JPH1036661A - ポリアミド、ポリエステルおよびポリケトンの安定化 - Google Patents

ポリアミド、ポリエステルおよびポリケトンの安定化

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JPH1036661A
JPH1036661A JP9301797A JP9301797A JPH1036661A JP H1036661 A JPH1036661 A JP H1036661A JP 9301797 A JP9301797 A JP 9301797A JP 9301797 A JP9301797 A JP 9301797A JP H1036661 A JPH1036661 A JP H1036661A
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carbon atoms
tert
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butyl
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JP9301797A
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Andre Schmitter
シュミッター アンドレ
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BASF Schweiz AG
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Ciba Geigy AG
Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明はポリアミド、ポリエステルもしくは
ポリケトン、特定の有機ホスフィット（登録商標Irgafo
s 12、チバ−ガイギー社製）および立体障害性フェノー
ル例えばIrganox 1098、Irganox 1076、Irganox 1010、
Irganox 245 、Irganox 259 、Irganox 1035、Irganox
3114もしくはIrganox 3125（チバ−ガイギー社製）を含
む組成物、酸化的、熱的および／もしくは光に誘発され
る崩壊に対してポリアミド、ポリエステルもしくはポリ
ケトンを安定化するためのそれらの使用、並びにこれら
のプラスチック材料を安定化させる方法に関する。 【解決手段】次式ＩもしくはＩＩで表される化合物によ
り課題が解決される。 【化１】 （式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ1 およびＲ2 は請求項１において定
義された意味を表す。）

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はポリアミド、ポリエ
ステルもしくはポリケトン、特定の有機ホスフィット
（登録商標Irgafos 12、チバ−ガイギー社製）および立
体障害性フェノールを含む組成物、酸化的、熱的および
／もしくは光に誘発される崩壊に対してポリアミド、ポ
リエステルもしくはポリケトンを安定化するためのそれ
らの使用、並びにこれらのプラスチック材料を安定化さ
せる方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】米国特許明細書第４３６０６１７号よ
り、対称性トリアリールホスフィットおよび特定の抗酸
化剤を含む安定剤混合物が、酸化的、熱的もしくは光に
誘発される崩壊に対して有機材料特にポリウレタン、ポ
リアクリロニトリル、ポリアミド１２もしくはポリスチ
レンを保護することに特に適していることが知られてい
る。トリス（２，４−ジ−第三−ブチルフェニル）ホス
フィット（登録商標Irgafos 168 チバ−ガイギー社製）
が好ましいトリアリールホスフィットとして開示されて
いる。
【０００３】ポリアミド、ポリエステルおよびポリケト
ンにおいて、これらの知られている安定剤混合物はそれ
らの要求を全て満たしていなかった。該安定剤の混合物
が、オーブン老化の際にポリアミドのスターティングカ
ラー(starting colour) 並びに発色を減少させることお
よびオーブン老化および光暴露の際にそれらがポリアミ
ドの機械的特性の減少を抑えることが知られている。こ
れらの安定剤混合物の不利な点は、しばしばこれらのホ
スフィットがブルームする傾向があることである。
【０００４】米国特許明細書第４３１８８４５号および
同４３７４２１９号は、環状１，１’−ビフェニル−
２，２’−ジイルホスフィットおよびアルキリジン−
１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイルホスフィット
のアルカノールアミンエステルを有機ポリマーおよび潤
滑油のための安定剤として、特にポリオレフィン、エラ
ストマー、ポリエステルおよびポリカーボネートのため
の加工安定剤として開示している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】米国特許明細書第４３
１８８４５号および同４３７４２１９号から選択された
極めて特定のホスフィットと一緒に極めて特定の立体障
害性フェノールを含む安定剤混合物は、ポリアミド、ポ
リエステルもしくはポリケトンのための安定剤として特
に適していることが今見いだされた。そのようにして安
定化されたポリアミド、ポリエステルもしくはポリケト
ンは、酸化的、熱的および／もしくは光に誘発される崩
壊に対して改良された特性を有し、そして新規なホスフ
ィットはブルームしない。
【０００６】
【課題を解決するための手段】従って、本発明はａ）酸
化的、熱的もしくは光に誘発される崩壊を受けやすいポ
リアミド、ポリエステルまたはポリケトン ｂ）次式Ｉ
【化１２】 で表されるホスフィットおよび ｃ）少なくとも１種の次式ＩＩ
【化１３】 （式中、Ｒ1 は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表
し、ｎは１、２、３もしくは４を表し、Ｘはメチレン
基、次式
【化１４】 を表し、Ｙは酸素原子もしくは−ＮＨ−を表し、および
ｎ＝１の場合 Ｘは次式
【化１５】 を表し、ＹはＲ2 に結合しており、およびＲ2 は炭素原
子数１ないし２５のアルキル基を表し、およびｎ＝２の
場合 Ｘは次式
【化１６】 を表し、ＹはＲ2 に結合しており、およびＲ2 は炭素原
子数２ないし１２のアルキレン基、酸素原子もしくは硫
黄原子により中断された炭素原子数４ないし１２のアル
キレン基を表すか、またはＹが−ＮＨ−を表す場合、Ｒ
2 はさらに直接結合を表し、およびｎ＝３の場合 Ｘはメチレン基もしくは次式
【化１７】 を表し、該式中のエチレン基はＲ2 に結合しており、お
よびＲ2 は次式
【化１８】 を表し、およびｎ＝４の場合 Ｘは次式
【化１９】 を表し、ＹはＲ2 に結合しており、およびＲ2 は炭素原
子数４ないし１０のアルカンテトライル基を表す。）で
表される化合物を含む組成物に関する。
【０００７】
【発明の実施の形態】２５個までの炭素原子を有するア
ルキル基は枝分かれもしくは線状基であり、典型的には
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、第二−ブチル基、イソブチル基、第三−ブ
チル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペ
ンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブ
チル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−
ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラ
メチルブチル基、１−メチルへプチル基、３−メチルヘ
プチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、
１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−
テトラメチルフェニル基、ノニル基、デシル基、ウンデ
シル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，
１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデ
シル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシ
ル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル
基、もしくはドコシル基を表す。好ましいＲ1 の意味は
メチル基および第三−ブチル基である。Ｒ2 は特に好ま
しくは、炭素原子数１ないし２０のアルキル基、特に炭
素原子数１ないし１８のアルキル基、典型的には炭素原
子数４ないし１８のアルキル基を表す。Ｒ2 は特に好ま
しくは炭素原子数８ないし１８のアルキル基、特に炭素
原子数１４ないし１８のアルキル基、典型的には炭素原
