JP2536594B2 - 光重合開始剤及びこれを用いた光重合性組成物 - Google Patents

光重合開始剤及びこれを用いた光重合性組成物

Info

Publication number
JP2536594B2
JP2536594B2 JP63137641A JP13764188A JP2536594B2 JP 2536594 B2 JP2536594 B2 JP 2536594B2 JP 63137641 A JP63137641 A JP 63137641A JP 13764188 A JP13764188 A JP 13764188A JP 2536594 B2 JP2536594 B2 JP 2536594B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
atom
independently
hydrogen atom
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP63137641A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH01131205A (ja
Inventor
誠 鍛治
信行 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Publication of JPH01131205A publication Critical patent/JPH01131205A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2536594B2 publication Critical patent/JP2536594B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/117Free radical
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/12Nitrogen compound containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/12Nitrogen compound containing
    • Y10S430/121Nitrogen in heterocyclic ring
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/122Sulfur compound containing
    • Y10S430/123Sulfur in heterocyclic ring
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/124Carbonyl compound containing
    • Y10S430/125Carbonyl in heterocyclic compound

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は新規な付加重合性化合物の重合に用いる光重
合開始剤(以下,これを単に「光開始剤」という)およ
びこれを用いた光重合性組成物に関する。
(従来の技術) 光重合性組成物の用途では一般にUV光源が用いられ凸
版用,レリーフ像用,フオトレジスト用等に広く適用さ
れているが,その感度はより高い系が望まれている。特
にレーザビームによる走査露光法に供する場合は,最も
有力な光源であるアルゴンイオンレーザの458,488,514.
5nm等の可視光に対し十分高い感度を持つことが必要で
ある。従来よりこの分野では感度を増大させるための光
開始剤系について多くの研究がなされている。光開始剤
としてはベンゾインおよびその誘導体,置換または非置
換の多核キノン類等多くの物質が既に知られているが,
特に可視光において十分な感度を有するものは知られて
いない。
(発明が解決しようとする課題) 本発明は可視光に対して高い感度を有する光重合性組
成物を与える光開始剤およびこれを用いた可視光に対し
て高い感度を有する光重合性組成物を提供するものであ
る。
(課題を解決するための手段) 第一の発明は, (1)下記式〔I〕で表わされるアミノベンジリデンカ
