JP5096371B2 - 相対的に柔らかい支持材と相対的に硬い装飾層を有する物品およびその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、相対的に柔らかい支持材と、任意的つまり選択自由である、支持材に着けられた接着層ないし接着層システムと、および相対的に硬い装飾層とを有する物品に関するものである。本発明はさらに、この物品を製造するための方法に関する。
このような物品および方法は、例えば建築用の付属品ないし建具の分野では公知であり、この分野では、ドアの取っ手やハンドルのような、真鍮製品に、例えば本願出願人の名義のＤＥ−Ａ−１００１１５９７に開示されたような、硬い装飾コーティングが施されている。

実際には、装飾層が設けられる他の数多くの物品がある。家庭用電化製品の分野における小型物品ないし製品は、例を挙げれば、特に、ＭＰ３プレーヤー、携帯式ラジオ、携帯電話などであり、これらは、支持材からなるプラスチック製のハウジングに、例えばアルミニウム色や黒色の色が着けられた装飾層が設けられている。アルミニウム、真鍮、ステンレススチールなどの柔らかい金属のハウジングを備えたこのような物品は、装飾層を備えたものとしても知られている。アルミニウム、真鍮、ステンレススチールなどの支持材でも、例えばビッカース硬度で約２００から約３００の範囲の相対的ないし比較的に柔らかい支持材がせいぜいである。このような物品がプラスチックからできたものか、あるいは相対的に柔らかい金属でできたものかに拘わらず、例えばユーザの度重なる取扱、対応する物品をポケットに入れたりあるいは例えば自動車の如き振動する土台上に置いた結果として、比較的短期間後に、使用の痕がつく。

よって、このような多数の物品、特に日常品において、従来に比べて、装飾層の引っ掻き傷や摩耗に対する耐久性がより高い、装飾層を備えた物品を提供する必要性ないし要求がある。

本出願人は、例えばＰＶＤプロセスやＣＶＤプロセスなどで生成された装飾層の如き、装飾層の損傷の問題を層自体の組成において追求するのではないことを知得した。これは、このような装飾層は比較的薄く且つ相対的（比較的）に硬くて、少なくとも支持材よりも硬いからである。そして、上記問題は本質的にはむしろ、相対的ないし比較的に柔らかい基材ないし下地にあることを知得した。これは、基材が比較的容易に引っ掻かれたり損傷され易い結果、例えば、柔らかい支持材が相当の力の作用で押圧された場合、装飾層の外観の劣化やこの層の局部的な割れ（裂け）が生じる。同様な問題はプラスチックの支持材の場合も生じる。

さらに、本発明によれば、この問題は比較的厚い硬い層、例えば、物品にガルバニックプロセス（電食（流電）処理）によって着けられたＣｒの場合には解消されることが知得された。アルミニウムやダイカスト亜鉛の物品の場合にはガルバニックプロセス（電食や流電）により硬質クロム層を設けることが同様に知られており、この層は付随的に腐食防止層として機能し、この上には装飾層が設けられる。このような硬質クロム層は、しかしながら、対応するガルバニック浴が、有毒であり健康的な理由から好ましくないクロムＶＩ（六価クロム）を含むという欠点がある。

プラスチックの支持材用として、いずれも相対的ないし比較的に柔らかい層である第１の銅層と第２のニッケル層とからなる厚さ１μｍ以下の結合促進層システムを電食ないし流電によって設けることが知られている。この結合促進層システムは、実際の装飾層が着けられる前に、約１０から２０μｍの厚さの硬質クロム層の次に設けられる。

さらに、導電性の物品用には、ＰＶＤプロセスで厚さが１μｍ未満の薄い結合促進層を着け、次いでこの層の上に、実際の装飾層が着けられる前に、厚さ１から３μｍのクロムないし窒化クロムの支持層を同様にＰＶＤプロセスを用いて着けることが知られている。

クロムＶＩ（６価クロム）を有する硬質クロム浴の有毒性の問題は別として、全てのケースにおいて、良好な結果を得るためには、数μｍのかなりの厚さのＣｒ層が必要であるという欠点がある。この種の比較的厚いＣｒ層は、しかしながら、長い処理時間を必要とし、このため製造プロセスが割高になってします。さらに、Ｃｒは比較的高価な材料であり、特に比較的厚いＣｒ層を備えた製品を多数製造する際にはこれが重大な関心事となる。