子数１８のアルキル基を表す。
【０００８】炭素原子数２ないし１２のアルキレン基は
枝分かれもしくは直鎖基であり、典型的にはエチレン
基、プロピレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン
基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチ
レン基、デカメチレン基もしくはドデカメチレン基を表
す。Ｒ2 は特に好ましくは例えば、炭素原子数２ないし
１０のアルキレン基、特に炭素原子数２ないし８のアル
キレン基を表す。Ｒ2 は特に好ましくは例えば炭素原子
数４ないし８のアルキレン基、特に炭素原子数４ないし
６のアルキレン基、典型的にはヘキサメチレン基を表
す。
【０００９】酸素原子もしくは硫黄原子により中断され
た炭素原子数４ないし１２のアルキレン基は、１回もし
くは数回中断されており、そして典型的には−ＣＨ2 −
Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 、−ＣＨ2 −（Ｏ−ＣＨ
2 ＣＨ2 ）2 Ｏ−ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −（Ｏ−ＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 ）3 Ｏ−ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −（Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ
2 ）4 Ｏ−ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ
2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −、もしくは−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｓ
−ＣＨ2 ＣＨ2 −を表す。Ｒ2 は特に好ましくは例えば
酸素原子もしくは硫黄原子により中断された炭素原子数
４ないし１０のアルキレン基、特に酸素原子もしくは硫
黄原子により中断された炭素原子数４ないし８のアルキ
レン基、典型的には酸素原子もしくは硫黄原子により中
断された炭素原子数４ないし６のアルキレン基を表す。
Ｒ2 は特に好ましくは−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ
2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2−もしくは−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｓ−
ＣＨ2 ＣＨ2 −を表す。
【００１０】炭素原子数４ないし１０のアルカンテトラ
イル基は典型的には次式
【化２０】 で表される。ペンタエリスリトールが好ましい。
【００１１】成分（ｃ）はまた異なる式ＩＩの立体障害
性フェノールの混合物でもある。興味のあるコンパウン
ドは、成分（ｃ）として少なくとも１種の式ＩＩの化合
物（式中、ｎ＝１の場合、Ｒ2 は炭素原子数１ないし２
０のアルキル基を表す。）を含有する組成物である。
【００１２】好ましい組成物は、成分（ｃ）が少なくと
も１種の式ＩＩの化合物（式中、ｎ＝２の場合、Ｒ2 は
炭素原子数２ないし８のアルキレン基、酸素原子もしく
は硫黄原子により中断された炭素原子数４ないし８のア
ルキレン基を表すか、またはＹが−ＮＨ−を表す場合、
Ｒ2 はさらに直接結合を表し、ｎ＝４の場合、Ｒ2 は炭
素原子数４ないし８のアルカンテトライル基を表す。）
である組成物である。
【００１３】好ましい組成物は、成分（ｃ）が少なくと
も１種の式ＩＩの化合物（式中、Ｒ1 はメチル基もしく
は第三−ブチル基を表し、ｎは１、２もしくは４を表
し、Ｘは次式
【化２１】 を表し、Ｙは酸素原子もしくは−ＮＨ−を表し、および
ｎ＝１の場合、Ｒ2 は炭素原子数１４ないし１８のアル
キル基を表し、およびｎ＝２の場合、Ｒ2 は炭素原子数
４ないし６のアルキレン基、もしくは酸素原子により中
断された炭素原子数４ないし６のアルキレン基を表し、
およびｎ＝４の場合、Ｒ2 は炭素原子数４ないし６のア
ルカンテトライル基を表す。）である組成物である。
【００１４】興味のある組成物は、成分（ｃ）が、次式
ＩＩａ、ＩＩｂ、ＩＩｃもしくはＩＩｄ
【化２２】
【化２３】
【化２４】 で表される少なくとも１種の化合物である組成物であ
る。
【００１５】登録商標Irganox 1098、登録商標Irganox
1076、 登録商標Irganox 1010、登録商標Irganox 245 、
登録商標Irganox 259 、登録商標Irganox 3114、登録商
標Irganox 1035、登録商標Irganox 3125は、チバ−ガイ
ギー社の登録商標である。
【００１６】好ましい組成物は成分（ｃ）として少なく
とも１種の式Ｉの化合物（式Ｉの化合物は式ＩＩａ、Ｉ
Ｉｂ、ＩＩｃもしくはＩＩｄの化合物、特に式ＩＩａ、
ＩＩｂもしくはＩＩｃの化合物、典型的には式ＩＩａの
化合物を表す。）を含有する組成物である。
【００１７】新規な組成物の成分（ｂ）、または式Ｉの
ホスフィットは知られておりまたその製造方法は米国特
許４３１８８４５号および同４３７４２１９号の実施例
４において初めから開示されている。このホスフィット
は異なる変法により得られ得るものであって、特に下記
の米国特許第５２７６０７６号は式Ｉのホスフィットの
ソリッド無定型形態を開示し、米国特許第５３３４７３
９号は式Ｉのホスフィットのα−結晶体を開示し、米国
特許第５３２６８０２号は式Ｉのホスフィットのβ−結
晶体を開示し、米国特許第５３２１０３１号は式Ｉのホ
スフィットのγ−結晶体を開示している。式Ｉのホスフ
ィットは登録商標Irgafos 12（チバ−ガイギー社製）の
下、商業的に入手可能なものである。
【００１８】新規組成物の成分（ｃ）、または式ＩＩの
化合物は知られておりまたいくつかは商業的に入手可能
である。可能な式ＩＩの化合物の製造方法は、特に米国
特許３３３０８５９号および同３９６０９２８号におい
て見いだされ得る。
【００１９】ポリアミドはジアミンおよびジカルボン酸
からおよび／もしくはアミノカルボン酸からもしくはそ
れらの相当するラクトンから誘導される脂肪族および芳
香族ポリアミドもしくはコポリアミドを意味するものと
して理解される。適したポリアミドは例えば、ＰＡ６、
ＰＡ１１、ＰＡ１２、ＰＡ４６、ＰＡ６．６、ＰＡ６．
９、ＰＡ６．１０もしくはＰＡ６．１２、ＰＡ１０．１
２、ＰＡ１２．１２およびまたTrogamid PA-3-T および
Grilamid TR55 タイプの無定型のポリアミドである。上
記タイプのポリアミドは一般に知られまた商業的に入手
可能である。
【００２０】興味のある組成物は、成分（ａ）としてポ
リアミド６、ポリアミド６．６、ポリアミド１１もしく
はポリアミド１２、またはそれらのコポリマー、特にポ
リアミド６もしくはポリアミド６．６、もしくはエラス
トマー−変性ポリアミド６もしくはポリプロピレンとブ
レンドされたポリアミド６．６である。
【００２１】ポリエステルは、脂肪族、環状脂肪族また
は芳香族のジカルボン酸およびジオールまたはヒドロキ
シカルボン酸から誘導されるホモ−またはコポリエステ
ルであってよい。脂肪族ジカルボン酸は炭素原子を２な
いし４０個含有し得、環状脂肪族ジカルボン酸は炭素原
子を６ないし１０個含有し得、芳香族ジカルボン酸は炭
素原子を８ないし１４個含有し得、脂肪族ヒドロキシカ
ルボン酸は炭素原子を２ないし１２個含有してもよく、
そして芳香族および環状脂肪族ヒドロキシカルボン酸は
炭素原子を７ないし１４個含有し得る。脂肪族ジオール
は炭素原子を２ないし１２個含有し得、環状脂肪族ジオ
ールは炭素原子を５ないし８個含有し得、そして芳香族
ジオールは炭素原子を６ないし１６個含有し得る。芳香
族ジオールは、２個のヒドロキシ基が１個のまたは異な
る芳香族炭化水素基に結合されているものを意味すると
理解される。ポリエステルはまた、少量、例えばジカル
ボン酸に基づいて０．１ないし３モル％の２官能価以上
のモノマー（例えばペンタエリトリトール、トリメリッ
ト酸、１，３，５−トリス（ヒドロキシ）ベンゼン、
２，４−ジヒドロキシ安息香酸もしくは２−（４−ヒド
ロキシフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニ
ル）プロパン）で枝分かれされていてもよい。ポリエス
テルが少なくとも３種のモノマーをベースとするとき、
該モノマーはランダムに分散されていても、また、それ
らはブロックポリマーであってもよい。適当なジカルボ
ン酸は線状または枝分かれ飽和脂肪族ジカルボン酸、芳
香族ジカルボン酸および環状脂肪族ジカルボン酸であ
る。
【００２２】適当な脂肪族ジカルボン酸は炭素原子数２
ないし４０のもの、典型的にはシュウ酸、マロン酸、ジ
メチルマロン酸、コハク酸、ピメリン酸、アジピン酸、
トリメチルアジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸およ
びダイマー酸（不飽和脂肪族カルボン酸、例えばオレイ