ルボニル化合物 (式中,R1,R2,R3およびR4はそれぞれ独立に炭素数1
〜6のアルキル基であり,R5およびR6はそれぞれ独立に
水素原子,シアノ基,炭素数2〜8のアルコキシカルボ
ニル基,炭素数1〜12のアルキル基またはアリール基で
あり,R7,R8,R9,R10,R11,R12,R13およびR14はそ
れぞれ独立に水素原子,塩素原子,臭素原子,炭素数1
〜12のアルキル基,アリール基または炭素数1〜12のア
ルコキシ基であり,Xは酸素原子,硫黄原子または炭素数
1〜12のアルキル基,炭素数1〜12のアラルキル基,ア
リール基,炭素数1〜12のアシル基,炭素数7〜20のア
リールカルボニル基,炭素数1〜12のアルコキシカルボ
ニル基もしくは炭素数7〜20のアリールオキシカルボニ
ル基で置換されたもしくは置換されていないイミノ基で
ある。)および (2)下記式〔II〕で表わされるN−アリール−α−ア
ミノ酸 (式中,R15,R16,R17,R18およびR19はそれぞれ独立
に水素原子,炭素数1〜12のアルキル基またはハロゲン
原子であり,R20は水素原子,炭素数1〜12のアルキル
基,シクロアルキル基,炭素数1〜12のヒドロキシアル
キル基,炭素数1〜12のアルコキシアルキル基,炭素数
1〜12のアミノアルキル基またはアリール基であり,R
21およびR22はそれぞれ独立に水素原子または炭素数1
〜8のアルキル基である。) を含有してなる光開始剤に関する。
本発明においては上記の式〔I〕で表わされるアミノ
ベンジリデンカルボニル化合物が用いられるが,このア
ミノベンジリデンカルボニル化合物は例えばオーガニツ
ク リアクシヨン(Organic Reaction)第16巻に詳しく
述べられている方法により,シクロヘキサノン誘導体と
p−アミノベンズアルデヒドのアルドール型縮合により
容易に合成することができる。
例えば,2,6−ビス(p−N,N−ジメチルアミノベンジ
リデン)−4−オキソシクロヘキサノン,2,6−ビス(p
−N,N−ジエチルアミノベンジリデン)−4−オキソシ
クロヘキサノン,2,6−ビス(p−N,N−ジメチルアミノ
ベンジリデン)−4−チアシクロヘキサノン,2,6−ビス
(p−N,N−ジエチルアミノベンジリデン)−4−チア
シクロヘキサノン,2,6−ビス(p−N,N−ジメチルアミ
ノベンジリデン)−4−メチル−4−アザシクロヘキサ
ノン,2,6−ビス(p−N,N−ジエチルアミノベンジリデ
ン)−4−メチル−4−アザシクロヘキサノン,2,6−ビ
ス(p−N,N−ジメチルアミノベンジリデン)−4−エ
チル−4−アザシクロヘキサノン,2,6−ビス(p−N,N
−ジエチルアミノベンジリデン)−4−エチル−4−ア
ザシクロヘキサノン,2,6−ビス(4′−N,N−ジエチル
アミノ−2′−メトキシベンジリデン)−4−オキソシ
クロヘキサノン,2,6−ビス(4′−N,N−ジエチルアミ
ノ−2′−メチルベンジリデン)−4−オキソクロシヘ
キサノン,2,6−ビス(4′−N,N−ジエチルアミノ−
2′−メトキシベンジリデン)−4−チアシクロヘキサ
ノン,2,6−ビス(4′−N,N−ジエチルアミノ−2′−
メチルベンジリデン)−4−チアシクロヘキサノン,2,6
−ビス(4′−N,N−ジエチルアミノ−2′−メトキシ
ベンジリデン)−4−メチル−4−アザシクロヘキサノ
ン,2,6−ビス(4′−N,N−ジエチルアミノ−2′−メ
チルベンジリデン)−4−メチル−4−アザシクロヘキ
サノン,2,6−ビス(4′−N,N−ジエチルアミノ−2′
−メトキシベンジリデン)−4−アザシクロヘキサノ
ン,2,6−ビス(4′−N,N−ジエチルアミノ−2′−メ
チルベンジリデン)−4−エチル−4−アザシクロヘキ
サノン,3,5−ビス(p−N,N−ジエチルアミノフエニル
メチレン)−1−アセチル−4−ピペリジノン(K−
4),3,5−ビス(p−N,N−ジエチルアミノフエニルメ
チレン)−1−ベンゾイル−4−ピペリジノン(K−
5),3,5−ビス(p−N,N−ジエチルアミノフエニルメ
チレン)−1−エトキシカルボニル−4−ピペリジノン
(K−6),3,5−ビス(p−N,N−ジメチルアミノフエ
ニルメチレン)−1−アセチル−4−ピペリジノン,3,5
−ビス(p−N,N−ジメチルアミノフエニルメチレン)
−1−プロピオニル−4−ピペリジノン,3,5−ビス(p
−N,N−ジメチルアミノフエニルメチレン)−1−ブチ
ロイル−4−ピペリジノン,3,5−ビス(p−N,N−ジメ
