JP6929936B2 - 樹脂組成物用のエッチング液及びエッチング方法 - Google Patents
樹脂組成物用のエッチング液及びエッチング方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6929936B2 JP6929936B2 JP2019511238A JP2019511238A JP6929936B2 JP 6929936 B2 JP6929936 B2 JP 6929936B2 JP 2019511238 A JP2019511238 A JP 2019511238A JP 2019511238 A JP2019511238 A JP 2019511238A JP 6929936 B2 JP6929936 B2 JP 6929936B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- etching
- etching solution
- composition layer
- ethanolamine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K13/00—Etching, surface-brightening or pickling compositions
- C09K13/02—Etching, surface-brightening or pickling compositions containing an alkali metal hydroxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/02—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances with solvents, e.g. swelling agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2041—Exposure; Apparatus therefor in the presence of a fluid, e.g. immersion; using fluid cooling means
- G03F7/2043—Exposure; Apparatus therefor in the presence of a fluid, e.g. immersion; using fluid cooling means with the production of a chemical active agent from a fluid, e.g. an etching agent; with meterial deposition from the fluid phase, e.g. contamination resists
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Description
<1>アルカリ不溶性樹脂及び50〜80質量%の無機充填剤を含む樹脂組成物用のエッチング液において、該エッチング液が、15〜45質量%のアルカリ金属水酸化物を含有することを特徴とするエッチング液。
<2>アルカリ金属水酸化物が、水酸化カリウムと、水酸化ナトリウムと、水酸化リチウムとの中から選ばれる少なくとも1種の化合物であることを特徴とする<1>に記載の樹脂組成物用のエッチング液。
<3>無機充填剤が、シリカと、ガラスと、クレーと、水酸化アルミニウムとの中から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする<1>又は<2>に記載の樹脂組成物用のエッチング液。
<4>前記エッチング液が、5〜40質量%のエタノールアミン化合物を含有することを特徴とする<1>〜<3>のいずれかに記載のエッチング液。
<5>エタノールアミン化合物が、エタノールアミン、N−(β−アミノエチル)エタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン及びN−エチルジエタノールアミンからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物であることを特徴とする<4>に記載のエッチング液。
<6>エタノールアミン化合物が、エタノールアミン、N−(β−アミノエチル)エタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン及びN−エチルジエタノールアミンからなる群から選ばれる少なくとも2種の化合物であることを特徴とする<4>に記載の樹脂組成物用のエッチング液。
<7>エタノールアミン化合物として、少なくともN−(β−アミノエチル)エタノールアミンを含有する<6>に記載の樹脂組成物用のエッチング液。
<8>アルカリ不溶性樹脂及び50〜80質量%の無機充填剤を含む樹脂組成物層のエッチング方法において、<1>〜<7>のいずれかに記載のエッチング液によって、該樹脂組成物層を除去する工程を含むことを特徴とするエッチング方法。
<9>アルカリ不溶性樹脂及び50〜80質量%の無機充填剤を含む樹脂組成物層のエッチング方法において、
(A)<4>〜<7>のいずれかに記載のエッチング液によって、該樹脂組成物層の一部を除去する工程、
(B)アルカリ金属水酸化物及びエタノールアミン化合物を含む水洗除去液によって残りの樹脂組成物層を完全に除去する工程、
をこの順に含むことを特徴とするエッチング方法。ここで、前記水洗除去液におけるアルカリ金属水酸化物の含有量は、前記エッチング液におけるアルカリ金属水酸化物の含有量よりも少ない。また、前記水洗除去液におけるエタノールアミン化合物の含有量は、前記エッチング液におけるエタノールアミン化合物の含有量よりも少ない。
<10>樹脂組成物層を除去する工程が浸漬処理である<8>又は<9>に記載のエッチング方法。
工程(II)では、回路基板1の表面において、全面を覆うように銅箔6付きの樹脂組成物層4を形成する。
工程(IV)では、金属マスク5を介し、樹脂組成物層用のエッチング液によって、半田接続パッド3の一部又は全部が露出するまで、樹脂組成物層4をエッチングする。
本発明のエッチング方法<8>は、本発明のエッチング液<1>〜<7>のいずれかに記載のエッチング液によって、樹脂組成物層を除去する工程を含む。
(B)アルカリ金属水酸化物及びエタノールアミン化合物を含み、それらの含有量がそれぞれ前記エッチング液におけるアルカリ金属水酸化物及びエタノールアミン化合物の含有量よりも少ない水洗除去液によって残りの樹脂組成物層を完全に除去する工程、
をこの順に含む。
(実施例1〜3)
無機充填剤として、溶融シリカ78質量%、エポキシ樹脂として、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂10質量%、熱硬化剤として、フェノールノボラック型シアネート樹脂10質量%、硬化促進剤として、トリフェニルホスフィン1質量%、その他、カップリング剤、レベリング剤を加え、全量を100質量%としたものに、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンを媒体として混合し、液状樹脂組成物を得た。
(導体パターン表面上の樹脂残りの有無)
○:導体パターン表面上に樹脂組成物が残っていない。
△:導体パターン表面上に極微量の樹脂組成物が残っているが、プラズマ洗浄処理等の後処理で容易に除去できるレベル。
×:導体パターン表面上に多くの樹脂組成物が残り、後処理で除去されないレベル。
(エポキシ樹脂ガラス布基材上の樹脂残りの有無)
○:基材上に樹脂組成物が残っていない。
△:基材上に極微量の樹脂組成物が残っているが、プラズマ洗浄処理等の後処理で容易に除去できるレベル。
×:基材上に多くの樹脂組成物が残り、後処理で除去されないレベル。
(アンダーカットの有無)
◎:樹脂組成物層にアンダーカットが見られない。
○:樹脂組成物層の底面に微小なアンダーカットが見られる。
△:樹脂組成物層の底面に小さなアンダーカットが見られる。
×:樹脂組成物層の底面に実用上問題となる大きなアンダーカットが見られる。
溶融シリカの含有量を65質量%とし、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂の含有量を23質量%とした以外は、実施例1と同様の方法により、エッチング処理を行った。
(実施例5)
溶融シリカの含有量を50質量%とし、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂の含有量を38質量%とした以外は、実施例1と同様の方法により、エッチング処理を行った。
(実施例6〜8)
無機充填剤として、溶融シリカの代わりにガラス、クレー、水酸化アルミニウムを用いた以外は実施例5と同様の方法により、エッチング処理を行った。
(実施例9〜21)
エッチング液として表1に記載のエッチング液を用いた以外は実施例1と同様の方法により、エッチング処理を行った。
(比較例1)
溶融シリカの含有量を48質量%とし、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂の含有量を40質量%とした以外は実施例1と同様の方法により、エッチング処理を行った。エッチング時間を30分まで延長したが、導体パターン表面上及びエポキシ樹脂ガラス布基材上に大量の樹脂残りがあり、樹脂組成物層をエッチング加工することができなかった。結果を表2に示す。
(比較例2〜4)
比較例2では、エッチング液の水酸化カリウムの含有量を10質量%とし、比較例3及び4ではさらに、エタノールアミン化合物として、N−(β−アミノエチル)エタノールアミン及びN−メチルエタノールアミンをそれぞれ40質量%添加した以外は実施例1と同様の方法により、エッチング処理を行った。エッチング時間を30分まで延長したが、導体パターン表面上及びエポキシ樹脂ガラス布基材上に大量の樹脂残りがあり、樹脂組成物層をエッチング加工することができなかった。結果を表2に示す。
(比較例5)
実施例1と同様の方法により得られた金属マスク付きの樹脂組成物層をレーザー加工法によりエッチング処理し、その後、マスクパターンを除去した。これを光学顕微鏡で観察した結果、導体パターンが除去されている部分があり、また、樹脂組成物層に変形や変質といった欠点が確認された。
(比較例6)
