JP3297811B2 - 主鎖中にヘテロ原子を持つ安定化ポリマー - Google Patents
主鎖中にヘテロ原子を持つ安定化ポリマーInfo
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Description
換基を持つ2−ヒドロキシフェニル−s−トリアジンを
含有する、主鎖にヘテロ原子を持つ安定化ポリマーに関
する。
よびスイス国特許CH−B−480091号に見るよう
に、次式:
およびArはヒドロキシ基を持たない芳香族基を表
す。)で表される2−ヒドロキシフェニル−s−トリア
ジンの添加により、光、酸素および熱による損傷に対し
てポリマーを安定化することが知られている。これらの
化合物は紫外線吸収剤でありおよび写真材料(米国特許
US−A−3843371号)または塗料(米国特許U
S−A−4619956号)を安定化する目的のために
も提案されている。
が比較的容易に入手できるため、Arが2,4−ジメチ
ルフェニル基を表す特定のトリアジン誘導体が使用され
る。近年、これもまた容易に入手できる他のアリール基
を持つこのトリアジンを製造する合成法が開発されてき
た(ヨーロッパ特許EP−A−395938号)。
ヘテロ原子を含有する熱可塑性ポリマーにおいて、Ar
がフェニル基またはp−トリル基を表すこのようなトリ
アジンは特によい安定化作用を示し、Arが2,4−ジ
メチルフェニル基であるトリアジンに比較して明らかに
優れていることが見出された。
熱可塑性ポリマー、および b)安定剤として、少なくとも1種類の次式I:
キル基、ハロゲン原子もしくは炭素原子数1ないし12
のアルコキシ基で置換された炭素原子数2ないし6のア
ルキル基、またはベンジル基を表しならびにR’は水素
原子またはメチル基を表す。)で表されるヒドロキシフ
ェニルトリアジン化合物からなる、光、酸素および熱に
よる損傷に対して安定化されたポリマー組成物に関す
る。
リマーは特に酸素原子、硫黄原子および窒素原子を含有
するポリマーである。そのようなポリマーの例は以下に
示す熱可塑性ポリマーの種類である: 1. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよ
び、例えば、エチレンオキシドをコモノマーとして含む
ポリオキシメチレン;熱可塑性ポリウレタン、アクリレ
ートまたはMBSで変性させたポリアセタール。 2. ポリフェニレンオキシドおよびスルフィドならびに
それらとポリスチレンまたはポリアミドとの混合物。 3. ポリアミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド
4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、6/10、6/
9、6/12、4/6、ポリアミド11、ポリアミド1
2;m−キシレン、ジアミンおよびアジピン酸から開始
する芳香族ポリアミドのようなジアミンおよびジカルボ
ン酸および/またはアミノカルボン酸または相当するラ
クタムから誘導されたもの;ヘキサメチレンジアミンお
よびイソフタル酸および/またはテレフタル酸および所
望により変性剤としてのエラストマーから製造されるポ
リアミド、例えばポリ−2,4,4−トリメチルヘキサ
メチレンテレフタルアミドまたはポリ−m−フェニレン
イソフタルアミド。前記ポリアミドとポリオレフィン、
オレフィンコポリマー、アイオノマーまたは化学的に結
合もしくはグラフトしたエラストマーとのブロックコポ
リマー;またはこれらとポリエーテル、例えばポリエチ
レングリコール、ポリプロピレングリコールもしくはポ
リテトラメチレングリコールとのコポリマー。EPDM
またはABSで変性させたポリアミドまたはコポリアミ
ドならびに加工の間に縮合させたポリアミド(RIM−
ポリアミド系)。 4. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミドおよび
ポリベンズイミダゾール。 5. ポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1, 4−ジメ
チロール−シクロヘキサンテレフタレート、ポリヒドロ
キシベンゾエート並びにヒドロキシ末端基を持つポリエ
ーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル
のようなジカルボン酸およびジオールおよび/またはヒ
ドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導さ
れたもの;またポリカーボネートまたはMBSで変性さ
れたポリエステル。 6. ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネー
ト、特に芳香族ポリカーボネート、例えば2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパンまたは1,1−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサンを基材
としたこれらのもの。 7. ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエ
ーテルケトン、特にこれらの種類の芳香族ポリマー。 8. 前記したポリマーどうしあるいは他のポリマーとの
混合物(ポリブレンド)、例えばポリオレフィン、ポリ
アクリレート、ポリジエンまたは耐衝撃性改良剤の形態
の他のエラストマー。
ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリア
セタール、ポリフェニレンオキシドおよびポリフェニレ
ンスルフィドで提供されるが、特にポリカーボネートが
好ましい。これらの化合物は特に次式:
するこれらのポリマーの構造反復単位と理解されるべき
である。Aの例は特に米国特許US−A−496086
3号および独国特許DE−A−3922496号に提供
されている。Aを、例えば、用語の最も広い意味ではヒ
ドロキノン、レソルシノール、ジヒドロシビフェニレン
またはビフェノールから誘導することができ、それらは
例えばビス(ヒドロキシフェニル)アルカン、シクロア
ルカン、硫化物、エーテル、ケトン、スルホン、硫黄酸
化物、α,α’−ビス(ヒドロキシフェニル)ジイソプ
ロピルベンゼンであり〔化合物例は2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,
2−ビス(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジブロモ−4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)シクロヘキサンである。〕、あるい
は次式群:
いてよい。これらポリマーの成形は、例えばポリカーボ
ネートが220ないし330℃で注入成形されるように
比較的高温で行われる。このような温度では慣用の光安
定剤および抗酸化剤は不安定でありそして分解し始め
る。本発明による上述のトリアジン化合物は、しかし、
極めて高温耐性がありおよびそれゆえ該ポリマーの安定
化にとりわけ適当である。
ルキル基である場合、それは直鎖または分枝アルキル基
であってよく、そしてそれは例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、2−エチルブチル基、
ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニ
ル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基またはオ
クタデシル基であってよい。ハロゲン置換のまたは炭素
原子数1ないし12のアルコキシ基置換の、炭素原子数
2ないし6のアルキル基としてのRは、例えば2−クロ
ロエチル基、2−フルオロエチル基、2−メトキシエチ
ル基、2−エトキシエチル基、2−イソプロポキシエチ
ル基、2−メトシキプロピル基、3−ブトキシプロピル