ン酸の二量化物）、アルキル化マロン酸およびコハク
酸、例えばオクタデシルコハク酸である。
【００２３】適当な環状脂肪族ジカルボン酸は以下のも
のである：１，３−シクロブタンジカルボン酸、１，３
−シクロペンタンジカルボン酸、１，３−および１，４
−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−および１，４
−（ジカルボキシメチル）シクロヘキサン、４，４’−
ジシクロヘキシルジカルボン酸。
【００２４】適当な芳香族ジカルボン酸は以下のもので
ある：好ましくはテレフタル酸、イソフタル酸、ｏ−フ
タル酸並びに１，３−、１，４−、２，６−または２，
７−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジ
カルボン酸、４，４’−ジフェニルスルホンジカルボン
酸、４，４’−ベンゾフェノンジカルボン酸、１，１，
３−トリメチル−５−カルボキシル−３−（ｐ−カルボ
キシフェニル）インダン、４，４’−ジフェニルエーテ
ルジカルボン酸、ビス−ｐ−（カルボキシフェニル）メ
タン、もしくはビス−ｐ−（カルボキシフェニル）エタ
ン。
【００２５】芳香族ジカルボン酸が好ましく、特にテレ
フタル酸およびイソフタル酸および２，６−ナフタレン
ジカルボン酸が好ましい。その他の適当なジカルボン酸
は−ＣＯ−ＮＨ−基を含有するものであり、そしてＤＥ
−Ａ−２４１４３４９号に開示されているものである。
Ｎ−複素環を含有するジカルボン酸もまた適当であり、
例えばカルボキシアルキル化、カルボキシフェニル化ま
たはカルボキシベンジル化モノアミン−ｓ−トリアジン
ジカルボン酸から誘導されるもの（ＤＥ−Ａ−２１２１
１８４号および同２５３３６７５号参照）、モノ−また
はビスヒダントイン、ベンズイミダゾレンまたはハロゲ
ン化ベンズイミダゾレンまたはパラバン酸である。これ
らの化合物におけるカルボキシアルキル基は炭素原子を
３ないし２０個含有し得る。
【００２６】適当な脂肪族ジオールは線状または枝分か
れ脂肪族グリコール、好ましくは分子内に炭素原子を２
ないし１２個、最も好ましくは炭素原子を２ないし６個
含有するものであり、例えば以下のものを包含する：エ
チレングリコール、１，２−および１，３−プロピレン
グリコール、１，２−、１，３−、２，３−または１，
４−ブタンジオール、ペンチルグリコール、ネオペンチ
ルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，１２−
ドデカンジオール。適当な環状脂肪族ジオールは例え
ば、１，４−ジヒドロキシシクロヘキサンである。その
他の適当な脂肪族ジオールは典型的には１，４−ビス
（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン、芳香族−脂肪族
ジオール、例えばｐ−キシレングリコールまたは２，５
−ジクロロ−ｐ−キシレングリコール、２，２−（β−
ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン、並びにポリオ
キシアルキレングリコール例えばジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール
またはポリプロピレングリコールである。アルキレンジ
オールは好ましくは線状であり、そして好ましくは炭素
原子を２ないし４個含有する。
【００２７】好ましいジオールはアルキレンジオール、
１，４−ジヒドロキシシクロヘキサンおよび１，４−ビ
ス（ヒドロキシメチル）シクロヘキサンである。エチレ
ングリコールおよび１，４−ブタンジオール並びに１，
２−および１，３−プロピレングリコールが特に好まし
い。
【００２８】その他の適当な脂肪族ジオールは２，２−
ビス〔４’−（β−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プ
ロパンに例示されるようなβ−ヒドロキシアルキル化、
好ましくはβ−ヒドロキシエチル化ビスフェノールであ
る。その他のビスフェノールは以下に記載される。
【００２９】適当な脂肪族ジオールのその他の群はドイ
ツ特許公開公報第１８１２００３号、同第２３４２４３
２号、同第２３４２３７２号および同第２４５３３２６
号に開示された複素環式ジオールからなる。以下に例示
する：Ｎ，Ｎ’−ビス（β−ヒドロキシエチル−５，５
−ジメチル）ヒダントイン、Ｎ，Ｎ’−ビス（β−ヒド
ロキシプロピル−５，５−ジメチル）ヒダントイン、メ
チレンビス〔Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）−５−メチ
ル−５−エチルヒダントイン〕、メチレンビス〔Ｎ−
（β−ヒドロキシエチル）−５，５−ジメチルヒダント
イン〕、Ｎ，Ｎ’−ビス（β−ヒドロキシエチルベンジ
ルイミダゾロン、−（テトラクロロ）ベンズイミダゾロ
ンまたは−（テトラブロモ）ベンズイミダゾロン。適当
な芳香族ジオールは単核ジフェノール、そして好ましく
は、各芳香核にシドロキシ基を有する二核ジフェノール
である。芳香族とは好ましくは芳香族炭化水素基、例え
ばフェニレン基またはナフチレン基を意味するものと理
解されるべきである。例えばヒドロキノン、レゾルシノ
ールもしくは１，５−、２，６−および２，７−ジヒド
ロキシナフタレンの他に、下記式で表され得るビスフェ
ノールが特記される：
【化２５】
【００３０】ヒドロキシ基はｍ位であってよいが、好ま
しくはｐ位である。上記式中のＲ’およびＲ”は炭素原
子数１ないし６のアルキル基、ハロゲン原子、例えば塩
素原子または臭素原子および好ましくは水素原子を表し
得る。Ａは直接結合または酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ
−、−ＳＯ2 −、＞ＣＯ−、−Ｐ（Ｏ）（炭素原子数１
ないし２０のアルキル）−、未置換もしくは置換アルキ
リデン基、シクロアルキリデン基またはアルキレン基で
あってもよい。
【００３１】未置換または置換アルキリデン基の典型例
は例えば以下のものである：エチリデン基、１，１−ま
たは２，２−プロピリデン基、２，２−ブチリデン基、
１，１−イソブチリデン基、ペンチリデン基、ヘキシリ
デン基、ヘプチリデン基、オクチリデン基、ジクロロエ
チリデン基、トリクロロエチリデン基。未置換または置
換アルキレン基の典型例はメチレン基、エチレン基、フ
ェニルメチレン基、ジフェニルメチレン基、メチルフェ
ニルメチレン基である。シクロアルキリデン基の例はシ
クロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロヘ
プチリデン基およびシクロオクチリデン基である。
【００３２】ビスフェノールの典型例は以下のものであ
る：ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エーテルまたはビ
ス（ｐ−ヒドロキシフェニル）チオエーテル、ビス（ｐ
−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（ｐ−ヒドロキ
シフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）
−２，２’−ビフェニル、フェニルヒドロキノン、１，
２−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン、１−フェ
ニル−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、ジフェ
ニルビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン、ジフェニ
ルビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビ
ス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−ｐ
−ジイソプロピルベンゼン、ビス（３，５−ジメチル−
４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼ
ン、２，２−ビス（３’，５’−ジメチル−４’−ヒド
ロキシフェニル）プロパン、１，１−または２，２−ビ
ス（ｐ−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス
（ｐ−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、
１，１−ジクロロ−または１，１，１−トリクロロ−
２，２−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン、１，
１−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）シクロペンタンお
よび好ましくは２，２−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン（ビスフェノールＡ）および１，１−ビス
（ｐ−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスフェ
ノールＣ）。
