JP3358935B2 - 液晶表示素子およびその製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば携帯用の
情報端末やパーソナルコンピューター等に好適に用いる
ことができる液晶表示素子およびその製造方法に関し、
特に、少なくとも一方がプラスチック基板からなる液晶
表示素子およびその製造方法に関する。
情報端末やパーソナルコンピューター等に好適に用いる
ことができる液晶表示素子およびその製造方法に関し、
特に、少なくとも一方がプラスチック基板からなる液晶
表示素子およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】上述した液晶表示素子においては、現
在、液晶層を挟む基板としてガラス基板を用いた製品が
殆どである。ガラス基板を用いる理由は、価格的に安価
であること、製造中に用いる酸素等の気体や水分等の液
体に対する信頼性が非常に安定していることが挙げられ
る。また、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉ
ｓｔｏｒ）、ＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ
Ｍｅｔａｌ）等のアクティブ素子を基板上に形成する
場合にも十分な耐熱性も備えており、また、基板表面の
平滑性に優れ基板の大型化にも対応できるからである。
しかし、ガラス基板はそれ自体が重くて割れ易く、基板
を薄く加工した場合には平滑性に乏しくなるという問題
点を有している。
在、液晶層を挟む基板としてガラス基板を用いた製品が
殆どである。ガラス基板を用いる理由は、価格的に安価
であること、製造中に用いる酸素等の気体や水分等の液
体に対する信頼性が非常に安定していることが挙げられ
る。また、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉ
ｓｔｏｒ）、ＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ
Ｍｅｔａｌ）等のアクティブ素子を基板上に形成する
場合にも十分な耐熱性も備えており、また、基板表面の
平滑性に優れ基板の大型化にも対応できるからである。
しかし、ガラス基板はそれ自体が重くて割れ易く、基板
を薄く加工した場合には平滑性に乏しくなるという問題
点を有している。
【０００３】そこで、近年においては、軽くて割れず、
また、液晶表示素子の薄型化が容易に行えるプラスチッ
ク基板やフィルム基板が注目を集めている。これらの基
板は、現在、電卓等の小型の液晶表示素子に採用されて
いるだけであるが、ガラス基板に比べて基板表面の加工
が非常に容易であることが大きな特徴である。
また、液晶表示素子の薄型化が容易に行えるプラスチッ
ク基板やフィルム基板が注目を集めている。これらの基
板は、現在、電卓等の小型の液晶表示素子に採用されて
いるだけであるが、ガラス基板に比べて基板表面の加工
が非常に容易であることが大きな特徴である。
【０００４】また、最近では、液晶表示素子を構成する
部材を一体化して薄型化やコストダウンを図る技術が提
案されている。例えば、特開平５−２６４９８２号公報
には、エンボス加工法により基板面を凹凸にし、その凸
部をスペーサーとして利用する技術が開示されている。
また、特開昭５６−９５２１７号公報には、基板の液晶
層側表面をエッチングにより凹凸にして、同様にスペー
サーとする技術が開示されている。これらの技術は、ス
ペーサーと基板とを一体型で形成できるという利点を有
している。
部材を一体化して薄型化やコストダウンを図る技術が提
案されている。例えば、特開平５−２６４９８２号公報
には、エンボス加工法により基板面を凹凸にし、その凸
部をスペーサーとして利用する技術が開示されている。
また、特開昭５６−９５２１７号公報には、基板の液晶
層側表面をエッチングにより凹凸にして、同様にスペー
サーとする技術が開示されている。これらの技術は、ス
ペーサーと基板とを一体型で形成できるという利点を有
している。
【０００５】更に、特開平５−２６４９８２号公報にお
いて、一方の基板と一体化されたストライプ状の突起ス
ペーサが配置され、この突起スペーサは対向する基板に
接着剤を介して接着されている耐衝撃構造が提案されて
いる。また、これと類似技術で特開平７−２８０７１号
公報において、我々は強誘電性液晶表示モードの耐衝撃
対策として一方の基板上にレジストなどの光感応性樹脂
から成るストライプ状の壁構造を提案している。
いて、一方の基板と一体化されたストライプ状の突起ス
ペーサが配置され、この突起スペーサは対向する基板に
接着剤を介して接着されている耐衝撃構造が提案されて
いる。また、これと類似技術で特開平７−２８０７１号
公報において、我々は強誘電性液晶表示モードの耐衝撃
対策として一方の基板上にレジストなどの光感応性樹脂
から成るストライプ状の壁構造を提案している。
【０００６】また、我々は特開平７−３０１０１５号公
報において、高分子の壁で微細領域に絵素を囲むように
区切った構造を提案している。
報において、高分子の壁で微細領域に絵素を囲むように
区切った構造を提案している。
【０００７】更には、特開昭５８−２１９５２６号公報
には、偏光板と反射板とを一体化した基板が開示されて
いる。また、特開平３−２８９６２２号公報には、基板
の表面に凹凸を形成し、その表面に金属膜を形成する技
術が開示されている。これらの技術は反射板と基板とを
一体型で形成できるという利点を有している。反射板を
形成する方法としては、表面を凹凸に荒してその上に金
属膜を形成する方法が一般的に用いられ、その荒し方と
してはエッチング法、エンボス法、または熱だれ法等の
多彩な方法が用いられる。
には、偏光板と反射板とを一体化した基板が開示されて
いる。また、特開平３−２８９６２２号公報には、基板
の表面に凹凸を形成し、その表面に金属膜を形成する技
術が開示されている。これらの技術は反射板と基板とを
一体型で形成できるという利点を有している。反射板を
形成する方法としては、表面を凹凸に荒してその上に金
属膜を形成する方法が一般的に用いられ、その荒し方と
してはエッチング法、エンボス法、または熱だれ法等の
多彩な方法が用いられる。
【０００８】このように、従来においては、反射板など
はノリなどを使用して、所定の基板に後付けする方法が
一般的に用いられている。また、スペーサーは散布する
方法が一般的に用いられていたが、最近では、プラスチ
ック基板と一体型で形成できる技術が提案されている。
はノリなどを使用して、所定の基板に後付けする方法が
一般的に用いられている。また、スペーサーは散布する
方法が一般的に用いられていたが、最近では、プラスチ
ック基板と一体型で形成できる技術が提案されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た特開平５−２６４９８２号公報及び特開平７−２８０
７１号公報における突起物、およびストライプ状の壁構
造は液晶セルをストライプ状の空間に区切る構造である
ため、外部からの押圧に対して、液晶の移動がこのスト
ライプ状空間の長手方向に起こるため、結果として、基
板が薄い場合やプラスチックフィルムのような場合にお
いて、特に表示不良を起こしやすい。また、この押圧に
よる液晶の流れを完全に遮断するために特開平７−３０
１０１５号公報に絵素を囲むような構造が提案されてい
る。しかし、本構造物は壁構造を形成する材料が液晶と
光重合性樹脂との相分離によって形成されるため、絵素
以外の部分、つまり非絵素部に高分子壁を配置させるた
めには液晶と光重合性樹脂の比率を、絵素部の面積：非
絵素部の面積として混合したものを用いる必要がある。
例えば、帯状透明電極で構成される絵素部が８０％、非
絵素部が２０％である場合、液晶量を８０％、光重合性
樹脂量を２０％の割合で混合する必要がある。しかしな
がら、液晶中に光重合性樹脂をこの割合で混合した場
合、液晶と光重合性樹脂が液晶注入前または注入中にお
いて分離を起こす場合がある。これは液晶材料の分子構
造と光重合性樹脂の分子構造の違いから起こるもので、
液晶セル内で均一な相分離を発生させるには重要な課題
となっていた。
た特開平５−２６４９８２号公報及び特開平７−２８０
７１号公報における突起物、およびストライプ状の壁構
造は液晶セルをストライプ状の空間に区切る構造である
ため、外部からの押圧に対して、液晶の移動がこのスト
ライプ状空間の長手方向に起こるため、結果として、基
板が薄い場合やプラスチックフィルムのような場合にお
いて、特に表示不良を起こしやすい。また、この押圧に
よる液晶の流れを完全に遮断するために特開平７−３０
１０１５号公報に絵素を囲むような構造が提案されてい
る。しかし、本構造物は壁構造を形成する材料が液晶と
光重合性樹脂との相分離によって形成されるため、絵素
以外の部分、つまり非絵素部に高分子壁を配置させるた
めには液晶と光重合性樹脂の比率を、絵素部の面積：非
絵素部の面積として混合したものを用いる必要がある。
例えば、帯状透明電極で構成される絵素部が８０％、非
絵素部が２０％である場合、液晶量を８０％、光重合性
樹脂量を２０％の割合で混合する必要がある。しかしな
がら、液晶中に光重合性樹脂をこの割合で混合した場
合、液晶と光重合性樹脂が液晶注入前または注入中にお
いて分離を起こす場合がある。これは液晶材料の分子構
造と光重合性樹脂の分子構造の違いから起こるもので、
液晶セル内で均一な相分離を発生させるには重要な課題
となっていた。
【００１０】また、プラスチック基板は、ガラス基板に
比べて原価コストが数倍高く、現在のところ、ガラス基
板の代替材料として用いることは非常に困難である。ま
た、代替するには基板コストを下げることが必要である
一方、液晶表示素子全体のコストを下げ、あるいは液晶
表示素子を作製するプロセスを短縮することが必要であ
る。
比べて原価コストが数倍高く、現在のところ、ガラス基
板の代替材料として用いることは非常に困難である。ま
た、代替するには基板コストを下げることが必要である
一方、液晶表示素子全体のコストを下げ、あるいは液晶
表示素子を作製するプロセスを短縮することが必要であ
る。
【００１１】本発明は、このような従来技術の課題を解
決すべくなされたものであり、外部からの押圧に対し
て、液晶の移動が少なく、耐衝撃性に優れた液晶表示装
置、およびそれを簡易で確実に形成する液晶表示装置の
製造方法を提供することを目的とする。また、他の目的
は、薄型および軽量で割れにくいプラスチック基板を用
いて、多機能を有し、しかも低コストで作製できる液晶
表示装置およびその製造方法を提供することである。
決すべくなされたものであり、外部からの押圧に対し
て、液晶の移動が少なく、耐衝撃性に優れた液晶表示装
置、およびそれを簡易で確実に形成する液晶表示装置の
製造方法を提供することを目的とする。また、他の目的
は、薄型および軽量で割れにくいプラスチック基板を用
いて、多機能を有し、しかも低コストで作製できる液晶
表示装置およびその製造方法を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示素子
は、一対の基板間に少なくとも液晶を含む表示媒体が狭
持された液晶表示素子において、該一対の基板のうちの
少なくとも一方がプラスチック基板であり、該プラスチ
ック基板自体の表示媒体側表面が第１の凹凸を有して形
成され、更に光重合成樹脂からなる高分子壁が設けられ
た構成となっており、そのことにより上記目的は達成さ
れる。
は、一対の基板間に少なくとも液晶を含む表示媒体が狭
持された液晶表示素子において、該一対の基板のうちの
少なくとも一方がプラスチック基板であり、該プラスチ
ック基板自体の表示媒体側表面が第１の凹凸を有して形
成され、更に光重合成樹脂からなる高分子壁が設けられ
た構成となっており、そのことにより上記目的は達成さ
れる。
【００１３】本発明の液晶表示素子において、前記第１
の凹凸はスペーサ機能を有する構成とすることができ
る。
の凹凸はスペーサ機能を有する構成とすることができ
る。
【００１４】本発明の液晶表示素子において、前記第１
の凹凸は対向するもう一方の基板と接着剤を介して接着
されている構成とすることができる。
の凹凸は対向するもう一方の基板と接着剤を介して接着
されている構成とすることができる。
【００１５】本発明の液晶表示素子において、前記第１
の凹凸は、それぞれが非絵素部にストライプ状に配置さ
れ、そのストライプ状の第１の凹凸に対して交差する方
向の非絵素部に前記光重合性樹脂からなる高分子壁が複
数配置されている構成とすることができる。
の凹凸は、それぞれが非絵素部にストライプ状に配置さ
れ、そのストライプ状の第１の凹凸に対して交差する方
向の非絵素部に前記光重合性樹脂からなる高分子壁が複
数配置されている構成とすることができる。
【００１６】本発明の液晶表示素子において、前記一対
の基板において、前記第１の凹凸が設けられた基板に対
し前記表示媒体を挟んで対向する対向基板がガラスから
なる構成とすることができる。
の基板において、前記第１の凹凸が設けられた基板に対
し前記表示媒体を挟んで対向する対向基板がガラスから
なる構成とすることができる。
【００１７】本発明の液晶表示素子において、前記第１
の凹凸及び前記高分子壁が配置される部分以外の基板上
領域には液晶が配置され、該液晶は９０°以上２７０°
以下のツイスト配向している構成とすることができる。
の凹凸及び前記高分子壁が配置される部分以外の基板上
領域には液晶が配置され、該液晶は９０°以上２７０°
以下のツイスト配向している構成とすることができる。
【００１８】本発明の液晶表示素子において、前記液晶
が軸対称配向している構成とすることができる。
が軸対称配向している構成とすることができる。
【００１９】本発明の液晶表示素子の製造方法は、一対
の基板間に少なくとも液晶を含む表示媒体が狭持され、
少なくとも一方の基板がプラスチック基板であり、該プ
ラスチック基板自体の表示媒体側表面が第１の凹凸を有
して形成され、更に光重合性樹脂からなる高分子壁が設
けられている液晶表示素子の製造方法であって、一方の
基板に基板とつながった複数の第１の凹凸を形成する工
程と、前記一対の基板を、該一方の基板とつながった複
数の第１の凹凸を内側にして対向させる工程と、該一対
の基板の間隙に液晶と光重合性樹脂と光重合性開始剤と
を少なくとも含む表示材料を注入する工程と、該表示材
料に対し、光を照射して液晶と光重合成樹脂とを相分離
させる工程とを含み、そのことにより上記目的が達成さ
れる。
の基板間に少なくとも液晶を含む表示媒体が狭持され、
少なくとも一方の基板がプラスチック基板であり、該プ
ラスチック基板自体の表示媒体側表面が第１の凹凸を有
して形成され、更に光重合性樹脂からなる高分子壁が設
けられている液晶表示素子の製造方法であって、一方の
基板に基板とつながった複数の第１の凹凸を形成する工
程と、前記一対の基板を、該一方の基板とつながった複
数の第１の凹凸を内側にして対向させる工程と、該一対
の基板の間隙に液晶と光重合性樹脂と光重合性開始剤と
を少なくとも含む表示材料を注入する工程と、該表示材
料に対し、光を照射して液晶と光重合成樹脂とを相分離
させる工程とを含み、そのことにより上記目的が達成さ
れる。
【００２０】本発明の液晶表示素子は、前記プラスチッ
ク基板の表示媒体側と反対側表面に第２の凹凸が設けら
れ、該第１の凹凸および第２の凹凸が一部の構造部とし
て機能する構成とされ、そのことにより上記目的が達成
される。
ク基板の表示媒体側と反対側表面に第２の凹凸が設けら