十分な厚さを有するこのような硬質層を設けた後は、支持材が引っ掻かれたり損傷する危険性が著しく低減されるので、このようにして作られた支持材、硬質Ｃｒ層およびＰＶＤやＣＶＤプロセスで着けられた装飾層からなる製品はこれらの問題が解消される。

よって、本願発明の目的は、相対的ないし比較的に柔らかい支持材と、その表面にＰＶＤプロセスまたはＣＶＤプロセスにより着けることで設けられた装飾層からなる物品であり、引っ掻きや損傷に対する耐性が高く、また適正なコストで製造でき、さらに有毒性の問題を大幅に回避できる、物品を提供することにある。

上記の課題を解決するため、当初に述べた種類の物品は本願発明により提供され、この物品は、支持材と装飾層との間、および任意的には接着層または接着層システムと装飾層との間に、少なくとも主成分がＤＬＣである中間層が設けられていることを特徴とする。

即ち、本願発明によれば、主成分がＤＬＣからなるこの種の中間層は、相対的に柔らかい支持材より僅かに硬く、およびＣｒ層と比べた場合、比較的より短い時間且つ顕著により低い材料コストで着けることができる一方、物品あるいはその上に設けられたＰＶＤないしＣＶＤ層の引っ掻きや摩耗に対する優れた耐性を発揮し、また５０から５００ｎｍの範囲の比較的薄いＰＶＤまたはＣＶＤ層だけが必要であり、および更に比較的適切なコストで生成できることが知得された。

アルミニウム、真鍮（黄銅）、ダイカスト亜鉛、あるいはステンレススチールは、特に「相対的に柔らかい支持材」と称されるものであり、また例えばステンレススチールの場合はビッカース硬度（ＨＶ_{０．０２５}）２５０を有する。柔らかい支持材は通常は３００以下のＨＶ_{０．０２５}値を有している。本願発明に係る保護用コーティングはより高いＨＶ値を有する材料からなる物品の場合でも成功裏に設けることができるので、この値は限定的なものではない。

プラスチック製の支持材からなる物品は、一般的には、２５０ＨＶ_{０．０２５}よりかなり下のＨＶ０．０２５値を有しており、本願発明によればこの場合でも同様に成功裏にコーティングを設けることができる。

支持材用のステンレススチールとしては、１６から１８％のＣｒおよび８から１２％のＮｉを含むステンレススチールを、多種の金属の一例ではあるが、例示することができる。

支持材用のプラスチックとしては、単一種のプラスチック、あるいは異なるプラスチックの混合物を用いることができる。

プラスチックは、例えば、ＡＢＳ、ポリカーボネート、ＰＭＭＡ、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリアミド、または合成樹脂、またはこれらプラスチックの混合物、これらプラスチックから選択された１以上のプラスチックに繊維強化材を加えたものからなる、群から選択されたものであるが、これらに限定されない。

支持材と中間層との間に接着層または接着層システムを設けることは必須的ではなく、中間層は、原則的には、支持材上に直接的に着けられる。コーティングされる支持材の面を準備する際に、エッチングプロセス、あるいはエッチングプロセスと清浄化プロセスによって改善ないし修復できない接着の問題が発生する場合には、接着層または接着層システムが使用され、これらは支持材の清浄化および／またはエッチングされた面の上に着けられ、次いで、接着層システムの接着層の自由な面上に中間層が着けられる。任意的つまり選択自由ではあるが、その後に清浄化および／またはエッチングが行われる。

ステンレススチール製の支持材用だけではなくプラスチック製の面用にも最適のものである本願発明の物品ないし方法の好ましい実施形態では、接着層はＣｒ層から構成されており（できており）、このＣｒ層は、Ｃｒの割合（比率）が低減し且つＷＣの割合（比率）が増大するＷＣ層と結合され、このＷＣ層の次にはＷ−Ｃ：Ｈ層が設けられ、この上にＤＬＣを主成分とする中間層が接着される。Ｃｒからなる接着層は、従来技術とは対照的に、ガルバニックプロセスにより設けられたものではなく、むしろＰＶＤプロセスにより設けられる。よって、クロムＶＩが原因となる問題は生じない。さらに、上記着けられたＣｒ層は比較的薄く、例えば５０ｎｍ以下であるため、ＰＶＤプラント内での処理時間が比較的短くて済み、このことは、バッチ式プロセス（バッチプロセス）で行われる製造プロセスが実質的に安価に行うことができ、またクロムの消費が低減化され、よって、製造コストを低減することができる。