【００３３】ヒドロキシカルボン酸の適当なポリエステ
ルには典型的にはポリカプロラクトン、ポリピバロラク
トンまたは４−ヒドロキシシクロヘキサンカルボン酸ま
たは４−ヒドロキシ安息香酸のポリエステルが含まれ
る。
【００３４】また適したポリマーは、他の結合もまた含
み得る、主にエステル結合を含有するポリマー、例えば
ポリエステルアミドもしくはポリエステルイミドであ
る。
【００３５】芳香族ジカルボン酸とのポリエステル、特
にポリアルキレンテレフタレートが最大の重要性を発揮
した。それ故に、本発明の成形材料は、ポリエステルが
該ポリエステルに基づいて、少なくとも３０モル％、好
ましくは少なくとも４０モル％の芳香族ジカルボン酸を
少なくとも３０モル％、好ましくは少なくとも４０モル
％の、好ましくは炭素原子数２ないし１２のアルキレン
ジオールを含有するものが好ましい。
【００３６】この場合において特に、アルキレンジオー
ルは線状であり、そして炭素原子を２ないし６個含有
し、典型的にはエチレン、トリメチレン、テトラメチレ
ンまたはヘキサメチレングリコールにより例示され、ま
た芳香族ジカルボン酸はテレフタル酸および／またはイ
ソフタル酸により例示される。
【００３７】特に適したポリエステルはＰＥＴ、ＰＥＴ
Ｇ（グリコール変性されたポリエチレンテレフタレー
ト）もしくはＰＢＴおよび相当するコポリマーである。
ＰＥＴおよびそのコポリマーが特に好ましい。
【００３８】ポリケトンは、一酸化炭素を例えば特にＥ
Ｐ−Ａ−０２２２４５４もしくは同０６８５５１７に開
示された不飽和炭化水素と一緒に重合することにより製
造されるプラスチック材料を意味するものとして理解さ
れる。
【００３９】上記の都合の良い組成物は、成分（ａ）の
重量に基づいて、成分（ｂ）および（ｃ）が一緒になっ
て、０．０５ないし５％、好ましくは０．１ないし５
％、典型的には０．１ないし２％の量で存在するもので
ある。
【００４０】また好ましいものは、成分（ｂ）：（ｃ）
の重量比が１０：１ないし１：１０、好ましくは５：１
ないし１：５、典型的には４：１ないし１：２である組
成物である。
【００４１】成分（ｂ）および（ｃ）に加えて、新規組
成物は付加的な添加剤もしくは補助安定剤、例えば以下
のようなもの含有し得る。
【００４２】１．抗酸化剤 １．１ アルキル化モノフェノール 、例えば２，６−ジ
−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−ブチル−
４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル
−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４
−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４
−イソブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチル
−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘキ
シル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオク
タデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリシ
クロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４
−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル−４−
メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メ
チル−ウンデシ−１′−イル）−フェノール、２，４−
ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデシ−１′−イ
ル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メ
チル−トリデシ−１′−イル）−フェノールおよびそれ
らの混合物。
【００４３】１．２．アルキルチオメチルフェノール、
例えば２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチ
ルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−
メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−
６−エチルフェノールおよび２，６−ジ−ドデシルチオ
メチル−４−ノニルフェノール。
【００４４】１．３ ヒドロキノンとアルキル化ハイド
ロキノン、例えば２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキ
シフェノール、２，５−ジ−第三ブチル−ヒドロキノ
ン、２，５−ジ−第三−アミル−ヒドロキノン、２，６
−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、２，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、
ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）アジペート。
【００４５】１．４ トコフェノール、例えばα−トコ
フェノール、β−トコフェノール、γ−トコフェノー
ル、δ−トコフェノールおよびこれらの混合物である
（ビタミンＥ）。
【００４６】１．５ ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル、例えば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−
４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オ
クチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブ
チル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス
（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′
−チオ−ビス（３，６−ジ−第二−アミルフェノー
ル）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−ジスルフィド。
【００４７】１．６ アルキリデンビスフェノール、例
えば２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチ
レン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−
メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−
メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２′−エチリデン−ビス（４，
６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデ
ン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール] 、２，２′−メチレ
ン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノ
ニルフェノール] 、４，４′−メチレン−ビス（２，６
−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−
ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，
１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチ
ルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフ
ェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−
４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、ビス（３−
第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジ
シクロペンタジエン、ビス［２−（３′−第三ブチル−
２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三
ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１
−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）
ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４
−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、および１，１，５，