れ、該第１の凹凸および第２の凹凸が一部の構造部とし
て機能する構成とされ、そのことにより上記目的が達成
される。
【００２１】本発明の液晶表示素子において、前記第１
の凹凸および第２の凹凸は、光学的に機能する構造部ま
たは機械的に機能する構造部となっている構成とするこ
とができる。
の凹凸および第２の凹凸は、光学的に機能する構造部ま
たは機械的に機能する構造部となっている構成とするこ
とができる。
【００２２】本発明の液晶表示素子において、前記第１
の凹凸は、その凸部が前記一対の基板間隙を制御するス
ペーサーとして機能し、前記第２の凹凸上に金属膜が形
成され、該第２の凹凸と該金属膜とが反射板として機能
する構成とすることができる。
の凹凸は、その凸部が前記一対の基板間隙を制御するス
ペーサーとして機能し、前記第２の凹凸上に金属膜が形
成され、該第２の凹凸と該金属膜とが反射板として機能
する構成とすることができる。
【００２３】本発明の液晶表示素子において、前記第１
の凹凸は、高さが異なる複数の段の集合が規則的に帯状
に繰り返され、高さが異なる複数の段が表示媒体をマル
チギャップ化する構造部として機能し、前記第２の凹凸
上に金属膜が形成され、該第２の凹凸と該金属膜とが反
射板として機能する構成とすることができる。
の凹凸は、高さが異なる複数の段の集合が規則的に帯状
に繰り返され、高さが異なる複数の段が表示媒体をマル
チギャップ化する構造部として機能し、前記第２の凹凸
上に金属膜が形成され、該第２の凹凸と該金属膜とが反
射板として機能する構成とすることができる。
【００２４】本発明の液晶表示素子において、前記第１
の凹凸の複数の段のうち、最も高い段がスペーサーとし
て機能する構成とすることができる。
の凹凸の複数の段のうち、最も高い段がスペーサーとし
て機能する構成とすることができる。
【００２５】本発明の液晶表示素子において、前記第１
の凹凸は、絵素部に対応する位置が他の部分より高くさ
れ、絵素部に対応する部分が波長４００ｎｍ以下の光を
遮光する遮光部として機能し、前記第２の凹凸上に金属
膜が形成され、該第２の凹凸と該金属膜とが反射板とし
て機能する構成とすることができる。
の凹凸は、絵素部に対応する位置が他の部分より高くさ
れ、絵素部に対応する部分が波長４００ｎｍ以下の光を
遮光する遮光部として機能し、前記第２の凹凸上に金属
膜が形成され、該第２の凹凸と該金属膜とが反射板とし
て機能する構成とすることができる。
【００２６】本発明の液晶表示素子において、前記第１
の凹凸および第２の凹凸を有するプラスチック基板は、
内部に偏光子を備える構成とすることができる。
の凹凸および第２の凹凸を有するプラスチック基板は、
内部に偏光子を備える構成とすることができる。
【００２７】本発明の液晶表示素子において、前記表示
媒体は、高分子壁と液晶領域との複合膜からなり、該液
晶領域が該高分子壁に囲まれている構成とすることがで
きる。
媒体は、高分子壁と液晶領域との複合膜からなり、該液
晶領域が該高分子壁に囲まれている構成とすることがで
きる。
【００２８】本発明の液晶表示素子において、前記高分
子壁は、位相差を有している構成とすることができる。
子壁は、位相差を有している構成とすることができる。
【００２９】本発明の液晶表示素子の製造方法は、一対
の基板間に少なくとも液晶を含む表示媒体が狭持され、
該一対の基板の内の少なくとも一方がプラスチック基板
である液晶表示素子の製造方法であって、片面に第１の
凹凸を有し、もう片面に第２の凹凸を有する該プラスチ
ック基板を形成する工程と、該一対の基板を対向させ
て、両基板間に表示媒体を形成する工程とを含み、その
ことにより上記目的が達成される。
の基板間に少なくとも液晶を含む表示媒体が狭持され、
該一対の基板の内の少なくとも一方がプラスチック基板
である液晶表示素子の製造方法であって、片面に第１の
凹凸を有し、もう片面に第２の凹凸を有する該プラスチ
ック基板を形成する工程と、該一対の基板を対向させ
て、両基板間に表示媒体を形成する工程とを含み、その
ことにより上記目的が達成される。
【００３０】本発明の液晶表示素子の製造方法におい
て、前記プラスチック基板の第１の凹凸および第２の凹
凸を、エンボス加工により形成するようにしてもよい。
て、前記プラスチック基板の第１の凹凸および第２の凹
凸を、エンボス加工により形成するようにしてもよい。
【００３１】本発明の液晶表示素子の製造方法におい
て、前記プラスチック基板の第１の凹凸および第２の凹
凸を同時に形成するようにしてもよい。
て、前記プラスチック基板の第１の凹凸および第２の凹
凸を同時に形成するようにしてもよい。
【００３２】本発明の液晶表示素子の製造方法におい
て、前記表示媒体の形成は、前記一対の基板間に少なく
とも液晶と光硬化性樹脂と光重合開始剤とを含む混合物
を注入する工程と、該一対の基板外から該混合物に部分
的に光を照射して液晶と光硬化性樹脂とを相分離させる
工程とを含むようにしてもよい。
て、前記表示媒体の形成は、前記一対の基板間に少なく
とも液晶と光硬化性樹脂と光重合開始剤とを含む混合物
を注入する工程と、該一対の基板外から該混合物に部分
的に光を照射して液晶と光硬化性樹脂とを相分離させる
工程とを含むようにしてもよい。
【００３３】本発明の液晶表示素子の製造方法におい
て、前記混合物に部分的に照射される光の遮光手段に、
前記遮光部として機能するものを用いるようにしてもよ
い。
て、前記混合物に部分的に照射される光の遮光手段に、
前記遮光部として機能するものを用いるようにしてもよ
い。
【００３４】本発明の液晶表示素子の製造方法におい
て、前記第２の凹凸を素子周端部に設け、大判から基板
を分断する際の分断ラインとして用いるようにしてもよ
い。
て、前記第２の凹凸を素子周端部に設け、大判から基板
を分断する際の分断ラインとして用いるようにしてもよ
い。
【００３５】本発明の液晶表示素子の製造方法におい
て、前記第２の凹凸を表示媒体側まで貫通させて、表示
媒体の注入口を形成するようにしてもよい。
て、前記第２の凹凸を表示媒体側まで貫通させて、表示
媒体の注入口を形成するようにしてもよい。
【００３６】以下に、本発明の作用について説明する。
【００３７】本発明によると、基板とつながった複数の
第１の凹凸が非絵素部に配置され、この第１の凹凸がス
ペーサとなることで絵素部にスペーサを散在しなくな
る。また基板とつながった第１の凹凸はその製造法上、
基板からはがれることはない。また、その製造は従来の
ようなホトリソグラフィ技術を用いる必要はない。ま
た、基板とつながった複数の第１の凹凸と、液晶と光重
合性樹脂との相分離によって形成される高分子壁とによ
って微細領域に絵素を囲むように区切った構造を形成す
ることができる。また、液晶中に含まれる光重合性樹脂
および光重合開始剤の量を少なくすることができる。ま
た、デューティー駆動を行う単純マトリクスにおいてス
トライプ状ＩＴＯ電極をホトマスクとして光の強弱をつ
けて露光する場合、片側からの露光を行うだけでよい。
第１の凹凸が非絵素部に配置され、この第１の凹凸がス
ペーサとなることで絵素部にスペーサを散在しなくな
る。また基板とつながった第１の凹凸はその製造法上、
基板からはがれることはない。また、その製造は従来の
ようなホトリソグラフィ技術を用いる必要はない。ま
た、基板とつながった複数の第１の凹凸と、液晶と光重
合性樹脂との相分離によって形成される高分子壁とによ
って微細領域に絵素を囲むように区切った構造を形成す
ることができる。また、液晶中に含まれる光重合性樹脂
および光重合開始剤の量を少なくすることができる。ま
た、デューティー駆動を行う単純マトリクスにおいてス
トライプ状ＩＴＯ電極をホトマスクとして光の強弱をつ
けて露光する場合、片側からの露光を行うだけでよい。
【００３８】また、本発明にあっては、液晶表示素子を
構成する基板のうちの少なくとも一方にプラスチック基
板を用い、そのプラスチック基板の表示媒体側表面に第
１の凹凸を設け、表示媒体側と反対側表面に第２の凹凸
を設けており、第１の凹凸および第２の凹凸が液晶表示
素子の一部の構造部として機能する構成とされている。
これらの第１の凹凸および第２の凹凸には、光学的な機
能性または機械的な機能性を与えることができる。
構成する基板のうちの少なくとも一方にプラスチック基
板を用い、そのプラスチック基板の表示媒体側表面に第
１の凹凸を設け、表示媒体側と反対側表面に第２の凹凸
を設けており、第１の凹凸および第２の凹凸が液晶表示
素子の一部の構造部として機能する構成とされている。
これらの第１の凹凸および第２の凹凸には、光学的な機
能性または機械的な機能性を与えることができる。
【００３９】光学的な機能性とは、例えば、反射板、反
射防止膜、または所定の波長域の光を遮蔽するホトマス
クとしての機能や、カラーフィルターの色再現性（階調
表示）等の機能である。機械的な機能性とは、例えば、
スペーサー、タッチキー用スペーサー、マルチギャッ
プ、配向制御、または大判の基板素材から複数基板の多
面取りの際の分断ライン、または液晶注入口等としての
機能である。
射防止膜、または所定の波長域の光を遮蔽するホトマス
クとしての機能や、カラーフィルターの色再現性（階調
表示）等の機能である。機械的な機能性とは、例えば、
スペーサー、タッチキー用スペーサー、マルチギャッ
プ、配向制御、または大判の基板素材から複数基板の多
面取りの際の分断ライン、または液晶注入口等としての
機能である。
【００４０】例えば、第１の凹凸にはスペーサー、マル
チギャップ、カラーフィルターの色再現性（階調表
示）、配向制御、またはホトマスク等としての機能を与
えることができ、第２の凹凸には反射板用の凹凸、反射
防止膜、タッチキー用スペーサー、分断ライン、または
注入口等としての機能を与えることができる。また、反
射板用の凹凸を形成し、その上に金属膜を配置した場
合、その金属膜により外部からの水分、酸素など液晶の
劣化に影響を与える物質の侵入を防ぐことができる。こ
のような第１の凹凸および第２の凹凸は、エンボス加工
により、また両面同時に形成することができる。また、
このとき、第１の凹凸および第２の凹凸を有するプラス
チック基板の内部に偏光子を一体形成することもでき
る。
チギャップ、カラーフィルターの色再現性（階調表
示）、配向制御、またはホトマスク等としての機能を与
えることができ、第２の凹凸には反射板用の凹凸、反射
防止膜、タッチキー用スペーサー、分断ライン、または
注入口等としての機能を与えることができる。また、反
射板用の凹凸を形成し、その上に金属膜を配置した場
合、その金属膜により外部からの水分、酸素など液晶の
劣化に影響を与える物質の侵入を防ぐことができる。こ
のような第１の凹凸および第２の凹凸は、エンボス加工
により、また両面同時に形成することができる。また、
このとき、第１の凹凸および第２の凹凸を有するプラス
チック基板の内部に偏光子を一体形成することもでき
る。
【００４１】また、一対の基板間に少なくとも液晶と光
硬化性樹脂と光重合開始剤とを含む混合物を注入し、基
板外から遮光層を介して光を照射して液晶と光硬化性樹
脂とを相分離させると、液晶領域が遮光層と対応する位
置に、高分子壁に囲まれた状態で表示媒体が得られる。
この高分子壁と凹凸とにより、絵素の周囲を囲むような
耐衝撃性に優れたスペーサーが得られる。第１の凹凸と
して絵素部に対応する位置が他の部分より高いものを形
成すると、その高い部分を遮光層として用いることがで
きる。また、偏光子側から光を照射すると高分子壁が、
位相差を有するように形成される。
硬化性樹脂と光重合開始剤とを含む混合物を注入し、基
板外から遮光層を介して光を照射して液晶と光硬化性樹
脂とを相分離させると、液晶領域が遮光層と対応する位
置に、高分子壁に囲まれた状態で表示媒体が得られる。
この高分子壁と凹凸とにより、絵素の周囲を囲むような
耐衝撃性に優れたスペーサーが得られる。第１の凹凸と
して絵素部に対応する位置が他の部分より高いものを形
成すると、その高い部分を遮光層として用いることがで
きる。また、偏光子側から光を照射すると高分子壁が、
位相差を有するように形成される。
【００４２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。尚、説明の簡単のた
め、以下の図において同一の機能を有する部分には同一
の番号を付している。
て、図面を参照しながら説明する。尚、説明の簡単のた
め、以下の図において同一の機能を有する部分には同一
の番号を付している。
【００４３】本発明の液晶表示素子は、図１（ｂ）に示
すプラスチック基板１９を用いる。このプラスチック基
板１９は第１の凹凸２と第２の凹凸４とを有し、表示媒
体側に第１の凹凸２を、表示媒体側と反対側に第２の凹
凸４を位置させて液晶表示素子として組み立てられ、第
１の凹凸２および第２の凹凸４は各々に光学的な機能性
や機械的な機能性を与えられている。
すプラスチック基板１９を用いる。このプラスチック基
板１９は第１の凹凸２と第２の凹凸４とを有し、表示媒
体側に第１の凹凸２を、表示媒体側と反対側に第２の凹
凸４を位置させて液晶表示素子として組み立てられ、第
１の凹凸２および第２の凹凸４は各々に光学的な機能性
や機械的な機能性を与えられている。
【００４４】（凹凸の形成方法）プラスチック基板１９
の両面に凹凸を形成する方法としては、エンボス法等を
用いることができる。
の両面に凹凸を形成する方法としては、エンボス法等を
用いることができる。
【００４５】エンボス法は、予めガラス等を用いて形成
した２つの型（以下、ガラス板という）の間に、変形可
能な加工物を挟み込み、外部から光や熱等のエネルギー
を与えて型通りに加工する方法である。この方法によれ
ば、第１の凹凸２および第２の凹凸４を同時に形成して
機能性を与えることができる。
した２つの型（以下、ガラス板という）の間に、変形可
能な加工物を挟み込み、外部から光や熱等のエネルギー
を与えて型通りに加工する方法である。この方法によれ
ば、第１の凹凸２および第２の凹凸４を同時に形成して
機能性を与えることができる。
【００４６】まず、図１（ａ）に示すように、予め凹凸
の型を有するガラス板６、６に光硬化性樹脂１８または
熱硬化性樹脂１８、例えば架橋アクリル樹脂を挟み込ん
で所定の厚みに圧縮する。また、凹凸に紫外光吸収効果
を持たせてホトマスクとして利用する場合には、例えば
アントラキノン等の紫外光吸収物質を樹脂１８に混合す
る。このときの樹脂１８の厚みは０．１ｍｍ以上１ｍｍ
以下であるのが好ましく、さらに好ましくは０．３ｍｍ
以上０．６ｍｍ以下である。
の型を有するガラス板６、６に光硬化性樹脂１８または
熱硬化性樹脂１８、例えば架橋アクリル樹脂を挟み込ん
で所定の厚みに圧縮する。また、凹凸に紫外光吸収効果
を持たせてホトマスクとして利用する場合には、例えば
アントラキノン等の紫外光吸収物質を樹脂１８に混合す
る。このときの樹脂１８の厚みは０．１ｍｍ以上１ｍｍ
以下であるのが好ましく、さらに好ましくは０．３ｍｍ
以上０．６ｍｍ以下である。
【００４７】その後、図１（ｂ）に示すように、光硬化
性樹脂を用いた場合には光１７を、熱硬化性樹脂を用い
た場合には熱１７を加えて、樹脂１８を変形・固定し、
所定の形状に表面を加工して第１の凹凸２および第２の
凹凸４を有する基板１９を形成する。また、この基板１
９を偏光板一体型にする場合には、偏光子を挟み込むよ
うに偏光子の両側に硬化性樹脂を封入することにより作
製することができる。このときの基板のサイズは、通常
のガラス基板サイズ、例えば３６０ｍｍ×４６０ｍｍサ
イズも可能であり、基板１９の厚みが０．５ｍｍ以下で
あれば、ロールツーロール法も利用できる。