チルアミノフエニルメチレン)−1−ベンゾイル−4−
ピペリジノン,3,5−ビス(p−N,N−ジメチルアミノフ
エニルメチレン)−1−(4′−メトキシベンゾイル)
−4−ピペリジノン,3,5−ビス(p−N,N−ジメチルア
ミノフエニルメチレン)−1−エトキシカルボニル−4
−ピペリジノン,3,5−ビス(p−N,N−ジメチルフエニ
ルメチレン)−1−フエノキシカルボニル−4−ピペリ
ジノン,3,5−ビス(4′−N,N−ジメチルアミノ−2−
メチルアミノフエニルメチレン)−1−アセチル−4−
ピペリジノン,3,5−ビス(4−N,N−ジ−n−ブチルア
ミノフエニルメチレン)−1−アセチル−4−ピペリジ
ノン等がある。
感度の点から式〔I〕においてXが炭素数1〜12のア
ルキル基または炭素数1〜12のアラルキル基で置換され
た窒素原子である化合物が好ましい。
上記のアミノベンジリデンカルボニル化合物は単独で
使用しても2種以上を併用してもよい。
本発明においては上記の式〔II〕で表わされるN−ア
リール−α−アミノ酸が用いられるが、このN−アリー
ル−α−アミノ酸は,例えばアニリン類とモノクロル酢
酸の反応から合成することができる。
好ましい化合物としてははN−フエニルグリシン,N−
(p−トリル)−グリシン,N−(p−クロロ)−フエニ
ルグリシン,N−メチル−N−フエニルグリシン,N−エチ
ル−N−フエニルグリシン,N−(n−プロピル)−N−
フエニルグリシン,N−(n−ブチル)−N−フエニルグ
リシン,N−(2−メトキシエチル)−N−フエニルグリ
シン,N−メチル−N−フエニルアラニン,N−エチル−N
−フエニルアラニン,N−(n−プロピル)−N−フエニ
ルアラニン,N−(n−ブチル)−N−フエニルアラニ
ン,N−メチル−N−フエニルバリン,N−メチル−N−フ
エニルロイシン,N−メチル−N−(p−トリル)グリシ
ン,N−エチル−N−(p−トリル)グリシン,N−(n−
プロピル)−N−(p−トリル)グリシン,N−(n−ブ
チル)−N−(p−トリル)グリシン,N−メチル−N−
(p−クロロフエニル)グリシン,N−エチル−N−(p
−クロロフエニル)グリシン,N−(n−プロピル)−N
−(p−クロロフエニル)グリシン,N−メチル−N−
(p−ブロモフエニル)グリシン,N−エチル−N−(p
−ブロモフエニル)グリシン,N−(n−ブチル)−N−
(p−ブロモフエニル)グリシン,N,N−ジフエニルグリ
シン,N−メチル−N−(p−ヨードフエニル)グリシン
などがあるが,感度及び保存安定性の点でハロゲンで置
換されたフエニル基を有するものが好ましい。
上記のN−アリール−α−アミノ酸は単独で使用して
も2種以上を併用してもよい。
第一の発明においては、上記の式〔I〕で表わされる
アミノベンジリデンカルボニル化合物と上記式〔II〕で
表わされるN−アリール−α−アミノ酸との使用割合に
ついては特に制限はない。
また,本発明は, (1)常圧において100℃以上の沸点を有する付加重合
性化合物 (2)下記式〔I〕で表わされるアミノベンジリデンカ
ルボニル化合物 (式中,R1,R2,R3およびR4はそれぞれ独立に炭素数1
〜6のアルキル基であり,R5およびR6はそれぞれ独立に
水素原子,シアノ基,炭素数2〜8のアルコキシカルボ
ニル基,炭素数1〜12のアルキル基またはアリール基で
あり,R7,R8,R9,R10,R11,R12,R13およびR14はそ
れぞれ独立に水素原子,塩素原子,臭素原子,炭素数1
〜12のアルキル基,アリール基または炭素数1〜12のア
ルコキシ基であり,Xは酸素原子,硫黄原子または炭素数
1〜12のアルキル基,炭素数1〜12のアラルキル基,ア
リール基,炭素数1〜12のアシル基,炭素数7〜20のア
リールカルボニル基,炭素数1〜12のアルコキシカルボ
ニル基もしくは炭素数7〜20のアリールオキシカルボニ
ル基で置換されたもしくは置換されていないイミノ基で
ある。)および (3)下記式〔II〕で表わされるN−アリール−α−ア
ミノ酸 (式中,R15,R16,R17,R18およびR19はそれぞれ独立
に水素原子,炭素数1〜12のアルキル基またはハロゲン
原子であり,R20は水素原子,炭素数1〜12のアルキル
基,シクロアルキル基,炭素数1〜12のヒドロキシアル
キル基,炭素数1〜12のアルコキシアルキル基,炭素数
1〜12のアミノアルキル基またはアリール基であり,R
