリル酸またはアクリ
ル酸のアルキルエステル例えばメチル(メタ)アクリレ
ート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)ア
クリレート、β−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、スチレン、ビニルトルエン、ビニルクロライド、ヒ
ニルフチラール等のビニル単蓋体のホモポリマまたはコ
ポリ(C+ ポリホルムアルデヒド CD) ポリウレタン (8ポリカーボネート (F) ナイロンま7’(はポリアミド(G) セ
ルロースエステルflJt[メチルセルロース。
トリメチロールプロパン、ネオペンチルグリコール等と
多価カルボン醒1例えばテレフタル酸、イソフタル酸、
セバシン酸、アジピン酸等とから製造したコポリエステ
ル (13) ビニルポリマ メタクリル酸、アクリル酸、メタクリル酸またはアクリ
ル酸のアルキルエステル例えばメチル(メタ)アクリレ
ート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)ア
クリレート、β−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、スチレン、ビニルトルエン、ビニルクロライド、ヒ
ニルフチラール等のビニル単蓋体のホモポリマまたはコ
ポリ(C+ ポリホルムアルデヒド CD) ポリウレタン (8ポリカーボネート (F) ナイロンま7’(はポリアミド(G) セ
ルロースエステルflJt[メチルセルロース。
エチルセルロース
光重合性組成物に高分子量有機重合体を加えることKよ
って基体への接着性、劇薬品性、フィルム性等の特性を
改良することができる。この高分子量有機重合体は、光
硬化性の点から該高分子i有機重合体と前記の付加重合
性化合物の合計重量を基準として20〜80重量%の範
囲とすることが好オしい。
って基体への接着性、劇薬品性、フィルム性等の特性を
改良することができる。この高分子量有機重合体は、光
硬化性の点から該高分子i有機重合体と前記の付加重合
性化合物の合計重量を基準として20〜80重量%の範
囲とすることが好オしい。
本発明になる光重合性組成物はまた必要に応じて染料、
顔料等の着色物質を含有して本よい。着色物質は公知の
ものが用いられ4例えばツクシン。
顔料等の着色物質を含有して本よい。着色物質は公知の
ものが用いられ4例えばツクシン。
クリスタルバイオレット、メチルオレンジ、ナイルブル
−2B、 ビクトリアピュアブルー、マラカイトグリ
ーン、ナイトグリーンB、スビロンブルー等がある。
−2B、 ビクトリアピュアブルー、マラカイトグリ
ーン、ナイトグリーンB、スビロンブルー等がある。
本発明になる光重合性組成物は保存時の安定性を高める
ためにラジカル重合禁止剤管たにラジカル重合抑制剤を
含有してもよい。このようなものとしてFip−メトキ
シフェノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ナフチ
ルアミン、フェノチアジン、アリールフォスファイト等
がある。
ためにラジカル重合禁止剤管たにラジカル重合抑制剤を
含有してもよい。このようなものとしてFip−メトキ
シフェノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ナフチ
ルアミン、フェノチアジン、アリールフォスファイト等
がある。
本発明になる光重合性組成物は光1合性組成物に用いる
ことが知られている他の添加物9例えば可塑剤、接着促
進剤等の添加物を含有してもよい。
ことが知られている他の添加物9例えば可塑剤、接着促
進剤等の添加物を含有してもよい。
本発明になる光重合性組成物はポリエチレンテレフタレ
ートフイルム等の支持体上に塗布乾燥されて基板上にラ
ミネート(積層)され活性光線に露光されて印刷刷版を
製造したり、エツチング又はメツキにより回路を形成す
る次めのホトレジストとして使用でき念。使用される活
性光線源は主に300〜600 nmの波長の活性光線
を発生するものが用いられる。このような光源としては
カーyy:yr−り灯、 水鋏灯、キセノンアーク灯、
アルゴングローランプ、アルゴンイオンレーザ−等があ
る。マスクを用いない走査露光による直接描画を行うた
めにはアルゴンイオンレーザ−を用いることが特に好ま
しい。支持体としてはポリエチレンフィルム、ポリプロ
ピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム
等の有機重合体フィルム、銅板、アルミニューム・板、
鉄板等の金属板、銅はくを表面に張った絶縁板(ガラス
エポキシ基材9紙エポキシ基材9紙フェノール基材等)
などが用いられる。
ートフイルム等の支持体上に塗布乾燥されて基板上にラ
ミネート(積層)され活性光線に露光されて印刷刷版を
製造したり、エツチング又はメツキにより回路を形成す
る次めのホトレジストとして使用でき念。使用される活
性光線源は主に300〜600 nmの波長の活性光線
を発生するものが用いられる。このような光源としては
カーyy:yr−り灯、 水鋏灯、キセノンアーク灯、
アルゴングローランプ、アルゴンイオンレーザ−等があ
る。マスクを用いない走査露光による直接描画を行うた