性樹脂を用いた場合には光１７を、熱硬化性樹脂を用い
た場合には熱１７を加えて、樹脂１８を変形・固定し、
所定の形状に表面を加工して第１の凹凸２および第２の
凹凸４を有する基板１９を形成する。また、この基板１
９を偏光板一体型にする場合には、偏光子を挟み込むよ
うに偏光子の両側に硬化性樹脂を封入することにより作
製することができる。このときの基板のサイズは、通常
のガラス基板サイズ、例えば３６０ｍｍ×４６０ｍｍサ
イズも可能であり、基板１９の厚みが０．５ｍｍ以下で
あれば、ロールツーロール法も利用できる。
【００４８】（凹凸の大きさ、形状）第１の凹凸２をス
ペーサーとして利用する場合には、高さはセルギャップ
により任意に決定され、例えばＳＳＦＬＣモードでは
１．２μｍ〜２μｍ、ＳＴＮモードでは５μｍ〜６μｍ
であり、特に限定されない。凹凸の形状は、目的とする
機能により異なる。例えば、図２に示すように、電極の
非形成部にスペーサーの機能を持たせた台状の突起物２
を形成する場合には、その突起物２の幅は電極の非形成
部の幅にほぼ相当し、例えば１０μｍ〜２０μｍであ
る。また、帯状、柱状、貝柱状、点状等、種々の形状を
選択して形成することもできる。
ペーサーとして利用する場合には、高さはセルギャップ
により任意に決定され、例えばＳＳＦＬＣモードでは
１．２μｍ〜２μｍ、ＳＴＮモードでは５μｍ〜６μｍ
であり、特に限定されない。凹凸の形状は、目的とする
機能により異なる。例えば、図２に示すように、電極の
非形成部にスペーサーの機能を持たせた台状の突起物２
を形成する場合には、その突起物２の幅は電極の非形成
部の幅にほぼ相当し、例えば１０μｍ〜２０μｍであ
る。また、帯状、柱状、貝柱状、点状等、種々の形状を
選択して形成することもできる。
【００４９】また、基板の厚い部分、即ち、凹凸の高い
部分に紫外光吸収効果を持たせてホトマスクとして用い
る場合には、基板の厚みは０．１ｍｍ以上１ｍｍ以下で
あるのが好ましく、さらに好ましくは０．３ｍｍ以上
０．６ｍｍ以下である。基板の薄い部分は厚い部分に比
べて１０％〜７０％であるのが好ましく、さらに好まし
くは３０％〜６０％である。この時、絵素部がそれ以外
の部分よりも高い凹凸２を形成してホトマスクとする
と、後述する高分子壁を絵素の周囲を囲むように形成す
ることができる。
部分に紫外光吸収効果を持たせてホトマスクとして用い
る場合には、基板の厚みは０．１ｍｍ以上１ｍｍ以下で
あるのが好ましく、さらに好ましくは０．３ｍｍ以上
０．６ｍｍ以下である。基板の薄い部分は厚い部分に比
べて１０％〜７０％であるのが好ましく、さらに好まし
くは３０％〜６０％である。この時、絵素部がそれ以外
の部分よりも高い凹凸２を形成してホトマスクとする
と、後述する高分子壁を絵素の周囲を囲むように形成す
ることができる。
【００５０】さらに、第１の凹凸２を段状に形成する場
合、スペーサー機能を有する段と、それよりも低い１段
以上の段とを繰り返し形成してマルチギャップとするこ
ともできる。このマルチギャップは、階調表示のために
用いたり、またはカラーフィルターの各色に対応させて
用いることにより、カラーフィルターの厚みを変えるこ
となく色再現性に優れたカラー表示を行うことができ
る。
合、スペーサー機能を有する段と、それよりも低い１段
以上の段とを繰り返し形成してマルチギャップとするこ
ともできる。このマルチギャップは、階調表示のために
用いたり、またはカラーフィルターの各色に対応させて
用いることにより、カラーフィルターの厚みを変えるこ
となく色再現性に優れたカラー表示を行うことができ
る。
【００５１】第１の凹凸２に配向制御性を与える方式に
は２つの方式があり、１つは基板にそれ自体配向制御が
可能な凹凸を形成し、配向膜とする方式である。もう一
方は、基板表面に凹凸を設けておくと、その凹凸を受け
て配向膜にも凹凸が形成され、このとき、主として液晶
材料と高分子樹脂との混合物を表示媒体として基板間に
注入すると共に光照射または熱付与を行うことにより上
記凹凸の凸部を対称軸とした、配向方向が２方向以上の
液晶領域を形成する方式である。
は２つの方式があり、１つは基板にそれ自体配向制御が
可能な凹凸を形成し、配向膜とする方式である。もう一
方は、基板表面に凹凸を設けておくと、その凹凸を受け
て配向膜にも凹凸が形成され、このとき、主として液晶
材料と高分子樹脂との混合物を表示媒体として基板間に
注入すると共に光照射または熱付与を行うことにより上
記凹凸の凸部を対称軸とした、配向方向が２方向以上の
液晶領域を形成する方式である。
【００５２】第２の凹凸４を反射板に利用する場合に
は、平均的な高さが０．１μｍ〜０．６μｍ、好ましく
は０．３〜０．５μｍあればよい。また、ピッチは平均
５μｍ〜２５μｍであればよい。エンボス加工で形成す
る場合、凹凸の大きさは元の型で決まるが、ガラス板の
型は、例えばフッ酸等の溶液でガラス板の表面を変形さ
せて用いればよい。また、第２の凹凸４の表面には、図
２に示すように、蒸着法やスパッタリング法によりアル
ミニウム、銀、クロム等の高い反射率を有する金属膜５
を形成し、必要に応じてブラックマスク（図示せず）等
を形成する。金属膜５の形成は、表示媒体が後述する液
晶材料のみである場合には基板を貼り合わせる前に行っ
てもよいが、液晶と高分子との複合膜である場合には高
分子壁を形成後に形成する。
は、平均的な高さが０．１μｍ〜０．６μｍ、好ましく
は０．３〜０．５μｍあればよい。また、ピッチは平均
５μｍ〜２５μｍであればよい。エンボス加工で形成す
る場合、凹凸の大きさは元の型で決まるが、ガラス板の
型は、例えばフッ酸等の溶液でガラス板の表面を変形さ
せて用いればよい。また、第２の凹凸４の表面には、図
２に示すように、蒸着法やスパッタリング法によりアル
ミニウム、銀、クロム等の高い反射率を有する金属膜５
を形成し、必要に応じてブラックマスク（図示せず）等
を形成する。金属膜５の形成は、表示媒体が後述する液
晶材料のみである場合には基板を貼り合わせる前に行っ
てもよいが、液晶と高分子との複合膜である場合には高
分子壁を形成後に形成する。
【００５３】また、第２の凹凸４には、図３に示すよう
なアンチグレア機能を持たせたり、図４に示すようなタ
ッチキー用スペーサーとして用い得る形状とすることが
できる。さらに、図５に示すような大判の基板素材から
複数基板の多面取り時の分断ラインや、図６に示すよう
な液晶等をセル内に入れるための注入口の形成に利用す
ることができる。尚、これらの図３〜６では、第１の凹
凸２および対向基板１は省略して記載している。
なアンチグレア機能を持たせたり、図４に示すようなタ
ッチキー用スペーサーとして用い得る形状とすることが
できる。さらに、図５に示すような大判の基板素材から
複数基板の多面取り時の分断ラインや、図６に示すよう
な液晶等をセル内に入れるための注入口の形成に利用す
ることができる。尚、これらの図３〜６では、第１の凹
凸２および対向基板１は省略して記載している。
【００５４】（液晶セルの形成）プラスチック基板１９
の第１の凹凸２側には、必要に応じて透明電極、電気絶
縁膜、または配向膜等をこの順に形成する。また、他方
の基板１にも、必要に応じて透明電極、電気絶縁膜、ま
たは配向膜等をこの順に形成する。
の第１の凹凸２側には、必要に応じて透明電極、電気絶
縁膜、または配向膜等をこの順に形成する。また、他方
の基板１にも、必要に応じて透明電極、電気絶縁膜、ま
たは配向膜等をこの順に形成する。
【００５５】これら一対の基板１、１９は、必要に応じ
てスペーサーを介して貼り合わされる。このとき、第１
の凹凸２がスペーサー機能を有する場合には、スペーサ
ー機能を有する段は他方の基板１に密着した状態になっ
ているのが好ましい。この際、スペーサ機能を有する段
の上部に接着剤を塗布して、他方の基板に貼り合わせた
方が良い。また、第１の凹凸２がスペーサー機能を有し
ていない場合には、粒状または棒状のスペーサーを別途
散布する必要がある。
てスペーサーを介して貼り合わされる。このとき、第１
の凹凸２がスペーサー機能を有する場合には、スペーサ
ー機能を有する段は他方の基板１に密着した状態になっ
ているのが好ましい。この際、スペーサ機能を有する段
の上部に接着剤を塗布して、他方の基板に貼り合わせた
方が良い。また、第１の凹凸２がスペーサー機能を有し
ていない場合には、粒状または棒状のスペーサーを別途
散布する必要がある。
【００５６】（表示媒体の形成）貼り合わせられた一対
の基板間隙には、表示媒体を形成する。表示媒体として
は、液晶単体、または液晶と高分子との複合膜とを形成
する。
の基板間隙には、表示媒体を形成する。表示媒体として
は、液晶単体、または液晶と高分子との複合膜とを形成
する。
【００５７】前者の場合には、例えば、ネマティック液
晶、コレステリック液晶、強誘電性液晶、ゲスト−ホス
ト液晶等を基板間隙に注入する。
晶、コレステリック液晶、強誘電性液晶、ゲスト−ホス
ト液晶等を基板間隙に注入する。
【００５８】後者の場合には、液晶と光硬化性樹脂と光
重合開始剤とを少なくとも含む均一な混合物を注入す
る。液晶としては、上述のものを用いることができる。
光硬化性樹脂としては、一般的な単官能基や多官能基を
有するアクリル系モノマーやオリゴマー等を幅広く用い
ることができるが、液晶と混合させるため、液晶分子の
骨格に似た棒状の分子構造を有するものが好ましい。ま
た、液晶性の高分子材料を用いてもよい。さらに、光硬
化性樹脂により高分子壁を形成してスペーサーとして用
いるため、ある程度の耐圧性が要求され、信頼性におい
ても高温保存等が要求されるので、ガラス転移点Ｔｇが
高い材料が好ましい。光重合開始剤としては、紫外光領
域に吸収波長を有しラジカルを発生させるものであれば
よい。
重合開始剤とを少なくとも含む均一な混合物を注入す
る。液晶としては、上述のものを用いることができる。
光硬化性樹脂としては、一般的な単官能基や多官能基を
有するアクリル系モノマーやオリゴマー等を幅広く用い
ることができるが、液晶と混合させるため、液晶分子の
骨格に似た棒状の分子構造を有するものが好ましい。ま
た、液晶性の高分子材料を用いてもよい。さらに、光硬
化性樹脂により高分子壁を形成してスペーサーとして用
いるため、ある程度の耐圧性が要求され、信頼性におい
ても高温保存等が要求されるので、ガラス転移点Ｔｇが
高い材料が好ましい。光重合開始剤としては、紫外光領
域に吸収波長を有しラジカルを発生させるものであれば
よい。
【００５９】または、液晶と熱硬化性樹脂と熱重合開始
剤とを少なくとも含む均一混合物を注入してもよい。液
晶としては上述のものを用いることができる。熱硬化性
樹脂としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂または
ポリイミド系樹脂など、たとえば脂肪族系エポキシ樹脂
としてのデナコールＥＸ−３１４（ナガセ化成工業社
製）を用いることができ、熱重合開始材としては硬化促
進剤、エポミックＱ−６１０（三井石油化製）などを用
いることができる。
剤とを少なくとも含む均一混合物を注入してもよい。液
晶としては上述のものを用いることができる。熱硬化性
樹脂としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂または
ポリイミド系樹脂など、たとえば脂肪族系エポキシ樹脂
としてのデナコールＥＸ−３１４（ナガセ化成工業社
製）を用いることができ、熱重合開始材としては硬化促
進剤、エポミックＱ−６１０（三井石油化製）などを用
いることができる。
【００６０】これらは、真空注入などのいずれも公知の
方法で基板間隙に注入することができる。
方法で基板間隙に注入することができる。
【００６１】液晶と光硬化性樹脂と光重合開始剤とを含
む混合物を注入する場合、注入後に混合物に光を照射す
る。例えば、高圧水銀ランプ下、５ｍＷ／ｃｍ2〜１０
ｍＷ／ｃｍ2、好ましくは６ｍＷ／ｃｍ2〜８ｍＷ／ｃｍ
2の照度で２分〜６分、好ましくは３分〜５分紫外光を
照射する。このとき、選択的な光強度強弱を付けつつ混
合物２６に照射を行うが、図７に示すように基板１の外
側に配置したホトマスク２２を介する場合、また、図８
に示すように基板１に設けられたＩＴＯ等の透明電極２
５や、図９に示す紫外光吸収層（遮光層）２４を介する
場合等が挙げられる。特に、ＩＴＯ電極２５をホトマス
クとする場合には、低温スパッタリング法で形成すると
紫外光透過率が低下するので、好ましい。尚、図７およ
び図８においては、基板１９に形成された凹凸２および
４を省略して示している。
む混合物を注入する場合、注入後に混合物に光を照射す
る。例えば、高圧水銀ランプ下、５ｍＷ／ｃｍ2〜１０
ｍＷ／ｃｍ2、好ましくは６ｍＷ／ｃｍ2〜８ｍＷ／ｃｍ
2の照度で２分〜６分、好ましくは３分〜５分紫外光を
照射する。このとき、選択的な光強度強弱を付けつつ混
合物２６に照射を行うが、図７に示すように基板１の外
側に配置したホトマスク２２を介する場合、また、図８
に示すように基板１に設けられたＩＴＯ等の透明電極２
５や、図９に示す紫外光吸収層（遮光層）２４を介する
場合等が挙げられる。特に、ＩＴＯ電極２５をホトマス
クとする場合には、低温スパッタリング法で形成すると
紫外光透過率が低下するので、好ましい。尚、図７およ
び図８においては、基板１９に形成された凹凸２および
４を省略して示している。
【００６２】また、図９に示すように、基板１９側から
光を照射する場合には、第１の凹凸２の厚い部分、つま
り前記紫外光吸収層２４に紫外光を吸収または遮光させ
てホトマスクとして用いることができる。このとき、ホ
トマスク２２や第１の凹凸２の厚い部分である紫外光吸
収層２４を絵素に対応する位置に形成すると、絵素領域
に液晶３を形成し、それを囲むように高分子壁７を形成
することができる（図１０参照）。また、透明導電膜か
らなる絵素電極をホトマスクとして用いても、絵素領域
を囲むように高分子壁７を形成することができる。
光を照射する場合には、第１の凹凸２の厚い部分、つま
り前記紫外光吸収層２４に紫外光を吸収または遮光させ
てホトマスクとして用いることができる。このとき、ホ
トマスク２２や第１の凹凸２の厚い部分である紫外光吸
収層２４を絵素に対応する位置に形成すると、絵素領域
に液晶３を形成し、それを囲むように高分子壁７を形成
することができる（図１０参照）。また、透明導電膜か
らなる絵素電極をホトマスクとして用いても、絵素領域
を囲むように高分子壁７を形成することができる。
【００６３】光照射の際には、基板間に狭持されている
表示媒体が等方性液晶状態を示す温度まで加温しておく
のが好ましい。また、光照射後は、基板および表示媒体
は室温またはそれ以下の温度まで徐冷するのが好まし
い。その後、必要に応じて、樹脂を硬化させるためにさ
らに紫外光を照射する。このようにして液晶と樹脂とを
相分離させることにより、図１０に示すような高分子壁
７に囲まれた液晶領域３が形成される。
表示媒体が等方性液晶状態を示す温度まで加温しておく
のが好ましい。また、光照射後は、基板および表示媒体
は室温またはそれ以下の温度まで徐冷するのが好まし
い。その後、必要に応じて、樹脂を硬化させるためにさ
らに紫外光を照射する。このようにして液晶と樹脂とを
相分離させることにより、図１０に示すような高分子壁
７に囲まれた液晶領域３が形成される。
【００６４】また、光照射の際に、偏光子が形成されて
いる基板側から照射すると、偏光子の光吸収軸方向に紫
外光が偏光されるので、その偏光方向に沿って重合され
る樹脂の分子の軸が揃う。このため、高分子壁７の位相
差を一軸性にすることができる。
いる基板側から照射すると、偏光子の光吸収軸方向に紫