21およびR22はそれぞれ独立に水素原子または炭素数1
〜8のアルキル基である。) を含有してなる光重合性組成物(以下、第二の発明とす
る)に関する。
第二の発明になる光重合性組成物に含まれる付加重合
性化合物は常圧において100℃以上の沸点を有するもの
が用いられる。常圧において沸点が100℃より低いよう
なものでは系内に含有する溶剤を乾燥等によつて除去す
る際または活性光線を照射する際該付加重合性化合物が
揮散して特性上および作業性上好ましくないからであ
る。また該付加重合性化合物は光開始剤等と均一な組成
物にするために,用いられる有機溶剤に可溶なものが好
ましい。
有機溶剤は,例えばアセトン,メチルエチルケトン,
トルエン,クロロホルム,メタノール,エタノール,1,
1,1−トリクロロエタン等が用いられる。
常圧において100℃以上の沸点を有する付加重合性化
合物としては多価アルコールとα,β−不飽和カルボン
酸とを縮合して得られるもの,例えばジエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート(ジアクリレートまたはジ
メタアクリレートの意味,以下同じ),トリエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート,テトラエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート,トリメチロールプロパ
ンジ(メタ)アクリレート,トリメチロールプロパント
リ(メタ)アクリレート,1,3−プロパンジオールジ(メ
タ)アクリレート,1,3−ブタンジオール(メタ)アクリ
レート,ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレ
ート,ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレ
ート,ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレ
ート,2,2−ビス(4−アクリロキシジエトキシフエニ
ル)プロパン,2,2−ビス(4−メタクリロキシペンタエ
トキシフエニル)プロパン等,グリシジル基含有化合物
にα,β−不飽和カルボン酸を付加して得られるもの,
例えばトリメチロールプロパントリグリシジルエーテル
トリ(メタ)アクリレート,ビスフエノールAジグリシ
ジルエーテルジ(メタ)アクリレート,新中村化学
(株)製商品名BPE−500(2,2−ビス(4−メタクリロ
キシポリエトキシフエニル)プロパンの混合物)等,不
飽和アミド例えばメチレンビスアクリルアミド,エチレ
ンビスアクリルアミド,1,6−ヘキサメチレンビスアクリ
ルアミド等,ビニルエステル例えばジビニルサクシネー
ト,ジビニルアジペート,ジビニルフタレート,ジビニ
ルテレフタレート,ジビニルベンゼン−1,3−ジスルホ
ネートなどがあげられる。
この付加重合性化合物は,1種または2種以上が用いら
れる。
第二の発明においては,第一の発明における光開始剤
に加えて常圧において100℃以上の沸点を有する付加重
合性化合物が用いられる。
第二の発明においては,常圧において100℃以上の沸
点を有する付加重合性化合物100重量部,高分子量有機
重合体を用いる場合には,この付加重合性化合物と高分
子量有機重合体との総量100重量部に対して,上記の式
〔I〕で表わされるアミノベンジリデンカルボニル化合
物を0.01〜10重量部,上記の式〔II〕で表わされるN−
アリール−α−アミノ酸を0.05〜20重量部の範囲で用い
ることが好ましい。
本発明になる光重合性組成物は,必要に応じて1種以
上の高分子量有機重合体を含有しても良い。該高分子量
有機重合体は熱可塑性であり,分子量は,10,000〜700,0
00を有するものが好ましい。例えば次のものが用いられ
る。
(A)コポリエステル 多価アルコール,例えばジエチレングリコール,トリ
エチレングリコール,テトラエチレングリコール,トリ
メチロールプロパン,ネオペンチルグリコール等と多価
カルボン酸,例えばテレフタル酸,イソフタル酸,セバ
シン酸,アジピン酸等とから製造したコポリエステル (B)ビニルポリマ メタクリル酸,アクリル酸,メタクリル酸またはアク
リル酸のアルキルエステル例えばメチル(メタ)アクリ