実施例1と同様の方法により得られた金属マスク付きの樹脂組成物層をウェットブラストによりエッチング処理し、その後、マスクパターンを除去した。これを光学顕微鏡で観察した結果、樹脂組成物層のエッチング量にばらつきがあり、エポキシ樹脂ガラス布基材上に樹脂組成物が残っている箇所があった。また、表面の一部又は全部が露出された導体パターンにはブラスト処理によって付けられた傷が多数確認された。
実施例19では、実施例10と比較して、エッチング液の温度を高くしたため、エッチング時間は短くなったが、エポキシ樹脂ガラス布基材上に実用上問題となるレベルの樹脂組成物が残ることなく、樹脂組成物層をエッチング加工することができた。実施例20及び21では、実施例10と比較して、エッチング液の温度を低くしたため、エッチング時間は長くなったが、実用上問題となるレベルのアンダーカットは発生しなかった。
(実施例22〜28)
エッチング液として表3に記載のエッチング液を用いた以外は実施例1と同様の方法により、エッチング処理を行った。
(実施例29)
溶融シリカの含有量を50質量%とし、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂の含有量を38質量%とした以外は、実施例22と同様の方法により、エッチング処理を行った。
(実施例30〜32)
無機充填剤として、溶融シリカの代わりにガラス、クレー、水酸化アルミニウムを用いた以外は実施例29と同様の方法により、エッチング処理を行った。
(実施例33及び34)
エッチング液として表3に記載のエッチング液を用いた以外は実施例22と同様の方法により、エッチング処理を行った。
実施例29の溶融シリカの代わりに、ガラス、クレー、水酸化アルミニウムを使用した実施例30〜32では、エッチングは可能であったものの、溶融シリカに比べて、エッチング時間はいずれも長くなった。しかしながら、アンダーカットは発生しなかった。
(実施例35)
実施例1において、金属マスクを介して、水酸化カリウムを30質量%及びN−(β−アミノエチル)エタノールアミン30質量%を含むエッチング液(処理温度80℃)によって樹脂組成物層の一部を除去した(工程(A))。その後、水酸化カリウムを0.3質量%及びN−(β−アミノエチル)エタノールアミン0.3質量%を含む水洗除去液(処理温度20℃)によって、残りの樹脂組成物層を完全に除去した(工程(B))。工程(B)の後、樹脂組成物層の表面に残存付着したエッチング液を純水によるスプレー処理によって洗浄した。工程(A)及び工程(B)共に浸漬処理にて行った。工程(B)を含まない実施例10と比較して、導体パターン表面を含め、エポキシ樹脂ガラス布基材上に樹脂組成物層が残ること無く、エッチング除去されていることを確認した。また、実用上問題となるレベルのアンダーカットは確認されなかった。エッチング液の温度及びエッチング処理に要した時間を表4及び表5に示す。
工程(A)におけるエッチング液及び/又は工程(B)における水洗除去液の配合を表4及び表5に記載の配合に変更した以外は、実施例35と同様の方法により、エッチング処理を行った。実施例36〜39と実施例35とを比較すると、エッチング液における水酸化カリウムの含有量が多くなるにしたがって、樹脂組成物層がエッチング除去されるまでにかかる時間は短くなった。また、実施例40〜46と実施例35とを比較すると、エッチング液におけるエタノールアミン化合物及びアルカリ金属水酸化物の種類を変えることによって、エッチング除去されるまでの時間が変化したが、エポキシ樹脂ガラス布基材上に実用上問題となるレベルの樹脂組成物が残ることは無く、アンダーカットは発生しなかった。一方、実施例37及び39と実施例35とを比較すると、水酸化カリウム又はエタノールアミン化合物の含有量が多くなると、底面に微小なアンダーカットが発生する傾向が見られたが、実用上問題無いレベルだった。
(実施例47及び48)
溶融シリカの含有量を65質量%、50質量%とし、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂の含有量を23質量%、38質量%とした以外は、実施例35と同様の方法により、エッチング処理を行った。溶融シリカの含有量が少なくなるにしたがって、樹脂組成物層が全てエッチング除去されるまでにかかる時間は長くなったが、いずれもエポキシ樹脂ガラス布基材上に樹脂組成物が残ること無く、アンダーカットは発生しなかった。
(実施例49〜51)
無機充填剤として、溶融シリカの代わりにガラス、クレー、水酸化アルミニウムを用いた以外は、実施例35と同様の方法により、エッチング処理を行った。樹脂組成物層が全てエッチング除去されるまでにかかる時間は長くなったが、いずれもエポキシ樹脂ガラス布基材上に樹脂組成物が残ること無く、アンダーカットは発生しなかった。
(実施例52〜58)