外光が偏光されるので、その偏光方向に沿って重合され
る樹脂の分子の軸が揃う。このため、高分子壁７の位相
差を一軸性にすることができる。
【００６５】液晶と熱硬化性樹脂と熱重合開始剤とを含
む混合物を注入する場合には、熱を加えて液晶と硬化性
樹脂との相分離を行う。熱重合相分離の方法としては、
たとえばレーザーによる線照射や点照射によりパターン
化することができる。
む混合物を注入する場合には、熱を加えて液晶と硬化性
樹脂との相分離を行う。熱重合相分離の方法としては、
たとえばレーザーによる線照射や点照射によりパターン
化することができる。
【００６６】このようにして得られる高分子壁７と基板
上に形成した第１の凹凸２とを組み合わせて、これらに
スペーサー機能を与えることにより、セルギャップが変
化しない、より強固なセルを作製することができる。ま
た、基板上の凹凸２と高分子壁７とにより、１つの絵素
の周囲を囲む構造とすることができ、絵素領域にスペー
サーを無くしてコントラストを高くすることができる。
さらに、一軸性の位相差を有する高分子壁７を形成する
ことにより、光の利用効率を向上させることができる。
上に形成した第１の凹凸２とを組み合わせて、これらに
スペーサー機能を与えることにより、セルギャップが変
化しない、より強固なセルを作製することができる。ま
た、基板上の凹凸２と高分子壁７とにより、１つの絵素
の周囲を囲む構造とすることができ、絵素領域にスペー
サーを無くしてコントラストを高くすることができる。
さらに、一軸性の位相差を有する高分子壁７を形成する
ことにより、光の利用効率を向上させることができる。
【００６７】（表示モード、駆動方法）表示モードとし
ては、ツイステッドネマティック型、スーパーツイステ
ッドネマティック型、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌ
ｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃ
ｅ）型等を利用することができる。また、強誘電性液晶
を用いた液晶表示素子（ＳＳＦＬＣ）を利用できる。ま
た、駆動法についても、デューティ駆動、アクティブ駆
動のいずれを用いてもよい。
ては、ツイステッドネマティック型、スーパーツイステ
ッドネマティック型、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌ
ｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃ
ｅ）型等を利用することができる。また、強誘電性液晶
を用いた液晶表示素子（ＳＳＦＬＣ）を利用できる。ま
た、駆動法についても、デューティ駆動、アクティブ駆
動のいずれを用いてもよい。
【００６８】（基板）基板としては、少なくとも凹凸を
形成する一方の基板がプラスチックであればよい。他方
の基板は、プラスチック基板以外にガラス基板、金属基
板等であってもよく、また、アクティブ素子等が形成さ
れた基板を用いてもよい。凹凸が形成されたプラスチッ
ク基板は、反射機能を有しない場合には液晶表示素子の
光入射側の基板として用いてもよい。
形成する一方の基板がプラスチックであればよい。他方
の基板は、プラスチック基板以外にガラス基板、金属基
板等であってもよく、また、アクティブ素子等が形成さ
れた基板を用いてもよい。凹凸が形成されたプラスチッ
ク基板は、反射機能を有しない場合には液晶表示素子の
光入射側の基板として用いてもよい。
【００６９】（第１の凹凸の凸部と対向基板の関係）第
１の凹凸の凸部がスペーサ機能を有する場合、凸部の最
高点面上に接着剤を塗布して、対向基板と貼り合わせた
ときに対向基板を物理的または化学的に密着していても
よい。
１の凹凸の凸部がスペーサ機能を有する場合、凸部の最
高点面上に接着剤を塗布して、対向基板と貼り合わせた
ときに対向基板を物理的または化学的に密着していても
よい。
【００７０】以下、本発明の実施形態について具体的に
説明する。尚、本発明は以下の実施形態によって限定さ
れるものではない。
説明する。尚、本発明は以下の実施形態によって限定さ
れるものではない。
【００７１】（実施形態１）図２は、本実施形態１の液
晶表示素子を示す断面図である。
晶表示素子を示す断面図である。
【００７２】この液晶表示素子は、透明電極、電気絶縁
膜、および配向膜（図示せず）が形成された基板１、１
９がシールにより貼り合わせられ、間に表示媒体である
液晶３が狭持されている。一方の基板１９はプラスチッ
クからなり、表示媒体３側表面に第１の凹凸２が形成さ
れてスペーサーとなっている。また、表示媒体３と反対
側表面には第２の凹凸４が形成され、その上に金属膜５
が形成されて反射板１３となっている。上記第２の凹凸
４は、反射板１３の一部として機能し、光反射の際の光
干渉を抑制するものである。
膜、および配向膜（図示せず）が形成された基板１、１
９がシールにより貼り合わせられ、間に表示媒体である
液晶３が狭持されている。一方の基板１９はプラスチッ
クからなり、表示媒体３側表面に第１の凹凸２が形成さ
れてスペーサーとなっている。また、表示媒体３と反対
側表面には第２の凹凸４が形成され、その上に金属膜５
が形成されて反射板１３となっている。上記第２の凹凸
４は、反射板１３の一部として機能し、光反射の際の光
干渉を抑制するものである。
【００７３】この液晶表示素子の製造工程は、以下のよ
うにして行った。
うにして行った。
【００７４】まず、エンボス加工法により第１の凹凸２
および第２の凹凸２を有するプラスチック基板１９を形
成する。予め、図１に示すように型形成された一対のガ
ラス板６、６の間に、アクリル系光硬化性樹脂を狭持し
て、樹脂１８の厚みが例えば０．４ｍｍになるように両
ガラス板６、６を加圧する。その状態でガラス板の外側
から紫外光１７を照射して樹脂を硬化させる。これによ
り、図１１に示すように、一方の面には光学的な機能性
を有する反射板用の第２の凹凸４が、例えば平均高さ
０．５μｍ、平均ピッチ５μｍで形成される。また、他
方の面には機械的な機能性を有するスペーサー用の第１
の凹凸２が、例えば高さ５μｍ、幅１５μｍの帯状にな
った台状の壁（凸部）として間隔２００μｍで形成され
る。
および第２の凹凸２を有するプラスチック基板１９を形
成する。予め、図１に示すように型形成された一対のガ
ラス板６、６の間に、アクリル系光硬化性樹脂を狭持し
て、樹脂１８の厚みが例えば０．４ｍｍになるように両
ガラス板６、６を加圧する。その状態でガラス板の外側
から紫外光１７を照射して樹脂を硬化させる。これによ
り、図１１に示すように、一方の面には光学的な機能性
を有する反射板用の第２の凹凸４が、例えば平均高さ
０．５μｍ、平均ピッチ５μｍで形成される。また、他
方の面には機械的な機能性を有するスペーサー用の第１
の凹凸２が、例えば高さ５μｍ、幅１５μｍの帯状にな
った台状の壁（凸部）として間隔２００μｍで形成され
る。
【００７５】さらに、反射板用凹凸４の表面には、アル
ミニウム、銀等の金属膜５を蒸着法等の公知の方法で形
成する。この実施形態ではアルミニウムを２０００オン
グストロームの厚みで形成して反射板１３とした。
ミニウム、銀等の金属膜５を蒸着法等の公知の方法で形
成する。この実施形態ではアルミニウムを２０００オン
グストロームの厚みで形成して反射板１３とした。
【００７６】次に、この基板１９の台状の壁２の間（凹
部）と、他方の基板１の表面とに、ＩＴＯ膜やＮＥＳＡ
膜等からなる透明電極を公知の方法で形成する。この実
施形態ではＩＴＯ電極（図示せず）を公知の方法で形成
した。さらに、この電極が形成された表面にＳｉＯ2等
からなる電気絶縁膜（図示せず）とポリイミド等からな
る配向膜（図示せず）とをこの順に形成し、配向膜をナ
イロン布等でラビング処理する。
部）と、他方の基板１の表面とに、ＩＴＯ膜やＮＥＳＡ
膜等からなる透明電極を公知の方法で形成する。この実
施形態ではＩＴＯ電極（図示せず）を公知の方法で形成
した。さらに、この電極が形成された表面にＳｉＯ2等
からなる電気絶縁膜（図示せず）とポリイミド等からな
る配向膜（図示せず）とをこの順に形成し、配向膜をナ
イロン布等でラビング処理する。
【００７７】その後、これら２つの基板１、１９を電極
面が対向するように貼り合わせ、基板間隙に液晶３を注
入する。この実施形態では、ゲストホスト液晶を公知の
方法で注入して、図２に示すような反射型液晶表示素子
を作製した。
面が対向するように貼り合わせ、基板間隙に液晶３を注
入する。この実施形態では、ゲストホスト液晶を公知の
方法で注入して、図２に示すような反射型液晶表示素子
を作製した。
【００７８】このようにして得られた反射型液晶表示素
子は、反射板１３が基板１９と一体型で形成されている
ので、かなり薄型にすることができた。また、基板間に
帯状になった台状の壁２が形成されており、この壁２が
スペーサーとして機能するので、薄型のプラスチック基
板でありながら外部から押さえてもブヨブヨせず、外圧
に対するセル厚の変化を少なくすることができる。散布
するよりも制御性よくスペーサーを配置できるので、そ
のスペーサーを絵素以外の部分に位置させて、スペーサ
ーによる光の散乱の発生を抑制でき、表示状態（コント
ラスト）の向上を図れる。さらに、台状の壁２を絵素部
以外に形成することができるので、絵素部にスペーサー
が存在せず、コントラストを向上させることができた。
これらの多機能をエンボス加工により一度に加工するこ
とができるので、プロセスの大幅な簡略化を図ることが
できた。
子は、反射板１３が基板１９と一体型で形成されている
ので、かなり薄型にすることができた。また、基板間に
帯状になった台状の壁２が形成されており、この壁２が
スペーサーとして機能するので、薄型のプラスチック基
板でありながら外部から押さえてもブヨブヨせず、外圧
に対するセル厚の変化を少なくすることができる。散布
するよりも制御性よくスペーサーを配置できるので、そ
のスペーサーを絵素以外の部分に位置させて、スペーサ
ーによる光の散乱の発生を抑制でき、表示状態（コント
ラスト）の向上を図れる。さらに、台状の壁２を絵素部
以外に形成することができるので、絵素部にスペーサー
が存在せず、コントラストを向上させることができた。
これらの多機能をエンボス加工により一度に加工するこ
とができるので、プロセスの大幅な簡略化を図ることが
できた。
【００７９】（実施形態２）本実施形態２では、図１２
に示すような、一方の基板１９内部に偏光子１１が設け
られた偏光子一体型の液晶表示素子を作製した。
に示すような、一方の基板１９内部に偏光子１１が設け
られた偏光子一体型の液晶表示素子を作製した。
【００８０】まず、エンボス加工法により第１の凹凸
２、第２の凹凸４を有し、偏光子１１が一体化されたプ
ラスチック基板１９を形成する。予め、図１に示すよう
に型形成された一対のガラス板６、６の間に、ヨウ素系
材料からなる偏光子１１を挟み込むようにアクリル系光
硬化性樹脂を狭持して、樹脂１８の厚みが０．５ｍｍに
なるように両ガラス板６、６を加圧する。その状態でガ
ラス板の外側から紫外光１７を照射して樹脂を硬化させ
る。これにより一方の面には光学的な機能性を有する反
射板用の第２の凹凸４が形成される。また、他方の面に
は機械的な機能性を有するスペーサー用の第１の凹凸２
が帯状になった台状の壁として形成されて、偏光子一体
型の基板１９が得られる。
２、第２の凹凸４を有し、偏光子１１が一体化されたプ
ラスチック基板１９を形成する。予め、図１に示すよう
に型形成された一対のガラス板６、６の間に、ヨウ素系
材料からなる偏光子１１を挟み込むようにアクリル系光
硬化性樹脂を狭持して、樹脂１８の厚みが０．５ｍｍに
なるように両ガラス板６、６を加圧する。その状態でガ
ラス板の外側から紫外光１７を照射して樹脂を硬化させ
る。これにより一方の面には光学的な機能性を有する反
射板用の第２の凹凸４が形成される。また、他方の面に
は機械的な機能性を有するスペーサー用の第１の凹凸２
が帯状になった台状の壁として形成されて、偏光子一体
型の基板１９が得られる。
【００８１】その後、実施形態１と同様にして図１２に
示すような反射型液晶表示素子を作製した。
示すような反射型液晶表示素子を作製した。
【００８２】このようにして得られた反射型液晶表示素
子は、基板１９内に偏光子１１が組み込まれて反射板お
よび偏光板一体型となっているので、さらに装置の薄型
化を図ることができた。また、偏光板の形成もエンボス
加工により同時に行われるので、さらにプロセスの簡略
化を図ることができた。偏光板を２枚必要とする表示モ
ード、例えばＴＮやＳＴＮモードに用いる場合、図１３
に示すように他方の基板１側に偏光板１２を形成するこ
とができ、または他方の基板１もプラスチック基板とし
て偏光子１１を組み込んでもよく、利用できる範囲は広
い。
子は、基板１９内に偏光子１１が組み込まれて反射板お
よび偏光板一体型となっているので、さらに装置の薄型
化を図ることができた。また、偏光板の形成もエンボス
加工により同時に行われるので、さらにプロセスの簡略
化を図ることができた。偏光板を２枚必要とする表示モ
ード、例えばＴＮやＳＴＮモードに用いる場合、図１３
に示すように他方の基板１側に偏光板１２を形成するこ
とができ、または他方の基板１もプラスチック基板とし
て偏光子１１を組み込んでもよく、利用できる範囲は広
い。
【００８３】（実施形態３）本実施形態３では、図１０
に示すような、液晶領域３が高分子壁７に囲まれた表示
媒体を有する液晶表示素子を作製した。尚、この図１０
においては、対向側基板１を省略して示している。
に示すような、液晶領域３が高分子壁７に囲まれた表示
媒体を有する液晶表示素子を作製した。尚、この図１０
においては、対向側基板１を省略して示している。
【００８４】まず、実施形態２と同様に、エンボス加工
法により第１の凹凸２および第２の凹凸４を有し、偏光
子１１が一体化されたプラスチック基板１９を形成す
る。予め、図１に示すように型形成された一対のガラス
板６、６の間に、偏光子１１を挟み込むように紫外光硬
化性樹脂を狭持して、樹脂１８の厚みが例えば０．４ｍ
ｍになるように両ガラス板６、６を加圧する。その状態
でガラス板の外側から紫外光１７を照射して樹脂を硬化
させる。これにより、図１０に示すように、一方の面に
は光学的な機能性を有する反射板用の第２の凹凸４が、
例えば平均高さ０．５μｍ、平均ピッチ５μｍで形成さ
れる。また、他方の面には機械的な機能性を有するスペ
ーサー用の第１の凹凸２が、例えば高さ５μｍ、幅１５
μｍの帯状になった台状の壁（凸部）として間隔２００
μｍで形成されて、偏光子一体型の基板１９が得られ
る。
法により第１の凹凸２および第２の凹凸４を有し、偏光
子１１が一体化されたプラスチック基板１９を形成す
る。予め、図１に示すように型形成された一対のガラス
板６、６の間に、偏光子１１を挟み込むように紫外光硬
化性樹脂を狭持して、樹脂１８の厚みが例えば０．４ｍ
ｍになるように両ガラス板６、６を加圧する。その状態
でガラス板の外側から紫外光１７を照射して樹脂を硬化
させる。これにより、図１０に示すように、一方の面に
は光学的な機能性を有する反射板用の第２の凹凸４が、
例えば平均高さ０．５μｍ、平均ピッチ５μｍで形成さ
れる。また、他方の面には機械的な機能性を有するスペ
ーサー用の第１の凹凸２が、例えば高さ５μｍ、幅１５
μｍの帯状になった台状の壁（凸部）として間隔２００
μｍで形成されて、偏光子一体型の基板１９が得られ
る。
【００８５】その後、実施形態１と同様にして透明電極
（図示せず）、電気絶縁膜（図示せず）、配向膜（図示
