JP4571826B2 - 単結晶の製造方法 - Google Patents

単結晶の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4571826B2
JP4571826B2 JP2004174700A JP2004174700A JP4571826B2 JP 4571826 B2 JP4571826 B2 JP 4571826B2 JP 2004174700 A JP2004174700 A JP 2004174700A JP 2004174700 A JP2004174700 A JP 2004174700A JP 4571826 B2 JP4571826 B2 JP 4571826B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crystal
crucible
grown
facet
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004174700A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005350317A (ja
Inventor
拡樹 香田
小林  隆
正弘 笹浦
欽之 今井
和夫 藤浦
栗原  隆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP2004174700A priority Critical patent/JP4571826B2/ja
Publication of JP2005350317A publication Critical patent/JP2005350317A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4571826B2 publication Critical patent/JP4571826B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

本発明は、単結晶の製造方法に関し、より詳細には、垂直ブリッジマン法、垂直温度勾配凝固法などにより、大型、高品質、高い歩留まりの単結晶を作製するための単結晶の製造方法に関する。
従来、単結晶材料の作製方法として、成長容器内の原料溶液を種子結晶から徐々に固化させる水平ブリッジマン法、成長容器を垂直に設置し、下方より上方に向かって原料溶液を冷することにより、底部に配置された種子結晶と同じ結晶面方位を有する結晶を成長させる垂直ブリッジマン法、垂直温度勾配凝固法などが知られている(例えば、非特許文献1参照)。
図1を参照して、従来の垂直ブリッジマン法による結晶材料の作製方法について説明する。るつぼ1の底部に種子結晶3を配置し、その上に結晶原料2を配置する。発熱体4によりるつぼ1を加熱し、結晶原料2を溶解する。図2を参照して、加熱溶解させた原料溶液5の入ったるつぼ1は、発熱体4により一定の温度勾配曲線8(るつぼ上部の温度がるつぼ下部より高温)に保たれた結晶作製炉内に保持する。るつぼ1を一定速度で低温度側へ移動させることにより、原料溶液5を冷却すると、結晶の成長温度に達した原料溶液5は、種子結晶3を核として同じ結晶方位を有する結晶6に成長する。
なお、垂直温度勾配凝固法は、図2において、るつぼ1の炉内位置を固定したまま、温度勾配を変化させることにより、るつぼ1の温度を降下させる。いずれの方法においても、原料溶液5を用いて結晶を成長させる場合、結晶となる溶質の他に溶媒を用いているため、結晶が固化する際に溶媒を排出する溶媒排出現象が生ずる。
工藤他、「るつぼ封止VB法によるニオブ酸カリウム結晶の一方向凝固」、日本結晶成長学会誌、731aA8, vol.30, No.3, pp.71, 2003
従来の垂直ブリッジマン法、垂直温度勾配凝固法においては、温度勾配を緩くした場合に、結晶の外周表面に平坦なファセット面が表出する。例えば、KTaO、K(Ta,Nb)Oなど、成長温度において立方晶の場合には、ファセット面が{100}面であることが知られている。図3に示したように、種子結晶3の成長方向を001とすると、結晶成長の進行に伴って、成長結晶6の外周表面に{100}面で構成された四回対称のファセット面7が顕在化する。
種子結晶3の結晶方位と結晶の成長方向とがずれていると、ファセット面7の幅aは、成長方向に対して縮小したり拡大したりする。特に、図3に示したように、縮小した領域では、成長結晶6の中に溶媒の取り込みが認められ、結晶品質が劣化するという問題があった。また、ファセット面7の幅aの縮小が著しく、ファセット面7が消失する場合もある。このとき、排出された溶媒は、成長結晶6とるつぼ1との間の閉空間に閉じ込められる。溶媒と成長結晶6の収縮率の違いにより、冷却過程において、成長結晶6にクラックが発生し、歩留まりが低下してしまうという問題もあった。
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、排出された溶媒の閉じ込めがなく、結晶欠陥やクラックのない高品質結晶を製造することができる単結晶の製造方法を提供することにある。
本発明は、このような目的を達成するために、請求項1に記載の発明は、炉内に保持されたるつぼ内の原料溶液を加熱溶解し、前記るつぼの下方より上方に向かって前記原料溶液を徐冷することにより、前記るつぼの底部に配置された種子結晶と同じ結晶面方位を有する結晶を成長させる単結晶の製造方法であって、成長結晶の外周表面にファセット面が表出する単結晶の製造方法において、前記るつぼの半径(r)、成長結晶の定径部の外周表面に表出するファセット面の水平方向の最大幅(a:a>0)、前記成長結晶の定径部の長さ(l)としたとき、前記るつぼ方向と前記種子結晶から成長させる結晶方位のずれ角(θ)を、
Figure 0004571826
し、前記定径部の外周表面に前記定径部の長さ(l)にわたってファセット面を形成することを特徴とする。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の前記結晶は酸化物結晶であって、酸素を除く主成分周期率表Ia族とVa族から構成され、Ia族はカリウムであり、Va族はニオブ、タンタルの少なくともいずれかであることを特徴とする。
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の発明において、前記種子結晶から成長させる結晶方位が[001]方位であり、前記ファセット面が{100}面であることを特徴とする。
請求項に記載の発明は、請求項2または3に記載の前記結晶の主成分は、周期率表Ia族とIIa族のうち少なくとも1つを、添加不純物として含むことを特徴とする。
以上説明したように、本発明によれば、ずれ角(θ)を補正した種子結晶を用いて結晶成長させることにより、特別な装置を必要とせずに、排出された溶媒の閉じ込めがなく結晶欠陥やクラックのない高品質結晶を製造することが可能となる。
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について詳細に説明する。本実施形態は、例示であって、本発明の精神を逸脱しない範囲で種々の変更あるいは改良を行いうることは言うまでもない。
成長結晶のファセット面の縮小・拡大は、結晶の成長方向、すなわちるつぼの軸方向と、種子結晶の結晶方位とにより規定される。全ての結晶が成長し、溶媒のみとなった成長結晶の底部において、ファセット面が消失しなければ、溶媒の閉じ込めは発生せず、クラックの発生を防ぐことができる。
結晶成長の進行に伴い、ファセット面が縮小しないためには、るつぼの軸方向と種子結晶の結晶方位とのずれが、一定の値を超えなければよい。このずれ角(θ)は、成長結晶の径と長さに依存する。ずれ角θ、るつぼの半径r、成長結晶の半径が一定する定径部の長さl、ファセット面の水平方向の幅aとすると、以下の式で示すことができる。
Figure 0004571826
図4に示したように、ファセット面とるつぼの内壁との間隙をcとすると、
Figure 0004571826
またcは、るつぼの半径rと、るつぼの中心軸からファセット面までの長さbとの差分であるから、
Figure 0004571826
と表せる。従って、式(3)を、ファセット面の水平方向の幅aで表すと、
Figure 0004571826
となり、式(1)を導くことができる。
ファセット面の水平方向の幅aは、実験値から表1の値となるので、
Figure 0004571826
Figure 0004571826
が得られ、式(2)を導くことができる。
式(1),(2)により、るつぼの軸方向と種子結晶の結晶方位とのずれ角(θ)の許容範囲を求めることができる。ずれ角(θ)を補正した種子結晶を用いて結晶成長させることにより、成長結晶のファセット面は、結晶成長の進行に伴い縮小することがない。従って、特別な装置を必要とせずに、排出された溶媒の閉じ込めがなく結晶欠陥やクラックのない高品質結晶を製造することができる。
図5に、本発明の第1の実施形態にかかる単結晶の結晶製造方法を示す。垂直ブリッジマン法によるKTaNb1−x(0≦x≦1)結晶の作製に適用した例を示す。2インチ径るつぼ11の底部に、結晶の成長方向001方位から0.09°の軸ずれを有するK(Ta,Nb)O結晶である種子結晶13を配置する。ただし、種子結晶13の組成をKTax’Nb1−x’(0≦x’≦1)とすると、x’は、成長させるKTaNb1−xのxより大きく、溶解温度の高い組成を選択する。
K(Ta,Nb)O結晶の原料は、KCOとTaとNbとを、所望の組成比となるように、るつぼ11内に合計1kg充填する。結晶作製炉内を昇温し、充填原料を溶解しKTaNbOの原料溶液15を作る。温度勾配曲線18(るつぼ上部の温度がるつぼ下部より高温)に示す温度分布となるように、発熱体を調整する。
次に、るつぼ11を2.0mm/日の速度でゆっくり下降させ、結晶成長を行う。結晶成長後、室温まで冷する。作製したK(Ta,Nb)Oの成長結晶16には、{100}面で構成された四回対称のファセット面が表れる。ファセット面は、定径部の開始点から表れ、全ての結晶が成長し、溶媒のみとなった成長結晶の底部に至るまで、結晶の長さ方向に収縮することがない。ファセット面の水平方向の長さaは、20mmであり、排出された溶媒の閉じ込めがなく、結晶欠陥やクラックのない高品質結晶を製造することができる。
このとき、ずれ角θの制限値は、
Figure 0004571826
となり、式(1),(2)を満足する。
一方、結晶の成長方向001方位から0.61°の軸ずれを有するK(Ta,Nb)O結晶である種子結晶13を用いて、結晶を成長させたところ、図3に示したようにファセット面が定径部途中で消失していた。また、ファセット面付近の結晶には、結晶欠陥が見られ、クラックも発生していた。
図6に、本発明の第2の実施形態にかかる単結晶の結晶製造方法を示す。垂直ブリッジマン法による大型KTaO結晶の作製に適用した例を示す。3インチ径るつぼ21の底部に、結晶の成長方向001方位から0.30°の軸のずれを有するKTaO結晶である種子結晶23を配置する。KTaO結晶の原料は、所望の組成比となるように、KCOとTaとを、るつぼ21内に合計3kg充填する。結晶作製炉内を昇温し、充填原料を溶解しKTaNbOの原料溶液25を作る。結晶作製炉内を、温度勾配曲線28(るつぼ上部の温度がるつぼ下部より高温)に示す温度分布となるように、発熱体を調整する。
次に、るつぼ21を2.0mm/日の速度でゆっくり下降させ、結晶成長を行う。結晶成長後、室温まで冷する。作製したKTaOの成長結晶16には、{100}面で構成された四回対称のファセット面が表れる。ファセット面は、定径部の開始点から表れ、全ての結晶が成長し、溶媒のみとなった成長結晶の底部に至るまで、結晶の長さ方向に収縮することがない。ファセット面の水平方向の長さaは、30mmであり、排出された溶媒の閉じ込めがなく、結晶欠陥やクラックのない高品質結晶を製造することができる。
このとき、ずれ角θの制限値は、
Figure 0004571826
となり、式(1),(2)を満足する。
一方、結晶の成長方向001方位から1.00°の軸ずれを有するKTaO結晶である種子結晶23を用いて、結晶を成長させたところ、図3に示したようにファセット面が定径部途中で消失していた。また、ファセット面付近の結晶には、結晶欠陥が見られ、クラックも発生していた。
なお、本実施形態は、垂直ブリッジマン法に適用した場合について示したが、垂直温度勾配凝固法にも適用できることは明らかであり、特に説明を要しない。また、結晶の主成分は、上述したカリウム、タンタルに限らず、周期率表Ia族とVa族から構成され、Ia族はカリウムであり、Va族はニオブ、タンタルの少なくともいずれかとすることができる。さらに、周期率表Ia族とIIa族のうち少なくとも1つを、添加不純物として含むこともできる。
従来の垂直ブリッジマン法による結晶材料の作製方法を説明するための図である。 従来の垂直ブリッジマン法による結晶材料の作製方法を説明するための図である。 従来の垂直ブリッジマン法におけるファセット面の顕在化を示す図である。 顕在化したファセット面の寸法を示す図である。 本発明の第1の実施形態にかかる単結晶の結晶製造方法を示す図である。 本発明の第2の実施形態にかかる単結晶の結晶製造方法を示す図である。
符号の説明
1,11,21 るつぼ
2 結晶原料
3,13,23 種子結晶
4 発熱体
5,15,25 原料溶液
6,16,26 成長結晶
7 ファセット面
8,18,28 温度勾配曲線

Claims (4)

  1. 炉内に保持されたるつぼ内の原料溶液を加熱溶解し、前記るつぼの下方より上方に向かって前記原料溶液を徐冷することにより、前記るつぼの底部に配置された種子結晶と同じ結晶面方位を有する結晶を成長させる単結晶の製造方法であって、成長結晶の外周表面にファセット面が表出する単結晶の製造方法において、
    前記るつぼの半径(r)、成長結晶の定径部の外周表面に表出するファセット面の水平方向の最大幅(a:a>0)、前記成長結晶の定径部の長さ(l)としたとき、前記るつぼ方向と前記種子結晶から成長させる結晶方位のずれ角(θ)を、
    Figure 0004571826
    し、前記定径部の外周表面に前記定径部の長さ(l)にわたってファセット面を形成することを特徴とする単結晶の製造方法。
  2. 記結晶は酸化物結晶であって、酸素を除く主成分周期率表Ia族とVa族から構成され、Ia族はカリウムであり、Va族はニオブ、タンタルの少なくともいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の単結晶の製造方法。
  3. 前記種子結晶から成長させる結晶方位が[001]方位であり、
    前記ファセット面が{100}面であることを特徴とする請求項2に記載の単結晶の製造方法。
  4. 前記結晶の主成分は、周期率表Ia族とIIa族のうち少なくとも1つを、添加不純物として含むことを特徴とする請求項2または3に記載の単結晶の製造方法。
JP2004174700A 2004-06-11 2004-06-11 単結晶の製造方法 Expired - Fee Related JP4571826B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004174700A JP4571826B2 (ja) 2004-06-11 2004-06-11 単結晶の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004174700A JP4571826B2 (ja) 2004-06-11 2004-06-11 単結晶の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005350317A JP2005350317A (ja) 2005-12-22
JP4571826B2 true JP4571826B2 (ja) 2010-10-27

Family

ID=35585097

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004174700A Expired - Fee Related JP4571826B2 (ja) 2004-06-11 2004-06-11 単結晶の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4571826B2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130133884A (ko) 2006-01-20 2013-12-09 에이엠지 아이디얼캐스트 솔라 코포레이션 광전 변환 소자용 단결정 캐스트 실리콘 및 단결정 캐스트 실리콘 바디들을 제조하는 방법 및 장치
AU2008279415A1 (en) 2007-07-20 2009-01-29 Amg Idealcast Solar Corporation Methods and apparatuses for manufacturing cast silicon from seed crystals
WO2009015168A1 (en) 2007-07-25 2009-01-29 Bp Corporation North America Inc. Methods for manufacturing geometric multi-crystalline cast materials
US8709154B2 (en) 2007-07-25 2014-04-29 Amg Idealcast Solar Corporation Methods for manufacturing monocrystalline or near-monocrystalline cast materials

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01278490A (ja) * 1988-04-28 1989-11-08 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 結晶育成方法および結晶育成用るつぼ
JPH11302094A (ja) * 1998-04-24 1999-11-02 Japan Energy Corp 化合物半導体単結晶の製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01278490A (ja) * 1988-04-28 1989-11-08 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 結晶育成方法および結晶育成用るつぼ
JPH11302094A (ja) * 1998-04-24 1999-11-02 Japan Energy Corp 化合物半導体単結晶の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005350317A (ja) 2005-12-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5434801B2 (ja) SiC単結晶の製造方法
WO2012127703A1 (ja) SiC単結晶の製造方法および製造装置
Kusunoki et al. Top-seeded solution growth of 3 inch diameter 4H-SiC bulk crystal using metal solvents
KR100753322B1 (ko) 결정 제조 방법 및 장치
JP4571826B2 (ja) 単結晶の製造方法
JP4844429B2 (ja) サファイア単結晶の製造方法
JP4456071B2 (ja) フッ化物結晶の製造装置
JP2007099579A (ja) 結晶製造方法およびその装置
JPWO2005106083A1 (ja) InP単結晶ウェハ及びInP単結晶の製造方法
JP6821896B2 (ja) シリコン系溶融組成物及びこれを用いるシリコンカーバイド単結晶の製造方法
JP7078933B2 (ja) 鉄ガリウム合金単結晶育成用種結晶
WO2016147673A1 (ja) SiC単結晶の製造方法
JP4146829B2 (ja) 結晶製造装置
Klemenz High-quality langasite films grown by liquid phase epitaxy
JP2021031342A (ja) タンタル酸リチウム単結晶の製造方法
JP2021031341A (ja) タンタル酸リチウム単結晶の製造方法
JPH06199597A (ja) 酸化アルミニウム単結晶の製造方法
JP2005089223A (ja) 単結晶及びその製造方法
WO2017043215A1 (ja) SiC単結晶の製造方法
KR20190092417A (ko) 실리콘 단결정 제조방법 및 실리콘 단결정 웨이퍼
WO2022024666A1 (ja) 石英ガラスるつぼ
JP7349100B2 (ja) FeGa単結晶育成用種結晶及びFeGa単結晶の製造方法
JP4146835B2 (ja) 結晶成長方法
JP2012036015A (ja) 結晶成長方法
JP2017149613A (ja) CaMgZr置換型ガドリニウム・ガリウム・ガーネット(SGGG)単結晶の育成方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060719

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090123

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090130

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090331

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100122

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100319

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20100510

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20100510

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100806

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100813

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130820

Year of fee payment: 3

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4571826

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130820

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees