JP3975409B2 - 相乗安定剤混合物 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は２つの特定のポリアルキルピペリジン誘導体ポリマーよりなる安定剤系、有機材料を安定化させるためのその使用方法、および前記安定剤系により熱、酸化もしくは光により誘発される崩壊に対して保護された有機材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】
米国特許発明明細書第４６９２４８６号、同第４８６３９８１号、同第４９５７９５３号、国際公開パンフレット第９２−１２２０１号、ヨーロッパ特許庁公開公報第４４９６８５号、同第６３２０９２号、ドイツ国特許出願公開明細書第２２６７４９９号およびリサーチディスクロージャー３４５４９（１９９３年１月）において２種のポリアルキルピペリジン誘導体を含有する安定剤混合物が開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題および手段】
その観点の内の１つにおいて、本発明は成分ａ）、ｂ）、ｃ）およびｄ）の群より選択された少なくとも２つの異なる化合物からなる安定剤混合物であって、成分ａ）は少なくとも１つの次式Ｉ
【化２０】
〔式中、Ｒ1 、Ｒ3 およびＲ4 は各々互いに独立して、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換されたフェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは次式ＩＩ
【化２１】
（式中、Ｒ5 は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、Ｏ・、−ＣＨ2 ＣＮ、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル核において炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは炭素原子数１ないし８のアシル基を表す。）で表される基を表し、および
Ｒ1 およびＲ3 は付加的に各々他方と独立して水素原子を表し、
Ｒ2 は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基を表すか、もしくは
Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は結合する窒素原子と一緒になって、５ないし１０員複素環を形成し、
ｎ1 は２ないし５０の整数を表し、およびＲ1 、Ｒ3 およびＲ4 のうち少なくとも１つは式ＩＩの基を表す。〕で表される化合物を表し、
成分ｂ）は少なくとも１種の式ＩＩＩ
【化２２】
〔式中、Ｒ6 およびＲ8 は各々他方と独立して、水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換されたフェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは式ＩＩの基を表し、
Ｒ7 は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基を表すか、もしくは
Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は結合する窒素原子と一緒になって５ないし１０員複素環を形成し、
Ｒ9 およびＲ10は各々他方と独立して炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換されたフェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは式ＩＩの基を表すか、もしくは
Ｒ9 およびＲ10は結合する窒素原子と一緒になって、５ないし１０員複素環を形成し、
ｎ2 は２ないし５０の整数を表し、およびＲ6 、Ｒ8 、Ｒ9 およびＲ10のうち少なくとも１つは式ＩＩの基を表す。〕で表される化合物を表し、
成分ｃ）は次式ＩＶａで表されるポリアミンとシアヌル酸クロリドとの反応により得られる生成物を、
次式ＩＶｂで表される化合物と反応させることにより得られる生成物
【化２３】
（上記式中、ｎ3 ’、ｎ3 ’’およびｎ3 ’’’は各々互いに独立して２ないし１２の整数を表し、
Ｒ11は水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基もしくは炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、および
Ｒ12はＲ5 に与えられた意味の内の１つを表す。）であり、
成分ｄ）は少なくとも１つの次式ＶａおよびＶｂ
【化２４】
（式中、ｎ4 およびｎ4 * は各々他方と独立して２ないし５０の整数を表す。）で表される化合物を表す安定剤混合物〔但し、少なくとも１つの式Ｉの化合物、少なくとも１つの式ＩＩＩの化合物および少なくとも１つの次式ＶＩ
【化２５】
（式中、Ｒ13は水素原子もしくはメチル基を表し、Ｒ14は直接結合もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキレン基を表し、およびｎ5 は２ないし１００の整数を表す。）で表される化合物からなる安定剤混合物は除かれる。〕に関する。
【０００４】
１２個までの炭素原子を含有するアルキル基は、典型的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第三−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基もしくはドデシル基である。Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ6 およびＲ8 の好ましい意味の１つは炭素原子数１ないし４のアルキル基である。Ｒ10およびＲ11は好ましくは炭素原子数１ないし８のアルキル基、より特別にはｎ−ブチル基である。Ｒ4 は好ましくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基、より特別には１，１，３，３−テトラメチルブチル基である。Ｒ5 の好ましい意味の１つは炭素原子数１ないし４のアルキル基、より特別にはメチル基である。
【０００５】
炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基は典型的にはシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基もしくはシクロドデシル基である。炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基が好ましく、より特別にはシクロヘキシル基である。他の好ましいＲ4 の意味はシクロヘキシル基である。
【０００６】
炭素原子数１ないし４のアルキル基置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基は典型的にはメチルシクロヘキシル基もしくはジメチルシクロヘキシル基である。
【０００７】
ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換されたフェニル基は典型的にはメチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、第三−ブチルフェニル基もしくは３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシフェニル基である。
【０００８】
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は好ましくはベンジル基である。
【０００９】
フェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は典型的にはメチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、第三−ブチルベンジル基もしくは３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジル基である。
【００１０】
フェニル核において炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は典型的にはメチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基もしくは第三−ブチルベンジル基である。
【００１１】
炭素原子数３ないし６のアルケニル基は典型的にはアリル基、２−メタリル基、ブテニル基、ペンテニル基およびヘキセニル基である。アリル基が好ましい。
【００１２】
炭素原子数１ないし８のアシル基として定義されたＲ5 は好ましくは炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、炭素原子数３ないし８のアルケノイル基もしくはベンゾイル基である。具体例はホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基およびクロトノニル基である。
【００１３】
１８個までの炭素原子を含有するアルキレン基は典型的にはエチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、２，２−ジメチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、トリメチルヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、ウンデカメチレン基およびドデカメチレン基である。Ｒ2 およびＲ7 は好ましくは炭素原子数２ないし６のアルキレン基である。Ｒ2 およびＲ7 は最も好ましくはヘキサメチレン基である。
【００１４】
炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基はシクロヘキシレン基により例示される。
【００１５】
炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルイキレン）基は、メチレンジシクロヘキシレン基により例示される。
【００１６】
結合する窒素原子と一緒になってＲ1 、Ｒ2 およびＲ3 もしくはＲ6 、Ｒ7 およびＲ8 により形成される５ないし１０員複素環は典型的には、次式
【化２６】
で表される。６員複素環が好ましい。
【００１７】
結合する窒素原子と一緒になってＲ9 およびＲ10により形成された５ないし１０員複素環は、典型的には１−ピロリジル基、ピペリジノ基、モルホリノ基、１−ピペラジニル基、４−メチル−１−ピペラジニル基、１−ヘキサヒドロアゼピニル基、５，５，７−トリメチル−１−ホモピペラジニル基もしくは４，５，５，７−テトラメチル−１−ホモピペラジニル基である。次式
【化２７】
で表される基が最も好ましいモルホリノ基である。
【００１８】
Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ6 およびＲ8 は最も好ましくは式ＩＩの基である。
【００１９】
成分ａ）ないしｄ）として記載された化合物はそれ自体知られており（いくつかは商業的に入手可能である）そして知られている方法、特に米国特許発明明細書第４０８６２０４号、同第４３３１５８６号および同第４４７７６１５号、ケミカルアブストラクト−ＣＡＳ(Chemical Abstract CAS) Ｎｏ．１３６５０４−９６−６および米国特許発明明細書第４３４０５３４号において記載された方法により製造され得る。
【００２０】
成分ｃ）は知られている方法に類似して、
都合良くは式ＩＶａのポリアミンを塩化シアヌルと１：２ないし１：４のモル比において有機溶媒例えば、１，２−ジクロルエタン、トルエン、キシレン、ベンゼン、ジオキサンもしくは第三アミルアルコール中の無水リチウム、炭酸ナトリウムもしくは炭酸カリウムの存在下において−２０℃ないし＋１０℃、好ましくは−１０℃ないし＋１０℃、最も好ましくは０℃ないし＋１０℃の温度範囲において２ないし８時間反応させ、そして続いて得られる生成物を式ＩＶｂの２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンと反応させることより製造される。２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンと式ＩＶａのポリアミンのモル比は都合良くは４：１ないし８：１である。２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンの量は全部一度にもしくは数時間の間隔ごとにいくらかずつ増量して加えられる。
【００２１】
式ＩＶａのポリアミン：塩化シアヌル：式ＩＶｂの２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンの比は好ましくは１：３：５ないし１：３：６である。
【００２２】
以下は好ましい成分ｃ）を製造する１つの方法を構成する。
【００２３】
攪拌しながら、塩化シアヌル２３．６ｇ（０．１２８モル）、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−アミノプロピル］エチレンジアミン７．４３ｇ（０．０４２６モル）および無水炭酸カリウム１８ｇ（０．１３モル）を１，２−ジクロルエタン２５０ｍｌ中で５℃において３時間反応させた。混合物をさらに４時間室温まで暖めた。その後Ｎ−（２，２，６，６）−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミン２７．２ｇ（０．１２８モル）を加えてそして得られた混合物を２時間６０℃まで加熱した。他の無水炭酸カリウム１８ｇ（０．１３モル）を加えてそして混合物をさらに６時間６０℃において加熱した。溶媒をわずかに真空下において（２００ｍｂａｒ）蒸留除去しそしてキシレンで置きかえた。その後Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミン１８．２ｇ（０．０８５モル）および粉砕した水酸化ナトリウム５．２ｇ（０．１３モル）を加えそして混合物を２時間還流しそして反応水を共沸物としてさらに１２時間にわたる蒸留により取り除いた。混合物をろ過した。溶液を水で洗浄しそしてＮａ2 ＳＯ4 上で乾燥させた。溶媒を蒸発により取り除きそして残渣を１２０ないし１３０℃において真空下（０．１ｍｂａｒ）において乾燥させた。成分ｃ）が無色の樹脂として得られた。
成分ｃ）は典型的には次式ＩＶ−１、ＩＶ−２もしくはＩＶ−３の化合物の形態にある。それはこれら３つの化合物の混合物としてもまた得られ得る。
【化２８】
【化２９】
【化３０】
【００２４】
好ましい式ＩＶ−１の意味は次式
【化３１】
で表されるものである。
【００２５】
好ましい式ＩＶ−２の意味は次式
【化３２】
で表されるものである。
【００２６】
好ましい式ＩＶ−３の意味は次式
【化３３】
で表されるものである。
【００２７】
上記式ＩＶ−１ないしＩＶ−３において、ｎ3 は好ましくは１ないし２０を表す。
【００２８】
成分ａ）として商標名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４もしくは商標名ＤＡＳＴＩＢ１０８２、成分ｂ）として商標名ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ３３４６、成分ｃ）として商標名ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ８８、および成分ｄ）としてＨＯＳＴＡＶＩＮ
Ｎ３０を使用することが好ましい。
【００２９】
式ＶＩの化合物は好ましくは商標名ＴＩＮＵＶＩＮ６２２でありまた米国特許発明明細書第４２３３４１２号において記載されている方法に類似して製造され得る。
【００３０】
式ＶａおよびＶｂの化合物は混合物として得られ、その場合Ｖａ：Ｖｂの比は都合良くは２０：１ないし１：２０もしくは１：１０ないし１０：１である。
【００３１】
式Ｉ、ＩＩＩ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＶａおよびＶｂの化合物において自由価を飽和させる末端基の意味は前記化合物の製造に使用される方法に依存する。末端基はまた化合物の合成の後にさらに変性され得る。
【００３２】
式ＩおよびＩＩＩの製造が次式
【化３４】
（式中、Ｘは典型的には水素原子、好ましくは塩素原子を表し、およびＲ4 、Ｒ9 およびＲ10は上記で与えられた意味を有する。）で表される化合物を次式
【化３５】
（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は上記で与えられた意味を有する。）で表される化合物と反応させることにより行われる場合、その後にジアミノ基に結合する末端基は水素原子もしくは次式
【化３６】
で表され、トリアジン基に結合する末端基はＸもしくは次式
【化３７】
で表される。
【００３３】
もしＸがハロゲン置換基である場合、それは都合良くは反応後に例えば−ＯＨもしくはアミノ基により置換される。適したアミノ基は典型的には、ピロリジニ−１−イル基、モルホリノ基、−ＮＨ2 、−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）2 および−ＮＲ（炭素原子数１ないし８のアルキル）（式中、Ｒは水素原子もしくは式ＩＩの基を表す。）である。
【００３４】
式ＩＶの化合物において、トリアジン基に結合する末端基は典型的にはＣｌもしくは次式
【化３８】
であり、またアミノ基に結合する末端基は典型的には水素原子もしくは次式
【化３９】
で表される。
【００３５】
式Ｖａの化合物において、窒素原子に結合する末端基は典型的には水素原子を表し、また２−ヒドロキシプロピレン基に結合する末端基は典型的には次式
【化４０】
で表される。
【００３６】
式Ｖｂの化合物において、ジメチレン基に結合する末端基は典型的には−ＯＨであり、また酸素原子に結合する末端基水素原子である。末端基はまたポリエーテル基である。
【００３７】
式ＶＩの化合物が次式
【化４１】
（式中、Ｒ13は水素原子もしくはメチル基を表す。）で表される化合物を次式
Ｙ−ＯＯＣ−Ｒ14−ＣＯＯ−Ｙ