せず）をこの順に形成し、ラビング処理を行って、両基
板を電極面が対向するように貼り合わせる。
（図示せず）、電気絶縁膜（図示せず）、配向膜（図示
せず）をこの順に形成し、ラビング処理を行って、両基
板を電極面が対向するように貼り合わせる。
【００８６】次に、両基板の間隙に液晶と光硬化性樹脂
と光重合開始剤とを少なくとも含む均一混合物を公知の
方法で注入する。この実施形態では、液晶としてＳＴＮ
用液晶を用い、光硬化性樹脂としてアクリル系樹脂を用
い、光重合開始剤としてはＩｒｇａｃｕｒｅ６５１（チ
バガイギー社製）を用いた。
と光重合開始剤とを少なくとも含む均一混合物を公知の
方法で注入する。この実施形態では、液晶としてＳＴＮ
用液晶を用い、光硬化性樹脂としてアクリル系樹脂を用
い、光重合開始剤としてはＩｒｇａｃｕｒｅ６５１（チ
バガイギー社製）を用いた。
【００８７】この混合物に対して、選択的に光強度の強
弱を有する紫外光を照射することにより、液晶と光硬化
性樹脂とを相分離して、図１０に示すような光硬化性樹
脂からなる高分子壁７を形成する。光強度の強弱を選択
的に形成する方法としては、例えば図７に示すようにホ
トマスク２２を介して紫外光を照射する方法や、図８に
示すように紫外線を吸収しやすいＩＴＯ電極２５をホト
マスクとする方法を用いることができる。
弱を有する紫外光を照射することにより、液晶と光硬化
性樹脂とを相分離して、図１０に示すような光硬化性樹
脂からなる高分子壁７を形成する。光強度の強弱を選択
的に形成する方法としては、例えば図７に示すようにホ
トマスク２２を介して紫外光を照射する方法や、図８に
示すように紫外線を吸収しやすいＩＴＯ電極２５をホト
マスクとする方法を用いることができる。
【００８８】さらに、反射板用凹凸４の表面には、アル
ミニウム５を蒸着法により２０００オングストロームの
厚みで形成して反射板１３とした。
ミニウム５を蒸着法により２０００オングストロームの
厚みで形成して反射板１３とした。
【００８９】このようにして作製したセルの対向基板側
に偏光板１２を貼り付けて、図１０に示すような反射型
ネマチック液晶表示素子を作製した。
に偏光板１２を貼り付けて、図１０に示すような反射型
ネマチック液晶表示素子を作製した。
【００９０】このようにして得られた反射型液晶表示素
子は、図１０に示すように、台状の壁２および高分子壁
７によって液晶領域３を細かく区切るような構造になっ
ており、外部から押さえてもブヨブヨせず、実施形態１
よりも耐衝撃性に優れた強固なセルにすることができ
た。また、反射板１３と偏光子１１とが基板１９と一体
型で形成されているので、偏光板を使用する表示モード
においても薄型にすることができた。さらに、台状の壁
２および高分子壁７を絵素部以外に形成することができ
るので、絵素部にスペーサーが存在せず、コントラスト
が向上する。この液晶表示素子の上に入出力用タッチキ
ーを設置することにより、薄型ペン入力型液晶表示装置
を作製することもできる。
子は、図１０に示すように、台状の壁２および高分子壁
７によって液晶領域３を細かく区切るような構造になっ
ており、外部から押さえてもブヨブヨせず、実施形態１
よりも耐衝撃性に優れた強固なセルにすることができ
た。また、反射板１３と偏光子１１とが基板１９と一体
型で形成されているので、偏光板を使用する表示モード
においても薄型にすることができた。さらに、台状の壁
２および高分子壁７を絵素部以外に形成することができ
るので、絵素部にスペーサーが存在せず、コントラスト
が向上する。この液晶表示素子の上に入出力用タッチキ
ーを設置することにより、薄型ペン入力型液晶表示装置
を作製することもできる。
【００９１】（実施形態４）本実施形態４では、液晶領
域３が高分子壁７に囲まれた表示媒体において、位相差
を有する高分子壁を形成した。
域３が高分子壁７に囲まれた表示媒体において、位相差
を有する高分子壁を形成した。
【００９２】実施形態３と同様にして作製した液晶セル
に、液晶と光硬化性樹脂と光重合開始剤とを少なくとも
含む均一混合物を公知の方法で注入する。この混合物に
対して、偏光板が形成されている基板側から紫外光を照
射して表示媒体を形成する。その後、実施形態３と同様
にして偏光板および反射板一体型液晶表示素子を作製し
た。
に、液晶と光硬化性樹脂と光重合開始剤とを少なくとも
含む均一混合物を公知の方法で注入する。この混合物に
対して、偏光板が形成されている基板側から紫外光を照
射して表示媒体を形成する。その後、実施形態３と同様
にして偏光板および反射板一体型液晶表示素子を作製し
た。
【００９３】この液晶表示素子は、光照射時に偏光子の
光吸収軸方向に紫外光が偏光されるので、その偏光方向
に沿って重合される樹脂の分子軸が揃い、光硬化性樹脂
から形成される高分子壁７が一軸性の位相差を有してい
た。偏光板を介さないで光照射した場合には、形成され
る高分子壁７は光学的に等方性であるので光の利用効率
が低い。しかし、一軸性に揃った高分子壁７を形成した
場合には、偏光板の軸角度を制御し、位相差板を利用す
ることにより、高分子部での光の利用効率を上げること
ができるので、液晶パネルの明るさを向上させることが
できた。
光吸収軸方向に紫外光が偏光されるので、その偏光方向
に沿って重合される樹脂の分子軸が揃い、光硬化性樹脂
から形成される高分子壁７が一軸性の位相差を有してい
た。偏光板を介さないで光照射した場合には、形成され
る高分子壁７は光学的に等方性であるので光の利用効率
が低い。しかし、一軸性に揃った高分子壁７を形成した
場合には、偏光板の軸角度を制御し、位相差板を利用す
ることにより、高分子部での光の利用効率を上げること
ができるので、液晶パネルの明るさを向上させることが
できた。
【００９４】（実施形態５）本実施形態５では、図１４
に示すように、第１の凹凸２として、高さが異なる複数
の段の集合を有する液晶表示素子を作製した。
に示すように、第１の凹凸２として、高さが異なる複数
の段の集合を有する液晶表示素子を作製した。
【００９５】まず、エンボス加工法により第１の凹凸２
および第２の凹凸２を有するプラスチック基板１９を形
成する。予め型形成された一対のガラス基板の間に、紫
外光硬化性樹脂を狭持し、ガラス基板の外側から紫外光
を照射して樹脂を硬化させる。これにより、図１５に示
すように、一方の面には光学的な機能性を有する反射板
用の第２の凹凸４が、例えば平均高さ０．５μｍ、平均
ピッチ５μｍで形成される。また、他方の面には機械的
な機能性を有するスペーサー用およびマルチギャップ用
の第１の凹凸２が、例えば高さ５μｍで幅１５μｍの
段、高さ２μｍで幅５０μｍの段、高さ１．５μｍで幅
５０μｍの段、高さ１．０μｍで幅５０μｍの段、高さ
０．５μｍで幅５０μｍの段の集合が繰り返して形成さ
れる。
および第２の凹凸２を有するプラスチック基板１９を形
成する。予め型形成された一対のガラス基板の間に、紫
外光硬化性樹脂を狭持し、ガラス基板の外側から紫外光
を照射して樹脂を硬化させる。これにより、図１５に示
すように、一方の面には光学的な機能性を有する反射板
用の第２の凹凸４が、例えば平均高さ０．５μｍ、平均
ピッチ５μｍで形成される。また、他方の面には機械的
な機能性を有するスペーサー用およびマルチギャップ用
の第１の凹凸２が、例えば高さ５μｍで幅１５μｍの
段、高さ２μｍで幅５０μｍの段、高さ１．５μｍで幅
５０μｍの段、高さ１．０μｍで幅５０μｍの段、高さ
０．５μｍで幅５０μｍの段の集合が繰り返して形成さ
れる。
【００９６】次に、実施形態１と同様にして第２の凹凸
４の上に反射膜５を形成し、さらに透明電極（図示せ
ず）、電気絶縁膜（図示せず）、配向膜（図示せず）を
この順に形成して、両基板を電極面が対向するように貼
り合わせる。このとき、第１の凹凸２の内で最も高い５
μｍの段は他方の基板１に密着させて貼り合わせてスペ
ーサーとする。これにより５μｍの段の壁が形成され、
その間に高さ２μｍ、１．５μｍ、１．０μｍ、０．５
μｍ、０μｍのマルチギャップが形成される。
４の上に反射膜５を形成し、さらに透明電極（図示せ
ず）、電気絶縁膜（図示せず）、配向膜（図示せず）を
この順に形成して、両基板を電極面が対向するように貼
り合わせる。このとき、第１の凹凸２の内で最も高い５
μｍの段は他方の基板１に密着させて貼り合わせてスペ
ーサーとする。これにより５μｍの段の壁が形成され、
その間に高さ２μｍ、１．５μｍ、１．０μｍ、０．５
μｍ、０μｍのマルチギャップが形成される。
【００９７】続いて、基板間隙に液晶３を公知の方法で
注入する。この実施形態では、ネマティック液晶を用い
た。
注入する。この実施形態では、ネマティック液晶を用い
た。
【００９８】その後、液晶セルの対向基板１側面に偏光
板および位相差板を貼り付けて、図１４に示すような反
射型液晶表示素子を作製した。
板および位相差板を貼り付けて、図１４に示すような反
射型液晶表示素子を作製した。
【００９９】このようにして得られた反射型液晶表示素
子は、ギャップの異なるマルチギャップ液晶層３が形成
されているので、電界印加により階調表示を行うことが
できる。反射板１３が基板１９と一体型で形成されてい
るので、かなり薄型にすることができた。また、最も高
い段である台状の壁が形成され、この壁がスペーサーと
して機能するので、薄型のプラスチック基板でありなが
ら外部から押さえてもブヨブヨせず、外圧に対するセル
厚の変化を少なくすることができた。この台状の壁は絵
素部以外に形成することができるので、絵素部にスペー
サーが存在せず、コントラストを向上させることができ
た。さらに、これらの多機能をエンボス加工により一度
に加工することができるので、プロセスの大幅な簡略化
を図ることができた。
子は、ギャップの異なるマルチギャップ液晶層３が形成
されているので、電界印加により階調表示を行うことが
できる。反射板１３が基板１９と一体型で形成されてい
るので、かなり薄型にすることができた。また、最も高
い段である台状の壁が形成され、この壁がスペーサーと
して機能するので、薄型のプラスチック基板でありなが
ら外部から押さえてもブヨブヨせず、外圧に対するセル
厚の変化を少なくすることができた。この台状の壁は絵
素部以外に形成することができるので、絵素部にスペー
サーが存在せず、コントラストを向上させることができ
た。さらに、これらの多機能をエンボス加工により一度
に加工することができるので、プロセスの大幅な簡略化
を図ることができた。
【０１００】また、基板１９側に偏子板を必要とする表
示モードの場合、予め型形成された一対のガラス基板の
間に、偏光子１１を挟み込むように紫外光硬化性樹脂を
狭持して、樹脂の厚みが例えば０．５ｍｍになるように
両ガラス基板を加圧する。その状態でガラス基板の外側
から紫外光を照射して樹脂を硬化させることにより、図
１６に示すような偏光子一体型の基板１９が得られる。
エンボス加工により偏光板も同時に形成することができ
るので、素子の薄型化と共に、プロセスの簡略化も図る
ことができる。
示モードの場合、予め型形成された一対のガラス基板の
間に、偏光子１１を挟み込むように紫外光硬化性樹脂を
狭持して、樹脂の厚みが例えば０．５ｍｍになるように
両ガラス基板を加圧する。その状態でガラス基板の外側
から紫外光を照射して樹脂を硬化させることにより、図
１６に示すような偏光子一体型の基板１９が得られる。
エンボス加工により偏光板も同時に形成することができ
るので、素子の薄型化と共に、プロセスの簡略化も図る
ことができる。
【０１０１】さらに、カラーフィルターと組み合わせて
用いることにより、カラーフィルターの厚みを変化させ
ることなくセルギャップをマルチギャップ化できるの
で、カラー化が容易になる。
用いることにより、カラーフィルターの厚みを変化させ
ることなくセルギャップをマルチギャップ化できるの
で、カラー化が容易になる。
【０１０２】（実施形態６）本実施形態６では、図１７
に示すような、液晶領域３が高分子壁７に囲まれた表示
媒体を有し、第１の凹凸２として、高さが異なる複数の
段の集合を有する液晶表示素子を作製した。尚、この図
１７においては、対向側基板１を省略して示している。
に示すような、液晶領域３が高分子壁７に囲まれた表示
媒体を有し、第１の凹凸２として、高さが異なる複数の
段の集合を有する液晶表示素子を作製した。尚、この図
１７においては、対向側基板１を省略して示している。
【０１０３】実施形態５と同様にして作製した液晶セル
に、液晶と光硬化性樹脂と光重合開始剤とを少なくとも
含む均一混合物を公知の方法で注入する。この実施形態
では、液晶３としてＳＴＮ用液晶を用い、光硬化性樹脂
としてアクリル系樹脂を用い、光重合開始剤としてはＩ
ｒｇａｃｕｒｅ６５１（チバガイギー社製）を用いた。
に、液晶と光硬化性樹脂と光重合開始剤とを少なくとも
含む均一混合物を公知の方法で注入する。この実施形態
では、液晶３としてＳＴＮ用液晶を用い、光硬化性樹脂
としてアクリル系樹脂を用い、光重合開始剤としてはＩ
ｒｇａｃｕｒｅ６５１（チバガイギー社製）を用いた。
【０１０４】この混合物に対して、選択的に光強度の強
弱を有する紫外光を照射することにより、液晶と光硬化
性樹脂とを相分離して、図１７に示すような光硬化性樹
脂からなる高分子壁７を形成する。光強度の強弱を選択
的に形成する方法としては、例えば図７に示すようにホ
トマスク２２を介して紫外光を照射する方法や、図８に
示すように紫外線を吸収しやすいＩＴＯ電極２５をホト
マスクとする方法を用いることができる。
弱を有する紫外光を照射することにより、液晶と光硬化
性樹脂とを相分離して、図１７に示すような光硬化性樹
脂からなる高分子壁７を形成する。光強度の強弱を選択
的に形成する方法としては、例えば図７に示すようにホ
トマスク２２を介して紫外光を照射する方法や、図８に
示すように紫外線を吸収しやすいＩＴＯ電極２５をホト
マスクとする方法を用いることができる。
【０１０５】その後、実施形態５と同様にして、図１７
に示すような反射型液晶表示素子を作製した。
に示すような反射型液晶表示素子を作製した。
【０１０６】このようにして得られた反射型液晶表示素
子は、図１７に示すように、最も高い段である台状の壁
および高分子壁７によって液晶領域３を細かく区切るよ
うな構造になっており、外部から押さえてもセルギャッ
プが変化しない。よって、表示乱れが生じず、ペン入力
が可能であり、従来、階調表示が困難であったＳＳＦＬ
Ｃ等の表示モードにおいても、容易に階調表示が可能と
なる。また、カラーフィルターと組み合わせて用いるこ
とにより、カラーフィルターの厚みを変化させることな
くセルギャップをマルチギャップ化できるので、カラー
化が容易になる。
子は、図１７に示すように、最も高い段である台状の壁
および高分子壁７によって液晶領域３を細かく区切るよ
うな構造になっており、外部から押さえてもセルギャッ
プが変化しない。よって、表示乱れが生じず、ペン入力
が可能であり、従来、階調表示が困難であったＳＳＦＬ
Ｃ等の表示モードにおいても、容易に階調表示が可能と
なる。また、カラーフィルターと組み合わせて用いるこ
とにより、カラーフィルターの厚みを変化させることな
くセルギャップをマルチギャップ化できるので、カラー
化が容易になる。
【０１０７】（実施形態７）本実施形態７では、図１８
に示すような、第１の凹凸２として絵素部が高い凹凸を
形成し、これを遮光膜として液晶領域３が高分子壁７に
囲まれた表示媒体を有する液晶表示素子を作製した。
に示すような、第１の凹凸２として絵素部が高い凹凸を
形成し、これを遮光膜として液晶領域３が高分子壁７に
囲まれた表示媒体を有する液晶表示素子を作製した。