５−テトラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）ペンタン。
【００４８】１．７． Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル
化合物、例えば３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチ
ル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル
−メルカプトアセテート、トリス−（３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−アミン、ビス（４
−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベン
ジル）−ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−スルフィドおよ
びイソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル−メルカプトアセテート。
【００４９】１．８．ヒドロキシベンジル化マロネー
ト、例えばジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ
−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネー
ト、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ド
デシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、
およびビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）−フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート。
【００５０】１．９． ヒドロキシベンジル芳香族化合
物、例えば１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチ
ルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメ
チルベンゼンおよび２，４，６−トリス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。
【００５１】１．１０．トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５
−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６
−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第
三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ
ル）−イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−
１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，
３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒド
ロキシベンジル）−イソシアヌレート。
【００５２】１．１１． べンジルホスホネート、例え
ばジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネートおよ
び３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホ
スホン酸モノエチルエステルのＣａ塩。
【００５３】１．１２． アシルアミノフェノール、例
えばラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸
４−ヒドロキシアニリド、カルバミン酸Ｎ−（３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）オクチルエ
ステル。
【００５４】１．１３． β−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノ
ール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサ
ンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコ
ール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，
Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３
−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、ト
リメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、
４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−ト
リオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００５５】１．１４． β−（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メ
タノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘ
キサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレング
リコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００５６】１．１５． β−（３，５−ジ−シクロヘ
キシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキ
サンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリ
コール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００５７】１．１６． ３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。
【００５８】１．１７． β−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、 例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
【００５９】１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【００６０】１．１９アミン系抗酸化剤 例えば、Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ′−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス−（１，４−ジメチルペンチル）−
ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−エチル
−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレ
ンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニ
レンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジ（２−ナフチル）−ｐ−フェニ
レンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ′−フェニル−ｐ
−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチ
ル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−
（１−メチルヘプチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニ
レンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−フェニル−
ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルホン
アミド）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−Ｎ，
Ｎ′−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニ
ルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロ
ポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチル
アミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル
化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ′−ジ第三ブチル−
オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェ
ノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイ
ルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノー
ル、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ジ（４−
メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ第三ブチル−ブ
チル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４′
−ジアミノジフェニルメタン、４，４′−ジアミノジフ
ェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−
４，４′−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ジ
［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ジ
（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニ
ド、ジ［４−（１′，３′−ジメチルブチル）フェニ
ル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチ
ルアミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三
オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジア
ルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミン
の混合物、モノ−およびジアルキル化第三ブチルジフェ
ニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメ
チル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジ
ン、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−
テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、
Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
−４−イル−ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，
６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケー
ト、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オ
ンおよび２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４
−オール。
【００６１】２． 紫外線吸収剤および光安定剤 ２．１． ２−( ２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾト
リアゾール 、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−
ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル) フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−
５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクト
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’
−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメ
チルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾト
リアゾール；２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキ
シ−５’−（２’−オクチルオキシカルボニルエチル）
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシ
ルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−
第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシ
カルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ
−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−
ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチ
ル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三
ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カ
ルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３−ドデシル−２’−ヒドロキシ
−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、および
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−
（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル
ベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレン−ビ
ス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６
−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−
［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニル
エチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾ
ールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換
生成物；［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 −］
2 −（式中，Ｒ＝３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ
−５’−２Ｈ−べンゾトリアゾール−２−イル−フェニ
ル、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチ
ルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチル
ブチル）−フェニル］ベンゾトリアゾールである。）；
２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テ
トラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジ
ル）−フェニル］ベンゾトリアゾール。
【００６２】２．２． ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノ
ン、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オ
クトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒド
ロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキ
シ誘導体。
【００６３】２．３． 置換されたおよび非置換安息香
酸のエステル、例えば４−第三ブチルフェニル＝サリチ
レート、フェニル＝サリチレート、オクチルフェニル＝
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４
−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル＝
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエート、オクタデシル＝３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−