（式中、Ｙはメチル基、エチル基もしくはプロピル基を表し、およびＲ14は上記で与えられた意味を有する。）で表される化合物と反応させることにより製造される場合、２，２，６，６−テトラメチル−４−オキシピペリジニ−１−イル基に結合する末端基は水素原子もしくは−ＣＯ−Ｒ14−ＣＯＯ−Ｙを表し、ジアシル基に結合する末端基−Ｏ−Ｙもしくは次式
【化４２】
で表される。
【００３８】
以下の安定剤系は本発明の特に好ましい態様である。
１）商標名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４および商標名ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ３３４６からなる安定剤系
２）商標名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４および商標名ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ８８からなる安定剤系
３）商標名ＤＡＳＴＩＢ１０８２および商標名ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ３３４６からなる安定剤系
４）商標名ＤＡＳＴＩＢ１０８２および商標名ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ８８からなる安定剤系
５）商標名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４および商標名ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ３０からなる安定剤系
６）商標名ＤＡＳＴＩＢ１０８２および商標名ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ３０からなる安定剤系
７）商標名ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ３３４６および商標名ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ３０からなる安定剤系
８）商標名ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ８８および商標名ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ３０からなる安定剤系
９）商標名ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ３３４６および商標名ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ８８からなる安定剤系、および
１０）商標名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４および商標名ＤＡＳＴＩＢ １０８２からなる安定剤系
【００３９】
好ましい本発明の態様は、少なくとも１つの成分ａ）の化合物および少なくとも１つの成分ｂ）もしくは成分ｃ）の化合物よりなるか、もしくは
少なくとも１つの成分ａ）、ｂ）もしくはｃ）の化合物および少なくとも１つの成分ｄ）の化合物よりなるか、もしくは
少なくとも１つの成分ｂ）の化合物および少なくとも１つの成分ｃ）の化合物よりなるか、もしくは、
少なくとも２つの成分ａ）の化合物よりなる系である。
【００４０】
また好ましいものは、Ｒ5 が水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、アリル基、ベンジル基もしくはアセチル基、好ましくは水素原子もしくはメチル基を表すところの安定剤混合物である。
【００４１】
他の好ましい安定剤混合物は、式中、
Ｒ1 、Ｒ3 およびＲ4 は各々互いに独立して炭素原子数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたフェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル核において−ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは式ＩＩの基を表し、および
Ｒ1 およびＲ3 は付加的に各々他方と独立して水素原子を表し、
Ｒ2 は炭素原子数２ないし１０のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基を表すか、もしくは
Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は結合する窒素原子と一緒になって５ないし７員複素環を形成し、および
ｎ1 は２ないし４０の整数を表し、
Ｒ6 およびＲ8 は各々他方と独立して水素原子、炭素原子数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基置換炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたフェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは式ＩＩの基を表し、
Ｒ7 は炭素原子数２ないし１０のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基を表すか、もしくは
Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は結合する窒素原子と一緒になって５ないし７員複素環を形成し、
Ｒ9 およびＲ10は各々他方と独立して炭素原子数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたフェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは式ＩＩの基を表し、もしくは
Ｒ9 およびＲ10は結合する窒素原子と一緒になって５ないし７員複素環を形成し、および
ｎ2 は２ないし４０の整数を表し、
ｎ4 およびｎ4 * は各々他方と独立して２ないし４０の整数を表すところの安定剤混合物である。
【００４２】
また好ましいものは、式中、
Ｒ1 およびＲ3 は各々他方と独立して水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基もしくは式ＩＩの基を表し、
Ｒ2 は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、シクロヘキシレン基もしくはメチレン−ジ（シクロヘキシレン）基を表し、
Ｒ4 は炭素原子数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基を表し、および
ｎ1 は２ないし２５の整数を表し、
Ｒ6 およびＲ8 は各々他方と独立して水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基もしくは式ＩＩの基を表し、
Ｒ7 は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、シクロヘキシレン基もしくはメチレン−ジ（シクロヘキシレン）基を表し、
Ｒ9 およびＲ10は各々他方と独立して炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基もしくは式ＩＩの基を表すか、もしくは
Ｒ9 およびＲ10は結合する窒素原子と一緒になって１−ピロリジル基、ピペリジノ基、モルホリノ基、１−ピペラジニル基、４−メチル−１−ピペラジニル基、１−ヘキサヒドロアゼピニル基、５，５，７−トリメチル−１−ホモピペラジニル基もしくは４，５，５，７−テトラメチル−１−ホモピペラジニル基を表し、および
ｎ2 は２ないし２５の整数を表し、および
ｎ4 およびｎ4 * は各々他方と独立して２ないし２５の整数を表すところの安定剤混合物である。
【００４３】
少なくとも１つの成分ａ）の化合物および少なくとも１つの成分ｂ）の化合物よりなる安定剤混合物が特に好ましい。
【００４４】
式Ｉの化合物および式ＩＩＩの化合物よりなる安定剤混合物がまた好ましい。
【００４５】
本発明の他の好ましい態様は、少なくとも１つの成分ａ）、ｂ）もしくはｃ）の化合物および少なくとも１つの成分ｄ）の化合物よりなる安定剤混合物である。
【００４６】
同一もしくは異なる、変数ｎ1 、ｎ2 、ｎ4 およびｎ4 * は好ましくは２ないし２０、より特別には２ないし２５、典型的には２ないし２０もしくは２ないし１０の整数を表す。
【００４７】
ｎ3 ’、ｎ3 ’’およびｎ3 ’’’は各々互いに独立して好ましくは２ないし４を表す。
【００４８】
本発明の他の好ましい態様は、式中、
Ｒ1 およびＲ3 は各々他方と独立して水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは式ＩＩ（式中、Ｒ5 は水素原子もしくはメチル基を表す。）の基を表し、
Ｒ2 は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し、
Ｒ4 は炭素原子数１ないし１０のアルキル基もしくはシクロヘキシル基を表し、および
ｎ1 は２ないし２０の整数を表し、
Ｒ6 およびＲ8 は各々他方と独立して水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは式ＩＩ（式中、Ｒ5 は水素原子もしくはメチル基を表す。）の基を表し、および
Ｒ7 は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し、
Ｒ9 およびＲ10は各々他方と独立して炭素原子数１ないし８のアルキル基もしくは式ＩＩ（式中、Ｒ5 は上記で与えられた意味を有する。）の基を表し、もしくは
Ｒ9 およびＲ10は結合する窒素原子と一緒になってモルホリノ基を表し、およびｎ2 は２ないし２０の整数を表し、および
ｎ4 およびｎ4 * は各々他方と独立して２ないし２０の整数を表すところの安定剤混合物である。
【００４９】
本発明の特に好ましい態様は、式Ｉの化合物は次式
【化４３】
で表されるかもしくは次式
【化４４】
で表され、および式ＩＩＩの化合物は次式
【化４５】
で表され、ｎ1 、ｎ2 、ｎ4 およびｎ4 * は各々互いに独立して２ないし２０の整数を表すところの安定剤混合物である。
【００５０】
本発明のさらに特に好ましい態様は、次式
【化４６】
および次式
【化４７】
（式中、ｎ1 およびｎ2 は各々他方と独立して２ないし２０の整数を表す。）で表される両化合物よりなるところの安定剤混合物である。
【００５１】
成分ｃ）の好ましい態様において、ｎ3 ’、ｎ3 ’’およびｎ3 ’’’は各々互いに独立して２ないし４の整数を表し、Ｒ11は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、およびＲ12は水素原子を表す。
【００５２】
成分ｃ）は最も好ましくは次式
Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2
で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させることより得られる生成物を、次式
【化４８】
で表される化合物と反応させることより得られる生成物である。
【００５３】
本発明の他の特に好ましい態様は、次のとおりである。
（１）次式
【化４９】
（式中、ｎ1 は２ないし２０の整数を表す。）で表される化合物、および次式
Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2
で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させることより得られる生成物を、次式
【化５０】
で表される化合物と反応させることより得られる生成物よりなるところの安定剤混合物。
【００５４】
（２）式ＶａおよびＶｂ（式中、ｎ4 およびｎ4 * は各々他方と独立して２ないし２０の整数を表す。）で表される化合物、および次式
【化５１】
もしくは次式
【化５２】
（上記式中、ｎ1 およびｎ2 は各々他方と独立して２ないし２０の整数を表す。）で表される化合物の混合物よりなるところの安定剤混合物。
【００５５】
（３）式ＶａおよびＶｂ（式中、ｎ4 およびｎ4 * は各々他方と独立して２ないし２０の整数を表す。）で表される化合物、および次式
Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2
で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させることより得られる反応生成物を、次式
【化５３】
で表される化合物と反応させることにより得られる生成物の混合物よりなるところの安定剤混合物。
【００５６】
（４）次式
【化５４】
（式中、ｎ2 は２ないし２０の整数を表す。）で表される化合物と、次式Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2
で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させることより得られる生成物を、次式
【化５５】
で表される化合物と反応させることにより得られる生成物よりなるところの安定剤混合物。
【００５７】
本発明の安定剤混合物は、熱、酸化または光により誘発される崩壊に対して有機材料を安定化させるのに適している。
【００５８】
そのような有機材料の例は以下のようなものである：
１．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度および高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度および超高分子ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）および線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、枝分れ低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。
【００５９】
ポリオレフィン、すなわち先の段落中で例示したようなモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、好ましくは以下の方法により製造できる：
ａ）（通常、高圧および高められた温度においての）ラジカル重合
ｂ）通常周期表のIVｂ、Ｖｂ、VIｂまたはVIII属の金属の１個以上を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金属は通常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可能な、例えば酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび／またはアリールのような配位子の１つ以上を持つ。これら金属錯体は遊離型であるか例えば活性化塩化マグネシウム、塩化チタン（III)、酸化アルミニウムまたは酸化珪素のような支持体に固定化していてよい。これらの触媒は重合媒体中に可溶または不溶であってよい。触媒はそれ自体重合において使用でき、または、例えば金属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金属アルキル酸化物または金属アルキルオキサン（該金属は周期表のIa、IIa および／またはIIIa属の元素である。）のような別の活性剤が使用できる。活性剤は都合良くは、他のエステル、エーテル、アミンもしくはシリルエーテル基により改良され得る。
これら触媒系は通常フィリップス(Phillips)、スタンダードオイルインディアナ(Standard Oil Indiana)、チグラー（−ナッタ）〔Ziegler-(Natta) 〕、ＴＮＺ〔デュポン社(Dupont)〕、メタロセンまたはシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と称されるものである。
【００６０】
２． １．に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの種々のタイプの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００６１】
３．モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブト−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブト−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマーおよびそれらコポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（アイオノマー）およびエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー；ならびに前記コポリマー相互の混合物および１．に記載したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレン−コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニルアセテート（ＥＶＡ）コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレンアクリル酸（ＥＡＡ）コポリマー、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよび交互またはランダムポリアルキレン／一酸化炭素−コポリマー；ならびに他のポリマーとこれらの混合物、例えばポリアミド。
【００６２】
４. それらの水素化変性物（例えば粘着付与剤）およびポリアルキレンとデンプンの混合物を含む炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）。
【００６３】
５．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポリ−（α−メチルスチレン）。
【００６４】