工程(A)又は工程(B)における処理温度を表4又は表5記載の温度に変更した以外は、実施例35と同様の方法により、エッチング処理を行った。実施例52〜54と実施例35とを比較すると、工程(A)の処理温度が低くなるにしたがって、樹脂組成物層がエッチング除去されるまでにかかる時間は長くなったが、エポキシ樹脂ガラス布基材上に実用上問題となるレベルの樹脂組成物が残ること無く、エッチング除去されていることを確認した。また、実用上問題となるレベルのアンダーカットは確認されなかった。また、エッチング除去された樹脂組成物層の断面形状は、工程(A)の処理温度が高くなると、底面に微小なアンダーカットが見られたが、実用上問題ないレベルだった。実施例55〜58と実施例35とを比較すると、工程(B)における処理温度は高くなるほど、エポキシ樹脂ガラス布基材上に樹脂が残りやすくなる傾向があった。また、エッチング除去された樹脂組成物層の断面形状にアンダーカットは発生しなかった。
(実施例59)
エッチング液として表6又は表7記載のエッチング液を用いた以外は実施例35と同様の方法により、エッチング処理を行った。工程(B)を含まない実施例22と比較して、導体パターン表面を含め、エポキシ樹脂ガラス布基材上に樹脂組成物層が残ること無く、エッチング除去されていることを確認した。また、実用上問題となるレベルのアンダーカットは確認されなかった。エッチング液の温度及びエッチング処理に要した時間を表6及び表7に示す。
工程(A)におけるエッチング液及び/又は工程(B)における水洗除去液の配合を表6及び表7に記載の配合に変更した以外は、実施例59と同様の方法により、エッチング処理を行った。実施例59、62〜65の比較から、樹脂組成物用のエッチング液が、エタノールアミン化合物としてN−(β−アミノエチル)エタノールアミンを含有する実施例59、62及び63では、エッチング時間が短く、アンダーカットも発生しなかった。樹脂組成物用のエッチング液が、エタノールアミン化合物としてN−(β−アミノエチル)エタノールアミンを含有していない実施例64では、小さなアンダーカットが発生し、樹脂組成物用のエッチング液が、エタノールアミン化合物としてN−(β−アミノエチル)エタノールアミンを含有していない実施例65では、アンダーカットは発生しなかったものの、エッチング時間が長くなった。
(実施例66)
溶融シリカの含有量を50質量%とし、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂の含有量を38質量%とした以外は、実施例59と同様の方法により、エッチング処理を行った。実施例59と比較して、溶融シリカの含有量が少なくなったため、エッチング時間は長くなったが、アンダーカットは発生しなかった。
(実施例67〜69)
無機充填剤として、溶融シリカの代わりにガラス、クレー、水酸化アルミニウムを用いた以外は実施例59と同様の方法により、エッチング処理を行った。エッチングは可能であったものの、溶融シリカに比べて、エッチング時間はいずれも長くなった。アンダーカットは発生しなかった。
(実施例70〜71)
エッチング液として表6又は表7記載のエッチング液を用いた以外は実施例59と同様の方法により、エッチング処理を行った。水酸化カリウムの代わりに、水酸化ナトリウム、水酸化リチウムを使用した場合でも、アンダーカットは発生しなかった。
2 絶縁層
3 半田接続パッド、接続パッド
4 樹脂組成物層
5 金属マスク
6 銅箔
Claims (6)
- アルカリ不溶性樹脂及び50〜80質量%の無機充填剤を含む樹脂組成物用のエッチング液において、該エッチング液が、15〜45質量%のアルカリ金属水酸化物及び5〜40質量%のエタノールアミン化合物を含有し、エタノールアミン化合物が、エタノールアミン、N−(β−アミノエチル)エタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン及びN−エチルジエタノールアミンからなる群から選ばれる少なくとも2種の化合物であることを特徴とするエッチング液。
- エタノールアミン化合物として、少なくともN−(β−アミノエチル)エタノールアミンを含有する請求項1に記載の樹脂組成物用のエッチング液。
- アルカリ不溶性樹脂及び50〜80質量%の無機充填剤を含む樹脂組成物用のエッチング液において、該エッチング液が、15〜45質量%のアルカリ金属水酸化物及び5〜40質量%のエタノールアミン化合物を含有し、エタノールアミン化合物が、N−(β−アミノエチル)エタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノールアミン及びN−エチルジエタノールアミンからなる群から選ばれる1種の化合物であることを特徴とするエッチング液。
- アルカリ不溶性樹脂及び50〜80質量%の無機充填剤を含む樹脂組成物層のエッチング方法において、請求項1〜3のいずれかに記載のエッチング液によって、該樹脂組成物層を除去する工程を含むことを特徴とするエッチング方法。
- アルカリ不溶性樹脂及び50〜80質量%の無機充填剤を含む樹脂組成物層のエッチング方法において、
(A)15〜45質量%のアルカリ金属水酸化物及び5〜40質量%のエタノールアミン化合物を含有するエッチング液によって、該樹脂組成物層の一部を除去する工程、
(B)アルカリ金属水酸化物及びエタノールアミン化合物を含み、それらの含有量がそれぞれ前記エッチング液におけるアルカリ金属水酸化物及びエタノールアミン化合物の含有量よりも少ない水洗除去液によって残りの樹脂組成物層を完全に除去する工程、
をこの順に含むことを特徴とするエッチング方法。 - 樹脂組成物層を除去する工程が浸漬処理である請求項4又は5に記載のエッチング方法。