４，６−ジ第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【００６４】２．４． アクリレート、例えばエチルα
−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレー
ト、メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチル
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シ
ンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ
シンナメート、およびＮ−（β−カルボメトキシ−β−
シアノビニル) −２−メチルインドリン。
【００６５】２．５． ニッケル化合物，例えば２，
２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル) −フェノール］のニッケル錯体，例えば１：
１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロキシ−４
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって，所望により他の配位
子を伴うもの。
【００６６】２．６． 立体障害性アミン、例えばビス
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケー
ト、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）
サクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ルピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−
（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生
成物、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三
オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−
トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキ
シレート、１，１′−（１，２−エタンジイル）−ビス
（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン），４−
ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチル−ベンジル）マロネー
ト、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル
−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，
４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−
オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジル）サクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジ
アミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，
５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−
ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−
ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成
物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−
１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，
３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピ
ルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−
ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８
−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、
３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ド
デシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジル）−ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘ
キサデシルオキシと４−ステアリルオキシ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−
ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミ
ノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮
合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）
エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリア
ジンの縮合生成物、並びに４−ブチルアミノ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン（ＣＡＳ登録番号［１
３６５０４−９６−６］、Ｎ−（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルコハク酸イ
ミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−
ピペリジル）−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルコハク
酸イミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメ
チル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピ
ロ［４，５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−
２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−
４−オキソスピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリ
ンとの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−
２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス
−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４
−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステ
ル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキ
サン、無水マレイン酸−α−オレフィン−コポリマーと
２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジン
もしくは１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミ
ノピペリジンとの反応生成物。
【００６７】２．７． オキサミド、例えば４，４′−
ジオクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジオクチル
オキシ−５，５′−ジ−第三ブトキサニリド、２，２′
−ジドデシルオキシ−５，５′−ジ−第三ブトキサニリ
ド、２−エトキシ−２′−エトキサニリド、Ｎ，Ｎ′−
ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−
エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキサニリド
および該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−５，
４′−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物，ｏ−および
ｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物およびｏ−
およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【００６８】２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−ト