めにはアルゴンイオンレーザ−を用いることが特に好ま
しい。支持体としてはポリエチレンフィルム、ポリプロ
ピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム
等の有機重合体フィルム、銅板、アルミニューム・板、
鉄板等の金属板、銅はくを表面に張った絶縁板(ガラス
エポキシ基材9紙エポキシ基材9紙フェノール基材等)
などが用いられる。
(作用)
本発明になる新規な光開始剤系が可視光に対し高い感度
を与える理由は上記の式CDで表わされるアミノベンジ
リデン化合物および式[111〕で表わされるチタノセ
ン化合物が光を吸収して酸化活性な状態となり、上記の
式〔■〕で表わされるN−アリール−α−アミノ駿との
酸化還元反応によりビニル重合を開始させる活性ラジカ
ル種を有効に発生させる念めと推定される。
を与える理由は上記の式CDで表わされるアミノベンジ
リデン化合物および式[111〕で表わされるチタノセ
ン化合物が光を吸収して酸化活性な状態となり、上記の
式〔■〕で表わされるN−アリール−α−アミノ駿との
酸化還元反応によりビニル重合を開始させる活性ラジカ
ル種を有効に発生させる念めと推定される。
(実施例)
本発明の詳細な説明する。ここで2部1%は重量部1重
量%を意味する。
量%を意味する。
実施例1.2および比較例1〜8
光重合性組成物の調製
アクリルポリマ(メタクリル醗/メチルメタクリレート
/ブチルメタクリレート/2−エチルへキシルアクリレ
ート=23151/6/20.重量部比の共重合体2重
量平均分子量約90.000 )の40%エチルセロン
ルプ溶液 120部テトラジエチレングリコー
ルジアクリレート25部 ハイドロキノン 0.04部光開
始剤系 (表IK示す)メチルエチ
ルケトン 20部上記に示す光重合性
組成物の成分を攪拌溶解し。
/ブチルメタクリレート/2−エチルへキシルアクリレ
ート=23151/6/20.重量部比の共重合体2重
量平均分子量約90.000 )の40%エチルセロン
ルプ溶液 120部テトラジエチレングリコー
ルジアクリレート25部 ハイドロキノン 0.04部光開
始剤系 (表IK示す)メチルエチ
ルケトン 20部上記に示す光重合性
組成物の成分を攪拌溶解し。
23μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム(東
し■社製、商品名「ルミラーj)上にバーコーターを用
いて塗布し90”Cの熱風対流式乾燥機で約3分間乾燥
して光重合性エレメントを得た。
し■社製、商品名「ルミラーj)上にバーコーターを用
いて塗布し90”Cの熱風対流式乾燥機で約3分間乾燥
して光重合性エレメントを得た。
乾燥し次光重合性組成物層の厚さは40μmであった。
次にゴムロールで加圧・加熱して積層するラミネーター
を用いて清浄な表面を有する1、 6 +m厚のガラス
エポキシ銅張積層板上に光重合性組成物層と銅面が接す
るようにゴムロール温度を60℃として光重合性エレメ
ントを積層し次。
を用いて清浄な表面を有する1、 6 +m厚のガラス
エポキシ銅張積層板上に光重合性組成物層と銅面が接す
るようにゴムロール温度を60℃として光重合性エレメ
ントを積層し次。
積層したサンプルのポリエチレンテレフタレートフィル
ム上にステップタブレット(大日本スクリーン■製、商
標グレースケール、光学製置段差0.15.最小光学濃
度0.05.最大光学濃度105゜21段差のネガフィ
ルム)を密着し、5Wのアルゴンイオンレーザを搭載し
友レーザ直接描画装置(■ニコン製、LP−3000D
Oレ−f光n照射面での強度的180mW、 ビーム
径40Am)による全面走査露光を行っ九。その後ポリ
エチレンテレフタレートフィルムヲ除去し30”C,1
%NazCOs水溶液を60秒問吹きつけることKよっ
て未硬化部分を溶出させ、残存した硬化膜のステップタ
ブレットの段数を読みとつ、これを光重合性組成物の感
度とした(段数が多い程感度が高い)。
ム上にステップタブレット(大日本スクリーン■製、商
標グレースケール、光学製置段差0.15.最小光学濃
度0.05.最大光学濃度105゜21段差のネガフィ
ルム)を密着し、5Wのアルゴンイオンレーザを搭載し
友レーザ直接描画装置(■ニコン製、LP−3000D
Oレ−f光n照射面での強度的180mW、 ビーム
径40Am)による全面走査露光を行っ九。その後ポリ
エチレンテレフタレートフィルムヲ除去し30”C,1
%NazCOs水溶液を60秒問吹きつけることKよっ
て未硬化部分を溶出させ、残存した硬化膜のステップタ
ブレットの段数を読みとつ、これを光重合性組成物の感
度とした(段数が多い程感度が高い)。
表IK感度の比較を示す。
以下余白
(発明の効果)
本発明になる光重合開始剤系により、可袂光に対して高
い感度を有する光重合性組成物を得ることができる。
い感度を有する光重合性組成物を得ることができる。
代理人 弁理士 若 林 邦−彦
手続補正書(自宅)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(1)下記式〔 I 〕で表わされるアミノベンジリ
デンカルボニル化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (式中、R_1、R_2、R_3およびR_4はそれぞ
