JP3085434B2

JP3085434B2 - 液晶表示装置およびその製造方法

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Publication number: JP3085434B2
Application number: JP05170600A
Authority: JP
Inventors: 孝一藤森; 時彦四宮
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1993-07-09
Filing date: 1993-07-09
Publication date: 2000-09-11
Anticipated expiration: 2015-09-11
Also published as: JPH0728071A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示、装置および
その製造方法に関する。詳しくは、単純マトリックスま
たはアクティブマトリックス方式による液晶表示パネル
に関するもので、とくにパネル内部構造、またその製造
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在の液晶表示素子つまりＴＮ、ＳＴ
Ｎ、ＦＬＣモードなどの製造方法は、２枚の相対する基
板に電極とラビングなどの配向処理を設け、その基板の
電極側にスペーサーを散布しシール材を用いて基板をは
りあわせ、その基板の間隙に液晶材料を注入するという
ものである。

【０００３】最近、外部衝撃に対し強い液晶パネルが求
められつつある。この問題は従来はカイラルスメクティ
ックＣ（Ｓｍ＊Ｃ）相という結晶構造に近い層構造を示
す強誘電性液晶を用いた表示モードの場合に、特に問題
となっていたが、最近市場にでまわっているＴＮ、ＳＴ
Ｎモードの液晶パネルにおいて問題となってきた。簡単
に考えられる対応技術としては、ガラス基板を厚くす
る、パネル表面に保護様の透明板を設置するなどがある
が、これでは非常に重くなり使い勝手が悪くなる。

【０００４】よってパネル内部に何らかの対策を行って
パネルの剛性を向上させようとする技術が提案されてい
る。例えば特開昭６２−１７４７２６号公報にスペーサ
ーにセル厚制御用のスペーサーと接着性スペーサーの混
合物を用いた方法が開示されている。しかし本方法では
接着に供されるスペーサーの分散性が悪いとスペーサー
の塊ができたり、絵素部にもスペーサーが存在するため
配向に微妙な影響をもたらしコントラストの低下につな
がる上に、耐衝撃性においても十分な信頼性が得られて
いない。また特開昭５９−２０１０２１号公報にはセル
内にセル厚制御用スペーサーを用いず樹脂の柱状構造を
設け、その樹脂によってセル厚を制御し、さらにこの樹
脂をラビングして配向膜として用いる方法が開示されて
いる。しかし、本方法では均一な配向性を得ようとする
目的のため、強誘電性液晶の耐衝撃性対策としてはセル
厚制御用スペーサーが混入されず、そのため耐久性が低
い上に、セル厚制御用の樹脂をラビングするため均一な
セル厚を得ることは難しい。また特開昭５６−９９３８
４号公報には電極以外の領域に絶縁性の柱状物質を配置
しスペーサーの代替として用いているが、スペーサーの
機能は果たすことができるが、柱状構造のため耐衝撃性
の信頼性において満足できるものではない。

【０００５】またパネル外部に何らかの支持部材を設
け、その支持部材によって衝撃を吸収するという技術が
提案されている。例えば、特開平２−９３４２５号公報
には基板を剛体と衝撃吸収体の間に挟む技術が、また特
開平２−２６４２２２〜２６４２２３号公報には、基板
に可撓性のある導電ゴムを支持体として設置することが
提案されているが、パネル外部に上記のようなものを設
けると、製品が重くなったり、パネルが太くなったり使
い勝手が悪くなる欠点がある。