純粋なクロムの接着層の代わりに、ＣｒＮの層を考慮ないし使用することができる。この層は例えば、層厚の増大と共にクロムの割合（比率）が低減し且つ窒素の割合（比率）が増大する傾斜層（勾配層）として実現される。このようにして、Ｃｒの消費を低減でき、さらに、組み込まれた窒素によって層が同時に顕著により硬くなる。

本願発明の物品ないし方法の別の実施形態では、接着層はＴｉ層から構成され、このＴｉ層は、Ｔｉの割合（比率）が低減し且つＷＣの割合（比率）が増大する態様でＷＣ層と結合され、このＷＣ層の次にはＷ−Ｃ：Ｈ層が設けられ、この上にＤＬＣを主成分とする中間層が接着される。このケースでも、純粋なＴｉ接着層の代わりにＴｉＮ接着層を同様に考慮ないし使用することができる。

通常は、接着層は金属層から構成され、この金属層は、金属の割合（比率）が低減し且つＷＣの割合（比率）が増大する態様でＷＣ層と結合され、このＷＣ層の次にはＷ−Ｃ：Ｈ層が設けられ、この上にＤＬＣを主成分とする中間層が接着される。金属層の金属は、Ｃｒ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｖあるいはこれらの混合物の群から選択される。

プラスチックの支持材として、ＣｕＮｉの層の配列（シーケンス）つまりＣｕＮｉ層配列が、公知の方法で接着層システムとしてガルバニックプロセスにより設けられる。

さらに、公知の重合体接着層システムを使用することもでき、このシステムは有機シリコン化合物を使用して支持材上にＰＡＣＶＤプロセスで着けることができ、この化合物は対応する真空プラント内にガス形態または液形態で導入される。一例を挙げればＨＤＳＭＯ（ヘキサジメチルジシロキサン）であり、これはプラズマ中でシリコンと化合物を含む炭化水素に分解され、これらは、物品上に接着層を形成するポリマー層として着けられる。プラントのガス雰囲気中の酸素の割合（比率）を高めることで、これを良好に着けることができるが、やや柔らかい層をＳｉＯ_２から構成されるガラス状の層の方向に変えることが好適であり、これにより特徴を持たせることができ且つ層の硬度を顕著に増大できる。

中間層の自由な面に設けられる装飾層を実現するための多くの可能性がある。いくつかの例を以下に挙げるが、これらに限定されない。一例として、本願発明に係るＰＶＤおよび／またはＣＶＤにより設けられる装飾層は、非反応的に設けられたＴｉの黒層（ブラック層）に反応的に設けられたＴｉＣｒＣＮのコーティングを備えたものである。

本願発明に係る別の代替え例によれば、装飾層は、ＰＶＤにより着けられた、真鍮、金、ニッケルまたは青銅（ブロンズ）の色の、ＺｒＣＮ層である。

本願発明に係る別の代替え例によれば、装飾層は、金、ステンレススチール、青銅または銅の色の、ＴｉＣＮ層である。

本願発明に係る他の代替え例によれば、装飾層は、ＰＶＤにより着けられた、ステンレススチールの色の、ＣｒＣＮ層である。

さらに、本願発明によれば、装飾層は、ＰＶＤにより着けられた、無煙炭の色の、ＺｒＣｒＣＮ層により実現される。

さらに、色付きの酸化物層または酸窒化物層を使用することもでき、これらの層は、装飾層としてＰＶＤプロセスにより着けられ、および青や緑などの多色（虹色）を有している。このような層は、例えば、ＴｉＣｒＯ、ＴｉＣｒＯＮ、ＴｉＯＮ、ＣｒＯＮから構成される。