【０１０８】まず、エンボス加工法により第１の凹凸２
および第２の凹凸４を有するプラスチック基板１９を形
成する。予め型形成された一対のガラス基板の間に、光
硬化性樹脂を狭持し、ガラス基板の外側から紫外光を照
射して樹脂を硬化させる。これにより、一方の面には光
学的な機能性を有する反射板用の第２の凹凸４が、例え
ば平均高さ０．５μｍ、平均ピッチ５μｍで形成され
る。また、他方の面には光学的な機能性を有する遮光膜
用の第１の凹凸２が、例えば高さ２μｍ、幅２００μｍ
の帯状の段として間隔２０μｍで形成されている。ここ
で使用する光硬化性樹脂としては、紫外線を吸収するよ
うな材料、例えばアントラキノン等を含む材料を用い
る。
および第２の凹凸４を有するプラスチック基板１９を形
成する。予め型形成された一対のガラス基板の間に、光
硬化性樹脂を狭持し、ガラス基板の外側から紫外光を照
射して樹脂を硬化させる。これにより、一方の面には光
学的な機能性を有する反射板用の第２の凹凸４が、例え
ば平均高さ０．５μｍ、平均ピッチ５μｍで形成され
る。また、他方の面には光学的な機能性を有する遮光膜
用の第１の凹凸２が、例えば高さ２μｍ、幅２００μｍ
の帯状の段として間隔２０μｍで形成されている。ここ
で使用する光硬化性樹脂としては、紫外線を吸収するよ
うな材料、例えばアントラキノン等を含む材料を用い
る。
【０１０９】次に、この基板１９および対向基板１に、
透明電極（図示せず）を形成し、必要に応じて電気絶縁
膜（図示せず）、配向膜（図示せず）をこの順に形成し
て、スペーサーを介して両基板の電極面が対向するよう
に貼り合わせる。
透明電極（図示せず）を形成し、必要に応じて電気絶縁
膜（図示せず）、配向膜（図示せず）をこの順に形成し
て、スペーサーを介して両基板の電極面が対向するよう
に貼り合わせる。
【０１１０】続いて、両基板の間隙に液晶と光硬化性樹
脂と光重合開始剤とを少なくとも含む均一混合物を公知
の方法で注入する。
脂と光重合開始剤とを少なくとも含む均一混合物を公知
の方法で注入する。
【０１１１】この混合物に対して、図９に示すように、
プラスチック基板１９側から紫外光を照射して、液晶と
光硬化性樹脂とを相分離させる。第１の凹凸２の帯状の
段部は、それ以外の部分より凹凸が高く、紫外光が吸収
されやすいので、段部以外のところに光硬化性樹脂が集
まって、図１９に示すような高分子の壁７が形成され
る。
プラスチック基板１９側から紫外光を照射して、液晶と
光硬化性樹脂とを相分離させる。第１の凹凸２の帯状の
段部は、それ以外の部分より凹凸が高く、紫外光が吸収
されやすいので、段部以外のところに光硬化性樹脂が集
まって、図１９に示すような高分子の壁７が形成され
る。
【０１１２】このようにして作製した基板に必要に応じ
て偏光板および位相差板を貼り付けて、図１８に示すよ
うな反射型ネマチック液晶表示素子を作製した。
て偏光板および位相差板を貼り付けて、図１８に示すよ
うな反射型ネマチック液晶表示素子を作製した。
【０１１３】このようにして得られた反射型液晶表示素
子は、図１９に示すように、高分子壁７がスペーサーの
機能を有するので、外部押圧に対してセルギャップの変
化が少ない素子とすることができる。高分子壁７の形成
領域は、第１の凹凸の位置により容易に制御でき、絵素
部以外に形成してコントラストを向上させることができ
た。また、反射板用の第２の凹凸４と選択的紫外線吸収
用の第１の凹凸２とを基板に一体化させることができ
る。第１の凹凸２は、絵素部が他の部分よりも高くなる
ように形成して、図２０に示すような高分子壁を形成す
ることもできる。この場合には、図１９に比べてさらに
セルギャップの変化が少なく、耐衝撃性にも強い液晶表
示素子とすることができる。
子は、図１９に示すように、高分子壁７がスペーサーの
機能を有するので、外部押圧に対してセルギャップの変
化が少ない素子とすることができる。高分子壁７の形成
領域は、第１の凹凸の位置により容易に制御でき、絵素
部以外に形成してコントラストを向上させることができ
た。また、反射板用の第２の凹凸４と選択的紫外線吸収
用の第１の凹凸２とを基板に一体化させることができ
る。第１の凹凸２は、絵素部が他の部分よりも高くなる
ように形成して、図２０に示すような高分子壁を形成す
ることもできる。この場合には、図１９に比べてさらに
セルギャップの変化が少なく、耐衝撃性にも強い液晶表
示素子とすることができる。
【０１１４】また、基板１９側に偏子板を必要とする表
示モードの場合、予め型形成された一対のガラス基板の
間に、偏光子１１を挟み込むように紫外光硬化性樹脂を
狭持して、樹脂の厚みが例えば０．５ｍｍになるように
両ガラス基板を加圧する。その状態でガラス基板の外側
から紫外光を照射して樹脂を硬化させることにより、図
２１に示すような偏光子一体型の基板１９が得られる。
エンボス加工により偏光板も同時に形成することができ
るので、素子の薄型化と共に、プロセスの簡略化も図る
ことができる。
示モードの場合、予め型形成された一対のガラス基板の
間に、偏光子１１を挟み込むように紫外光硬化性樹脂を
狭持して、樹脂の厚みが例えば０．５ｍｍになるように
両ガラス基板を加圧する。その状態でガラス基板の外側
から紫外光を照射して樹脂を硬化させることにより、図
２１に示すような偏光子一体型の基板１９が得られる。
エンボス加工により偏光板も同時に形成することができ
るので、素子の薄型化と共に、プロセスの簡略化も図る
ことができる。
【０１１５】（実施形態８）本実施形態に係る液晶表示
素子の断面図を図２２に示す。また、この液晶表示素子
を構成する一方の基板側の斜視図を図２３に示す。この
液晶表示素子は、基板３３とつながった第１の凹凸２と
高分子壁７が透明電極によって形成されるとともに絵素
部を囲むように配置され、絵素部には液晶材料３が配置
されている。高分子からなる前記基３３に対し、ガラス
及び高分子からなる基板１に対向されている。基板３３
側をさらに詳しく説明すると、基板１の面側に基板３３
上の第１の凹凸２がつながって複数形成されていてスト
ライプ状に配置されている。また、この第１の凹凸２の
間隙には液晶を駆動するための透明電極３２が配置され
ている。また、第１の凹凸２は対向する基板１に接着剤
３１を介して接着されている。また、図示していないが
電極３２上には配向膜、電気絶縁膜が形成されていても
よい。また、上記第１の凹凸２と直交する方向には光重
合性樹脂から形成された高分子壁７が配置され、高分子
壁７の基板１側の間隙には液晶駆動用の前記透明電極３
２が配置され、また第１の凹凸２および高分子壁７の形
成されている以外の部分には液晶材料３が配置されてい
る。
素子の断面図を図２２に示す。また、この液晶表示素子
を構成する一方の基板側の斜視図を図２３に示す。この
液晶表示素子は、基板３３とつながった第１の凹凸２と
高分子壁７が透明電極によって形成されるとともに絵素
部を囲むように配置され、絵素部には液晶材料３が配置
されている。高分子からなる前記基３３に対し、ガラス
及び高分子からなる基板１に対向されている。基板３３
側をさらに詳しく説明すると、基板１の面側に基板３３
上の第１の凹凸２がつながって複数形成されていてスト
ライプ状に配置されている。また、この第１の凹凸２の
間隙には液晶を駆動するための透明電極３２が配置され
ている。また、第１の凹凸２は対向する基板１に接着剤
３１を介して接着されている。また、図示していないが
電極３２上には配向膜、電気絶縁膜が形成されていても
よい。また、上記第１の凹凸２と直交する方向には光重
合性樹脂から形成された高分子壁７が配置され、高分子
壁７の基板１側の間隙には液晶駆動用の前記透明電極３
２が配置され、また第１の凹凸２および高分子壁７の形
成されている以外の部分には液晶材料３が配置されてい
る。
【０１１６】以下に、この液晶表示素子の製造方法を具
体的に説明する。
体的に説明する。
【０１１７】ここでは、エンボス加工法によって基板の
片面に凹凸を形成した。または別の方法として射出成型
で行ってもよい。
片面に凹凸を形成した。または別の方法として射出成型
で行ってもよい。
【０１１８】あらかじめ図２４のように型形成された２
つのガラス板６、６の間にアクリル系光硬化性樹脂を図
示のように挟持し、両ガラス板６、６を樹脂の厚みが、
例えば０．４ｍｍの厚さになるように加圧し、ガラス板
に対して紫外光１７を照射して樹脂を硬化させ、第１の
凹凸として機械的な機能性を有するスペーサである、例
えば高さ５μｍ、幅２５μｍの台状の第１の凹凸（突起
物）２を２００μｍ間隔で形成した。これによりプラス
チック基板３３が得られる。
つのガラス板６、６の間にアクリル系光硬化性樹脂を図
示のように挟持し、両ガラス板６、６を樹脂の厚みが、
例えば０．４ｍｍの厚さになるように加圧し、ガラス板
に対して紫外光１７を照射して樹脂を硬化させ、第１の
凹凸として機械的な機能性を有するスペーサである、例
えば高さ５μｍ、幅２５μｍの台状の第１の凹凸（突起
物）２を２００μｍ間隔で形成した。これによりプラス
チック基板３３が得られる。
【０１１９】次に、このプラスチック基板３３の台状の
第１の凹凸との間と、さらにもう一方の図２２に示すア
クリル系プラスチックからなる基板１に、公知の方法に
より透明電極をインジュウム・スズの酸化物（ＩＴＯ
膜）、ＮＥＳＡ膜などで形成する。ここではＩＴＯ（イ
ンジウムとスズの酸化物）電極を、例えばホトリソグラ
フィなどの公知の方法で形成する。
第１の凹凸との間と、さらにもう一方の図２２に示すア
クリル系プラスチックからなる基板１に、公知の方法に
より透明電極をインジュウム・スズの酸化物（ＩＴＯ
膜）、ＮＥＳＡ膜などで形成する。ここではＩＴＯ（イ
ンジウムとスズの酸化物）電極を、例えばホトリソグラ
フィなどの公知の方法で形成する。
【０１２０】次に、この電極が形成された面にＳｉＯ2
などの電気絶縁膜とポリイミドからなる配向膜（ともに
図示せず）とをこの順で形成し、配向膜面をナイロン布
などでラビング処理する。
などの電気絶縁膜とポリイミドからなる配向膜（ともに
図示せず）とをこの順で形成し、配向膜面をナイロン布
などでラビング処理する。
【０１２１】次に、これら２つの基板を電極面を対向さ
せながら貼り合わせる。このとき、凹凸部の最高点上に
接着剤を塗布して対向基板と貼り合わせたときに対向基
板の配向膜と化学的及び物理的に接着されていてもよ
い。
せながら貼り合わせる。このとき、凹凸部の最高点上に
接着剤を塗布して対向基板と貼り合わせたときに対向基
板の配向膜と化学的及び物理的に接着されていてもよ
い。
【０１２２】次に、一対になった基板間に液晶を含む表
示媒体用材料を真空注入法で注入する。ここでは材料と
しては、ＳＴＮ液晶、たとえばｓ−８１１（カイラル
材）を含んだＺＬＩ−４４２７（メルク社製）を４．５
ｇと、光重合性樹脂として例えばアダマンチルアクリレ
ートおよびステアリルアクリレートを０．４９５ｇと、
光重合開始剤としてＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１を０．００
５ｇとを均一混合したものを用いた。
示媒体用材料を真空注入法で注入する。ここでは材料と
しては、ＳＴＮ液晶、たとえばｓ−８１１（カイラル
材）を含んだＺＬＩ−４４２７（メルク社製）を４．５
ｇと、光重合性樹脂として例えばアダマンチルアクリレ
ートおよびステアリルアクリレートを０．４９５ｇと、
光重合開始剤としてＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１を０．００
５ｇとを均一混合したものを用いた。
【０１２３】次に、この材料に選択的に光強度強弱を有
する紫外光を照射する。ここでは、例えば図８のように
紫外線を吸収しやすいＩＴＯ電極をホトマスクとする方
法によって行い、基板とつながった第１の凹凸のある基
板３３とは反対側の基板１側から紫外光を７ｍＷ／ｃｍ
2の照度で約３分間照射する。このとき、表示用材料は
等方性液体状態をしめしていることが望ましい。この
後、室温まで徐冷することで、基板とつながったストラ
イプ状の第１の凹凸２とは直交する方向に高分子壁７を
形成することができた。また、高分子の架橋度をさらに
向上させるために再度紫外光を照射することが望まし
く、また液晶の配向を安定化させるために液晶が等方性
液体状態を示す温度まで加熱し、その後徐冷を行ったほ
うがよい。
する紫外光を照射する。ここでは、例えば図８のように
紫外線を吸収しやすいＩＴＯ電極をホトマスクとする方
法によって行い、基板とつながった第１の凹凸のある基
板３３とは反対側の基板１側から紫外光を７ｍＷ／ｃｍ
2の照度で約３分間照射する。このとき、表示用材料は
等方性液体状態をしめしていることが望ましい。この
後、室温まで徐冷することで、基板とつながったストラ
イプ状の第１の凹凸２とは直交する方向に高分子壁７を
形成することができた。また、高分子の架橋度をさらに
向上させるために再度紫外光を照射することが望まし
く、また液晶の配向を安定化させるために液晶が等方性
液体状態を示す温度まで加熱し、その後徐冷を行ったほ
うがよい。
【０１２４】このようにして得られた液晶セルは、図２
２のように、これらの第１の凹凸２および高分子壁７に
よって液晶を細かく区切るような構造になっており、外
部からの押圧に対してもブヨブヨしない液晶セルで、偏
光板及び位相差板、反射板などを貼り付けて反射型また
は透過型液晶表示素子を作製することができる。また、
入力用タッチキーを液晶表示素子上に配置することで、
ペン入力素子としても使用することができる。
２のように、これらの第１の凹凸２および高分子壁７に
よって液晶を細かく区切るような構造になっており、外
部からの押圧に対してもブヨブヨしない液晶セルで、偏
光板及び位相差板、反射板などを貼り付けて反射型また
は透過型液晶表示素子を作製することができる。また、
入力用タッチキーを液晶表示素子上に配置することで、
ペン入力素子としても使用することができる。
【０１２５】（実施形態９）本実施形態は、上述した実
施形態８におけるアクリル系プラスチックからなる基板
１をガラスに代えて同様に液晶セルを作製した。ここで
は、そのガラス基板１上に形成する透明電極は１２０℃
程度の低温スパッタで行ってもよいし、高温でスパッタ
したＩＴＯ電極上にＺｎＯ膜を積層してもよい。また、
ＩＴＯ電極をホトマスクとしない場合には、例えば光の
強弱をつけるために基板の外側にホトマスクを別途配置
する場合は、通常どおり高温でスパッタしてＩＴＯ電極
を形成してもよい。
施形態８におけるアクリル系プラスチックからなる基板
１をガラスに代えて同様に液晶セルを作製した。ここで
は、そのガラス基板１上に形成する透明電極は１２０℃
程度の低温スパッタで行ってもよいし、高温でスパッタ
したＩＴＯ電極上にＺｎＯ膜を積層してもよい。また、
ＩＴＯ電極をホトマスクとしない場合には、例えば光の
強弱をつけるために基板の外側にホトマスクを別途配置
する場合は、通常どおり高温でスパッタしてＩＴＯ電極
を形成してもよい。
【０１２６】このようにして形成した液晶セルは、ガラ
ス基板１側はガスバリア層を形成する必要がない。
ス基板１側はガスバリア層を形成する必要がない。
【０１２７】また、実施形態９と前述の実施形態８とに
おいてＳＴＮ液晶を用いたが、ＴＮ液晶を用いてもよ
く、またＳＳＦなどの強誘電性液晶表示モード、ゲスト
−ホストモードなども適用可能である。
おいてＳＴＮ液晶を用いたが、ＴＮ液晶を用いてもよ
く、またＳＳＦなどの強誘電性液晶表示モード、ゲスト
−ホストモードなども適用可能である。
【０１２８】（実施形態１０）本実施形態では、エンボ
ス加工法によって基板の片面に第１の凹凸２を形成し