６．スチレンまたは、α−メチルスチレンとジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；高衝撃強度のスチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーとの混合物；およびスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン、又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレン。
【００６５】
７．スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−アクリロニトリルにスチレンのようなもの；ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタアクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸またはマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレートまたはメタクリレート、エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、ならびにこれらと６．に列挙したコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡおよびＡＥＳポリマーとして知られているコポリマー混合物。
【００６６】
８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化および臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化もしくはクロロスルホン化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、好ましくはハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、およびポリフッ化ビニリデンならびにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。
【００６７】
９．α，β−不飽和酸、およびその誘導体から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル；ブチルアクリレートとの耐衝撃性改良ポリメチルメタクリレート。
【００６８】
10．上記９に挙げたモノマーの相互または他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル−アルキルメタクリレート−ブタジエンターポリマー。
【００６９】
11．不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；ならびにそれらと上記１．に記載したオレフィンとのコポリマー。
【００７０】
12．環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらとビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
【００７１】
13. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはＭＢＳで変性させたポリアセタール。
【００７２】
14．ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、ならびにポリフェニレンオキシドとポリスチレンまたはポリアミドとの混合物。
【００７３】
15. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物質。
【００７４】
16. ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６および１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンおよびアジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および／またはテレフタル酸および所望により変性剤としてのエラストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ−２，４，４−（トリメチルヘキサメチレン）テレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；さらに、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラフトしたエラストマーとのブロックコポリマー；またはこれらとポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコールとのコポリマー；ならびにＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性させたポリアミドまたはコポリアミド；加工の間に縮合させたポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド系）。
【００７５】
17. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントインおよびポリベンズイミダゾール。
【００７６】
18. ジカルボン酸およびジオールから、および/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１, ４−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレート、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロキシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロック−コポリエーテル−エステル；およびまたポリカーボネートまたはＭＢＳにより改良されたポリエステル。
【００７７】
19. ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネート。
【００７８】
20. ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエーテルケトン。
【００７９】
21．一方でアルデヒドから、および他方でフェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
【００８０】
22．乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。
【００８１】
23．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポリエステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変成物。
【００８２】
24．置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
【００８３】
25．メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂で架橋させたアルキッド樹脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
【００８４】
26．所望により促進剤を使用してアルデヒドまたはアミンのような慣用の硬化剤により架橋する、脂肪族、環状脂肪族、複素環式、芳香族グリシジルエーテル、例えばビスフェノールＡおよびビスフェノールＦのジグリシジルエーテルの生成物から誘導された架橋エポキシ樹脂。
【００８５】
27．天然ポリマー、例えば、セルロース、ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変性した同族誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪酸セルロース、およびセルロースエーテル、例えばメチルセルロース；ならびにロジンおよびそれらの誘導体。
【００８６】
28．前述のポリマーの混合物（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳもしくはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【００８７】
29．純粋なモノマー化合物またはそれらの混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテート）に基づいたオイル、脂肪およびワックス、ならびに典型的には紡糸組成物として用いられるいずれか重量比での合成エステルと鉱油との混合物、ならびにそれら材料の水性エマルジョン。
【００８８】
30．天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーのラテックス。
【００８９】
本発明はさらに酸化、熱または光に誘発される崩壊を受けやすい有機材料、および本発明の安定剤混合物よりなる組成物にも関する。
【００９０】
有機材料は、好ましくは合成ポリマー、より特別には前記にされた群より選択された１つのポリマーである。ポリオレフィンが好ましく、またポリエチレン、ポリプロピレンおよびそれらのコポリマーが特に好ましい。
【００９１】
本発明の安定剤系の化合物は単独でもしくは各々互いに混合物として安定化されるべき材料中に混入される。化合物は都合良くは各々互いに独立して０．０１ないし４．９９％の量で使用される、但し安定剤混合物の全量は、好ましくは安定化されるべき材料の全重量に基づいて０．０２ないし５％である。
【００９２】
安定剤系の全重量は好ましくは安定化されるべき材料の全重量に基づいて０．０５ないし３％であり、特別には０．０５ないし２％もしくは０．０５ないし１％である。
【００９３】
本発明の安定剤系２つの化合物の重量比は好ましくは２０：１ないし１：２０であり、特別には１０：１ないし１：１０、典型的には１：５ないっし５：１である。
【００９４】
安定剤混合物もしくは個々の安定剤は、有機材料中に知られている方法により、都合良くは成形物品に成形する前もしくは成形している間に混入されるか、または他の方法では有機材料に化合物の溶液もしくは分散剤を被覆しそして続いて蒸発により溶媒を取り除くことにより混入される。安定剤混合物の個々の化合物は安定化される材料中に粉末、顆粒もしくはこれらの化合物を２．５ないし２５重量％の濃度で含有するマスターバッチの形態で混入される。
【００９５】
所望により、新規な安定剤混合物の化合物は、有機材料中に混入される前に各々互いに溶融混合され得る。
【００９６】
本発明の安定剤混合物もしくは個々の安定剤はまた重合中もしくは架橋中に加えられる。
【００９７】
安定化された材料は、いかなる呈示の形態で、典型的にはシート、フィラメント、リボン、成形品、形材もしくは被覆組成物の結合剤、接着剤もしくはパテの形態にある。
【００９８】
他の異なる慣用の添加剤が安定化された有機材料中にまた混入され得る。それは典型的には以下に示されるものである。
【００９９】
１．抗酸化剤
１．１ アルキル化モノフェノール、例えば
２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、
２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、
２，６−ジ−シクロペンチル−４−メチルフェノ−ル、
２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、
２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノ−ル、
２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、
直鎖のまたは側鎖に枝分かれしているノニルフェノール例えば２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−ウンデカ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデカ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−トリデカ−１′−イル）−フェノールおよびそれらの混合物。
【０１００】
１．２．アルキルチオメチルフェノール、例えば２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【０１０１】
１．３ ヒドロキノンとアルキル化ヒドロキノン、例えば
２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、
２，５−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、
２，５−ジ−第三−アミル−ヒドロキノン、
２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【０１０２】
１．４ トコフェロール、例えば
α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミンＥ）
【０１０３】
１．５ ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば
２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、
２，２′−チオビス（４−オクチルフェノール）、
４，４′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、
４，４′−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス（３，６−ジ−第二−アミルフェノール）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−ジスルフィド。
【０１０４】
１．６ アルキリデンビスフェノール、例えば
２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、
２，２′−メチレン−ビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
２，２′−エチリデン−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
２，２′−エチリデン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール] 、
２，２′−メチレン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール] 、
４，４′−メチレン−ビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
４，４′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、
１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、
２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、
１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、
１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、
エチレングリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、
ビス（３−第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、
ビス［２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、
１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【０１０５】
１．７． Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物、例えば
３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル−メルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプトアセテート。
【０１０６】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば
ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート。
【０１０７】
１．９． ヒドロキシベンジル芳香族化合物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、
１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。
【０１０８】
１．１０． トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、
１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−イソシアヌレート、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート。
【０１０９】
１．１１． べンジルホスホネート、例えばジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチルエステルのＣａ塩。
【０１１０】
１．１２． アシルアミノフェノール、例えば
ラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、
ステアリン酸４−ヒドロキシアニリド、
カルバミン酸Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）オクチルエステル。
【０１１１】
１．１３． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１１２】
１．１４． β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１１３】