これら装飾層の厚さは約５０から５００ｎｍのものが通常は使用される。

本願発明に係る方法は、請求項１５から２８に詳細に説明されており、好ましくは、いずれかの接着層またはいずれかの接着層システムおよび／または装飾層の成分用の少なくとも１つのスパッタのターゲットと、ＤＬＣを主成分ないし唯一の成分とする中間層を設けるためのＰＡＣＶＤと、いずれかの接着層あるいはいずれかの接着層システムおよび／または装飾層の成分を設けるための少なくとも１つのアーク源とを有するプラントにおいて実施される。

以下に、本願発明を実施例および添付図面を参照して、説明する。

最初に、図１は、支持材１２と装飾コーティング（装飾層）１４とを有してなる、いずれかの所望の種類の物品の断面図である。この例では、ベース層（基層）１８、遷移（転移）層２０、カバー層２２からなる接着層システム１６は、物品の支持材１２の本来の自由な面１３上に存在している。

カバー層２２と装飾層１４との間には中間層２４があり、中間層はこの例ではＤＬＣ層、つまり不純物ができる限り排除された、ＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン：ダイヤモンド状炭素）からなる層である。

この例の個々の成分は以下により詳しく説明する。

支持材１２は、この例では、例えばステンレススチールのような金属、あるいは例えばＡＢＳのようなプラスチックのいずれかである。ステンレススチールは、ビッカース硬度が２５０ＨＶ_{０．０２５}であり、よって相対的に柔らかいものであると見なされる。特に、本願発明は、通常は３００ＨＶ_{０．０２５}以下の硬さの相対的に柔らかい支持材を対象としているが、これより硬い支持材も同様に使用でき、よって、このような硬度の細部は限定と判断されるべきではない。

物品１０の支持材１２がプラスチック、例えばＡＢＳで構成された場合には特に、ビッカース硬度は２５０ＨＶ_{０．０２５}以下となる。

層１８、２０、２２、２４および１４を着けるため、物品１０は適応性の高い真空コーティング用プラント、好ましくはマグネトロンスパッタリングおよびＰＡＣＶＤ（プラズマ支援化学蒸着）によるコーティングを施すことができるプラント内に挿入され、このプラントは、関連するＰＶＤプロセスによりアーク源を使用するアーク蒸発（アーク気化）を用いて物品に同様にコーティングを施せることが好ましい。この種のプラントは、例えば、ＰＡＣＶＤシステムが追加ないし補充されたＨａｕｓｅｒ Ｆｌｅｘｉｃｏａｔプラントである。このＨａｕｓｅｒ Ｆｌｅｘｉｃｏａｔプラントは、例えば欧州特許ＥＰ４０３５５２により保護されている。

物品１０を適応性の高い真空コーティングプラント内に導入した後は、公知の方法でプラントを加熱することで物品１０をまず動作温度（運転温度）まで加熱すると同時にチャンバの脱気（ガス抜き）を行い、これにより、物品に不純物（混入物質）となる揮発性成分は、その大部分が取り除かれる。これら不純物は、適合性の高い真空コーティング用プラントの真空システムを介して吸い取られる。適切な動作温度は、各プラスチックおよび各金属により異なるが、実際には各材料により特定のものであることが知られており、この動作温度になったならば、ターゲット、つまり層１８、２０、２２および１４のための材料を届けるためのスパッタ用カソードは、クリーニング（清浄化）される。これは、例えば、適用性の高い真空コーティングプラント中の不活性ガス雰囲気においてシャッターが閉じた状態でターゲットがスパッタ操作において操作されることで行われ、これにより、最初は不純物の含まれたターゲットのスパッタされた表面材料はシャッター上に着けられる（堆積される）。この方法により、不純物、例えばコーティング処理の早い段階における不純物がターゲット表面から取り除かれ、ターゲットは必要とされる純度を持つようになる。その後、適応性の高い真空コーティングプラント内に組み込まれたプラズマ源を使用してエッチングプロセスが所定期間行われる。このようなプラズマ源はそれ自体は公知であり、また実用的な特長があることからしばしばパルス動作で行われる。このエッチングプロセスの間において、接着層システム１６を良好に着けるために、支持材１２の自由な面１３がエッチングされ且つ清浄化される。