た。または、別の方法として射出成型で行ってもよい。
ス加工法によって基板の片面に第１の凹凸２を形成し
た。または、別の方法として射出成型で行ってもよい。
【０１２９】あらかじめ図２４のような型形成された２
つのガラス板６、６間にアクリル系光硬化性樹脂を挟持
し、両ガラス板６を樹脂の厚みが、例えば０．４ｍｍの
厚さになるように加圧し、ガラス板に対して紫外光１７
を照射して樹脂を硬化させ、第１の凹凸として機械的な
機能性を有するスペーサである、例えば高さ５μｍ、幅
１５μｍの台状の第１の凹凸（突起物）２を２００μｍ
間隔で形成した。これによりプラスチック基板３３が得
られる。
つのガラス板６、６間にアクリル系光硬化性樹脂を挟持
し、両ガラス板６を樹脂の厚みが、例えば０．４ｍｍの
厚さになるように加圧し、ガラス板に対して紫外光１７
を照射して樹脂を硬化させ、第１の凹凸として機械的な
機能性を有するスペーサである、例えば高さ５μｍ、幅
１５μｍの台状の第１の凹凸（突起物）２を２００μｍ
間隔で形成した。これによりプラスチック基板３３が得
られる。
【０１３０】次に、このプラスチック基板３３の台状の
第１の凹凸２の間に、公知の方法で透明電極をインジュ
ウム・スズの酸化物（ＩＴＯ膜）、ＮＥＳＡ膜などで形
成する。ここでは、ＩＴＯ（インジウムとスズの酸化
物）電極を例えばホトリソグラフィなどの公知の方法で
形成する。また、他方の基板上には透光性電極と基板外
部の駆動回路とを電気的に接続するＴＦＴとを設ける。
第１の凹凸２の間に、公知の方法で透明電極をインジュ
ウム・スズの酸化物（ＩＴＯ膜）、ＮＥＳＡ膜などで形
成する。ここでは、ＩＴＯ（インジウムとスズの酸化
物）電極を例えばホトリソグラフィなどの公知の方法で
形成する。また、他方の基板上には透光性電極と基板外
部の駆動回路とを電気的に接続するＴＦＴとを設ける。
【０１３１】次に、これら２つの基板１、３３を電極面
を内側にして対向させ貼り合わせる。このとき、凹凸部
の最高点上に接着剤を塗布して対向基板と貼り合わせた
ときに対向基板の配向膜と化学的及び物理的に接着され
ていてもよい。
を内側にして対向させ貼り合わせる。このとき、凹凸部
の最高点上に接着剤を塗布して対向基板と貼り合わせた
ときに対向基板の配向膜と化学的及び物理的に接着され
ていてもよい。
【０１３２】次に、作製した液晶セル中に以下の混合物
を毛管注入する。その混合物は、Ｒ−６８４を０．２０
ｇと、ｐフェニルスチレンを０．２０ｇと、下記化合物
Ａを０．１０ｇと、さらに液晶材料ＺＬＩ−４７９２
（メルク社製：△ｎ＝０．０９４）を４．５ｇと、光開
始剤Ｉｒｕｇａｃｕｒｅ６５１を０．０２５ｇとを均一
混合させたものである。
を毛管注入する。その混合物は、Ｒ−６８４を０．２０
ｇと、ｐフェニルスチレンを０．２０ｇと、下記化合物
Ａを０．１０ｇと、さらに液晶材料ＺＬＩ−４７９２
（メルク社製：△ｎ＝０．０９４）を４．５ｇと、光開
始剤Ｉｒｕｇａｃｕｒｅ６５１を０．０２５ｇとを均一
混合させたものである。
【０１３３】
【化１】
【０１３４】その後、一旦、温度を上げて均一相にし、
温度を降下させて液晶領域が絵素に対して１つになるよ
うにした。
温度を降下させて液晶領域が絵素に対して１つになるよ
うにした。
【０１３５】その後、透明電極間に±５．０Ｖの電圧を
印加し、軸対称配向状態とした。この状態から温度を低
下させ室温まで下げた。この状態で配向状態を固定する
ために高圧水銀ランプ下３ｍＷ／ｃｍ2（３６５ｎｍ）
のところで３０分紫外光を照射した。その後、さらに２
０分間連続で紫外光を照射し樹脂を硬化させた。
印加し、軸対称配向状態とした。この状態から温度を低
下させ室温まで下げた。この状態で配向状態を固定する
ために高圧水銀ランプ下３ｍＷ／ｃｍ2（３６５ｎｍ）
のところで３０分紫外光を照射した。その後、さらに２
０分間連続で紫外光を照射し樹脂を硬化させた。
【０１３６】このようにして得られた液晶セルは、図２
２のようにこれらの第１の凹凸２および高分子壁７によ
って液晶を細かく区切るような構造になっており、液晶
領域の液晶の配向は軸対称配向している。また、生成し
た液晶セルを偏光顕微鏡で観察しながら応力を加えても
セル厚の変動が起こらず、配向乱れが生じなかった。
２のようにこれらの第１の凹凸２および高分子壁７によ
って液晶を細かく区切るような構造になっており、液晶
領域の液晶の配向は軸対称配向している。また、生成し
た液晶セルを偏光顕微鏡で観察しながら応力を加えても
セル厚の変動が起こらず、配向乱れが生じなかった。
【０１３７】なお、上述した実施形態８〜１０において
は、以下の各項目で説明する形態を採用できる。
は、以下の各項目で説明する形態を採用できる。
【０１３８】（凹凸の形成方法）射出成型でおこなって
もよい。
もよい。
【０１３９】（基板構成）プラスチック基板において
は、酸素および空気などの気体や水分などの液体を遮断
するためにガスバリア層を設ける必要がある。しかし反
射板が一体化されている基板やガラス基板の場合には、
その基板にガスバリア層を作製する必要がなくなる。
は、酸素および空気などの気体や水分などの液体を遮断
するためにガスバリア層を設ける必要がある。しかし反
射板が一体化されている基板やガラス基板の場合には、
その基板にガスバリア層を作製する必要がなくなる。
【０１４０】また第１の凹凸のみが形成されている場合
においても基板内に偏光機能を有していてもよい。
においても基板内に偏光機能を有していてもよい。
【０１４１】（他方の基板）他方の基板１はプラスチッ
ク、ガラスまたは金属でもよく、またＴＦＴＭＩＭなど
のアクティブ素子が設けられていてもよい。
ク、ガラスまたは金属でもよく、またＴＦＴＭＩＭなど
のアクティブ素子が設けられていてもよい。
【０１４２】（第１の凹凸の形状）実施形態で述べたよ
うに連続したストライプ状構造が理想的であるが、部分
的に任意の距離で区切られていてもよく、また階段状で
あってもよい。また柱状などブロックのように非絵素部
に配置されてもよい。
うに連続したストライプ状構造が理想的であるが、部分
的に任意の距離で区切られていてもよく、また階段状で
あってもよい。また柱状などブロックのように非絵素部
に配置されてもよい。
【０１４３】また、第２の凹凸はなく、第１の凹凸とし
てマルチギャップ用の段やホトマスク用の段を形成して
いてもよい。
てマルチギャップ用の段やホトマスク用の段を形成して
いてもよい。
【０１４４】（第１の凹凸と透明電極との関係）第１の
凹凸が例えばストライプ状であるとき、この第１の凹凸
に透明電極が接するように必ずしも形成されている必要
はない。また、このように第１の凹凸と透明電極とが接
していない場合、液晶と光重合性樹脂との相分離が行わ
れるとき、この第１の凹凸と透明電極の間隙にも高分子
壁が形成されることになる。この場合、第１の凹凸の最
高点ともう一方の基板１との接着をさらに助けることが
できる。
凹凸が例えばストライプ状であるとき、この第１の凹凸
に透明電極が接するように必ずしも形成されている必要
はない。また、このように第１の凹凸と透明電極とが接
していない場合、液晶と光重合性樹脂との相分離が行わ
れるとき、この第１の凹凸と透明電極の間隙にも高分子
壁が形成されることになる。この場合、第１の凹凸の最
高点ともう一方の基板１との接着をさらに助けることが
できる。
【０１４５】（第１の凹凸の凸部と対向基板の関係）第
１の凹凸の凸部がスペーサ機能を有する場合、凸部の最
高点面上に接着剤を塗布して、対向基板と貼り合わせた
ときに対向基板を物理的または化学的に密着していても
よい。
１の凹凸の凸部がスペーサ機能を有する場合、凸部の最
高点面上に接着剤を塗布して、対向基板と貼り合わせた
ときに対向基板を物理的または化学的に密着していても
よい。
【０１４６】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、スペーサとなる基板とつながった第１の凹凸
と光重合性樹脂からなる高分子壁とが非絵素部に配置さ
れるため、絵素部にはスペーサが存在しなくなるため、
スペーサによるコントラスト低下が防げ、光学特性が向
上する。また第１の凹凸が基板と一体成型されているこ
とで外部からどのような衝撃があってもこのスペーサ材
が移動することはなくなり、スペーサの移動による液晶
のディスクリネーションの発生を防ぐことができ、液晶
パネルの信頼性が向上する。またこの第１の凹凸は基板
作製時に形成されることで、従来のようにレジストなど
を用いた手法で同様のストライプ状の壁を形成する場
合、基板表面、具体的には配向膜表面に残膜が発生した
り、配向膜表面を浸食したりする可能性があったが、こ
のような製造法上の課題も解決することができる。ま
た、基板とつながったストライプ状第１の凹凸と光重合
性樹脂からなるストライプ状の高分子壁とが直交するよ
うに配置され、絵素部の液晶を絵素ごとに区切り、かつ
取り囲むように配置されることで液晶の流動を最大限抑
制でき、これにより耐圧性に優れた構造を提供すること
ができる。また光重合性樹脂によって高分子壁を形成す
るが、一方の方向は基板と一体型になった第１の凹凸で
形成されているため、従来の４辺を囲むように配置され
ていた光重合性樹脂の量を実質的に半分にすることがで
き、よって注入前後での液晶と光重合性樹脂の分離を防
ぐことができ、また製造工程上安定して相分離を行うこ
とができる。また相分離後の液晶材料中に含まれる未反
応の光重合性樹脂、光重合性開始剤の量を極めて少なく
することができるため、表示中や使用中時の表示不良を
押さえることができる。また相分離するための製造方法
において、従来の光を透過しにくいＩＴＯ電極をホトマ
スクとする場合においては片側のみの光照射でよくな
り、製造コストを削減することができ、工業的に有益で
ある。また基板と一体型された反射板が形成されている
場合、一方の基板がガラスの場合において通常は、プラ
スチックで必要なガスバリア層の形成が不要になる。
によれば、スペーサとなる基板とつながった第１の凹凸
と光重合性樹脂からなる高分子壁とが非絵素部に配置さ
れるため、絵素部にはスペーサが存在しなくなるため、
スペーサによるコントラスト低下が防げ、光学特性が向
上する。また第１の凹凸が基板と一体成型されているこ
とで外部からどのような衝撃があってもこのスペーサ材
が移動することはなくなり、スペーサの移動による液晶
のディスクリネーションの発生を防ぐことができ、液晶
パネルの信頼性が向上する。またこの第１の凹凸は基板
作製時に形成されることで、従来のようにレジストなど
を用いた手法で同様のストライプ状の壁を形成する場
合、基板表面、具体的には配向膜表面に残膜が発生した
り、配向膜表面を浸食したりする可能性があったが、こ
のような製造法上の課題も解決することができる。ま
た、基板とつながったストライプ状第１の凹凸と光重合
性樹脂からなるストライプ状の高分子壁とが直交するよ
うに配置され、絵素部の液晶を絵素ごとに区切り、かつ
取り囲むように配置されることで液晶の流動を最大限抑
制でき、これにより耐圧性に優れた構造を提供すること
ができる。また光重合性樹脂によって高分子壁を形成す
るが、一方の方向は基板と一体型になった第１の凹凸で
形成されているため、従来の４辺を囲むように配置され
ていた光重合性樹脂の量を実質的に半分にすることがで
き、よって注入前後での液晶と光重合性樹脂の分離を防
ぐことができ、また製造工程上安定して相分離を行うこ
とができる。また相分離後の液晶材料中に含まれる未反
応の光重合性樹脂、光重合性開始剤の量を極めて少なく
することができるため、表示中や使用中時の表示不良を
押さえることができる。また相分離するための製造方法
において、従来の光を透過しにくいＩＴＯ電極をホトマ
スクとする場合においては片側のみの光照射でよくな
り、製造コストを削減することができ、工業的に有益で
ある。また基板と一体型された反射板が形成されている
場合、一方の基板がガラスの場合において通常は、プラ
スチックで必要なガスバリア層の形成が不要になる。
【０１４７】また、本発明によれば、素子を構成する基
板の内の少なくとも一方にプラスチック基板を用い、そ
の基板の表示媒体側表面には第１の凹凸を、表示媒体側
と反対側表面には第２の凹凸を設けて、各々に光学的な
機能性または機械的な機能性を与えている。
板の内の少なくとも一方にプラスチック基板を用い、そ
の基板の表示媒体側表面には第１の凹凸を、表示媒体側
と反対側表面には第２の凹凸を設けて、各々に光学的な
機能性または機械的な機能性を与えている。
【０１４８】例えば、第１の凹凸にはスペーサー、マル
チギャップ、カラーフィルターの色再現性、配向制御、
ホトマスク等の機能を与えることができ、第２の凹凸に
は反射板用の凹凸、反射防止膜、タッチキー用スペーサ
ー、分断ライン、注入口等の機能を与えることができ
る。
チギャップ、カラーフィルターの色再現性、配向制御、
ホトマスク等の機能を与えることができ、第２の凹凸に
は反射板用の凹凸、反射防止膜、タッチキー用スペーサ
ー、分断ライン、注入口等の機能を与えることができ
る。
【０１４９】第１の凹凸をスペーサーとすることによ
り、外部押圧に対するセルギャップの変化が少ない、強
度に優れた素子とすることができる。また、スペーサー
を新たに散布する必要がなく、スペーサーを絵素部以外
の位置に制御性よく形成できるので、コントラストの向
上が可能であり、表示品位を大幅に向上させることがで
きる。
り、外部押圧に対するセルギャップの変化が少ない、強
度に優れた素子とすることができる。また、スペーサー
を新たに散布する必要がなく、スペーサーを絵素部以外
の位置に制御性よく形成できるので、コントラストの向
上が可能であり、表示品位を大幅に向上させることがで
きる。
【０１５０】また、第１の凹凸としてマルチギャップ用
の段を形成することにより、従来困難であったＳＳＦＬ
Ｃ型やＳＴＮ型表示モードでの階調表示が容易になり、
また、カラー化も容易に行える。
の段を形成することにより、従来困難であったＳＳＦＬ
Ｃ型やＳＴＮ型表示モードでの階調表示が容易になり、
また、カラー化も容易に行える。
【０１５１】さらに、第１の凹凸の絵素部に対応する部
分を高くしてホトマスクとすることにより、高分子壁に
液晶領域が囲まれた表示媒体をセルフアライメントによ
り容易に作製することができる。この場合、絵素領域を
囲むように高分子壁を形成することができるので、外部
押圧に対してさらに強固な素子とすることができる。第
２の凹凸として反射板用の凹凸を形成してその上に金属
膜を形成すると、反射板を一体化できるので、素子を薄
型化することができる。
分を高くしてホトマスクとすることにより、高分子壁に
液晶領域が囲まれた表示媒体をセルフアライメントによ
り容易に作製することができる。この場合、絵素領域を
囲むように高分子壁を形成することができるので、外部
押圧に対してさらに強固な素子とすることができる。第
２の凹凸として反射板用の凹凸を形成してその上に金属
膜を形成すると、反射板を一体化できるので、素子を薄
型化することができる。
【０１５２】また、第２の凹凸は、反射防止膜、タッチ
キー用スペーサー、分断ライン、注入口等の種々の機能
を与えることができ、素子の薄型化および簡略化を図る
ことができる。
キー用スペーサー、分断ライン、注入口等の種々の機能
を与えることができ、素子の薄型化および簡略化を図る
ことができる。
【０１５３】このような第１の凹凸および第２の凹凸
は、エンボス加工により容易に形成することができ、ま
た両面同時に基板と一体化して形成することができるの
で、製造工程を大幅に簡略化することができる。また、
エンボス加工によれば、第１の凹凸と第２の凹凸の間に