基、2−ブトキシエチル基、2−ヘキシルオキシエチル
基、2−オクチルオキシエチル基または2−ドデシルオ
キシエチル基であってよい。
またはベンジル基、特に炭素原子数3ないし6のアルキ
ル基、非常に特別にはプロピル基が好ましい。
である。
ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェ
ニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル
−6−(2−ヒドロキシ−4−エトキシフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−
(2−ヒドロキシ−4−プロポキシフェニル)−1,
3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−
ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−ト
リアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ
−4−ヘキシルオキシフェニル)−1,3,5−トリア
ジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4
−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−
ドデシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、
2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ベン
ジルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,
4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−(2−ブ
トキシエトキシ)フェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ジ−p−トリル−6−(2−ヒドロキシ−
4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、
2,4−ジ−p−トリル−6−(2−ヒドロキシ−4−
プロポキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,
4−ジ−p−トリル−6−(2−ヒドロキシ−4−ブト
キシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジ
−p−トリル−6−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオ
キシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジ
−p−トリル−6−(2−ヒドロキシ−4−ペントキシ
フェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジ−p
−トリル−6−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシ
フェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジ−p
−トリル−6−(2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシ
フェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジ−p
−トリル−6−(2−ヒドロキシ−4−(2−ヘキシル
オキシエトキシ)フェニル)−1,3,5−トリアジ
ン。
は公知の化合物と類似に製造できる。それらは原則的に
は2,4−ジアリール−6−(2,4−ジヒドロキシフ
ェニル)−1,3,5−トリアジンに相当するものをエ
ーテル化することによって製造できる。エーテル化は、
2−位のOH基が水素橋かけ結合により立体障害性であ
るため、選択的に4−位で行われる。2,4−ジヒドロ
キシ−フェニルトリアジンの製造およびエーテル化は例
えばHelv.Chim.Acta55(1972),
1566−95;ヨーロッパ特許EP−A−39593
8号;米国特許US−A−3118887号;米国特許
US−A−3242175号または米国特許US−A−
3244708号に記述されている。
ーの量および安定化されたポリマーの意図する用途に依
存している。通常、本発明によるポリマー組成物はポリ
マー(成分a)100重量部に対して安定剤(成分b)
0.1ないし15、特に0.1ないし5重量部を含有し
ている。
上の式Iの化合物の混合物であってよい。式Iの安定剤
の他に、ポリマー組成物はまた例えば抗酸化剤、光安定
剤、金属不活性剤または加工安定剤のような他の公知の
安定剤を含有してもよい。以下に示す化合物はそれらの
例である。
−第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三ブチル
−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチ
ル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−イソブチルフェノール、2,6−ジ−シクロペンチ
ル−4−メチルフェノ−ル、2−(α−メチルシクロヘ
キシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオ
クタデシル−4−メチルフェノ−ル、2,4,6−トリ
シクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−メトキシメチルフェノール、2,6−ジノニル−4
−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−
メチル−ウンデカ−1′−イル)−フェノール、2,4
−ジメチル−6−(1′−メチル−ヘプタデカ−1′−
イル)−フェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−
メチル−トリデカ−1′−イル)−フェノールおよびそ
れらの混合物。
例えば2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−第三ブチ
ルフェノール、2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−
メチルフェノール、2,4−ジ−オクチルチオメチル−
6−エチルフェノール、2,6−ジ−ドデシルチオメチ
ル−4−ノニルフェノール。
ドロキノン、例えば2,6−ジ−第三ブチル−4−メト
キシフェノール、2,5−ジ−第三ブチル−ハイドロキ
ノン、2,5−ジ−第三−アミル−ハイドロキノン、
2,6−ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノー
ル、2,6−ジ−第三ブチル−ハイドロノン、2,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、ステアリ
ン酸3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル、アジピン酸ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)。
ーテル、例えば2,2′−チオビス(6−第三ブチル−
4−メチルフェノール)、2,2′−チオビス(4−オ
クチルフェノール)、4,4′−チオビス(6−第三ブ
チル−3−メチルフェノール)、4,4′−チオビス
(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、4,4′
−チオ−ビス(3,6−ジ−第二−アミルフェノー