レート,エチル(メタ)アクリレート,ブチル(メタ)
アクリレート,β−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート,スチレン,ビニルトルエン,ビニルクロライド,
ビニルブチラール等のビニル単量体のホモポリマまたは
コポリマ (C)ポリホルムアルデヒド (D)ポリウレタン (E)ポリカーボネート (F)ナイロンまたはポリアミド (G)セルロースエステル例えばメチルセルロース,エ
チルセルロース 光重合性組成物に高分子量有機重合体を加えることに
よつて基体への接着性,耐薬品性,フイルム性等の特性
を改良することができる。この高分子量有機重合体は該
高分子量有機重合体と前記の付加重合性化合物の合計重
量を基準として80重量%以下の範囲とされる。80重量%
を越えるような量を含有する場合は光硬化が十分に進ま
ず好ましくない。
本発明になる光重合性組成物はまた必要に応じて染
料,顔料等の着色物質を含有してもよい。着色物質は公
知のものが用いられ,例えばフクシン,クリスタルバイ
オレツト,メチルオレンジ,ナイルブルー2B,ビクトリ
アピユアブルー,マラカイトグリーン,ナイトグリーン
B,スピロンブルー等がある。
本発明になる光重合性組成物は保存時の安定性を高め
るためにラジカル重合禁止剤またはラジカル重合抑制剤
を含有してもよい。このようなものとしてはp−メトキ
シフエノール,ハイドロキノン,ピロガロール,ナフチ
ルアミン,フエノチアジン,アリールフオスフアイト等
がある。
本発明になる光重合性組成物は光重合性組成物に用い
ることが知られている他の添加物,例えば可塑剤,接着
促進剤等の添加物を含有してもよい。
本発明になる光重合性組成物はポリエチレンテレフタ
レートフイルム等の支持体上に塗布乾燥されて基板上に
ラミネート(積層)され活性光線に露光されて印刷刷版
を製造したり,エツチング又はメツキにより回路を形成
するためのホトレジストとして使用できる。使用される
活性光線源は主に300〜600nmの波長の活性光線を発生す
るものが用いられる。
このような光源としてはカーボンアーク灯,水銀灯,
キセノンアーク灯,アルゴングローランプ,アルゴンイ
オンレーザー等がある。支持体としてはポリエチレンフ
イルム,ポリプロピレンフイルム,ポリエチレンテレフ
タレートフイルム等の有機重合体フイルム,銅板,アル
ミニユーム板,鉄板等の金属板,銅はくを表面に張つた
絶縁板(ガラスエポキシ基材,紙エポキシ基材,紙フエ
ノール基材等)などが用いられる。
(作用) 本発明においては,上記の(3)の成分が光を吸収し
て酸化活性な状態となり上記の(2)の成分と酸化還元
反応を行ない,重合に対し活性なラジカルを有効に発生
することにより高感度の光重合性組成物が得られるもの
と推定される。
(発明の効果) 本発明になる光重合性組成物は,可視光に対して高い
感度を有する光重合性組成物である。
(実施例) 本発明の実施例を説明する。ここで,部,%は重量
部,重量%を示す。
実施例 光重合性組成物の調製 アクリルポリマ(メタクリル酸/メチルメタクリレート
/ブチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレー
ト=23/51/6/20,重量部比の共重合体,重量平均分子量
約90,000)の40%エチルセロソルブ溶液 120部 テトラエチレングリコールジアクリレート 25部 ハイドロキノン 0.04部 光開始剤 (表1に示す) ビクトリアピユアブルー 0.8部 メチルエチルケトン 20部 上記に示す光重合性組成物の成分を攪拌溶解し,25μ
m厚のポリエチレンテレフタレートフイルム(東レ
(株)社製,商品名「ルミラー」)上にバーコーターを
用いて塗布し100℃の熱風対流式乾燥機で約3分間乾燥
して光重合性エレメントを得た。乾燥した光重合性組成
物層の厚さは40μmであつた。
次にゴムロールで加圧・加熱して積層するラミネータ
ーを用いて清浄な表面を有する1.6mm厚のガラスエポキ
シ銅張積層板上に光重合性組成物層と銅面が接するよう
にゴムロール温度を100℃として光重合性エレメントを
積層した。
積層したサンプルのポリエチレンテレフタレートフイ
ルム上にステツプタブレツト(大日本スクリーン(株)
製,商標グレースケール,光学濃度段差0.15,最小光学
濃度0.05,最大光学濃度3.05,21段差のネガフイルム)を