れ独立に炭素数1〜6のアルキル基であり、R_5、R
_6、R_7、R_8、R_9、R_1_0、R_1_
1およびR_1_2はそれぞれ独立に水素原子、塩素原
子、臭素原子、炭素数1〜12のアルキル基、アリール
基または炭素数1〜12のアルコキシ基であり、Xは塩
素原子、硫黄原子または炭素数1〜12のアルキル基、
炭素数7〜20のアラルキル基もしくはアリール基で置
換されたもしくは置換されていない窒素原子である。)
(2)下記式〔II〕で表わされるN−アリール−α−ア
ミノ酸 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中、R_1_3、R_1_4、R_1_5、R_1
_6およびR_1_7はそれぞれ独立に水素原子、炭素
数1〜12のアルキル基またはハロゲン原子であり、R
_1_8は炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキ
ル基、炭素数1〜12のヒドロキシアルキル基、炭素数
2〜12のアルコキシアルキル基、炭素数1〜12のア
ミノアルキル基またはアリール基であり、R_1_9お
よびR_2_0はそれぞれ独立に水素原子または炭素数
1〜8のアルキル基である。) および (3)下記式〔III〕で表わされるチタノセン化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼R〔III〕 (式中、R_2_1、R_2_2、R_2_3、R_2
_4、R_2_5、R_2_6、R_2_7、R_2_
8、R_2_9およびR_3_0はそれぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルコキシ基ま
たは複素環である)を含有してなる光開始剤系。 2、常圧において少なくとも100℃の沸点を有する付
加重合性化合物および請求項1記載の光開始剤系を含有
してなる光重合性組成物。 3、さらに高分子量有機重合体を含有し、高分子量有機
重合体を該高分子量重合体と付加重合性化合物の合計重
量を基準として20〜80重量%以下とした請求項1記
載の光重合性組成物。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2319484A JP2551232B2 (ja) | 1990-11-22 | 1990-11-22 | 新規な光開始剤系及びこれを用いた光重合性組成物 |
EP92300385A EP0551697B1 (en) | 1990-11-22 | 1992-01-16 | Photoinitiator system and photopolymerizable composition using the same |
DE69219752T DE69219752T2 (de) | 1990-11-22 | 1992-01-16 | Photoinitiatorsystem und eine dieses enthaltende photopolymerisierbare Zusammensetzung |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2319484A JP2551232B2 (ja) | 1990-11-22 | 1990-11-22 | 新規な光開始剤系及びこれを用いた光重合性組成物 |
EP92300385A EP0551697B1 (en) | 1990-11-22 | 1992-01-16 | Photoinitiator system and photopolymerizable composition using the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04194857A true JPH04194857A (ja) | 1992-07-14 |
JP2551232B2 JP2551232B2 (ja) | 1996-11-06 |
Family
ID=40303614
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2319484A Expired - Lifetime JP2551232B2 (ja) | 1990-11-22 | 1990-11-22 | 新規な光開始剤系及びこれを用いた光重合性組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0551697B1 (ja) |
JP (1) | JP2551232B2 (ja) |
DE (1) | DE69219752T2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112010000772T5 (de) | 2009-02-13 | 2012-06-14 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Lichtempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