１．１５． β−（３，５−ジ−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば
メタノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１１４】
１．１６． ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、
メタノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１１５】
１．１７． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
【０１１６】
２． 紫外線吸収剤および光安定剤
２．１． ２− ( ２′−ヒドロキシフェニル ) ベンゾトリアゾール、例えば、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル) フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール；
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２’−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、および
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾールの混合物、
２，２’−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 −］2 −（式中，Ｒ＝３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−べンゾトリアゾール−２−イル−フェニルである。）。
【０１１７】
２．２． ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば
４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒドロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。
【０１１８】
２．３． 置換されたおよび非置換安息香酸のエステル、例えば
４−第三ブチルフェニル＝サリチレート、
フェニル＝サリチレート、
オクチルフェニル＝サリチレート、
ジベンゾイルレゾルシノール、
ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、
ベンゾイルレゾルシノール、
２，４−ジ−第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【０１１９】
２．４． アクリレート、例えば
エチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、
イソオクチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、
メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、
ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、
メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート、および
Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル) −２−メチルインドリン。
【０１２０】
２．５． ニッケル化合物，例えば
２，２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル) −フェノール］のニッケル錯体，例えば１：１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって，所望により他の配位子を伴うもの。
【０１２１】
２．６． 立体障害アミン、例えば
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）サクシネート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、
１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、
Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、
トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、
テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、
１，１′−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン），
４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチル−ベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）サクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンおよび４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−クロロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンならびに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（ＣＡＳ 登録Ｎｏ．［１３６５０４−９６−６］）の縮合生成物；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物。
【０１２２】
２．７． シュウ酸ジアミド、例えば
４，４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、
２，２′−ジエトキシオキサニリド、
２，２′−ジ−オクチルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニリド、
２，２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニリド、
２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、
２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エトキシオキサニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混合物，
ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【０１２３】
２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシ−フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン。
【０１２４】
３． 金属不活性化剤，例えば
Ｎ，Ｎ′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、
Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、
３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、
ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド、オキサニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビス−フェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイル−ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル−シュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
【０１２５】
４． ホスフィットおよびホスホナイト、例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、
トリオクタデシルホスフィット、
ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、
ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット
ビス（２，４，６−トリ−第三ブチル−ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、
トリステアリルソルビトールトリホスフィット、
テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、
６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、
６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット。
【０１２６】
５． 過酸化物スカベンジャー、例えば
β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【０１２７】
６． ポリアミド安定剤、例えば
ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価マンガンの塩。
【０１２８】
７． 塩基性補助安定剤、例えば
メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、
高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステアリン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン酸Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫塩。
【０１２９】
８． 核剤、例えば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。
【０１３０】
９． 充填剤および強化剤、例えば
炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。
【０１３１】
１０．その他の添加剤、例えば
可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、蛍光増白剤、難燃剤、静電防止剤および発泡剤。
【０１３２】
１１ . ベンゾフラノンまたはインドリノン、例えば
ＵＳ−Ａ−４３２５８６３号、ＵＳ−Ａ−４３３８２４４号、ＵＳ−Ａ−５１７５３１２号、ＵＳ−Ａ−５２１６０５２号、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３号、ＤＥ−Ａ−４３１６６１１号、ＤＥ−Ａ−４３１６６２２号、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６号、ＥＰ−Ａ−０５８９８３９号もしくはＥＰ−Ａ−０５９１１０２号に記載されているもの、または３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン。
【０１３３】
安定剤混合物と慣用の添加剤の重量比は、１：０．５ないし１：５である。
【０１３４】
本発明のたの目的は、酸化、熱もしくは光により誘発される崩壊に対して有機材料を安定化するための新規な安定剤混合物の使用である。
【０１３５】
安定剤系により安定化された有機材料は実質的に増強された耐光堅牢度だけでなく、また増強された耐熱度に特徴を有する。
【０１３６】
【発明の実施の態様】
本発明はより詳細に以下の実施例により説明される。全ての百分率は特に断らない限り重量当りを示す。
【０１３７】
実施例１ないし４において使用された安定剤：
【０１３８】
化合物Ａ−１：
【化５６】
（式中、ｎ1 の平均値は４．５を表す。）
【０１３９】
化合物Ａ−２：
【化５７】
（式中、ｎ1 の平均値は５．１を表す。）
【０１４０】
化合物Ｂ：
【化５８】
（式中、ｎ2 の平均値は３．５を表す。）
【０１４１】
化合物Ｃ：
次式
Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2
で表されるポリアミンとシアヌル酸クロリドとの反応により得られる生成物を、次式
【化５９】
で表される化合物と反応させることより得られる生成物。
【０１４２】
化合物Ｄ：次式ＶａおよびＶｂで表される化合物
【化６０】
（上記式中、ｎ4 の平均値は約３．９を表し、およびｎ4 * の平均値は約４．２を表す。）、ＶａとＶｂの比は約４：１を表す。
【０１４３】
【実施例】
実施例１：ポリプロピレン繊維の光安定化
安定化されていないポリプロピレン粉末（２３０度および２．１６ｋｇにおけるメルトインデックス：約１５ｇ／１０分、）１０００部を、インペラー(impeller)中でカルシウム３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジルモノエチルホスホネート０．５部、トリス（２，４−ジ−第三−ブチルフェニル）ホスフィット０．５部、二酸化チタン２．５部、ステアリン酸カルシウム１部および表１に挙げられた安定剤６部と混合しそしてその後２２０℃において押出し機から押出しそして顆粒化した。そのようにして得られた顆粒を、実験室用溶融紡糸ラインにおいて２７０℃の最高温度および６００ｍ／分の速度において１２．１デジテックス（Dezitex)のマルチフィラメントに紡糸した。このマルチフィラメントを引取撚糸機（draw-twister) 上で引き伸ばしそして撚った。引き伸ばし率は１：３．２であり、最終的に３．９デジテックスのマルチフィラメントが得られた。これらのマルチフィラメントを白色ボール紙上に載せ、そして２０分間１２０℃のオーブン中で処理し（幅出しの模擬実験）そして最終的にXenotest 1200 中で暴露した。
【０１４４】
安定化作用の表示は、引張強さが５０％減少するまでの暴露時間で示される。結果は以下の表１にまとめられる。
【０１４５】
【０１４６】
実施例２：ポリプロピレン繊維の光安定化
安定化されていないポリプロピレン粉末（２３０℃および２．１６ｋｇにおけるメルトインデックス：約１５ｇ／１０分、）１０００部を、インペラー(impeller)中でカルシウム３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジルモノエチルホスホネート０．５部、トリス（２，４−ジ−第三−ブチルフェニル）ホスフィット０．５部、二酸化チタン２．５部、ステアリン酸カルシウム１部および表２に挙げられた安定剤と混合しそしてその後２２０℃において押出し機から押出しそして顆粒化した。そのようにして得られた顆粒を、実験室用溶融紡糸ラインにおいて２７０℃の最高温度および６００ｍ／分の速度において１２．１デジテックス（Dezitex)のマルチフィラメントに紡糸した。このマルチフィラメントを引取撚糸機（draw-twister) 上で引き伸ばしそして撚った。引き伸ばし率は１：３．２であり、最終的に３．９デジテックスのマルチフィラメントが得られた。これらのマルチフィラメントを白色ボール紙上に載せ、そしてその後Ｃｉ６５ウエザロメータ中で暴露した。
【０１４７】
安定化作用の表示は、引張強さが５０％減少するまでの暴露時間で示される。結果は以下の表２にまとめられる。
【０１４８】
【０１４９】
実施例３：ポリプロピレンブロックコポリマーシートの光安定化
ポリプロピレンブロックコポリマー粉末１００部、ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート０．０５部、トリス（２，４−ジ−第三−ブチルフェニル）ホスフィット０．１０部、ステアリン酸カルシウム０．１部および表３に挙げられた安定剤をブラベンダープラストグラフ中において２００℃において１０分間均質化した。貯蔵物をニーダーよりできる限り素早く取り出しそしてトグルプレス中において２ないし３ｍｍ厚の板に成形した。ブランク成形品の一部を切り取りそして２つの高研磨硬質アルミニウムシート間において実験用油圧プレスを用いて６分間２６０℃において０．５ｍｍ厚のシートにプレス成形し、即座に水冷プレスにおいて冷却した。６０ｍｍ×２５ｍｍ寸法のセグメントをこの０．５ｍｍシートから打ち抜きしそしてＣｉ６５ウエザロメータ（ブラック標準温度６３±２℃、ぬれなし）中において暴露した。一定の間隔をおいてこれらの試料を暴露装置より取り除きそしてそれらのカルボニル基含量についてＩＲスペクトルメータで調べた。暴露の間カルボニル基の消滅の増加はポリマーの光酸化的崩壊の表示となりそして通常機械的特性の減少と関連している。
結果は以下の表３にまとめられる。
【０１５０】
【０１５１】
実施例４：低密度ポリエチレン（ＰＥ−ＬＤ）シートの光安定化
ＰＥ−ＬＤ粉末（密度＝０．９１８ｇ／ｃｍ3 ）１００部、オクタデシル−３−（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート０．０３部および表４に挙げられた安定剤をブラベンダープラストグラフ中において１８０℃において１０分間均質化した。貯蔵物をニーダーよりできる限り素早く取り出しそしてトグルプレスにおいて２ないし３ｍｍ厚の板に成形した。ブランク成形品の一部を切り取りそして２つの高研磨硬質アルミニウムシート間において実験室用油圧プレスを用いて６分間１７０℃において０．２ｍｍ厚のシートにプレス成形し、即座に水冷プレスにおいて冷却した。６０ｍｍ×２５ｍｍ寸法のセグメントをこの０．２ｍｍシートから打ち抜きしそして０．１ＮのＨ2 ＳＯ3 溶液中に２４時間浸漬させた（酸性雨の模擬実験）。 Ｃｉ６５ウエザロメータ（ブラック標準温度６３±２℃、ぬれなし）中において暴露した。一定の間隔をおいてこれらの試料を暴露装置より取り除きそしてそれらのカルボニル含量のためにＩＲスペクトロメータで調べた。暴露の間のカルボニル基の消滅の増加はポリマーの光酸化的崩壊の示差となりそして通常機械的特性の減少と関連している。結果は以下の表４にまとめられる。