密着し,3kWの超高圧水銀灯(オーク製作所(株)製,商
標HMW−201B)で3秒間露光を行なつた。(株)オーク
製作所「紫外線照度計UV−M01」で420nmに分光感度極大
を有するセンサを使用して測定した照射面での露光照射
強度は21.2mW/cm2,また350nmに分光感度極大を有する
センサを使用して測定した露光量は6.4mW/cm2であつ
た。その後ポリエチレンテレフタレートフイルムを除去
し30℃,2%Na2CO3水溶液中に40秒間揺動浸漬することに
よつて未硬化部分を溶出させステツプタブレツトの段数
を光重合性組成物の感度とした(段数が多い程感度が高
い)。表1に感度の比較を示す。
実施例においては,高い感度を有することが示され
る。
表1に示すアミノベンジリデンカルボニル化合物のう
ち2,6−ビス(p−N,N−ジエチルアミノベンジリデン)
−4−メチル−4−アザシクロヘキサノン(K−2)は
次の方法で合成したものを用いた。その他の化合物も同
様にして合成して用いた。
2,6−ビス(p−N,N−ジエチルアミノベンジリデン)
−4−メチル−4−アザシクロヘキサノン(K−2)の
合成 N−メチル−4−ピペリドン2g(17.7mmol)とp−N,
N−ジエチルアミノベンズアルデヒド6.26g(35.4mmol)
を100mlのナス型フラスコに入れ,0.5gの水酸化ナトリウ
ムを溶解した50mlのメタノールを加え磁気攪拌子を入れ
て攪拌しながら還流用冷却器をつけて約1時間加熱還流
させた。放冷した後、析出したオレンジ色の結晶を別
しメタノールでよく洗浄した。ベンゼン/クロロホルム
溶媒から再結晶し精製した。
このようにして合成したアミノベンジリデンカルボニ
ル化合物のH1−NMRデータ(溶媒として重水素化クロロ
ホルム,内部標準としてテトラメチルシランを用いた)
とメタノール中での紫外可視吸収特性をそれぞれ表2と
表3に示す。

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(1)下記式〔I〕で表わされるアミノベ
    ンジリデンカルボニル化合物 (式中、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立に炭素数1
    〜6のアルキル基であり、R5およびR6はそれぞれ独立に
    水素原子、シアノ基、炭素数2〜8のアルコキシカルボ
    ニル基、炭素数1〜12のアルキル基またはアリール基で
    あり、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13およびR14はそ
    れぞれ独立に水素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数1
    〜12のアルキル基、アリール基または炭素数1〜12のア
    ルコキシ基であり、Xは酸素原子、硫黄原子または炭素
    数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアラルキル基、
    アリール基、炭素数1〜12のアシル基、炭素数7〜20の
    アリールカルボニル基、炭素数1〜12のアルコキシカル
    ボニル基もしくは炭素数7〜20のアリールオキシカルボ
    ニル基で置換されたもしくは置換されていないイミノ基
    である。)および (2)下記式〔II〕で表わされるN−アリール−α−ア
    ミノ酸 (式中、R15、R16、R17、R18およびR19はそれぞれ独立
    に水素原子、炭素数1〜12のアルキル基またはハロゲン
    原子であり、R20は水素原子、炭素数1〜12のアルキル
    基、シクロアルキル基、炭素数1〜12のヒドロキシアル
    キル基、炭素数1〜12のアルコキシアルキル基、炭素数
    1〜12のアミノアルキル基またはアリール基であり、R
    21およびR22はそれぞれ独立に水素原子または炭素数1
    〜8のアルキル基である。) を含有してなる付加重合性化合物の重合に用いる光重合
    開始剤。
  2. 【請求項2】式〔I〕で表わされるアミノベンジリデン
    カルボニル化合物が式〔I〕においてXが炭素数1〜12
    のアルキル基または炭素数1〜12のアラルキル基で置換
    された窒素原子である請求項1記載の付加重合性化合物