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017076148 | 2017-04-06 | ||
JP2017076148 | 2017-04-06 | ||
JP2017248831 | 2017-12-26 | ||
JP2017248831 | 2017-12-26 | ||
JP2018026675 | 2018-02-19 | ||
JP2018026675 | 2018-02-19 | ||
PCT/JP2018/014156 WO2018186362A1 (ja) | 2017-04-06 | 2018-04-02 | 樹脂組成物用のエッチング液及びエッチング方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018186362A1 JPWO2018186362A1 (ja) | 2020-01-16 |
JP6929936B2 true JP6929936B2 (ja) | 2021-09-01 |
Family
ID=63713216
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019511238A Active JP6929936B2 (ja) | 2017-04-06 | 2018-04-02 | 樹脂組成物用のエッチング液及びエッチング方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6929936B2 (ja) |
KR (1) | KR102340959B1 (ja) |
CN (1) | CN110461920A (ja) |
TW (1) | TW201842165A (ja) |
WO (1) | WO2018186362A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020085447A1 (ja) * | 2018-10-24 | 2020-04-30 | 三菱製紙株式会社 | 樹脂組成物のエッチング液及びエッチング方法 |
JP6674075B1 (ja) * | 2018-10-24 | 2020-04-01 | 三菱製紙株式会社 | 樹脂組成物のエッチング液及びエッチング方法 |
KR102376557B1 (ko) | 2019-01-28 | 2022-03-18 | 미쓰비시 세이시 가부시키가이샤 | 수지 조성물의 에칭액 및 에칭 방법 |
KR102364004B1 (ko) * | 2019-04-03 | 2022-02-16 | 미쓰비시 세이시 가부시키가이샤 | 액정 폴리머용 에칭액 및 액정 폴리머의 에칭 방법 |
JP7341766B2 (ja) * | 2019-07-19 | 2023-09-11 | 三菱製紙株式会社 | 樹脂組成物用のエッチング方法 |
CN115011348B (zh) * | 2022-06-30 | 2023-12-29 | 湖北兴福电子材料股份有限公司 | 一种氮化铝蚀刻液及其应用 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6330540A (ja) * | 1986-07-23 | 1988-02-09 | Canon Electronics Inc | 樹脂表面の改質方法 |
JP2000013032A (ja) * | 1998-06-19 | 2000-01-14 | Hitachi Chem Co Ltd | 多層プリント配線板の製造方法 |
US6403211B1 (en) * | 2000-07-18 | 2002-06-11 | 3M Innovative Properties Company | Liquid crystal polymer for flexible circuits |
US6923919B2 (en) * | 2000-07-18 | 2005-08-02 | 3M Innovative Properties Company | Liquid crystal polymers for flexible circuits |
JP2003101244A (ja) | 2001-09-27 | 2003-04-04 | Ibiden Co Ltd | 多層プリント配線板の製造方法および多層プリント配線板 |
JP2003261699A (ja) * | 2002-03-08 | 2003-09-19 | Toray Eng Co Ltd | 液晶ポリマー用エッチング液及びそれを用いるエッチング方法 |
JP2006012892A (ja) * | 2004-06-22 | 2006-01-12 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | デスミア液、およびデスミア方法 |
JP4519548B2 (ja) * | 2004-07-12 | 2010-08-04 | ポリプラスチックス株式会社 | 液晶性ポリマー成形品のメッキ前処理方法 |