面１３を清浄化した後は、物品１０の面上にＰＶＤによって厚さ５０から５００ｎｍの範囲のＣｒの薄い層１８が着けられる。この方法は物品がステンレススチールの場合は有用である。なぜならば、ステンレススチールにはいずれにしてもＣｒが含まれているため、この方法によれば支持材１２と接着層１８との間の質的に高度な遷移（移動）が確保され、これは接着には良好なことである。

プラスチック製の物品の場合には、Ｃｒ層を設けることでこのプラスチック製の物品上に導電層を設けることができる可能性が提供され、このことは別の目的のために有用である。プラスチック製の物品にＣｒ層を設けることは、例えば、欧州特許明細書１１１６８０１に記載されている。

このＣｒ層は、スパッタ源、つまりターゲットであるＣｒからの磁気スパッタリングプロセスから得ることができ、あるいはアーク源としての対応するターゲットからのアークコーティングプロセスで得ることができる。

遷移層２０は、ＣｒとＷＣの混合物から構成され、Ｃｒの割合（比率）は、層１８の表面の最大値から始まって漸次ゼロに低減するように境界面２８まで進み、一方、ＷＣの割合（比率）はだんだんと上昇しており遷移層２０の自由な面においてはＣｒは実質的に存在しておらず、自由な面は本質的ないし実質的にＷＣ層から構成される。この遷移層２０は同様に比較的薄いが、接着層１８よりは厚く、カバー層２２により終了しており、カバー層はこの例ではＷ−Ｃ：Ｈ層を表している。

遷移層２０用のＷＣは、スパッタ源として操作されるＷＣのターゲットから生成される。

Ｗ−Ｃ：Ｈのカバー層２２を生成するために、適用性の高い真空コーティングプラントのアルゴンの上述した雰囲気を供給したアセチレンＣ_２Ｈ_２により部分的に置き換え、これによりＷＣ層は今度は過剰の炭素を含有するようになり、存在する水素により変更（変性）される。これにより、所謂Ｗ−Ｃ：Ｈ層が生じる。同様にして非常に薄いカバー層２２を生成した後、適用性の高い真空コーティングプラントはＰＡＣＶＤに切り換えられ、次いで、公知の方法により、ＤＬＣ層２４が生成される。このＤＬＣ層は例えば約２μｍの厚さである。この厚さの値は本願発明を数値的に制限するものではなく、本願発明の趣旨を逸脱することなくこの層の厚さをこれより薄くあるいは厚くできる。

この例では、中間層２４は実質的にＤＬＣ（通常は不可避である不純物は除外）からなり、これは供給されたアセチレンから生成され、つまり、適用性の高い真空コーティングプラントの雰囲気から生成される。

この例では、中間層２４は純粋なＤＬＣであるが、ＤＬＣは中間層２４の一成分とすることも可能である。例えば、他の成分例えばシリコンと共に一緒に着けるようにしても良く、これは基本的にはプラントのガス雰囲気に由来するものであるが、対応するターゲットに由来させても良い。いずれの場合も、マグネトロンスパッタリングプロセスやアークプロセスのいずれかが使用される。通常は、ＤＬＣは中間層の主成分を形成する。

最後に、例えば５０から５００ｎｍの厚さである、より薄い装飾層１４が中間層２４の自由な面３０上に着けられる。装飾層１４は、ＰＶＤまたはＣＶＤプロセスにより着けることができる、いずれかの所望の装飾層である。このような層およびこれにより生成される色の例は従来技術により公知であり、また本発明において好適であるいくつかのコーティングは請求項１０から１３に説明されている。

請求項１０の例では、ＴｉＣｒＣＮコーティングが設けられ、実際には最初の層Ｔｉは非反応的な操作手法、実際的には対応するＴｉターゲットからのマグネトロンスパッタリングプロセスや対応するターゲットからのアークプロセスのいずれかにより、チャンバの雰囲気との化学的な反応なしで、着けられる。このため、チャンバの雰囲気は、例えばアルゴンのような不活性ガスにより形成される。

最後に、ＴｉＣｒＣＮ層が生成される。このためには、ＴｉおよびＣｒの各ターゲットが使用され、および、チャンバの雰囲気が、炭素と窒素を運搬するガス、例えばアセチレンと窒素の混合物により形成されるように、変更される。