    の重合に用いる光重合開始剤。
  3. 【請求項3】(1)常圧において100℃以上の沸点を有
    する付加重合性化合物、 (2)下記式〔I〕で表わされるアミノベンジリデンカ
    ルボニル化合物 (式中、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立に炭素数1
    〜6のアルキル基であり、R5およびR6はそれぞれ独立に
    水素原子、シアノ基、炭素数2〜8のアルコキシカルボ
    ニル基、炭素数1〜12のアルキル基またはアリール基で
    あり、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13およびR14はそ
    れぞれ独立に水素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数1
    〜12のアルキル基、アリール基または炭素数1〜12のア
    ルコキシ基であり、Xは酸素原子、硫黄原子または炭素
    数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアラルキル基、
    アリール基、炭素数1〜12のアシル基、炭素数7〜20の
    アリールカルボニル基、炭素数1〜12のアルコキシカル
    ボニル基もしくは炭素数7〜20のアリールオキシカルボ
    ニル基で置換されたもしくは置換されていないイミノ基
    である。)および (3)下記式〔II〕で表わされるN−アリール−α−ア
    ミノ酸 (式中、R15、R16、R17、R18およびR19はそれぞれ独立
    に水素原子、炭素数1〜12のアルキル基またはハロゲン
    原子であり、R20は水素原子、炭素数1〜12のアルキル
    基、シクロアルキル基、炭素数1〜12のヒドロキシアル
    キル基、炭素数1〜12のアルコキシアルキル基、炭素数
    1〜12のアミノアルキル基またはアリール基であり、R
    21およびR22はそれぞれ独立に水素原子または炭素数1
    〜8のアルキル基である。) を含有してなる光重合性組成物。
JP63137641A 1987-06-08 1988-06-03 光重合開始剤及びこれを用いた光重合性組成物 Expired - Lifetime JP2536594B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14291487 1987-06-08
JP62-142914 1987-06-08

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01131205A JPH01131205A (ja) 1989-05-24
JP2536594B2 true JP2536594B2 (ja) 1996-09-18

Family

ID=15326556

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63137641A Expired - Lifetime JP2536594B2 (ja) 1987-06-08 1988-06-03 光重合開始剤及びこれを用いた光重合性組成物

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4987057A (ja)
EP (1) EP0295044B1 (ja)
JP (1) JP2536594B2 (ja)
DE (1) DE3870316D1 (ja)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6060214A (en) * 1990-07-02 2000-05-09 Armstrong World Industries, Inc. Photopolymerizable, coatable plastisol
JP2551232B2 (ja) * 1990-11-22 1996-11-06 日立化成工業株式会社 新規な光開始剤系及びこれを用いた光重合性組成物
ES2088536T3 (es) * 1991-01-29 1996-08-16 Nat Starch Chem Invest Composiciones fotopolimerizables.