【０００６】また上記のように壁構造を有する液晶パネ
ルにおいては、新たに注入方法が問題になってくる。例
えば強誘電性液晶を用いたＳＳＦモードは、基板の間隙
が１．０μｍ〜２．０μｍと他の表示モードに比べて非
常に薄いため、非常に長い注入時間を要する。この問題
を解決するため基板に溝または段差を設ける技術が提案
されている。例えば特開昭６２−１５０３２２号公報に
表示部の外周部に段差または溝を設け注入時間の短縮を
図っている。また特開平１−２２３４１５号公報には電
極ラインの間隙部（非絵素部）に溝を形成し注入時間の
短縮を行っている。両公報とも溝の深さは２〜５μｍで
あるが、溝形成時にパーティクルが発生する可能性があ
り、工程上長くなることも欠点である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】このように、従来の液
晶非素子においては、液晶自体の衝撃に対する弱さ、特
に強誘電性液晶については耐衝撃性に非常に弱いため、
何らかの対策を施さなければならない。またシール材付
近の配向の乱れを防がなければならないと同時にプロセ
スの簡略化を図る必要がある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、表面に
それぞれ線状の複数の電極を有する一対の基板が対向配
置され、これら電極上に配向膜が形成されて一軸配向処
理され、前記基板周辺部にはシール材部と注入口とが設
けられて、前記基板上に絵素領域がマトリクス状に配列
されてなる液晶表示装置において、前記一方の基板上に
おける絵素領域以外の領域に、樹脂壁が、フォトレジス
トによって、複数の注入孔を有して、線状にかつ電極に
平行に設けられ、前記シール材部が、内壁と外壁との間
に空気層が形成される二重構造によって設けられてなる
液晶表示装置が提供される。また、本発明によれば、上
記液晶表示装置の製造方法において、前記一方の基板上
における絵素領域以外の領域に、フォトレジストによっ
て、複数の注入孔を有して、線状にかつ電極に平行に樹
脂壁を設け、前記基板周辺部に、内壁と外壁との間に空
気層が形成される二重構造のシール材部を設けることか
らなる液晶表示装置の製造方法が提供される。

【０００９】この発明の基板としては透光性の絶縁性基
板が用いられ、通常ガラス基板が使れる。一方の絶縁性
基板にＩｎＯ₃，ＳｎＯ₂，ＩＴＯ(Indium Tin Oxide)な
どの導電性薄膜からなり、４〜１６本／ｍｍ巾、好まし
くは数本／ｍｍ巾の線状の略平行な複数の透明電極から
なる電極層が通常のスパッタリングーエッチングの方法
で形成され、例えば走査電極とされる。他方の絶縁性基
板にも同じ導電性薄膜からなり、同様巾の線状の略平行
な複数の透明電極からなる電極層が同様方法で形成さ
れ、例えば、信号電極とされる。この時、両線状電極は
相互に直交するように配置され、これら走査電極と信号
電極の交点が絵素領域とされる。

【００１０】これら両電極上に、任意に絶縁性膜が形成
される。この絶縁性膜は例えば、ＳｉＯ_2,ＳｉＮｘ，Ａ
ｌ₂Ｏ₃などの無機系薄膜、ポリイミド、フォトレジスト
樹脂、高分子液晶などの有機系薄膜などを用いることが
できる。絶縁性膜が無機系薄膜の場合には蒸着法、スパ
ッタ法、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition)法、ある
いは溶液塗布法などによって形成できる。また、絶縁性
膜が有機系薄膜の場合には有機物質を溶かした溶液また
はその前駆体溶液を用いて、スピンナー塗布法、浸せき
塗布法、スクリーン印刷法、ロール塗布法、などで塗布
され、所定の硬化条件（加熱、光照射など）で硬化させ
形成する方法、あるいは蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法
などで形成したり、ＬＢ（Langumuir-Blodgett）法など
で形成させることもできる。

【００１１】任意に形成された絶縁性膜または電極の上
には配向膜が形成される。配向膜には無機系の層を用い
る場合と有機系の層を用いる場合とがある。無機系の配
向膜を用いる場合、よく用いられる方法としては酸化ケ
イ素の斜め蒸着がある。また、回転蒸着などの方法を用
いることもできる。有機系の配向膜を用いる場合、ナイ
ロン、ポリビニルアルコール、ポリイミド等を用いるこ
とができ、通常この上をラビングする。また、高分子液
晶、ＬＢ膜を用いて配向させたり、磁場による配向、ス
ペーサーエッジ法による配向なども可能である。また、
ＳｉＯ_2,ＳｉＮｘなどを蒸着し、その上をラビングする
方法も可能である。

【００１２】本発明の一軸配向処理法としては、ラビン
グ法、斜方蒸着法などがあるが、大画面の液晶表示装置
の量産化の場合にはラビング法が有利である。ラビング
法の場合、配向膜を形成した後、ラビング処理を施すわ
けであるが、パラレルラビング法（一対の基板の両方に
ラビング処理を施しラビング方向が同一になるように貼
り合わせる方法）、アンチパラレルラビング法（一対の
基板の両方にラビング処理を施しラビング方向が逆にな
るように貼り合わせる方法）、片ラビング法（一対の基
板の片方にのみラビング処理を施す方法）がある。本発
明の液晶表示装置の場合、いずれの配向法も用いること
ができる。

【００１３】ついで、走査電極または信号電極のどちら
か一方の電極層の上で電極以外の部分に、線状で注入孔
を有しスペーサーが含有されている樹脂壁が電極に平行
に設けられる。樹脂壁の高さは、基板間の距離とほぼ同
じであり、強誘電性液晶組成物の場合は１．０〜２．０
μｍ、ツイステッドネマチック液晶の場合は３．５〜
５．０μｍであり、巾は電極に重ならない程度に広い方
が好ましい。その数は、前記電極の各間隔毎に設けられ
るのが好ましく、４〜１６本／ｍｍ巾、好ましくは数本
／ｍｍ巾程度である。樹脂壁には、液晶組成物の電極部
への注入を促進するため、数個の注入孔を設けてもよ
い。樹脂壁の材質は、ポリイミド、ポリエステル、ポリ
塩化ビニル、セルローズ樹脂、メラミン樹脂、アクリル
樹脂、環化ゴム、紫外線硬化型のポリアミド、ウレタン
ーアクリロニトリル樹脂や、熱硬化型のエポキシ系樹脂
などがあり、例えば感光性ポリアミドの（ＰＡ−１０
０、宇部興産（株）製）、ポジ型フォトレジストの（Ｏ
ＦＰＲ−８００）およびネガ型フォトレジストのＯＭＲ
−８３（いずれも東京応用理化社製）などが挙げられ
る。

【００１４】樹脂壁中には、真球状や断面が円形で長手
方向に長径を有する糸球状および糸状のスペーサーが含
有される。スペーサーは間隙保持用スペーサーおよび任
意に基板保持用スペーサーである接着スペーサーからな
る。間隙保持用スペーサーの材質はシリカ、ガラスビー
ズまたはアルミナなどが挙げられる。基板保持用スペー
サーは樹脂壁と基板を相互に接着させるものである。上
記の樹脂壁の材質は熱硬化型樹脂や光硬化型樹脂等であ
るため、基板のガラス等との接着性が十分でない場合が
あり、この接着性を向上させるため、基板材料と良好な
接着性を有する基板保持用スペーサーを樹脂壁中に混入
する。混入された基板保持用スペーサーは、少なくとも
一端が基板と接触して接着する。基板保持用スペーサー
の材質は、基板材料と接着するものであればよく特に限
定されないが、アミノシランなどシラン化合物が好まし
く、例へば、トレパール（東レ社製）等が挙げられる。
基板保持用スペーサーの量は、スペーサー全体量に対
し、０〜５０重量％が適当である。スペーサーの大きさ
は、適用される液晶組成物の種類によって異なるが、断
面直径は強誘電性液晶組成物の場合０．８〜２．０μ
ｍ、ツイステッドネマチック液晶の場合２．８〜５．０
μｍが好ましい。形状が糸球状や糸状の場合、長径は断
面直径の１〜１０倍程度が好ましい。

【００１５】樹脂壁の高さは、スペーサーの断面直径と
同等もしくはやや大であることが好ましく、スペーサー
の平均粒径の１００〜１４５％であることが好ましい。
樹脂壁の高さが、スペーサーの平均粒子径の１００％以
下であると基板と樹脂壁の密着が不十分となり、１４５
％以上となるとスペーサーの効果が十分発揮されない。
樹脂壁へのスペーサーの含有量は、樹脂分３０ｃｃにつ
き０．０１〜０．１ｇの範囲であり、約０．０３ｇが好
ましい。

【００１６】上記スペーサーは、樹脂中に超音波攪拌法
等により均一に混合され、スペーサー含有樹脂壁とされ
る。このスペーサー含有樹脂壁が配向膜の上に、スピン
コータ法、印刷法などで形成された後、フォトマスクを
介して露光し、現像することで、樹脂壁が作成される。
本発明で使用し得る液晶は、常温附近で液晶状態を示す
有機物混合体であり、ネマチック液晶（２周波駆動用液
晶、Δε＜０の液晶を含む）、コレステリック液晶、ス
メクチック液晶、強誘電性液晶、デスコチック液晶等で
ある。具体的には、ネマチック液晶ではZLI-4801-000,Z
LI-4801-001,ZLI-4792(いずれもメルク社製)、強誘電性
液晶ではZLI-4237-000,ZLI-4003(いずれもメルク社製)
などが好ましいが、これらに限定されない。

【００１７】さらに、これら液晶化合物を適宜混合して
用いてもよい。また液晶化合物以外の化合物を適宜混合
してもよい。この化合物は必ずしも液晶相を示す必要は
なく、（ａ）作製する組成物の液晶相の温度範囲を調整
するための化合物、（ｂ）強誘電性液晶相において大き
な自発分極を示すか、または誘起する光学活性化合物、
（ｃ）作製する組成物の液晶相のらせんピッチを調整す
るための光学活性化合物などが挙げられる。

【００１８】液晶が真空注入法等で注入されて基板間に
介在された後、注入口を封止して液晶セルとする。シー
ル材部の高さは、基板間の距離とほぼ同じで、強誘電性
液晶組成物の場合は１．０〜２．０μｍ、ツイステッド
ネマチック液晶の場合は３．５〜５．０μｍであり、長
さは液晶パネルの大きさにも依るが約１〜５ｃｍであ
る。シール材部の材質は、前記樹脂壁の材質と同じもの
であることが好ましく、ポリイミド、ポリエステル、ポ
リ塩化ビニル、セルローズ樹脂、メラミン樹脂、アクリ
ル樹脂、環化ゴム、紫外線硬化型のポリアミド、ウレタ
ンーアクリロニトリル樹脂や、熱硬化型のエポキシ系樹
脂などがあり、例えば感光性ポリアミドの（ＰＡ−１０
０）、ポジ型フォトレジストの（ＯＦＰＲ−８００）お
よびネガ型フォトレジストのＯＭＲ−８３（いずれも東
京応用理化社製）などが挙げられる。さらに、シール材
部にも前記樹脂壁と同様にスペーサーが含有されている
ことが好ましく、その条件も同等である。

【００１９】シール材部は１重壁の構造の場合と、外壁
および内壁よりなる２重壁の構造の場合とがある。２重
壁の構造においてもシール材部の大きさや材質は１重壁
の場合と同じでよい。２重壁の構造にした場合、壁間を
０．５〜２．０ｃｍ空けることにより、その間に空気層
が形成される。この空気層が封止によりとじ込められ、
液晶パネル中に存在し、液晶パネルが変形を受けると、
一種の緩衝作用をし良好な結果をもたらす。

【００２０】さらに任意に、この液晶セルの上下に偏光
軸をほぼ直交させた偏光板を配置させ、偏光板の一方の
偏光軸をセルの液晶のどちらか一方の光軸にほぼ一致さ
せて液晶表示装置とした。また樹脂壁が、偏光板が直交
ニコルのとき、絵素領域でない部分の遮光層となり好ま
しい。

【００２１】

【作用】本発明の液晶表示素子においては、セル内にス
トライプ状の樹脂の壁を設けている。この壁によってセ
ル厚を均一に制御し、パネルの耐衝撃性の向上のための
緩衝材としての機能をもたせ、またシール材部の内壁は
液晶材料と接触しているがフォトリソグラフィの技術に
より従来のシール材の凹凸によって発生していた配向の
乱れを防止できる。次に本発明を実施例に基づいて説明
する。

【００２２】

【実施例】

実施例１２枚の基板上にウエットエッチング法によりＩＴＯ（酸
化インジウム及び酸化スズの混合物）からなる直線上電
極を形成する。本実施例においては基板としてはフリン
トガラス（日本板ガラス（株）厚さ１．１mm，３００mm
角）を使用し、直線上電極は、厚さ２０００オングスト
ローム、幅１００μｍ、電極間隔２５μｍ、電極数２０
００＊２０００に形成する。次に直線状電極が形成され
た基板上に絶縁膜としてＯＣＤ Type II （東京応化）
を形成後、ポリイミド（PSI-A-2101-S02, チッソ
（株））を塗布し、熱処理を行うことにより配向膜を形
成した後、一方向にナイロン布を用いてラビング処理を
行った。次いで一方の基板上に間僚保持用スペーサー
（１．５μｍ，真絲球、触媒化成（株）と接着性スペー
サー（トレパール（東レ製））と感光性ポリアミド（Ｐ
Ａ−１００、宇部興産（株））の均一混合物をスピンコ
ート法により塗布し露光、現像工程を経て基板の電極間
上に電極の長手方向と平行にと表示部周辺部、詳しくは
図１、２、３のようにパターニングして、樹脂の壁を形
成した。その後、ラビング方向が一致するよう、且つ電
極が直交するようにはりあわせ、約２００°で１．５時
間焼成し、セルを固定し形成した。このとき壁は上下の
配向膜に密着した状態にあった。

【００２３】次いで強誘電性液晶材料（ZLI-4237-000
（メルク（株））を等方性液体状態で真空注入法により
注入した。このときセル内に気泡が残ることもなく、注
入時間は、比較例１の場合と比べても、ほとんど差はな
く多少長くなる程度であった。またシール材部での配向
の乱れは皆無であり、表示部全面で均一で良好な配向状
態が得られた。

【００２４】上述のようにして得られた液晶パネルを用
いて耐衝撃性信頼試験を行った。圧力試験においては液
晶パネルに０．５mm／minの速度で５kgf/cm²の圧力を荷
重することにより、また落下試験においては液晶パネル
を５cmの高さから床面に自然落下させることにより液晶
パネルの配向の乱れ具合を調べたところ、上記２種類の
試験とも液晶の配向の乱れは皆無であった。また衝撃に
よって基板がはがれることもなかった。この液晶パネル
は、液晶の耐衝撃性もよく、配向の均一化もできること
が分かった。

【００２５】実施例２実施例１と同様に基板上に電極を
形成した後、まず一方の基板の電極側に実施例１と同様
のストライプ状の壁を電極の長手方向に形成した。次に
実施例１と同様に直線状電極が形成された基板上にポリ
イミド（PSI-A-2101-S02，チッソ（株））を塗布し、熱
処理を行うことにより配向膜を形成した後、一方向にナ
イロン布を用いてラビング処理を行った。次いで一方の
基板上にスペーサー（４．３μｍ，プラスチックビー
ズ）と感光性ポリアミド（ＰＡ−１００、宇部興産
（株））の均一混合物をスピンコート法により塗布し露
光、現像工程を経て基板の電極間上に電極の長手方向と
平行に表示部周辺部に、詳しくは図１のようにパターニ
ングして樹脂の壁を形成した。その後、ラビング方向が
直交するよう、且つ電極が直交するよう、はりあわせ、
基板周辺部のシール材部を介して約２００℃の温度で約
１．５時間熱圧着し、セルを固定形成した。このとき壁
は上下の基板に密着した状態にあった。

【００２６】次いで、このセルにネマチック液晶材料
（ZLI-4801-000（メルク社製）を真空注入法により注入
した。このときセル内に気泡が残ることはなかった。ま
た内周シール材部付近の配向状態も良好であり表示部全
面で均一な配向を得ることができた。上述のようにして
得られた液晶パネルを用いて耐衝撃性信頼試験を行っ
た。パネルを５cmの高さから床面に自然落下させたが、
衝撃によって基板がはがれることがなかった。

【００２７】上述のようにして得られた液晶パネルに偏
向面が互いに直交するように偏向板をはりあわせてツイ
ストネマチック型液晶素子を作成した。このパネルを顕
微鏡で観察したところ、全く問題のない均一な配向が得
られた。

【００２８】実施例３２枚の基板上にウエットエッチング法によりＩＴＯ（酸
化インジウム及び酸化スズの混合物）からなる直線上電
極を形成する。本実施例においては基板としてはフリン
トガラス（日本板ガラス（株）厚さ１．１mm，４００mm
角）を使用し直線上電極は厚さ２０００＝、幅２００μ
ｍ、電極間隔２５μｍ、電極数２０００＊２０００に形
成する。次に直線状電極が形成された基板上にポリイミ
ド（PSI-A-2101-S02，チッソ（株））を塗布し、熱処理
を行うことにより配向膜を形成した後、一方向にナイロ
ン布を用いてラビング処理を行う。次いで一方の基板上
にシリカスペーサー（１．５μｍ，真絲球、触媒化成
（株））ネガ型フォトレジスト（ＯＭＲ−８３（東京応
化（株））の均一混合物をスピンコート法により塗布し
露光、現像工程を経て基板の電極間上に電極の長手方向
と平行にと表示部外周に、詳しくは図２、３のようにパ
ターニングして樹脂の壁を形成した。その後、ラビング
方向が一致するように、また電極が直交するように、シ
ール材を介してはりあわせ、約２００℃の温度で約１時
間圧着し、セルを固定形成する。このとき壁は上下の基
板に密着した状態にある。

【００２９】次いで強誘電性液晶材料（ZLI-4237-000
（メルク（株））を等方性液体状態で真空注入法により
注入する。このときセル内に気泡が残ることもなく、注
入時間は、比較例１の場合と比べても、多少差がある程
度でほとんど差はなかった。またシール材部付近での配
向の乱れは全くなく表示部全面で均一な配向が得られ
た。

【００３０】上述のようにして得られた液晶パネルを用
いて耐衝撃性信頼試験を行った。圧力試験においては液
晶パネルに０．５mm／minの速度で５kgf/cm²の圧力を荷
重することにより、また落下試験においては液晶パネル
を５cmの高さから床面に自然落下させることにより液晶
パネルの配向の乱れ具合を調べたところ、上記２種類の
試験とも液晶の配向の乱れは皆無であった。また、衝撃
によって基板がはがれることもなかった。この液晶パネ
ルは、液晶の耐衝撃性もよく、配向の均一化もできるこ
とが分かった。

【００３１】比較例１２枚の基板上にウエットエッチング法によりＩＴＯ（酸
化インジウム及び酸化スズの混合物）からなる直線上電
極を形成する。本実施例においては基板としてはフリン
トガラス（日本板ガラス（株）厚さ１．１mm，４０mm
角）を使用し直線上電極は厚さ２０００〓、、幅２００
μｍ、電極間隔２５μｍ、電極数２０００＊２０００に
形成する。次に直線状電極が形成された基板上にポリイ
ミド（PSI-A-2101-S02，チッソ（株））を塗布し、熱処
理を行うことにより配向膜を形成した後、一方向にナイ
ロン布を用いてラビング処理を行った。さらに一方の基
板に乾式散布法によりスペーサー（１．５μｍ，真絲
球、触媒化成（株））を散布した。次に２枚の基板のラ
ビング方向が平行、且つ電極の長手方向が直交するよう
にシール材を用いて貼り合わせる。さらに真空注入によ
り強誘電性液晶材料（ZLI-4237-000（メルク（株））を
等方性液体状態で真空注入法により注入した。するとシ
ール材付近で配向が乱れ、表示品位を下げるものとなっ
た。

【００３２】上記のように作成した液晶セルを用いて実
施例１と同様の耐衝撃性信頼性試験を行ったところ、圧
力試験では約０．５kgf/cm²で配向が乱れ始め、落下試
験においても１cmの高さからでも配向が乱れた。

【００３３】

【発明の効果】上記のように実施例と比較例を比べた場
合、ストライプ状の樹脂の壁による耐衝撃性の効果は非
常に大きく、詳しくは圧力試験においては約２０倍、落
下試験においては約１０倍の耐久性の向上が見られた。
この程度の耐久性が得られていれば強誘電性液晶の耐衝
撃性の問題は解決されたと言ってもよい。また、壁部と
シール材部の一部が同一材料であるので、プロセスの簡
略化ができ、また従来のようにシール材付近での配向の
乱れは全く見られず、均一な配向が得られた。また前記
壁部においては偏向板がクロスニコル状態で光の透過量
は肉眼でほぼ皆無であり、絵素間の遮光の役目は十分は
たすことができ、表示特性は非常に高いものとなった。
本発明によれば、樹脂壁がフォトレジストによって形成
されていることにより、基板として使用される樹脂材料
や配向膜材料に対して悪影響を与える加熱を行なう必要
がなく、樹脂壁形成のためのレジストの塗布、加工等を
簡便に行なうことができる。よって、熱に起因する配向
膜の劣化、基板として使用される樹脂基板の反り等を防
止することができるのみならず、プロセス中における配
向膜や基板の損傷をも防止することができ、ひいては高
品質の液晶表示装置を得ることができる。また、樹脂壁
が複数の注入孔を有していることにより、シール材部に
おける注入部から液晶を注入した場合でも、樹脂壁に平
行な方向の注入圧力のみならず、特に端部では、注入孔
による樹脂壁に垂直な注入圧力によっても液晶がスムー
ズに注入されることとなり、液晶注入時間をより短縮化
できるとともに、樹脂壁と電極との界面付近において
も、確実に液晶を注入することができる。さらに、液晶
層のシール材部を二重構造とし、この二重構造の内壁と
外壁との間に空気層を存在させることにより、空気層を
一種の緩衝層として機能させて、一層耐衝撃性を確実に
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】特許請求の範囲及び実施例１、２、３を説明す
るもので、液晶セルをラビング方向、つまり樹脂の壁の
長手方向から見た断面図である。

【図２】特許請求の範囲及び実施例１、２、３を説明す
るもので、ラビング方向と樹脂の壁の方向を説明するた
めの全体図である。

【図３】特許請求の範囲及び実施例１、２、３を説明す
るもので、液晶セルを上から見て、壁の位置、シール材
部の構造を示した全体図である。

【符号の説明】

１ガラス基板２電極３配向膜４シール材部５液晶６樹脂の壁７絵素領域

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02F 1/1339 505 G02F 1/1339 500

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】表面にそれぞれ線状の複数の電極を有す
る一対の基板が対向配置され、これら電極上に配向膜が
形成されて一軸配向処理され、前記基板周辺部にはシー
ル材部と注入口とが設けられて、前記基板上に絵素領域
がマトリクス状に配列されてなる液晶表示装置におい
て、前記一方の基板上における絵素領域以外の領域に、樹脂
壁が、フォトレジストによって、複数の注入孔を有し
て、線状にかつ電極に平行に設けられ、前記シール材部が、内壁と外壁との間に空気層が形成さ
れる二重構造によって設けられてなることを特徴とする
液晶表示装置。
【請求項２】シール材部の内壁が、樹脂壁と同一材質
である請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】樹脂壁が、スペーサーを含有する請求項
１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】樹脂壁が複数個あり、かつ電極の間に設
けられている請求項１〜３のいずれか１つに記載の液晶
表示装置。
【請求項５】シール材部の内壁および／または外壁
が、スペーサー含有してなる請求項１〜４のいずれか１
つに記載の液晶表示装置。
【請求項６】シール材部が、樹脂壁に含まれるスペー
サーと同一スペーサーを含有する請求項３または５に記
載の液晶表示装置。
【請求項７】スペーサーが間隙保持用スペーサーおよ
び任意に基板保持用スペーサーからなる請求項３、５お
よび６のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項８】樹脂壁が、スペーサーの平均粒径の１０
０〜１４５％の高さである請求項３および５〜７のいず
れか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項９】間隙保持用スペーサーがシリカ、ガラス
ビーズまたはアルミナからなる請求項７に記載の液晶表
示装置。
【請求項１０】樹脂壁が、偏光板が直交ニコルのと
き、絵素領域でない部分の遮光層となる請求項１〜９の
いずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項１１】透明基板と配向膜の間に、絶縁膜が設
けられている請求項１〜１０のいずれか１つに記載の液
晶表示装置。
【請求項１２】樹脂壁が、シール材部に接していない
構造である請求項１〜１１のいずれか１つに記載の液晶
表示装置。
【請求項１３】スペーサが、基板材料と良好な接着性
を有する請求項１〜１２のいずれか１つに記載の液晶表
示装置。
【請求項１４】表面にそれぞれ線状の複数の電極を有
する一対の基板が対向配置され、これら電極上に配向膜
が形成されて一軸配向処理され、前記基板周辺部にはシ
ール材部と注入口とが設けられて、前記基板上に絵素領
域がマトリクス状に配列されてなる液晶表示装置の製造
方法において、前記一方の基板上における絵素領域以外の領域に、フォ
トレジストによって、複数の注入孔を有して、線状にか
つ電極に平行に樹脂壁を設け、前記基板周辺部に、内壁と外壁との間に空気層が形成さ
れる二重構造のシール材部を設けることからなる液晶表
示装置の製造方法。