請求項１１から１４の別のコーティングを設けることは同様にして行われる。しかしながらその場合、非反応プロセスでＴｉの金属層を最初に着けることは必要ではなく、むしろ対応するターゲットおよびガスから対応する化合物（合成物）を反応的に生成することができる。

ボンドシステム１６のようなボンドシステムを使用することは必須的ではなく、物品の面の準備（清浄化および／またはエッチング））によって十分な接着性が達成できる場合、あるいは接着層システムに代えて適切な材料からなる単一の接着層を使用できる場合には、この接着層システムを完全に省いても良い。

図２の実施例において、この構造は図１の場合と同様にして作ることができる。但し、この構造の場合、接着層システム１６が省かれており、つまり中間層２４が物品の自由な面１３に直接的に着けられており、またその上に直接的に装飾層１４が着けられている。

図３の例では、プラスチック製の物品１０が示されており、この物品は、ガルバニックプロセスで設けられた層１８’と２０’とからなる接着層１６を有しており、層１８’はＣｕから、また層２０’はＮｉから構成される。

さらに、図４に示した物品は、上述したように、例えばＰＡＣＶＤプロセスによりＨＤＭＳＯから生成されたポリマー層である、ポリマー層からなる接着層１８’’を備えている。

図２、３および４に係る各例では、図１の例と同様な参照番号が使用されており、これら各例における構成要素の説明は、図１の例の対応する構成要素の説明と同じであるので、ここでは省略する。

物品およびこの物品に設けられた各層を示した断面図である。 本願発明に係る別の物品およびこの物品に設けられた各層を示した断面図である。 本願発明に従ってプラスチック（または金属）の支持材上に使用される層システムの別の例を示した説明図である。 本願発明に従ってプラスチック（または金属）の支持材上に使用される層システムの別の例を示した説明図である。

Claims (46)

1. ビッカース硬度が３００ＨＶ _{０．０２５} 以下である支持材（１２）と、少なくとも前記支持材よりも硬い装飾層（１４）とを有する物品（１０）であって、
   ＤＬＣを少なくとも主成分として含む中間層（２４）が、支持材（１２）と装飾層（１４）との間に設けられている、ことを特徴とする物品。
2. 支持材（１２）と装飾層（１４）との間に接着層（１８）または接着層システム（１６）が設けられており、中間層（２４）が接着層（１８）ないし接着層システム（１６）と装飾層（１４）との間に設けられている、ことを特徴とする請求項１記載の物品。
3. 支持材が金属または金属合金から構成されている、ことを特徴とする請求項１または２記載の物品。
4. 支持材が、アルミニウム、真鍮、マグネシウムおよびステンレススチールからなる群から選択されたものである、ことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の物品。
5. 支持材が、１６から１８質量％のＣｒと８から１２質量％のＮｉとを含むステンレススチールである、ことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の物品。
6. 支持材が少なくとも１つのプラスチックで構成されている、ことを特徴とする請求項１または２記載の物品。
7. プラスチックが、ＡＢＳ、ポリカーボネート、ＰＭＭＡ、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリアミド、または合成樹脂、またはこれらプラスチックの混合物、これらプラスチックから選択された１以上のプラスチックに繊維強化材を加えたものからなる群から選択されたものである、ことを特徴とする請求項６記載の物品。
8. 接着層がＣｒ層から構成されており、この接着層はＣｒの割合が低減し且つＷＣの割合が増大する態様でＷＣ層に結合され、このＷＣ層の次にはＷ−Ｃ：Ｈ層が設けられており、この上にＤＬＣを主成分とする中間層が接着されている、ことを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の物品。
9. 接着層がＣｒＮ層から構成されている、ことを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の物品。
10. 前記ＣｒＮ層がＣｒの割合が低減し且つＮの割合が増大する傾斜ＣｒＮ層の形態であり、この接着層はＷＣの割合がＣｒＮ層から離れる方向において増大する態様でＷＣ層に漸次結合され、およびこのＷＣ層の次にはＷ−Ｃ：Ｈ層が設けられており、この上にＤＬＣを主成分とする中間層が接着されている、ことを特徴とする請求項９記載の物品。
11. 接着層がＴｉ層から構成されており、この接着層はＴｉの割合が低減し且つＷＣの割合が増大する態様でＷＣ層に結合され、このＷＣ層の次にはＷ−Ｃ：Ｈ層が設けられ、この上にＤＬＣを主成分とする中間層が接着されている、ことを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の物品。
12. 接着層が金属層から構成されており、この接着層は金属の割合が低減し且つＷＣの割合が増大する態様でＷＣ層と結合され、このＷＣ層の次にはＷ−Ｃ：Ｈ層が設けられ、この上にＤＬＣを主成分とする中間層が接着されており、および
    金属層の金属が、Ｃｒ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｖあるいはこれらの混合物の群から選択される、ことを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の物品。
13. 接着層が有機シリコン層である、ことを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の物品。
14. 前記有機シリコン層がプラスチックまたは金属の支持材上にＰＡＣＶＤプロセスによって着けられている、ことを特徴とする請求項１３記載の物品。
15. 接着層が、プラスチックまたは金属の支持材上にガルバニックプロセスによって着けられたＣｕＮｉ層配列である、ことを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の物品。
16. 装飾層がＴｉの黒層にＰＶＤおよび／またはＣＶＤにより設けられたＴｉＣｒＣＮコーティングを備えたものである、ことを特徴とする請求項１から１５のいずれかに記載の物品。
17. 装飾層が、ＰＶＤにより着けられた、真鍮、金、ニッケルまたは青銅の色の、ＺｒＣＮ層である、ことを特徴とする請求項１から１５のいずれかに記載の物品。
18. 装飾層が、金、ステンレススチール、青銅または銅の色の、ＴｉＣＮ層である、ことを特徴とする請求項１から１５のいずれかに記載の物品。
19. 装飾層が、ＰＶＤにより着けられた、ステンレススチールの色の、ＣｒＣＮ層である、ことを特徴とする請求項１から１５のいずれかに記載の物品。
20. 装飾層が、ＰＶＤにより着けられた、無煙炭の色の、ＺｒＣｒＣＮ層である、ことを特徴とする請求項１から１５のいずれかに記載の物品。
21. 装飾層が、ＰＶＤにより着けられた多色を有する、酸化物層または酸窒化物層である、ことを特徴とする請求項１から１５のいずれかに記載の物品。
22. 酸化物層または酸窒化物層が、Ｔｉ、Ｃｒまたはこれら金属の組み合わせの群の金属の酸化物または酸窒化物である、ことを特徴とする請求項２１記載の物品。
23. ビッカース硬度が３００ＨＶ _{０．０２５} 以下である支持材と、少なくとも前記支持材よりも硬い装飾層と含む物品の製造のための方法であって、
    前記支持材と前記装飾層との間に、ＤＬＣを少なくとも主成分として含む中間層が設けられている、ことを特徴とする方法。
24. 支持材と装飾層との間に接着層または接着層システムが設けられており、中間層が接着層ないし接着層システムと装飾層との間に設けられている、ことを特徴とする請求項２３記載の方法。
25. 支持材として、金属または金属合金からなる支持材料が選択される、ことを特徴とする請求項２３または２４記載の方法。
26. 支持材としてステンレススチールが選択される、ことを特徴とする請求項２３から２５のいずれかに記載の方法。
27. ステンレススチールが、１６から１８質量％のＣｒと８から１２質量％のＮｉとを含むステンレススチールである、ことを特徴とする請求項２６記載の方法。
28. 支持材として、少なくとも１つのプラスチックで構成される支持材料が選択される、ことを特徴とする請求項２３または２４記載の方法。
29. プラスチックが、ＡＢＳ、ポリカーボネート、ＰＭＭＡ、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリアミド、または合成樹脂、またはこれらプラスチックの混合物、前記プラスチックの１つ以上に繊維強化材を加えたものからなる群から選択されたものである、ことを特徴とする請求項２８記載の方法。
30. 接着層がＣｒ層から構成されており、この接着層はＣｒの割合が低減し且つＷＣの割合が増大する態様でＷＣ層に結合され、このＷＣ層の次にはＷ−Ｃ：Ｈ層が設けられており、この上にＤＬＣを主成分とする中間層が接着されている、ことを特徴とする請求項２３から２９のいずれかに記載の方法。
31. 接着層がＣｒＮ層から構成されている、ことを特徴とする請求項２３から２８のいずれかに記載の方法。
32. 前記ＣｒＮ層がＣｒの割合が低減し且つＮの割合が増大する傾斜ＣｒＮ層の形態であり、この接着層はＷＣの割合がＣｒＮ層から離れる方向において増大する態様でＷＣ層に漸次結合され、およびこのＷＣ層の次にはＷ−Ｃ：Ｈ層が設けられており、この上にＤＬＣを主成分とする中間層が接着されている、ことを特徴とする請求項３１記載の方法。
33. 接着層がＴｉ層から構成されており、この接着層はＴｉの割合が低減し且つＷＣの割合が増大する態様でＷＣ層に結合され、このＷＣ層の次にはＷ−Ｃ：Ｈ層が設けられ、この上にＤＬＣを主成分とする中間層が接着されている、ことを特徴とする請求項２３から２８のいずれかに記載の方法。
34. 接着層が金属層から構成されており、この接着層は金属の割合が低減し且つＷＣの割合が増大する態様でＷＣ層と結合され、このＷＣ層の次にはＷ−Ｃ：Ｈ層が設けられ、この上にＤＬＣを主成分とする中間層が接着されており、および
    金属層の金属が、Ｃｒ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｖあるいはこれらの混合物の群から選択される、ことを特徴とする請求項２３から２８のいずれかに記載の方法。
35. 接着層が有機シリコン層である、ことを特徴とする請求項２３から２８のいずれかに記載の方法。
36. 前記有機シリコン層がプラスチックまたは金属の支持材上にＰＡＣＶＤプロセスによって着けられている、ことを特徴とする請求項３５記載の方法。
37. 接着層が、プラスチックまたは金属の支持材上にガルバニックプロセスによって着けられたＣｕＮｉ層配列である、ことを特徴とする請求項２３から２８のいずれかに記載の方法。
38. 装飾層がＴｉの黒層にＰＶＤおよび／またはＣＶＤにより設けられたＴｉＣｒＣＮコーティングを備えたものである、ことを特徴とする請求項２３から３７のいずれかに記載の方法。
39. 装飾層が、ＰＶＤにより着けられた、真鍮、金、ニッケルまたは青銅の色の、ＺｒＣＮ層である、ことを特徴とする請求項２３から３７のいずれかに記載の方法。
40. 装飾層が、金、ステンレススチール、青銅または銅の色の、ＴｉＣＮ層である、ことを特徴とする請求項２３から３７のいずれかに記載の方法。
41. 装飾層が、ＰＶＤにより着けられた、ステンレススチールの色の、ＣｒＣＮ層である、ことを特徴とする請求項２３から３７のいずれかに記載の方法。
42. 装飾層が、ＰＶＤにより着けられた、無煙炭の色の、ＺｒＣｒＣＮ層である、ことを特徴とする請求項２３から３７のいずれかに記載の方法。
43. 装飾層が、ＰＶＤにより着けられた多色を有する、酸化物層または酸窒化物層である、ことを特徴とする請求項２３から３７のいずれかに記載の方法。
44. 酸化物層または酸窒化物層が、Ｔｉ、Ｃｒまたはこれら金属の組み合わせの群の金属の酸化物または酸窒化物である、ことを特徴とする請求項４３記載の方法。
45. いずれかの接着層またはいずれかの接着層システムおよび／または装飾層の成分を着けるための少なくとも１つのスパッタのターゲットと、ＤＬＣを主成分ないし唯一の成分とする中間層を設けるためのＰＡＣＶＤと、いずれかの接着層あるいはいずれかの接着層システムおよび／または装飾層の成分を設けるための少なくとも１つのアーク源とを有するプラントにおいて実施される、ことを特徴とする請求項２３から４４のいずれかに記載の方法。
46. 請求項２３から４４のいずれかに記載の方法を実施するためのプラントであって、
    少なくとも１つのスパッタターゲットを備えた少なくとも１つのマグネトロンススパッタシステムの真空チャンバに、ＰＡＣＶＤシステムと、少なくとも１つのアーク源を有するアーク蒸発システムとを組み合わせてなる、プラント。

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