ル)、4,4′−ビス(2,6−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−ジスルフィド。
えば2,2′−メチレン−ビス(6−第三ブチル−4−
メチルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス(6−
第三ブチル−4−エチルフェノール)、2,2′−メチ
レン−ビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキ
シル)フェノール]、2,2′−メチレン−ビス(4−
メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2′−
メチレン−ビス(6−ノニル−4−メチルフェノー
ル)、2,2′−メチレン−ビス(4,6−ジ−第三ブ
チルフェノール)、2,2′−エチリデン−ビス(4,
6−ジ−第三ブチルフェノール)、2,2′−エチリデ
ン−ビス(6−第三ブチル−4−イソブチルフェノー
ル)、2,2′−メチレン−ビス [6−(α−メチルベ
ンジル)−4−ノニルフェノール] 、2,2′−メチレ
ン−ビス[6−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ノ
ニルフェノール] 、4,4′−メチレン−ビス(2,6
−ジ−第三ブチルフェノール)、4,4′−メチレン−
ビス(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、1,
1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチ
ルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−第三ブチル−
5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフ
ェノール、1,1,3−トリス(5−第三ブチル−4−
ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビ
ス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェ
ニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス[3,3−ビス(3′−第三ブチル−
4′−ヒドロキシフェニル)ブチレート] 、ビス(3−
第三ブチル−4ーヒドロキシ−5−メチルフェニル)ジ
シクロペンタジエン、テレフタル酸ビス[2−(3′−
第三ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メチルベンジ
ル)−6−第三ブチル−4−メチルフェニル]、1,1
−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニル)
ブタン、2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(5−第
三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−4
−n−ドデシルメルカプトブタン、1,1,5,5−テ
トラ−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチル
フェニル)ペンタン。
化合物、例えば3,5,3′,5′−テトラ−第三ブチ
ル−4,4′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジル
−メルカプトアセテート、トリス−(3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−アミン、ビス(4
−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベン
ジル)−ジチオテレフタレート、ビス(3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−スルフィド、イ
ソオクチル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル−メルカプトアセテート。
類、例えばジオクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ
−第三ブチル−2−ヒドロキシベンジル)−マロネー
ト、ジ−オクタデシル−2−(3−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−5−メチルベンジル)−マロネート、ジ−ド
デシルメルカプトエチル−2,2−ビス(3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−マロネート、
ジ−[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−
フェニル]−2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)−マロネート。
物、例えば、1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメ
チルベンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ−第三ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラ
メチルベンゼン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−フェノール。
2,4−ビス−オクチルメルカプト−6−(3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5
−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス
(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)
−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−
4,6−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4,6
−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェノキシ)−1,3,5−トリアジン、1,3,5−ト
リス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)−イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第
三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル)−イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−
1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)−ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、1,
3,5−トリス(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒド
ロキシベンジル)−イソシアヌレート。
ばジメチル−2,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル−3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジルホスホン酸モノエチルエステルのCa
塩。
えばラウリン酸4−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸
4−ヒドロキシアニリド、カルバミン酸N−(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)オクチルエ
ステル。
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノ
ール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサ
ンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコ
ール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,
N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3
−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、ト
リメチルヘンサンジオール、トリメチロールプロパン、
4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−ト
リオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メ
タノール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘ
キサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレング
リコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、
N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミ
ド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘンサンジオール、トリメチロールプロ
パン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,
7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
キシル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキ
サンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリ
コール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、
N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミ
ド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘンサンジオール、トリメチロールプロ
パン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,
7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒ
ドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウンデカ
ノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘンサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシ
メチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシク
ロ[2.2.2]オクタン。
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミド、
例えばN,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジア
ミン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミ
ン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
リアゾール 、例えば、2′−ヒドロキシフェニル−2H
−ベンズトリアゾール(2)の5′−メチル−、3′,
5′−ジ−第三ブチル−、5′−第三ブチル−、5′−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル) −、5−クロ
ロ−3′,5′−ジ−第三ブチル−、5−クロロ−3′
−第三ブチル−5′−メチル−、3′−第二ブチル−
5′−第三ブチル、4′−オクトキシ−、3′,5′−
ジ−第三アミル−、3′,5′−ビス(α,α−ジメチ
ルベンジル)−誘導体、5−クロロ−3′−第三ブチル
−5′−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)−お
よび5−クロロ−3′−第三ブチル−5′−[2−(2
−エチルヘキシルオキシ)−カルボニルエチル]−誘導
体の混合物、5−クロロ−3′−第三ブチル−5′−
(2−メトキシカルボニルエチル)−、3′−第三ブチ
ル−5′−(2−メトキシカルボニルエチル)−、3′
−第三ブチル−5′−(2−オクチルオキシカルボニル
エチル)−、3′−第三ブチル−5′−[2−(2−エ
チルヘキシルオキシ)−カルボニルエチル]−、3′−
ドデシル−5′−メチル−および3′−第三ブチル−
5′−(2′−イソオクチルオキシカルボニルエチル)
−誘導体;2,2′−メチレン−ビス[4−(1,1,
3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンズトリアゾー
ル−2−イル−フェノール];2−[3′−第三ブチル
−5′−(2−メトキシカルボニルエチル)−2′−ヒ
ドロキシ−フェニル]−2H−ベンズトリアゾールとポ
リエチレングリコール300とのエステル交換生成物;
[R−CH2 CH2 −COO(CH2 )3 −]2 −(式
中,R=3′−第三ブチル−4′−ヒドロキシ−5′−
2H−べンゾトリアゾール−2−イル−フェニルであ
る。)。
ン、例えば4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オ
クトキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ
−、4−ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒド
ロキシ−または2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキ
シ誘導体。
酸のエステル、例えば4−第三ブチルフェニル=サリチ
レート、フェニル=サリチレート、オクチルフェニル=
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4
−第三ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、2,4−ジ−第三ブチルフェニル=
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエー
ト、およびヘキサデシル=3,5−ジ−第三ブチル−4
−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル=3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−メチ
ル−4,6−ジ第三ブチルフェニル=3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
ノ−β, β−ジフェニル−アクリル酸エチルエステル、
α−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリル酸イソオク
チルエステル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエス
テル、α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−桂皮酸
メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−p−メトキ
シ−桂皮酸ブチルエステル、α−カルボメトキシ−p−
メトキシ桂皮酸メチルエステル、およびN−(β−カル
ボメトキシ−β−シアノビニル) −2−メチルインドリ
ン。
2′−チオビス−[4−(1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル) −フェノール]のニッケル錯体,例えば1:
1または1:2錯体であって,所望によりn−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の,ニッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロ
キシ−3,5−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩,ケトキシム例えば,2−ヒドロキシ−4
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体,1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって,所望により他の配位
子を伴うもの。
シン酸ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ル),コハク酸ビス(2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジル),セバシン酸ビス(1,2,2,6,6−ペ
ンタメチルピペリジル),n−ブチル−3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロン酸ビス(1,
2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)エステル、
1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮
合生成物,N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−
第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−
s−トリアジンとの縮合生成物,トリス(2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセ
テート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカル
ボキシレート、1,1′−(1,2−エタンジイル)−
ビス(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン),
4−ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタ
メチルピペリジル)−2−n−ブチル−2−(2−ヒド
ロキシ−3,5−ジ−第三ブチル−ベンジル)マロネー
ト、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル
−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,
4−ジオン、セバシン酸ビス(1−オクチルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジル),コハク酸
ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジル),N,N’−ビス(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサメチレンジア
ミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5
−トリアジンとの縮合生成物,2−クロロ−4,6−ジ
(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビ
ス(3−アミノプロピルアミノ)エタンの縮合生成物,
2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−1,
2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,3,
5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピルア
ミノ)エタンとの縮合生成物,8−アセチル−3−ドデ
シル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−ト
リアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、3−
ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、3−ドデシ
ル−1−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピ
ペリジル)−ピロリジン−2,5−ジオン。
4′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、2,2′−ジ
−オクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオキサニ
リド、2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−
第三ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2′−エチル
オキサニリド、N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプ
ロピル)オキサミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−
2′−エチルオキサニリドおよび該化合物と2−エトキ
シ−2′−エチル−5,4′−ジ−第三ブチル−オキサ
ニリドとの混合物,o−とp−メトキシ−二置換オキサ
ニリドの混合物およびo−とp−エトキシ−二置換オキ
サニリドの混合物。
ニル)−1,3,5−トリアジン、例ば2,4,6−ト
リス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)
−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4
−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−
ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−
(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキ
シフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(4−メチル
フェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒド
ロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン。2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3
−ブチルオキシ−プロピルオキシ)フェニル]−4,6
−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジ
ン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3
−オクチルオキシ−プロピルオキシ)フェニル]−4,