【０１５２】
【発明の属する技術分野】
本発明は２つの特定のポリアルキルピペリジン誘導体ポリマーよりなる安定剤系、有機材料を安定化させるためのその使用方法、および前記安定剤系により熱、酸化もしくは光により誘発される崩壊に対して保護された有機材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】
米国特許発明明細書第４６９２４８６号、同第４８６３９８１号、同第４９５７９５３号、国際公開パンフレット第９２−１２２０１号、ヨーロッパ特許庁公開公報第４４９６８５号、同第６３２０９２号、ドイツ国特許出願公開明細書第２２６７４９９号およびリサーチディスクロージャー３４５４９（１９９３年１月）において２種のポリアルキルピペリジン誘導体を含有する安定剤混合物が開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題および手段】
その観点の内の１つにおいて、本発明は成分ａ）、ｂ）、ｃ）およびｄ）の群より選択された少なくとも２つの異なる化合物からなる安定剤混合物であって、成分ａ）は少なくとも１つの次式Ｉ
【化２０】
【化２１】
Ｒ1 およびＲ3 は付加的に各々他方と独立して水素原子を表し、
Ｒ2 は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基を表すか、もしくは
Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は結合する窒素原子と一緒になって、５ないし１０員複素環を形成し、
ｎ1 は２ないし５０の整数を表し、およびＲ1 、Ｒ3 およびＲ4 のうち少なくとも１つは式ＩＩの基を表す。〕で表される化合物を表し、
成分ｂ）は少なくとも１種の式ＩＩＩ
【化２２】
Ｒ7 は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基を表すか、もしくは
Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は結合する窒素原子と一緒になって５ないし１０員複素環を形成し、
Ｒ9 およびＲ10は各々他方と独立して炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換されたフェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは式ＩＩの基を表すか、もしくは
Ｒ9 およびＲ10は結合する窒素原子と一緒になって、５ないし１０員複素環を形成し、
ｎ2 は２ないし５０の整数を表し、およびＲ6 、Ｒ8 、Ｒ9 およびＲ10のうち少なくとも１つは式ＩＩの基を表す。〕で表される化合物を表し、
成分ｃ）は次式ＩＶａで表されるポリアミンとシアヌル酸クロリドとの反応により得られる生成物を、
次式ＩＶｂで表される化合物と反応させることにより得られる生成物
【化２３】
Ｒ11は水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基もしくは炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、および
Ｒ12はＲ5 に与えられた意味の内の１つを表す。）であり、
成分ｄ）は少なくとも１つの次式ＶａおよびＶｂ
【化２４】
【化２５】
【０００４】
１２個までの炭素原子を含有するアルキル基は、典型的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第三−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基もしくはドデシル基である。Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ6 およびＲ8 の好ましい意味の１つは炭素原子数１ないし４のアルキル基である。Ｒ10およびＲ11は好ましくは炭素原子数１ないし８のアルキル基、より特別にはｎ−ブチル基である。Ｒ4 は好ましくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基、より特別には１，１，３，３−テトラメチルブチル基である。Ｒ5 の好ましい意味の１つは炭素原子数１ないし４のアルキル基、より特別にはメチル基である。
【０００５】
炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基は典型的にはシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基もしくはシクロドデシル基である。炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基が好ましく、より特別にはシクロヘキシル基である。他の好ましいＲ4 の意味はシクロヘキシル基である。
【０００６】
炭素原子数１ないし４のアルキル基置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基は典型的にはメチルシクロヘキシル基もしくはジメチルシクロヘキシル基である。
【０００７】
ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換されたフェニル基は典型的にはメチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、第三−ブチルフェニル基もしくは３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシフェニル基である。
【０００８】
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は好ましくはベンジル基である。
【０００９】
フェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は典型的にはメチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、第三−ブチルベンジル基もしくは３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジル基である。
【００１０】
フェニル核において炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は典型的にはメチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基もしくは第三−ブチルベンジル基である。
【００１１】
炭素原子数３ないし６のアルケニル基は典型的にはアリル基、２−メタリル基、ブテニル基、ペンテニル基およびヘキセニル基である。アリル基が好ましい。
【００１２】
炭素原子数１ないし８のアシル基として定義されたＲ5 は好ましくは炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、炭素原子数３ないし８のアルケノイル基もしくはベンゾイル基である。具体例はホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基およびクロトノニル基である。
【００１３】
１８個までの炭素原子を含有するアルキレン基は典型的にはエチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、２，２−ジメチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、トリメチルヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、ウンデカメチレン基およびドデカメチレン基である。Ｒ2 およびＲ7 は好ましくは炭素原子数２ないし６のアルキレン基である。Ｒ2 およびＲ7 は最も好ましくはヘキサメチレン基である。
【００１４】
炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基はシクロヘキシレン基により例示される。
【００１５】
炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルイキレン）基は、メチレンジシクロヘキシレン基により例示される。
【００１６】
結合する窒素原子と一緒になってＲ1 、Ｒ2 およびＲ3 もしくはＲ6 、Ｒ7 およびＲ8 により形成される５ないし１０員複素環は典型的には、次式
【化２６】
【００１７】
結合する窒素原子と一緒になってＲ9 およびＲ10により形成された５ないし１０員複素環は、典型的には１−ピロリジル基、ピペリジノ基、モルホリノ基、１−ピペラジニル基、４−メチル−１−ピペラジニル基、１−ヘキサヒドロアゼピニル基、５，５，７−トリメチル−１−ホモピペラジニル基もしくは４，５，５，７−テトラメチル−１−ホモピペラジニル基である。次式
【化２７】
【００１８】
Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ6 およびＲ8 は最も好ましくは式ＩＩの基である。
【００１９】
成分ａ）ないしｄ）として記載された化合物はそれ自体知られており（いくつかは商業的に入手可能である）そして知られている方法、特に米国特許発明明細書第４０８６２０４号、同第４３３１５８６号および同第４４７７６１５号、ケミカルアブストラクト−ＣＡＳ(Chemical Abstract CAS) Ｎｏ．１３６５０４−９６−６および米国特許発明明細書第４３４０５３４号において記載された方法により製造され得る。
【００２０】
成分ｃ）は知られている方法に類似して、
都合良くは式ＩＶａのポリアミンを塩化シアヌルと１：２ないし１：４のモル比において有機溶媒例えば、１，２−ジクロルエタン、トルエン、キシレン、ベンゼン、ジオキサンもしくは第三アミルアルコール中の無水リチウム、炭酸ナトリウムもしくは炭酸カリウムの存在下において−２０℃ないし＋１０℃、好ましくは−１０℃ないし＋１０℃、最も好ましくは０℃ないし＋１０℃の温度範囲において２ないし８時間反応させ、そして続いて得られる生成物を式ＩＶｂの２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンと反応させることより製造される。２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンと式ＩＶａのポリアミンのモル比は都合良くは４：１ないし８：１である。２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンの量は全部一度にもしくは数時間の間隔ごとにいくらかずつ増量して加えられる。
【００２１】
式ＩＶａのポリアミン：塩化シアヌル：式ＩＶｂの２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンの比は好ましくは１：３：５ないし１：３：６である。
【００２２】
以下は好ましい成分ｃ）を製造する１つの方法を構成する。
【００２３】
攪拌しながら、塩化シアヌル２３．６ｇ（０．１２８モル）、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−アミノプロピル］エチレンジアミン７．４３ｇ（０．０４２６モル）および無水炭酸カリウム１８ｇ（０．１３モル）を１，２−ジクロルエタン２５０ｍｌ中で５℃において３時間反応させた。混合物をさらに４時間室温まで暖めた。その後Ｎ−（２，２，６，６）−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミン２７．２ｇ（０．１２８モル）を加えてそして得られた混合物を２時間６０℃まで加熱した。他の無水炭酸カリウム１８ｇ（０．１３モル）を加えてそして混合物をさらに６時間６０℃において加熱した。溶媒をわずかに真空下において（２００ｍｂａｒ）蒸留除去しそしてキシレンで置きかえた。その後Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミン１８．２ｇ（０．０８５モル）および粉砕した水酸化ナトリウム５．２ｇ（０．１３モル）を加えそして混合物を２時間還流しそして反応水を共沸物としてさらに１２時間にわたる蒸留により取り除いた。混合物をろ過した。溶液を水で洗浄しそしてＮａ2 ＳＯ4 上で乾燥させた。溶媒を蒸発により取り除きそして残渣を１２０ないし１３０℃において真空下（０．１ｍｂａｒ）において乾燥させた。成分ｃ）が無色の樹脂として得られた。
成分ｃ）は典型的には次式ＩＶ−１、ＩＶ−２もしくはＩＶ−３の化合物の形態にある。それはこれら３つの化合物の混合物としてもまた得られ得る。
【化２８】
好ましい式ＩＶ−１の意味は次式
【化３１】
【００２５】
好ましい式ＩＶ−２の意味は次式
【化３２】
【００２６】
好ましい式ＩＶ−３の意味は次式
【化３３】
【００２７】
上記式ＩＶ−１ないしＩＶ−３において、ｎ3 は好ましくは１ないし２０を表す。
【００２８】
成分ａ）として商標名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４もしくは商標名ＤＡＳＴＩＢ１０８２、成分ｂ）として商標名ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ３３４６、成分ｃ）として商標名ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ８８、および成分ｄ）としてＨＯＳＴＡＶＩＮ
Ｎ３０を使用することが好ましい。
【００２９】
式ＶＩの化合物は好ましくは商標名ＴＩＮＵＶＩＮ６２２でありまた米国特許発明明細書第４２３３４１２号において記載されている方法に類似して製造され得る。
【００３０】
式ＶａおよびＶｂの化合物は混合物として得られ、その場合Ｖａ：Ｖｂの比は都合良くは２０：１ないし１：２０もしくは１：１０ないし１０：１である。
【００３１】
式Ｉ、ＩＩＩ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＶａおよびＶｂの化合物において自由価を飽和させる末端基の意味は前記化合物の製造に使用される方法に依存する。末端基はまた化合物の合成の後にさらに変性され得る。
【００３２】
式ＩおよびＩＩＩの製造が次式
【化３４】
【化３５】
【化３６】
【化３７】
【００３３】
もしＸがハロゲン置換基である場合、それは都合良くは反応後に例えば−ＯＨもしくはアミノ基により置換される。適したアミノ基は典型的には、ピロリジニ−１−イル基、モルホリノ基、−ＮＨ2 、−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）2 および−ＮＲ（炭素原子数１ないし８のアルキル）（式中、Ｒは水素原子もしくは式ＩＩの基を表す。）である。
【００３４】
式ＩＶの化合物において、トリアジン基に結合する末端基は典型的にはＣｌもしくは次式
【化３８】
【化３９】
【００３５】
式Ｖａの化合物において、窒素原子に結合する末端基は典型的には水素原子を表し、また２−ヒドロキシプロピレン基に結合する末端基は典型的には次式
【化４０】
【００３６】
式Ｖｂの化合物において、ジメチレン基に結合する末端基は典型的には−ＯＨであり、また酸素原子に結合する末端基水素原子である。末端基はまたポリエーテル基である。
【００３７】
式ＶＩの化合物が次式
【化４１】
Ｙ−ＯＯＣ−Ｒ14−ＣＯＯ−Ｙ
（式中、Ｙはメチル基、エチル基もしくはプロピル基を表し、およびＲ14は上記で与えられた意味を有する。）で表される化合物と反応させることにより製造される場合、２，２，６，６−テトラメチル−４−オキシピペリジニ−１−イル基に結合する末端基は水素原子もしくは−ＣＯ−Ｒ14−ＣＯＯ−Ｙを表し、ジアシル基に結合する末端基−Ｏ−Ｙもしくは次式
【化４２】
【００３８】
以下の安定剤系は本発明の特に好ましい態様である。
１）商標名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４および商標名ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ３３４６からなる安定剤系
２）商標名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４および商標名ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ８８からなる安定剤系
３）商標名ＤＡＳＴＩＢ１０８２および商標名ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ３３４６からなる安定剤系
４）商標名ＤＡＳＴＩＢ１０８２および商標名ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ８８からなる安定剤系
５）商標名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４および商標名ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ３０からなる安定剤系
６）商標名ＤＡＳＴＩＢ１０８２および商標名ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ３０からなる安定剤系
７）商標名ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ３３４６および商標名ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ３０からなる安定剤系
８）商標名ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ８８および商標名ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ３０からなる安定剤系
９）商標名ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ３３４６および商標名ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ８８からなる安定剤系、および
１０）商標名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４および商標名ＤＡＳＴＩＢ １０８２からなる安定剤系