偏光子を一体形成することもできる。
は、エンボス加工により容易に形成することができ、ま
た両面同時に基板と一体化して形成することができるの
で、製造工程を大幅に簡略化することができる。また、
エンボス加工によれば、第１の凹凸と第２の凹凸の間に
偏光子を一体形成することもできる。
【０１５４】液晶と硬化性樹脂との相分離の際に偏光子
側から光を照射すると、位相差を有する高分子壁が形成
されるので、偏光板の軸角度を調整して位相差板を利用
することにより、光の利用効率が向上して明るい表示が
得られる。
側から光を照射すると、位相差を有する高分子壁が形成
されるので、偏光板の軸角度を調整して位相差板を利用
することにより、光の利用効率が向上して明るい表示が
得られる。
【０１５５】このように本発明によれば、薄型、軽量で
割れにくいプラスチック基板を用いて液晶表示素子を多
機能化すると共に、素子の薄型化および構成の簡略化が
図れる。また、製造工程も簡略化できるので、低コスト
化を実現することができ、工業的にも非常に利用価値が
高いものである。
割れにくいプラスチック基板を用いて液晶表示素子を多
機能化すると共に、素子の薄型化および構成の簡略化が
図れる。また、製造工程も簡略化できるので、低コスト
化を実現することができ、工業的にも非常に利用価値が
高いものである。
【図１】本発明の液晶表示素子の製造工程を説明するた
めの断面図である。
めの断面図である。
【図２】本発明の液晶表示素子の製造工程を説明するた
めの断面図である。
めの断面図である。
【図３】本発明の液晶表示装置の一実施形態を示す断面
図である。
図である。
【図４】本発明の液晶表示装置の一実施形態を示す断面
図である。
図である。
【図５】本発明の液晶表示装置の一実施形態を示す断面
図である。
図である。
【図６】本発明の液晶表示装置の一実施形態を示す断面
図である。
図である。
【図７】本発明の液晶表示素子の製造工程を説明するた
めの断面図である。
めの断面図である。
【図８】本発明の液晶表示素子の製造工程を説明するた
めの断面図である。
めの断面図である。
【図９】本発明の液晶表示素子の製造工程を説明するた
めの断面図である。
めの断面図である。
【図１０】本発明の液晶表示素子の製造工程を説明する
ための断面図である。
ための断面図である。
【図１１】実施形態１の液晶表示素子を示す斜視図であ
る。
る。
【図１２】実施形態２の液晶表示素子を示す断面図であ
る。
る。
【図１３】実施形態２の液晶表示素子を示す断面図であ
る。
る。
【図１４】実施形態５の液晶表示素子を示す断面図であ
る。
る。
【図１５】実施形態５の液晶表示素子を示す斜視図であ
る。
る。
【図１６】実施形態５の液晶表示素子を示す断面図であ
る。
る。
【図１７】実施形態６の液晶表示素子を示す斜視図であ
る。
る。
【図１８】実施形態７の液晶表示素子を示す断面図であ
る。
る。
【図１９】実施形態７の液晶表示素子を示す斜視図であ
る。
る。
【図２０】実施形態７の液晶表示素子を示す斜視図であ
る。
る。
【図２１】実施形態７の液晶表示素子を示す断面図であ
る。
る。
【図２２】実施形態８を説明するための断面図である。
【図２３】実施形態８を説明するための斜視図である。
【図２４】実施形態８〜１０において片側のみに第１の
凹凸を有する基板を作製するためのエンボス加工法を説
明する図である。
凹凸を有する基板を作製するためのエンボス加工法を説
明する図である。
１ 他方の基板 ２ 第１の凹凸 ３ 液晶 ４ 第２の凹凸 ５ 金属膜 ６ ガラス板 ７ 高分子壁 １１ 偏光子 １２ 偏光板 １３ 反射板 １４ シール １７ 光または熱 １８ 光硬化性樹脂または熱硬化性樹脂 １９ 第１および第２の凹凸が形成されたプラスチック
基板 ２２ ホトマスク ２５ ＩＴＯ電極 ２６ 液晶と光硬化性樹脂と光重合開始剤とを少なくと
も含む混合物 ３１ 接着剤 ３２ 透明電極 ３３ 第１の凹凸が形成されたプラスチック基板
基板 ２２ ホトマスク ２５ ＩＴＯ電極 ２６ 液晶と光硬化性樹脂と光重合開始剤とを少なくと
も含む混合物 ３１ 接着剤 ３２ 透明電極 ３３ 第１の凹凸が形成されたプラスチック基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石井 裕 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭53−18398（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−95217（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−155922（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−70516（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−28719（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−219526（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−2130（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−129412（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−94316（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−177015（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−289622（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−212931（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−27222（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−45637（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−264982（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−324310（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−28071（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−114009（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−120733（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−270759（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02F 1/1339 500 G02F 1/133 500 G02F 1/1333 500
Claims (10)
- 【請求項１】 一対の基板間に少なくとも液晶を含む表
示媒体が狭持され、少なくとも一方の基板がプラスチッ
ク基板であり、該プラスチック基板自体の表示媒体側表
面が第１の凹凸を有して形成され、更に光重合性樹脂か
らなる高分子壁が設けられている液晶表示素子の製造方
法であって、 一方の基板に基板とつながった複数の第１の凹凸を形成
する工程と、 前記一対の基板を、該一方の基板とつながった複数の第
１の凹凸を内側にして対向させる工程と、 該一対の基板の間隙に液晶と光重合性樹脂と光重合性開
始剤とを少なくとも含む表示材料を注入する工程と、 該表示材料に対し、光を照射して液晶と光重合性樹脂と
を相分離させる工程とを含む液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項２】 一対の基板間に少なくとも液晶を含む表
示媒体が狭持された液晶表示素子において、 該一対の基板のうちの少なくとも一方がプラスチック基
板であり、該プラスチック基板自体の表示媒体側表面が
第１の凹凸を有して形成され、更に光重合性樹脂からな
る高分子壁が設けられた構成となっており、 前記プラスチック基板の表示媒体側と反対側表面に第２
の凹凸が設けられ、 前記第１の凹凸は、絵素部に対応する位置が他の部分よ
り高くされ、絵素部に対応する部分が波長４００ｎｍ以
下の光を遮光する遮光部として機能し、前記第２の凹凸
上に金属膜が形成され、該第２の凹凸と該金属膜とが反
射板として機能する、液晶表示素子。 - 【請求項３】 一対の基板間に少なくとも液晶を含む表
示媒体が狭持された液晶表示素子において、 該一対の基板のうちの少なくとも一方がプラスチック基
板であり、該プラスチック基板自体の表示媒体側表面が
第１の凹凸を有して形成され、更に光重合性樹脂からな
る高分子壁が設けられた構成となっており、 前記プラスチック基板の表示媒体側と反対側表面に第２
の凹凸が設けられ、該第１の凹凸および第２の凹凸が一
部の構造部として機能する構成となっており、 前記表示媒体は、前記高分子壁と液晶領域との複合膜か
らなり、該液晶領域が該高分子壁に囲まれている、液晶
表示素子。 - 【請求項４】 前記高分子壁は、位相差を有している請
求項３に記載の液晶表示素子。 - 【請求項５】 一対の基板間に少なくとも液晶を含む表
示媒体が狭持され、該一対の基板の内の少なくとも一方
がプラスチック基板である液晶表示素子の製造方法であ
って、一方の 片面に第１の凹凸を有し、他方の片面に第２の凹
凸を有する該プラスチック基板を形成する工程と、 該一対の基板を対向させて、両基板間に表示媒体を形成
する工程とを含み、 前記表示媒体の形成は、前記一対の基板間に少なくとも
液晶と光硬化性樹脂と光重合開始剤とを含む混合物を注
入する工程と、該一対の基板外から該混合物に部分的に
光を照射して液晶と光硬化性樹脂とを相分離させる工程
とを含むことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項６】 前記第１の凹凸は、絵素部に対応する位
置が他の部分より高くされて、その絵素部に対応する部
分が波長４００ｎｍ以下の光を遮光する遮光部として機
能するように構成されており、該第１の凹凸によって、
前記混合物に部分的に照射される光が遮光される請求項
５に記載の液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項７】 一対の基板間に少なくとも液晶を含む表
示媒体が狭持され、該一対の基板の内の少なくとも一方
がプラスチック基板である液晶表示素子の製造方法であ
って、一方の 片面に第１の凹凸を有し、他方の片面に第２の凹
凸を有する該プラスチック基板を形成する工程と、 該一対の基板を対向させて、両基板間に表示媒体を形成
する工程とを含み、 前記プラスチック基板の第１の凹凸および第２の凹凸
を、エンボス加工により形成し、大判から基板を分断する際に、該素子周端部に設けられ
た第２の凹凸を 分断ラインとして用いることを特徴とす
る液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項８】 一対の基板間に少なくとも液晶を含む表
示媒体が狭持され、該一対の基板の内の少なくとも一方
がプラスチック基板である液晶表示素子の製造方法であ
って、一方の 片面に第１の凹凸を有し、他方の片面に第２の凹
凸を有する該プラスチック基板を形成する工程と、 該一対の基板を対向させて、両基板間に表示媒体を形成
する工程とを含み、 前記プラスチック基板の第１の凹凸および第２の凹凸を
同時に形成し、大判から基板を分断する際に、該素子周端部に設けられ
た第２の凹凸を 分断ラインとして用いることを特徴とす
る液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項９】 一対の基板間に少なくとも液晶を含む表
示媒体が狭持され、該一対の基板の内の少なくとも一方
がプラスチック基板である液晶表示素子の製造方法であ
って、一方の 片面に第１の凹凸を有し、他方の片面に第２の凹
凸を有する該プラスチック基板を形成する工程と、 該一対の基板を対向させて、両基板間に表示媒体を形成
する工程とを含み、 前記プラスチック基板の第１の凹凸および第２の凹凸
を、エンボス加工により形成し、前記表示媒体を両基板間に形成する際に、前記第２の凹
凸を表示媒体側まで貫通させて、該表示媒体の注入口と
して利用することを特徴とする 液晶表示素子の製造方
法。 - 【請求項１０】 一対の基板間に少なくとも液晶を含む
表示媒体が狭持され、該一対の基板の内の少なくとも一
方がプラスチック基板である液晶表示素子の製造方法で
あって、一方の 片面に第１の凹凸を有し、他方の片面に第２の凹
凸を有する該プラスチック基板を形成する工程と、 該一対の基板を対向させて、両基板間に表示媒体を形成
する工程とを含み、 前記プラスチック基板の第１の凹凸および第２の凹凸を
同時に形成し、前記表示媒体を両基板間に形成する際に、前記第２の凹
凸を表示媒体側まで貫通させて、該表示媒体の注入口と
して利用することを特徴とする 液晶表示素子の製造方
法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12363896A JP3358935B2 (ja) | 1995-10-02 | 1996-05-17 | 液晶表示素子およびその製造方法 |
| US08/723,894 US5956112A (en) | 1995-10-02 | 1996-10-01 | Liquid crystal display device and method for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25518395 | 1995-10-02 | ||
| JP7-255183 | 1995-10-02 | ||
| JP12363896A JP3358935B2 (ja) | 1995-10-02 | 1996-05-17 | 液晶表示素子およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09160052A JPH09160052A (ja) | 1997-06-20 |
| JP3358935B2 true JP3358935B2 (ja) | 2002-12-24 |
Family
ID=26460514
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12363896A Expired - Lifetime JP3358935B2 (ja) | 1995-10-02 | 1996-05-17 | 液晶表示素子およびその製造方法 |
Country Status (2)
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|---|---|
| US (1) | US5956112A (ja) |
| JP (1) | JP3358935B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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