JP4104154B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2008-06-18 | 東レエンジニアリング株式会社 | 液晶ポリマーのエッチング液及び液晶ポリマーのエッチング方法。 |
JP5138277B2 (ja) | 2007-05-31 | 2013-02-06 | 京セラSlcテクノロジー株式会社 | 配線基板およびその製造方法 |
JP2010111795A (ja) * | 2008-11-07 | 2010-05-20 | Chisso Corp | 剥離液 |
JPWO2017038713A1 (ja) | 2015-08-31 | 2018-06-14 | 住友ベークライト株式会社 | プリント配線板の製造方法、半導体装置の製造方法 |
-
2018
- 2018-04-02 TW TW107111566A patent/TW201842165A/zh unknown
- 2018-04-02 WO PCT/JP2018/014156 patent/WO2018186362A1/ja active Application Filing
- 2018-04-02 CN CN201880021886.4A patent/CN110461920A/zh active Pending
- 2018-04-02 JP JP2019511238A patent/JP6929936B2/ja active Active
- 2018-04-02 KR KR1020197026733A patent/KR102340959B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110461920A (zh) | 2019-11-15 |
WO2018186362A1 (ja) | 2018-10-11 |
KR20190120771A (ko) | 2019-10-24 |
JPWO2018186362A1 (ja) | 2020-01-16 |
KR102340959B1 (ko) | 2021-12-17 |
TW201842165A (zh) | 2018-12-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6929936B2 (ja) | 樹脂組成物用のエッチング液及びエッチング方法 | |
KR102082641B1 (ko) | 배선 기판의 제조 방법 | |
JP6514807B2 (ja) | 配線基板の製造方法 | |
KR102327244B1 (ko) | 수지 조성물의 에칭액 및 에칭 방법 | |
WO2020158610A1 (ja) | 樹脂組成物のエッチング液及びエッチング方法 | |
TW201809882A (zh) | 阻焊劑圖型之形成方法 | |
JP2021019079A (ja) | 樹脂組成物用のエッチング方法 | |
JP6674075B1 (ja) | 樹脂組成物のエッチング液及びエッチング方法 | |
JP2020033492A (ja) | 樹脂組成物用のエッチング液 | |
JP3242925U (ja) | エッチング装置 | |
JP3240214U (ja) | エッチング装置 | |
JP2020041099A (ja) | エッチング装置 | |
JP2022042708A (ja) | 樹脂組成物のエッチング方法 | |
JP3230280U (ja) | エッチング装置 | |
JP2022013120A (ja) | エッチング装置 | |
JP2022106534A (ja) | 熱硬化性樹脂用デスミア液 | |
JP2022032447A (ja) | エッチング装置 | |
TWI675256B (zh) | 阻焊劑圖型之形成方法 | |
JP2022118826A (ja) | エッチング装置 | |
JP2017033989A (ja) | ソルダーレジスト層の形成方法 | |
JP2017228614A (ja) | 電子部品の製造方法 | |
KR20160002115U (ko) | 레지스트층의 박막화 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190913 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190913 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201104 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20201218 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210224 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210803 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210811 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6929936 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |