JP2012036015A - 結晶成長方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】炉内に設置されたるつぼ11内の原料溶融体に対して鉛直方向に上低下高の温度分布を形成し、種子結晶17を原料溶融体表面に接触させ、原料溶融体を冷却する事により、種子結晶17を核として結晶19を成長させる結晶成長方法であって、結晶回転軸に対する垂直面内で成長速度が異なる方位を有する結晶19を成長させる結晶成長方法において、種子結晶17の原料溶融体表面に接触している面は長方形であり、かつ、長方形の長辺を成長速度が早い方位と平行にすることを特徴とする結晶成長方法。
【選択図】図3
Description
2,12 るつぼ台
3,13 均熱管
4,14 ヒータ
5,15 電気炉
6,16 引き上げ軸
7,17 種子結晶
8,18 原料溶融体
9,19 成長結晶
10,20 炉体ふた
11,21 ネッキング
Claims (3)
- 炉内に設置されたるつぼ内の原料溶融体に対して鉛直方向に上低下高の温度分布を形成し、種子結晶を前記原料溶融体表面に接触させ、前記原料溶融体を冷却する事により、前記種子結晶を核として結晶を成長させる結晶成長方法であって、結晶回転軸に対する垂直面内で成長速度が異なる方位を有する結晶を成長させる結晶成長方法において、
前記種子結晶の前記原料溶融体表面に接触している面は長方形であり、
かつ、前記長方形の長辺を成長速度が早い方位と平行にすることを特徴とする結晶成長方法。 - 前記成長させる結晶の結晶構造が立方晶であり、
前記結晶回転軸が[110]方位であり、前記長方形の長辺を[001]方位と平行にすることを特徴とする請求項1に記載の結晶成長方法。 - 前記成長させる結晶が、KTaxNb1-xO3(0≦x≦1)であることを特徴とする請求項1または2に記載の結晶成長方法。
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JP2010174755A JP2012036015A (ja) | 2010-08-03 | 2010-08-03 | 結晶成長方法 |
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JP2010174755A JP2012036015A (ja) | 2010-08-03 | 2010-08-03 | 結晶成長方法 |
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JP (1) | JP2012036015A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017047536A1 (ja) * | 2015-09-14 | 2017-03-23 | 新日鐵住金株式会社 | SiC単結晶の製造装置、SiC単結晶の製造方法及びSiC単結晶材 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0782087A (ja) * | 1993-09-13 | 1995-03-28 | Asahi Glass Co Ltd | 酸化物単結晶の製造方法 |
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2010
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Patent Citations (1)
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JPH0782087A (ja) * | 1993-09-13 | 1995-03-28 | Asahi Glass Co Ltd | 酸化物単結晶の製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2017047536A1 (ja) * | 2015-09-14 | 2017-03-23 | 新日鐵住金株式会社 | SiC単結晶の製造装置、SiC単結晶の製造方法及びSiC単結晶材 |
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