6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−
トリアジン。
ジフェニルシュウ酸ジアミド、N−サリチラル−N′−
サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビス(サリチロイ
ル)ヒドラジン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジ
ン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾー
ル、ビス(ベンジリデン)シュウ酸ヒドラジド、オキサ
ニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビス
−フェニルヒドラジド、N,N’−ジアセタール−アジ
ピン酸ジヒドラジド、N,N’−ビス−サリチロイル−
シュウ酸ジヒドラジド、N,N’−ビス−サリチロイル
−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス(2,
4−ジ−第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,
4−ジ−第三ブチルフェニル)−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス−イソデシル−ペンタエリトリト
ールジホスフィット、ビス(2,6−ジ−第三ブチル−
4−メチルフェニル)−ペンタエリトリトールジホスフ
ィット、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトー
ルジホスフィット、ビス(2,4−ジ−第三ブチル−6
−メチルフェニル)−ペンタエリトリトールジホスフィ
ット ビス(2,4,6−トリ−第三ブチル−ブチルフェニ
ル)−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステ
アリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)4,4′−ビフェ
ニレンジホスホナイト、6−イソオクチルオキシ−2,
4,8,10−テトラ−第三ブチル−12H−ジベンズ
[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン、6−フ
ルオロ−2,4,8,10−テトラ−第三ブチル−12
−メチル−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサ
ホスホシン。
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、2−メルカプトベンズイミ
ダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、
ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテ
トラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオネート。
および/またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ca塩、ステアリン酸Zn塩、ベヘン酸Mg塩、ステ
アリン酸Mg塩、リシノール酸Na塩およびパルミチン
酸K塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫
塩。
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タル
ク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および
水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。
剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防止剤および
発泡剤。
リマーへの添加は、例えば、粉末組成物の混合によって
またはポリマーの溶融または溶液への安定剤の添加によ
って、成形前に行われるのが都合がよい。
合物の少なくとも1種を安定剤として添加することから
なる、光、酸素および熱による損傷に対する主鎖中にヘ
テロ原子を含む熱可塑性ポリマーの安定化の方法、およ
び光、酸素および熱による損傷に対する主鎖中にヘテロ
原子を含む熱可塑性ポリマーの安定化のための式Iの化
合物の使用方法に関する。
形、紡糸、押出または射出成形のような慣用の方法で、
例えば、繊維、フィルム、スモールストリップ(small
strip)、シート、プロファイル板材、容器、パイプおよ
び他の形材のような成形品に変換することができる。
マー組成物の成形品製造のための使用方法にも関する。
物の使用方法もまた重要である。その場合、式Iの安定
剤の比較的高い量、例えば5ないし15重量%を持つ本
発明のポリマー組成物は式Iの極少量の安定剤を含有す
るポリマーから作られた成形品に薄層(10ないし10
0μm)で用いられる。例えばいわゆる同時押出によ
り、層を基材製品の成形と同時に行うことができる。層
は、しかし、例えばフィルムを用いた積層または溶液を
用いたコーティングによって既成形基礎製品 (ready-sh
aped basic article) にも適用できる。外層または完成
品の被膜は、製品の内部を紫外線に対して保護する紫外
線フィルターとして作用する。外層は好ましくは少なく
とも1種の式Iの安定剤、5ないし15重量%、とくに
5ないし10重量%を含有する。
定剤をほとんどまたは全く含まないでよいポリマーから
製造された成形品からなるが、前記成形品上に外層とし
て本発明のポリマー組成物が10ないし100μmの厚
さで塗被されている多層系製品に関する。
成分(a)がポリカーボネートである本発明によるポリ
マー組成物の使用方法である。
性および特に紫外線に対する高程度の抵抗性で特徴づけ
られる。それゆえこれらは屋外での使用においても、そ
の機械的性質ならびにその色彩および光沢を長期間にわ
たり保持する。
となく、本発明を詳細に説明するために提示する。実施
例中、部および%は重量に基づき、室温は20ないし2
5℃の温度を指す。以下に続く紫外線吸収剤が使用され
る:Ph−1 2,4−ジフェニル−6−(2−ヒド
ロキシ−4−プロポキシフェニル)−1,3,5−トリ
アジン;Ph−2 2,4−ジフェニル−6−(2−
ヒドロキシ−4−ベンジルオキシフェニル)−1,3,
5−トリアジン;Ph−3 2,4−ジフェニル−6
−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,
3,5−トリアジン;Ph−4 2,4−ジフェニル
−6−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン;Ph−5 2,4−
ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェ
ニル)−1,3,5−トリアジン;To−1 2,4
−ジ−p−トリル−6−(2−ヒドロキシ−4−プロポ
キシフェニル)−1,3,5−トリアジン;To−2
2,4−ジ−p−トリル−6−(2−ヒドロキシ−4
−ベンジルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン;To−3 2,4−ジ−p−トリル−6−(2−
ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−ト
リアジン;To−4 2,4−ジ−p−トリル−6−
(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−
1,3,5−トリアジン;To−5 2,4−ジ−p
−トリル−6−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン;Xy−1 2,4−