【００３９】
好ましい本発明の態様は、少なくとも１つの成分ａ）の化合物および少なくとも１つの成分ｂ）もしくは成分ｃ）の化合物よりなるか、もしくは
少なくとも１つの成分ａ）、ｂ）もしくはｃ）の化合物および少なくとも１つの成分ｄ）の化合物よりなるか、もしくは
少なくとも１つの成分ｂ）の化合物および少なくとも１つの成分ｃ）の化合物よりなるか、もしくは、
少なくとも２つの成分ａ）の化合物よりなる系である。
【００４０】
また好ましいものは、Ｒ5 が水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、アリル基、ベンジル基もしくはアセチル基、好ましくは水素原子もしくはメチル基を表すところの安定剤混合物である。
【００４１】
他の好ましい安定剤混合物は、式中、
Ｒ1 、Ｒ3 およびＲ4 は各々互いに独立して炭素原子数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたフェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル核において−ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは式ＩＩの基を表し、および
Ｒ1 およびＲ3 は付加的に各々他方と独立して水素原子を表し、
Ｒ2 は炭素原子数２ないし１０のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基を表すか、もしくは
Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は結合する窒素原子と一緒になって５ないし７員複素環を形成し、および
ｎ1 は２ないし４０の整数を表し、
Ｒ6 およびＲ8 は各々他方と独立して水素原子、炭素原子数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基置換炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたフェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは式ＩＩの基を表し、
Ｒ7 は炭素原子数２ないし１０のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基を表すか、もしくは
Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は結合する窒素原子と一緒になって５ないし７員複素環を形成し、
Ｒ9 およびＲ10は各々他方と独立して炭素原子数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたフェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは式ＩＩの基を表し、もしくは
Ｒ9 およびＲ10は結合する窒素原子と一緒になって５ないし７員複素環を形成し、および
ｎ2 は２ないし４０の整数を表し、
ｎ4 およびｎ4 * は各々他方と独立して２ないし４０の整数を表すところの安定剤混合物である。
【００４２】
また好ましいものは、式中、
Ｒ1 およびＲ3 は各々他方と独立して水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基もしくは式ＩＩの基を表し、
Ｒ2 は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、シクロヘキシレン基もしくはメチレン−ジ（シクロヘキシレン）基を表し、
Ｒ4 は炭素原子数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基を表し、および
ｎ1 は２ないし２５の整数を表し、
Ｒ6 およびＲ8 は各々他方と独立して水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基もしくは式ＩＩの基を表し、
Ｒ7 は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、シクロヘキシレン基もしくはメチレン−ジ（シクロヘキシレン）基を表し、
Ｒ9 およびＲ10は各々他方と独立して炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基もしくは式ＩＩの基を表すか、もしくは
Ｒ9 およびＲ10は結合する窒素原子と一緒になって１−ピロリジル基、ピペリジノ基、モルホリノ基、１−ピペラジニル基、４−メチル−１−ピペラジニル基、１−ヘキサヒドロアゼピニル基、５，５，７−トリメチル−１−ホモピペラジニル基もしくは４，５，５，７−テトラメチル−１−ホモピペラジニル基を表し、および
ｎ2 は２ないし２５の整数を表し、および
ｎ4 およびｎ4 * は各々他方と独立して２ないし２５の整数を表すところの安定剤混合物である。
【００４３】
少なくとも１つの成分ａ）の化合物および少なくとも１つの成分ｂ）の化合物よりなる安定剤混合物が特に好ましい。
【００４４】
式Ｉの化合物および式ＩＩＩの化合物よりなる安定剤混合物がまた好ましい。
【００４５】
本発明の他の好ましい態様は、少なくとも１つの成分ａ）、ｂ）もしくはｃ）の化合物および少なくとも１つの成分ｄ）の化合物よりなる安定剤混合物である。
【００４６】
同一もしくは異なる、変数ｎ1 、ｎ2 、ｎ4 およびｎ4 * は好ましくは２ないし２０、より特別には２ないし２５、典型的には２ないし２０もしくは２ないし１０の整数を表す。
【００４７】
ｎ3 ’、ｎ3 ’’およびｎ3 ’’’は各々互いに独立して好ましくは２ないし４を表す。
【００４８】
本発明の他の好ましい態様は、式中、
Ｒ1 およびＲ3 は各々他方と独立して水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは式ＩＩ（式中、Ｒ5 は水素原子もしくはメチル基を表す。）の基を表し、
Ｒ2 は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し、
Ｒ4 は炭素原子数１ないし１０のアルキル基もしくはシクロヘキシル基を表し、および
ｎ1 は２ないし２０の整数を表し、
Ｒ6 およびＲ8 は各々他方と独立して水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは式ＩＩ（式中、Ｒ5 は水素原子もしくはメチル基を表す。）の基を表し、および
Ｒ7 は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し、
Ｒ9 およびＲ10は各々他方と独立して炭素原子数１ないし８のアルキル基もしくは式ＩＩ（式中、Ｒ5 は上記で与えられた意味を有する。）の基を表し、もしくは
Ｒ9 およびＲ10は結合する窒素原子と一緒になってモルホリノ基を表し、およびｎ2 は２ないし２０の整数を表し、および
ｎ4 およびｎ4 * は各々他方と独立して２ないし２０の整数を表すところの安定剤混合物である。
【００４９】
本発明の特に好ましい態様は、式Ｉの化合物は次式
【化４３】
【化４４】
【化４５】
【００５０】
本発明のさらに特に好ましい態様は、次式
【化４６】
【化４７】
【００５１】
成分ｃ）の好ましい態様において、ｎ3 ’、ｎ3 ’’およびｎ3 ’’’は各々互いに独立して２ないし４の整数を表し、Ｒ11は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、およびＲ12は水素原子を表す。
【００５２】
成分ｃ）は最も好ましくは次式
Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2
で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させることより得られる生成物を、次式
【化４８】
【００５３】
本発明の他の特に好ましい態様は、次のとおりである。
（１）次式
【化４９】
Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2
で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させることより得られる生成物を、次式
【化５０】
【００５４】
（２）式ＶａおよびＶｂ（式中、ｎ4 およびｎ4 * は各々他方と独立して２ないし２０の整数を表す。）で表される化合物、および次式
【化５１】
【化５２】
【００５５】
（３）式ＶａおよびＶｂ（式中、ｎ4 およびｎ4 * は各々他方と独立して２ないし２０の整数を表す。）で表される化合物、および次式
Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2
で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させることより得られる反応生成物を、次式
【化５３】
【００５６】
（４）次式
【化５４】
で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させることより得られる生成物を、次式
【化５５】
【００５７】
本発明の安定剤混合物は、熱、酸化または光により誘発される崩壊に対して有機材料を安定化させるのに適している。
【００５８】
そのような有機材料の例は以下のようなものである：
１．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度および高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度および超高分子ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）および線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、枝分れ低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。
【００５９】
ポリオレフィン、すなわち先の段落中で例示したようなモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、好ましくは以下の方法により製造できる：
ａ）（通常、高圧および高められた温度においての）ラジカル重合
ｂ）通常周期表のIVｂ、Ｖｂ、VIｂまたはVIII属の金属の１個以上を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金属は通常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可能な、例えば酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび／またはアリールのような配位子の１つ以上を持つ。これら金属錯体は遊離型であるか例えば活性化塩化マグネシウム、塩化チタン（III)、酸化アルミニウムまたは酸化珪素のような支持体に固定化していてよい。これらの触媒は重合媒体中に可溶または不溶であってよい。触媒はそれ自体重合において使用でき、または、例えば金属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金属アルキル酸化物または金属アルキルオキサン（該金属は周期表のIa、IIa および／またはIIIa属の元素である。）のような別の活性剤が使用できる。活性剤は都合良くは、他のエステル、エーテル、アミンもしくはシリルエーテル基により改良され得る。
これら触媒系は通常フィリップス(Phillips)、スタンダードオイルインディアナ(Standard Oil Indiana)、チグラー（−ナッタ）〔Ziegler-(Natta) 〕、ＴＮＺ〔デュポン社(Dupont)〕、メタロセンまたはシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と称されるものである。
【００６０】
２． １．に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの種々のタイプの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００６１】
３．モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブト−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブト−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマーおよびそれらコポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（アイオノマー）およびエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー；ならびに前記コポリマー相互の混合物および１．に記載したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレン−コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニルアセテート（ＥＶＡ）コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレンアクリル酸（ＥＡＡ）コポリマー、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよび交互またはランダムポリアルキレン／一酸化炭素−コポリマー；ならびに他のポリマーとこれらの混合物、例えばポリアミド。
【００６２】
４. それらの水素化変性物（例えば粘着付与剤）およびポリアルキレンとデンプンの混合物を含む炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）。
【００６３】
５．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポリ−（α−メチルスチレン）。
【００６４】
６．スチレンまたは、α−メチルスチレンとジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；高衝撃強度のスチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーとの混合物；およびスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン、又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレン。
【００６５】
７．スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−アクリロニトリルにスチレンのようなもの；ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタアクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸またはマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレートまたはメタクリレート、エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、ならびにこれらと６．に列挙したコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡおよびＡＥＳポリマーとして知られているコポリマー混合物。
【００６６】
８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化および臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化もしくはクロロスルホン化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、好ましくはハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、およびポリフッ化ビニリデンならびにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。
【００６７】
９．α，β−不飽和酸、およびその誘導体から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル；ブチルアクリレートとの耐衝撃性改良ポリメチルメタクリレート。
【００６８】
10．上記９に挙げたモノマーの相互または他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル−アルキルメタクリレート−ブタジエンターポリマー。
【００６９】
11．不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；ならびにそれらと上記１．に記載したオレフィンとのコポリマー。
【００７０】
12．環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらとビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
【００７１】
13. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはＭＢＳで変性させたポリアセタール。
【００７２】
14．ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、ならびにポリフェニレンオキシドとポリスチレンまたはポリアミドとの混合物。
【００７３】
15. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物質。
【００７４】
16. ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６および１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンおよびアジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および／またはテレフタル酸および所望により変性剤としてのエラストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ−２，４，４−（トリメチルヘキサメチレン）テレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；さらに、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラフトしたエラストマーとのブロックコポリマー；またはこれらとポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコールとのコポリマー；ならびにＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性させたポリアミドまたはコポリアミド；加工の間に縮合させたポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド系）。
【００７５】
17. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントインおよびポリベンズイミダゾール。
【００７６】
18. ジカルボン酸およびジオールから、および/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１, ４−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレート、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロキシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロック−コポリエーテル−エステル；およびまたポリカーボネートまたはＭＢＳにより改良されたポリエステル。
【００７７】
19. ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネート。
【００７８】
20. ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエーテルケトン。
【００７９】
21．一方でアルデヒドから、および他方でフェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
【００８０】
22．乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。
【００８１】
23．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポリエステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変成物。
【００８２】
24．置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
【００８３】
25．メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂で架橋させたアルキッド樹脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
【００８４】
26．所望により促進剤を使用してアルデヒドまたはアミンのような慣用の硬化剤により架橋する、脂肪族、環状脂肪族、複素環式、芳香族グリシジルエーテル、例えばビスフェノールＡおよびビスフェノールＦのジグリシジルエーテルの生成物から誘導された架橋エポキシ樹脂。
【００８５】
27．天然ポリマー、例えば、セルロース、ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変性した同族誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪酸セルロース、およびセルロースエーテル、例えばメチルセルロース；ならびにロジンおよびそれらの誘導体。
【００８６】
28．前述のポリマーの混合物（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳもしくはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【００８７】
29．純粋なモノマー化合物またはそれらの混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテート）に基づいたオイル、脂肪およびワックス、ならびに典型的には紡糸組成物として用いられるいずれか重量比での合成エステルと鉱油との混合物、ならびにそれら材料の水性エマルジョン。
【００８８】
30．天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーのラテックス。
【００８９】
本発明はさらに酸化、熱または光に誘発される崩壊を受けやすい有機材料、および本発明の安定剤混合物よりなる組成物にも関する。
【００９０】
有機材料は、好ましくは合成ポリマー、より特別には前記にされた群より選択された１つのポリマーである。ポリオレフィンが好ましく、またポリエチレン、ポリプロピレンおよびそれらのコポリマーが特に好ましい。
【００９１】
本発明の安定剤系の化合物は単独でもしくは各々互いに混合物として安定化されるべき材料中に混入される。化合物は都合良くは各々互いに独立して０．０１ないし４．９９％の量で使用される、但し安定剤混合物の全量は、好ましくは安定化されるべき材料の全重量に基づいて０．０２ないし５％である。
【００９２】
安定剤系の全重量は好ましくは安定化されるべき材料の全重量に基づいて０．０５ないし３％であり、特別には０．０５ないし２％もしくは０．０５ないし１％である。
【００９３】
本発明の安定剤系２つの化合物の重量比は好ましくは２０：１ないし１：２０であり、特別には１０：１ないし１：１０、典型的には１：５ないっし５：１である。
【００９４】
安定剤混合物もしくは個々の安定剤は、有機材料中に知られている方法により、都合良くは成形物品に成形する前もしくは成形している間に混入されるか、または他の方法では有機材料に化合物の溶液もしくは分散剤を被覆しそして続いて蒸発により溶媒を取り除くことにより混入される。安定剤混合物の個々の化合物は安定化される材料中に粉末、顆粒もしくはこれらの化合物を２．５ないし２５重量％の濃度で含有するマスターバッチの形態で混入される。
【００９５】
所望により、新規な安定剤混合物の化合物は、有機材料中に混入される前に各々互いに溶融混合され得る。
【００９６】
本発明の安定剤混合物もしくは個々の安定剤はまた重合中もしくは架橋中に加えられる。
【００９７】
安定化された材料は、いかなる呈示の形態で、典型的にはシート、フィラメント、リボン、成形品、形材もしくは被覆組成物の結合剤、接着剤もしくはパテの形態にある。
【００９８】
他の異なる慣用の添加剤が安定化された有機材料中にまた混入され得る。それは典型的には以下に示されるものである。
【００９９】
１．抗酸化剤
１．１ アルキル化モノフェノール、例えば
２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、
２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、
２，６−ジ−シクロペンチル−４−メチルフェノ−ル、
２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、
２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノ−ル、
２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、
直鎖のまたは側鎖に枝分かれしているノニルフェノール例えば２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−ウンデカ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデカ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−トリデカ−１′−イル）−フェノールおよびそれらの混合物。
【０１００】
１．２．アルキルチオメチルフェノール、例えば２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【０１０１】
１．３ ヒドロキノンとアルキル化ヒドロキノン、例えば
２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、
２，５−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、
２，５−ジ−第三−アミル−ヒドロキノン、
２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【０１０２】
１．４ トコフェロール、例えば
α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミンＥ）
【０１０３】
１．５ ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば
２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、
２，２′−チオビス（４−オクチルフェノール）、
４，４′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、
４，４′−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス（３，６−ジ−第二−アミルフェノール）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−ジスルフィド。
【０１０４】
１．６ アルキリデンビスフェノール、例えば
２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、
２，２′−メチレン−ビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
２，２′−エチリデン−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
２，２′−エチリデン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール] 、
２，２′−メチレン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール] 、
４，４′−メチレン−ビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
４，４′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、
１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、
２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、
１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、
１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、
エチレングリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、
ビス（３−第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、
ビス［２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、
１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【０１０５】
１．７． Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物、例えば
３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル−メルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプトアセテート。
【０１０６】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば
ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート。
【０１０７】
１．９． ヒドロキシベンジル芳香族化合物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、
１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。
【０１０８】
１．１０． トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、
１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−イソシアヌレート、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート。
【０１０９】
１．１１． べンジルホスホネート、例えばジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチルエステルのＣａ塩。
【０１１０】
１．１２． アシルアミノフェノール、例えば
ラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、
ステアリン酸４−ヒドロキシアニリド、
カルバミン酸Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）オクチルエステル。
【０１１１】
１．１３． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１１２】
１．１４． β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１１３】
１．１５． β−（３，５−ジ−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば
メタノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１１４】
１．１６． ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、
メタノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１１５】
１．１７． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
【０１１６】
２． 紫外線吸収剤および光安定剤
２．１． ２− ( ２′−ヒドロキシフェニル ) ベンゾトリアゾール、例えば、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル) フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール；
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２’−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、および
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾールの混合物、
２，２’−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 −］2 −（式中，Ｒ＝３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−べンゾトリアゾール−２−イル−フェニルである。）。
【０１１７】
２．２． ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば
４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒドロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。
【０１１８】
２．３． 置換されたおよび非置換安息香酸のエステル、例えば
４−第三ブチルフェニル＝サリチレート、
フェニル＝サリチレート、
オクチルフェニル＝サリチレート、
ジベンゾイルレゾルシノール、
ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、
ベンゾイルレゾルシノール、
２，４−ジ−第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【０１１９】
２．４． アクリレート、例えば
エチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、
イソオクチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、
メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、
ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、
メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート、および
Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル) −２−メチルインドリン。
【０１２０】
２．５． ニッケル化合物，例えば
２，２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル) −フェノール］のニッケル錯体，例えば１：１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって，所望により他の配位子を伴うもの。