US5217846A (en) * 1991-06-11 1993-06-08 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photobleachable initiator systems
US5256520A (en) * 1991-12-20 1993-10-26 E. I. Du Pont De Nemours And Company Visible photosensitizers for photopolymerizable compositions
US5236808A (en) * 1992-04-13 1993-08-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Visible photosensitizers for photopolymerizable compositions
US5484927A (en) * 1992-04-13 1996-01-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Visible dye photosensitizers derived from tropinone
US5811218A (en) * 1993-07-28 1998-09-22 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photoinitiator compositions including amino acids, coumarin and titanocene and photosensitive materials using the same
US6042987A (en) * 1996-10-16 2000-03-28 Fuji Photo Film Co., Ltd Negative type image recording material
US6335144B1 (en) * 1999-04-27 2002-01-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition for short wavelength semiconductor laser exposure
AU779230C (en) * 1999-12-03 2006-05-25 Emory University Curcumin analogues for treating cancer
AU2003220091B2 (en) * 2002-03-08 2006-02-16 Emory University Novel curcuminoid-factor VIIa constructs as suppressors of tumor growth and angiogenesis
WO2007098504A1 (en) * 2006-02-24 2007-08-30 Emory University Prodrugs of curcumin analogs
WO2014022660A1 (en) * 2012-08-03 2014-02-06 Georgia State University Research Foundation, Inc. Curcumin analogs and methods of making and using thereof

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3479185A (en) * 1965-06-03 1969-11-18 Du Pont Photopolymerizable compositions and layers containing 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers
DE2042663A1 (de) * 1970-08-28 1972-03-02 Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen Photographisches Trockenkopierverfahren
US4058656A (en) * 1976-04-05 1977-11-15 Ici United States Inc. Free radical polymerization process employing substituted amino acetic acid derivatives
US4415621A (en) * 1980-02-25 1983-11-15 Eastman Kodak Company Use of α,α-bis(dialkylaminobenzylidene) ketone dyes in optical recording elements
JPS5984936A (ja) * 1982-11-05 1984-05-16 Hitachi Ltd 感光性重合体組成物の増感法
GB2189496B (en) * 1986-04-23 1989-11-29 Hitachi Chemical Co Ltd Photopolymerizable composition

Also Published As

Publication number Publication date
DE3870316D1 (de) 1992-05-27
EP0295044B1 (en) 1992-04-22
EP0295044A3 (en) 1989-06-28
EP0295044A2 (en) 1988-12-14
JPH01131205A (ja) 1989-05-24
US4987057A (en) 1991-01-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2757375B2 (ja) 光重合性組成物
JP2536594B2 (ja) 光重合開始剤及びこれを用いた光重合性組成物
JPH0466503B2 (ja)
JP2536528B2 (ja) 光重合開始剤およびこれを用いた光重合性組成物
JPH05210240A (ja) 光重合性組成物
JP2551232B2 (ja) 新規な光開始剤系及びこれを用いた光重合性組成物
JPS59229553A (ja) 光重合性組成物
JPS63146903A (ja) 光開始剤およびこれを用いた光重合性組成物
JPS61144641A (ja) 光重合性組成物
JPH0244058B2 (ja) Hikarijugoseisoseibutsu
JPH0980750A (ja) 光重合性組成物
JPH05301910A (ja) 新規な光開始剤、光開始剤系及びこれを用いた光重合性組成物
JPH06332173A (ja) 光重合性組成物
JPH0427541B2 (ja)
JP2540910B2 (ja) 光重合性組成物
JP3781001B2 (ja) 新規な光開始剤系及びそれを用いた光重合性組成物
JPH0437986B2 (ja)
JPH06167807A (ja) 光重合性組成物
JPS6076738A (ja) 光重合性組成物
JPH06332172A (ja) 光重合性組成物
JPS6125138A (ja) 光重合性組成物
JP2701453B2 (ja) 光重合性組成物
JPH1020494A (ja) 光重合性組成物、それを用いた感光性原版およびその露光方法
JPH02113250A (ja) 光重合性組成物
JPS63303342A (ja) 光重合性組成物