ジ(2,4−ジメチルフェニル)−6−(2−ヒドロキ
シ−4−プロポキシフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン (比較);Xy−2 2,4−ジ(2,4−ジメ
チルフェニル)−6−(2−ヒドロキシ−4−ベンジル
オキシフェニル)−1,3,5−トリアジン (比
較);Xy−3 2,4−ジ(2,4−ジメチルフェ
ニル)−6−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン (比較);Xy−4
2,4−ジ(2,4−ジメチルフェニル)−6−(2
−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−1,
3,5−トリアジン (比較);Xy−5 2,4−
ジ(2,4−ジメチルフェニル)−6−(2−ヒドロキ
シ−4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン
(比較)。
ポリカーボネート粉末〔登録商標 ;レクサン(Lexan)
115〕10gを塩化メチレン50gに数時間かけて溶
解する。1,2および5%の添加剤濃度に相当する、紫
外線吸収剤0.1g、0.2gまたは0.5gをそれに
加える。これらの溶液から20μm厚さのフィルムを流
延する。フィルムをブラックパネル温度63℃および相
対湿度60%において、アトラス社製ウエザロメーター
CI 65に曝露する。一定間隔における試料の変色を
黄色度指数(YI、ASTM D 1925法)で測定
することによって試験する。黄色度指数7に到達するま
でに要する曝露時間を表1に示した。フィルムは次にさ
らにそれらが脆化するまで曝露する;これはフィルムに
おける亀裂形成によって示される。フィルムが脆化する
までに要する曝露時間も表1に示す。表1 :黄色度指数(YI)=7に到達するまでおよびフィルムが脆化するまでに 要する時間(h)。 YI=7までの フィルムが脆化する 紫外線吸収剤 曝露時間(h) までの曝露時間(h) ─────────────────────────────────── 添加せず 990 1100 1% Xy−1 1700 3900 1% Ph−1 2200 4100 1% To−1 2100 4020 ─────────────────────────────────── 2% Xy−1 1800 4500 2% Ph−1 2300 7740 2% To−1 2100 6680 ─────────────────────────────────── 5% Xy−1 1900 6000 5% Ph−1 5700 10990 5% To−1 4000 10990 ───────────────────────────────────
って製造されたフィルムを140℃の空気循環炉でエー
ジングさせる。実施例1におけるのと同様、黄色度指数
7に到達するまでに要するエージング時間およびフィル
ムが脆化するまでに要する時間を測定する。表2に得ら
れた結果を示す。表2 :黄色度指数(YI)=7に到達するまでおよびフィルムが脆化するまでに 要するエージング時間(h)。 140℃において 140℃において YI=7に到達する フィルムが脆く 紫外線吸収剤 までの時間(h) なるまでの時間(h) ─────────────────────────────────── 1% Xy−1 500 2100 1% Ph−1 3250 3250 1% To−1 2440 2900 ─────────────────────────────────── 2% Xy−1 300 1500 2% Ph−1 3350 3500 2% To−1 1300 2350 ─────────────────────────────────── 5% Xy−1 120 700 5% Ph−1 2940 3000 5% To−1 1150 1700 ───────────────────────────────────
た紫外線吸収剤0.3%と混合し、内部温度275℃お
よび25rpmにおいて、2軸スクリュー押出機で加工
してグラニュールを形成する。グラニュールは射出成形
機(240/300℃/75bar)で加工して67×
43×2mmの寸法をとるシートを形成する。シートは
実施例1と同様にアトラス社製、ウエザロメーターCI
65に曝露される。表3は黄色度指数25(ASTM
D−1925に従って測定された黄色度指数)に到達
するまでに要する曝露時間を示す。表3 :黄色度指数(YI)=25に到達するまでの曝露時間(h)。 YI=25までの 紫外線吸収剤 曝露時間(h) ─────────────────────────────────── 添加せず 900 0.3% Xy−1 2700 0.3% Ph−1 3500 0.3% To−1 3100 ───────────────────────────────────
リカーボネートフィルムを製造し、実施例1に示された
方法に従い、曝露する。表4は黄色度指数7に到達する
までに要する曝露時間を示す。フィルムはそこで更にそ
れらが脆化するまで曝す。これに要する曝露時間を同様
に表4で示す。表4 :黄色度指数(YI)=7に到達するまでおよびフィルムが脆化するまでに 要する曝露時間(h)。 YI=7までの フィルムが脆化する 紫外線吸収剤 曝露時間(h) までの曝露時間(h) ─────────────────────────────────── 添加せず 990 1100 2% Ph−2 2480 8040 2% Ph−3 2560 5900 2% Ph−4 2560 5550 2% Ph−5 2690 7540 2% To−2 2270 5900 2% To−3 2400 5550 2% To−4 2375 5060 ─────────────────────────────────── 2% Xy−2 1850 3900 2% Xy−3 1860 3900 2% Xy−4 1950 3900 ───────────────────────────────────
って製造されたフィルムを130℃の空気循環炉でエー
ジングさせる。上述した実施例と同様、黄色度指数7に
到達するまでに要するエージング時間およびフィルムが
脆化するまでに要する時間を測定する。表5に得られた
結果を示す。表5 :黄色度指数(YI)=7に到達するまでおよびフィルムが脆化するまでに 要するエージング時間(h)。 YI=7までの フィルムが脆化する 紫外線吸収剤 時間(h) までの時間(h) ─────────────────────────────────── 2% Ph−2 1840 7000 2% Ph−3 5030 7000 2% Ph−4 4170 7000 2% Ph−5 5580 8000 2% To−2 2460 4720 2% To−3 2790 4720 2% To−4 2750 4720 ─────────────────────────────────── 2% Xy−2 750 3030 2% Xy−3 790 2530 2% Xy−4 820 3030 ───────────────────────────────────
リカーボネートフィルムを製造し、実施例1に示された
方法と同様に曝露する。一定間隔におけるフィルムの引
張強さを室温にて測定する〔試験速度(cross-speed):
20mm/分、DIN 53448/1に従ったダンベ
ル形試験片、サンプル幅10mm、サンプル厚み20μ
m〕。表6は元来の引張り強さのわずか50%に到達し
た後の曝露時間を示す。表6 : 50%引張強さまでの 紫外線吸収剤 曝露時間(h) ─────────────────────────────────── 添加せず 690 2 % Xy−1 1420 2 % Ph−1 1670 2 % To−1 1860 ───────────────────────────────────
粉末〔登録商標クラスティン S600(Crastin S60
0) 〕3kgをペンタエリトリトールテトラキス(3−
[3’,5’−ジ−第三ブチル−4’−ヒドロキシフェ
ニル]−プロピオネート)0.1重量%、トリス(2,
4−ジ−第三ブチルフェニル)ホスフィット0.4重量
%および表7に示した紫外線吸収剤0.5重量%とそれ
ぞれ乾燥状態で2分間、ヘンシェルミキサー(Henschel
mixer) で混合し、そして次にベルストルフ(Berstorf
f) 二軸スクリュー押出機で、100/分の速度でおよ
び230℃/240℃/250℃/250℃の温度設定
で加工してグラニュールを形成する。射出成形装置〔ア
ルブルグ L(Arburg L) 型、材料温度260℃、金型
温度70℃〕を使用して、67mm×43mmの寸法で
ありおよび1mmの厚さのシートを各々の混合物から作
る。30日間室温に貯蔵した後、シートをブラックパネ
ル温度63℃および相対湿度60%、102分乾燥/1
8分湿潤の雨周期に調節した、アトラス社製ウエザロメ
ーターCI 65に曝露する。一定間隔における試料の
変色を黄色度指数(YI、ASTM D 1925法)
を測定することによって試験する。黄色度指数における
ΔYI=10に増加がおこる曝露時間を表7に示した。表7 : ΔYI=10までの 紫外線吸収剤 曝露時間(h) ─────────────────────────────────── 0.5% Xy−1 1520 0.5% Ph−1 2850 0.5% To−1 3130 ───────────────────────────────────
ウルトラミドB3S,(Ultramid B3S)BASF社製〕を
表8に挙げた安定剤と乾燥状態で2分間ヘンシェルミキ
サーで混合し、そして次に速度95/分、温度設定23
0℃/235℃/240℃/240℃のベルストルフ二
軸スクリュー押出機で加工する。安定剤の量は使用され
たポリアミドの量を基準とした重量%で与えられる。2
mm厚シートを射出成形装置〔アルブルグ L型、材料
温度240℃、金型温度80℃〕を使用しておのおのの
混合物から製造する。シートをブラックパネル温度63
℃および相対湿度60%、102分乾燥/18分湿潤の
雨周期に調節した、アトラス社製ウエザロメーターCI
65に曝露する。シート上の亀裂が見えるのに要する
時間を測定する。測定結果を表8に示す。上述した本発
明による安定剤に加えて、以下の追加の安定剤が使用さ
れる: A N,N’−ビス(3−[3’,5’−ジ−第三ブチ
ル−4’−ヒドロキシフェニル]−プロピオニル)ヘキ
サメチレンジアミン、 B トリス(2,4−ジ−ブチルフェニル)ホスフィッ
ト、 C 融点120ないし150℃を持つN,N’−ビス
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘ
キサメチレン−ジアミンおよび4−第三−オクチルアミ
ノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−s−トリアジンの
縮合生成物。表8: 亀裂が現れるまでに要する時間(h) 安定剤 時間(h) ─────────────────────────────────── 添加せず 1050 0.2%A+0.2%B 2620 0.2%A+0.2%B+0.3%Xy−1 2950 0.2%A+0.2%B+0.3%To−1 3320 0.2%A+0.2%B+0.3%Ph−1 3930 0.2%A+0.2%B+0.3%Xy−1+0.3%C 5900 0.2%A+0.2%B+0.3%To−1+0.3%C 6200 0.2%A+0.2%B+0.3%Ph−1+0.3%C >6200 ───────────────────────────────────
ホスタフォームC(Hostaform C)〕をおのおのステアリ
ン酸カルシウム0.3重量%、次式:
線吸収剤0.3重量%と共に7分間、190℃および3
0rpmでブラベンダープラスチコーダー(Brabender
Plasticoder)内で混練する。材料を次に190℃で30
00psiの圧力下で圧縮して1mm厚のシートを形成
する;この工程の加工時間は3分間である。このシート
を60℃および23%湿度でUV−A光源から20cm
離れたところで曝露する。UV−A光源は5 TL/0
9蛍光ランプおよび5 TL/12ランプ(波長範囲2
95ないし400nm)からなる。一定間隔における、
ポリオキシメチレンの紫外線曝露の状況下で最大値を示
す黄色度指数(YI、ASTMD 1925法)を測定
する。その最大値は未だ目に見えない微小亀裂の最初の
発生によって起こる。さらに曝露して、後の時点でシー
ト中の亀裂は見えるようになる。表9は黄色度指数の最
大値に到達するおよび目に見える亀裂が現れるまでに要
する週単位の曝露時間を示す。 表9:試験シートにおけるYI最大値および目に見える傷の出現の週単位の曝露 時間 YI最大値までの 亀裂形成までの 紫外線吸収剤 曝露時間(週) 曝露時間(週) ─────────────────────────────────── 0.3重量%Xy−5 8 16 0.3重量%To−5 10 20 0.3重量%Ph−5 16 25 ───────────────────────────────────
ジフェニル−およびジ−p−トリル誘導体)安定剤を使
用するとき、公知のジキシリル誘導体に比べ、実施例1
ないし9に示される試験結果は著しく改良された特性を
示す。
Claims (11)
- 【請求項1】 a)主鎖中にヘテロ原子を含有する熱可
塑性ポリマー、および b)次式I: 【化1】 (式中、Rは水素原子、炭素原子数1ないし18のアル
キル基、ハロゲン原子もしくは炭素原子数1ないし12
のアルコキシ基で置換された炭素原子数2ないし6のア
ルキル基、またはベンジル基を表しならびにR’は水素
原子またはメチル基を表す。)で表されるヒドロキシフ
ェニルトリアジン化合物からなる、光、酸素および熱に
よる損傷に対して安定化されたポリマー組成物。 - 【請求項2】 成分a)がポリカーボネート、ポリエス
テル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリフェニレンオ
キシドまたはポリフェニレンスルフィドである請求項1
に記載のポリマー組成物。 - 【請求項3】 成分a)がポリカーボネートである請求
項1に記載のポリマー組成物。 - 【請求項4】 成分b)が式Iの化合物であり、式中、
Rが炭素原子数1ないし12のアルキル基またはベンジ
ル基を表す、請求項1に記載のポリマー組成物。 - 【請求項5】 成分b)が式Iの化合物であり、式中、
Rが炭素原子数3ないし6のアルキル基を表す、請求項
1に記載のポリマー組成物。 - 【請求項6】 成分b)が式Iの化合物であり、式中、
R’が水素原子を表す、請求項1に記載のポリマー組成
物。 - 【請求項7】 成分a)のポリマー100重量部に対し
て、成分b)の安定剤0.1ないし15重量部を含有す
る請求項1に記載のポリマー組成物。 - 【請求項8】 成分a)およびb)に加えて他の安定剤
または他の添加剤を含有する請求項1に記載のポリマー
組成物。 - 【請求項9】 主鎖中にヘテロ原子を含有する熱可塑性
ポリマーに次式I: 【化2】 (式中、Rは水素原子、炭素原子数1ないし18のアル
キル基、ハロゲン原子もしくは炭素原子数1ないし12
のアルコキシ基で置換された炭素原子数2ないし6のア
ルキル基、またはベンジル基を表しならびにR’は水素
原子またはメチル基を表す。)で表される化合物を添加
することからなる、光、酸素および熱による損傷に対す
る主鎖中にヘテロ原子を含有する熱可塑性ポリマーの安
定化の方法。 - 【請求項10】 請求項1に記載のポリマー組成物から
なる成形品。 - 【請求項11】 式Iの安定剤をほとんどまたは全く含
まないポリマーから製造された成形品からなり、前記成
形品上に外層として請求項1に記載のポリマー組成物が
10ないし100μmの厚さで塗被されている多層系製
品。
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