【０１２１】
２．６． 立体障害アミン、例えば
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）サクシネート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、
１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、
Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、
トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、
テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、
１，１′−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン），
４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチル−ベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）サクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンおよび４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−クロロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンならびに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（ＣＡＳ 登録Ｎｏ．［１３６５０４−９６−６］）の縮合生成物；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物。
【０１２２】
２．７． シュウ酸ジアミド、例えば
４，４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、
２，２′−ジエトキシオキサニリド、
２，２′−ジ−オクチルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニリド、
２，２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニリド、
２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、
２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エトキシオキサニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混合物，
ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【０１２３】
２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシ−フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン。
【０１２４】
３． 金属不活性化剤，例えば
Ｎ，Ｎ′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、
Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、
３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、
ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド、オキサニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビス−フェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイル−ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル−シュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
【０１２５】
４． ホスフィットおよびホスホナイト、例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、
トリオクタデシルホスフィット、
ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、
ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット
ビス（２，４，６−トリ−第三ブチル−ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、
トリステアリルソルビトールトリホスフィット、
テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、
６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、
６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット。
【０１２６】
５． 過酸化物スカベンジャー、例えば
β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【０１２７】
６． ポリアミド安定剤、例えば
ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価マンガンの塩。
【０１２８】
７． 塩基性補助安定剤、例えば
メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、
高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステアリン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン酸Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫塩。
【０１２９】
８． 核剤、例えば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。
【０１３０】
９． 充填剤および強化剤、例えば
炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。
【０１３１】
１０．その他の添加剤、例えば
可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、蛍光増白剤、難燃剤、静電防止剤および発泡剤。
【０１３２】
１１ . ベンゾフラノンまたはインドリノン、例えば
ＵＳ−Ａ−４３２５８６３号、ＵＳ−Ａ−４３３８２４４号、ＵＳ−Ａ−５１７５３１２号、ＵＳ−Ａ−５２１６０５２号、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３号、ＤＥ−Ａ−４３１６６１１号、ＤＥ−Ａ−４３１６６２２号、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６号、ＥＰ−Ａ−０５８９８３９号もしくはＥＰ−Ａ−０５９１１０２号に記載されているもの、または３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン。
【０１３３】
安定剤混合物と慣用の添加剤の重量比は、１：０．５ないし１：５である。
【０１３４】
本発明のたの目的は、酸化、熱もしくは光により誘発される崩壊に対して有機材料を安定化するための新規な安定剤混合物の使用である。
【０１３５】
安定剤系により安定化された有機材料は実質的に増強された耐光堅牢度だけでなく、また増強された耐熱度に特徴を有する。
【０１３６】
【発明の実施の態様】
本発明はより詳細に以下の実施例により説明される。全ての百分率は特に断らない限り重量当りを示す。
【０１３７】
実施例１ないし４において使用された安定剤：
【０１３８】
化合物Ａ−１：
【化５６】
【０１３９】
化合物Ａ−２：
【化５７】
【０１４０】
化合物Ｂ：
【化５８】
【０１４１】
化合物Ｃ：
次式
Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2
で表されるポリアミンとシアヌル酸クロリドとの反応により得られる生成物を、次式
【化５９】
【０１４２】
化合物Ｄ：次式ＶａおよびＶｂで表される化合物
【化６０】
【０１４３】
【実施例】
実施例１：ポリプロピレン繊維の光安定化
安定化されていないポリプロピレン粉末（２３０度および２．１６ｋｇにおけるメルトインデックス：約１５ｇ／１０分、）１０００部を、インペラー(impeller)中でカルシウム３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジルモノエチルホスホネート０．５部、トリス（２，４−ジ−第三−ブチルフェニル）ホスフィット０．５部、二酸化チタン２．５部、ステアリン酸カルシウム１部および表１に挙げられた安定剤６部と混合しそしてその後２２０℃において押出し機から押出しそして顆粒化した。そのようにして得られた顆粒を、実験室用溶融紡糸ラインにおいて２７０℃の最高温度および６００ｍ／分の速度において１２．１デジテックス（Dezitex)のマルチフィラメントに紡糸した。このマルチフィラメントを引取撚糸機（draw-twister) 上で引き伸ばしそして撚った。引き伸ばし率は１：３．２であり、最終的に３．９デジテックスのマルチフィラメントが得られた。これらのマルチフィラメントを白色ボール紙上に載せ、そして２０分間１２０℃のオーブン中で処理し（幅出しの模擬実験）そして最終的にXenotest 1200 中で暴露した。
【０１４４】
安定化作用の表示は、引張強さが５０％減少するまでの暴露時間で示される。結果は以下の表１にまとめられる。
【０１４５】
実施例２：ポリプロピレン繊維の光安定化
安定化されていないポリプロピレン粉末（２３０℃および２．１６ｋｇにおけるメルトインデックス：約１５ｇ／１０分、）１０００部を、インペラー(impeller)中でカルシウム３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジルモノエチルホスホネート０．５部、トリス（２，４−ジ−第三−ブチルフェニル）ホスフィット０．５部、二酸化チタン２．５部、ステアリン酸カルシウム１部および表２に挙げられた安定剤と混合しそしてその後２２０℃において押出し機から押出しそして顆粒化した。そのようにして得られた顆粒を、実験室用溶融紡糸ラインにおいて２７０℃の最高温度および６００ｍ／分の速度において１２．１デジテックス（Dezitex)のマルチフィラメントに紡糸した。このマルチフィラメントを引取撚糸機（draw-twister) 上で引き伸ばしそして撚った。引き伸ばし率は１：３．２であり、最終的に３．９デジテックスのマルチフィラメントが得られた。これらのマルチフィラメントを白色ボール紙上に載せ、そしてその後Ｃｉ６５ウエザロメータ中で暴露した。
【０１４７】
安定化作用の表示は、引張強さが５０％減少するまでの暴露時間で示される。結果は以下の表２にまとめられる。
【０１４８】
実施例３：ポリプロピレンブロックコポリマーシートの光安定化
ポリプロピレンブロックコポリマー粉末１００部、ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート０．０５部、トリス（２，４−ジ−第三−ブチルフェニル）ホスフィット０．１０部、ステアリン酸カルシウム０．１部および表３に挙げられた安定剤をブラベンダープラストグラフ中において２００℃において１０分間均質化した。貯蔵物をニーダーよりできる限り素早く取り出しそしてトグルプレス中において２ないし３ｍｍ厚の板に成形した。ブランク成形品の一部を切り取りそして２つの高研磨硬質アルミニウムシート間において実験用油圧プレスを用いて６分間２６０℃において０．５ｍｍ厚のシートにプレス成形し、即座に水冷プレスにおいて冷却した。６０ｍｍ×２５ｍｍ寸法のセグメントをこの０．５ｍｍシートから打ち抜きしそしてＣｉ６５ウエザロメータ（ブラック標準温度６３±２℃、ぬれなし）中において暴露した。一定の間隔をおいてこれらの試料を暴露装置より取り除きそしてそれらのカルボニル基含量についてＩＲスペクトルメータで調べた。暴露の間カルボニル基の消滅の増加はポリマーの光酸化的崩壊の表示となりそして通常機械的特性の減少と関連している。
結果は以下の表３にまとめられる。
【０１５０】
実施例４：低密度ポリエチレン（ＰＥ−ＬＤ）シートの光安定化
ＰＥ−ＬＤ粉末（密度＝０．９１８ｇ／ｃｍ3 ）１００部、オクタデシル−３−（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート０．０３部および表４に挙げられた安定剤をブラベンダープラストグラフ中において１８０℃において１０分間均質化した。貯蔵物をニーダーよりできる限り素早く取り出しそしてトグルプレスにおいて２ないし３ｍｍ厚の板に成形した。ブランク成形品の一部を切り取りそして２つの高研磨硬質アルミニウムシート間において実験室用油圧プレスを用いて６分間１７０℃において０．２ｍｍ厚のシートにプレス成形し、即座に水冷プレスにおいて冷却した。６０ｍｍ×２５ｍｍ寸法のセグメントをこの０．２ｍｍシートから打ち抜きしそして０．１ＮのＨ2 ＳＯ3 溶液中に２４時間浸漬させた（酸性雨の模擬実験）。 Ｃｉ６５ウエザロメータ（ブラック標準温度６３±２℃、ぬれなし）中において暴露した。一定の間隔をおいてこれらの試料を暴露装置より取り除きそしてそれらのカルボニル含量のためにＩＲスペクトロメータで調べた。暴露の間のカルボニル基の消滅の増加はポリマーの光酸化的崩壊の示差となりそして通常機械的特性の減少と関連している。結果は以下の表４にまとめられる。
【０１５２】
Claims (11)
- 成分ａ）、ｂ）、ｃ）およびｄ）の群より選択された少なくとも２つの異なる化合物を２０：１ないし１：２０の重量比で含む安定剤混合物であって、成分ａ）は少なくとも１つの次式Ｉ
Ｒ1 およびＲ3 は付加的に各々他方と独立して水素原子を表し、
Ｒ2 は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基を表すか、もしくは
Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は結合する窒素原子と一緒になって、５ないし１０員複素環を形成し、
ｎ1 は２ないし５０の整数を表し、およびＲ1 、Ｒ3 およびＲ4 のうち少なくとも１つは式ＩＩの基を表す。〕で表される化合物を表し、
成分ｂ）は少なくとも１種の式ＩＩＩ
Ｒ7 は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基を表すか、もしくは
Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は結合する窒素原子と一緒になって５ないし１０員複素環を形成し、
Ｒ9 およびＲ10は各々他方と独立して炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数
５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換されたフェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは式ＩＩの基を表すか、もしくはＲ9 およびＲ10は結合する窒素原子と一緒になって、５ないし１０員複素環を形成し、
ｎ2 は２ないし５０の整数を表し、およびＲ6 、Ｒ8 、Ｒ9 およびＲ10のうち少なくとも１つは式ＩＩの基を表す。〕で表される化合物を表し、
成分ｃ）は次式ＩＶａで表されるポリアミンとシアヌル酸クロリドとの反応により得られる生成物を、次式ＩＶｂで表される化合物と反応させることにより得られる生成物
Ｒ11は水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基もしくは炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、および
Ｒ12はＲ5 に与えられた意味の内の１つを表す。）であり、
成分ｄ）は少なくとも１つの次式ＶａおよびＶｂ
- 少なくとも１つの成分ａ）の化合物および少なくとも１つの成分ｂ）もしくは成分ｃ）の化合物よりなるか、もしくは
少なくとも１つの成分ａ）、ｂ）もしくはｃ）の化合物および少なくとも１つの成分ｄ）の化合物よりなるか、もしくは
少なくとも１つの成分ｂ）の化合物および少なくとも１つの成分ｃ）の化合物よりなるか、もしくは、
少なくとも２つの成分ａ）の化合物よりなるところの請求項１記載の安定剤混合物。 - 成分ａ）の式Ｉの化合物は次式
- 成分ａ）の式Ｉの化合物は次式
- 次式
Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2
で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させることより得られる生成物を、次式
- 成分ｄ）の式ＶａおよびＶｂ
- 成分ｄ）の式ＶａおよびＶｂ
Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2
で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させることより得られる反応生成物を、次式
- 次式
Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2
で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させることより得られる生成物を、次式
- 酸化、熱もしくは光に誘発されて崩壊しやすい有機材料、および該有機材料の全重量に基づいて、０．０２ないし５％の請求項１記載の安定剤混合物よりなるところの組成物。
- 有機材料はポリオレフィンであるところの請求項９記載の組成物。
- 成分ｃ）が次式
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