DE112011101165T5 (de) | 2010-03-29 | 2013-03-28 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Fotoempfindliche Zusammensetzung und fotoempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5858617A (en) * | 1996-03-12 | 1999-01-12 | Konica Corporation | Photopolymerizable composition and presensitized planographic printing plate employing the same |
US6335144B1 (en) * | 1999-04-27 | 2002-01-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photopolymerizable composition for short wavelength semiconductor laser exposure |
Citations (10)
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JPS622253A (ja) * | 1985-06-19 | 1987-01-08 | チバ−ガイギ− アクチエンゲゼルシヤフト | 画像形成方法 |
JPS63150303A (ja) * | 1986-11-26 | 1988-06-23 | チバーガイギー アクチエンゲゼル シャフト | 液状光開始剤混合物 |
JPS63221110A (ja) * | 1987-02-02 | 1988-09-14 | チバーガイギー アーゲー | 光重合開始剤組成物および光重合性組成物 |
JPH01131205A (ja) * | 1987-06-08 | 1989-05-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 光重合開始剤及びこれを用いた光重合性組成物 |
JPH02249A (ja) * | 1987-12-01 | 1990-01-05 | Ciba Geigy Ag | チタノセンおよびそれを含有する光重合性組成物 |
JPH02127404A (ja) * | 1988-09-21 | 1990-05-16 | Hoechst Ag | 光重合性混合物及びそれから製造された記録材料 |
JPH02154261A (ja) * | 1988-12-06 | 1990-06-13 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
JPH02154262A (ja) * | 1988-12-06 | 1990-06-13 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
JPH02157845A (ja) * | 1988-12-12 | 1990-06-18 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性エレメント |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0401166B1 (de) * | 1989-06-01 | 1995-02-22 | Ciba-Geigy Ag | Neue, stickstoffhaltige Titanocene und deren Verwendung |
-
1990
- 1990-11-22 JP JP2319484A patent/JP2551232B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-01-16 DE DE69219752T patent/DE69219752T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-01-16 EP EP92300385A patent/EP0551697B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (10)
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DE112011101165T5 (de) | 2010-03-29 | 2013-03-28 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Fotoempfindliche Zusammensetzung und fotoempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69219752T2 (de) | 1997-08-28 |
EP0551697B1 (en) | 1997-05-14 |
JP2551232B2 (ja) | 1996-11-06 |
EP0551697A1 (en) | 1993-07-21 |
DE69219752D1 (de) | 1997-06-19 |
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