リス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル)
−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４
−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−
ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン。２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３
−ブチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６
−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−ト
リアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキ
シ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］
−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，
３，５−トリアジン。
【００６９】３． 金属不活性化剤，例えばＮ，Ｎ′−
ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−
サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジ
ン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾー
ル、ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド、オキ
サニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビ
ス−フェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセタール−ア
ジピン酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル
−シュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイ
ル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
【００７０】４． ホスフィットおよびホスホナイト、
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−
メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メ
チルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス（２，４，６−トリ−第三ブチル−ブチルフェ
ニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリス
テアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４′−ビフェ
ニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，
４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フ
ルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２
−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサ
ホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチ
ルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−
第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィッ
ト。
【００７１】５．ヒドロキシルアミン、例えば水素化牛
脂アミンより誘導されたＮ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシ
ルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，
Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリ
ルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロ
キシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ
−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミ
ン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシル
アミン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【００７２】６．ニトロン、例えば、水素化牛脂アミン
より誘導されたＮ−ベンジル−アルファ−フェニルニト
ロン、Ｎ−エチル−アルファ−メチルニトロン、Ｎ−オ
クチル−アルファ−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−
アルファ−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−ア
ルファ−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アル
ファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アル
ファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アル
ファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アル
ファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒド
ロキシアミンより誘導されたニトロン。
【００７３】７．チオ相乗剤、例えばジラウリルチオジ
プロピオネートもしくはジステアリルチオジプロピオネ
ート。
【００７４】８． 過酸化物スカベンジャー、例えばβ
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネ
ート。
【００７５】９． ポリアミド安定剤、例えばヨウ化物
および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。
【００７６】１０． 塩基性補助安定剤、例えばメラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステ
アリン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン
酸Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫
塩。
【００７７】１１．核剤、例えば無機物質例えば、タル
ク、二酸化チタンまたは酸化マグネシウムのような金属
酸化物、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸
塩または硫酸塩；有機化合物例えば、モノ−またはポリ
カルボン酸およびその塩、例えば４−第三ブチル安息香
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム
または安息香酸ナトリウム；イオン共重合体（「イオノ
マー(ionomers)」）のような重合性化合物。
【００７８】１２．充填剤および強化剤、例えば炭酸カ
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タル
ク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および
水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉およ
び他の天然生成物の粉および繊維、合成繊維。
【００７９】１３．その他の添加剤、例えば可塑剤、潤
滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤（rheology add
itives) 、触媒、流れ調整剤、光沢剤、難燃剤、静電防
止剤および発泡剤。
【００８０】１４．ベンゾフラノンまたはインドリノ
ン、例えば米国特許発明明細書（ＵＳ−Ａ−）第４３２
５８６３号、同第４３３８２４４号、同第５１７５３１
２号、同第５２１６０５２号、同第５２５２６４３号、
ドイツ特許出願公開明細書（ＤＥ−Ａ−）第４３１６６
１１号、同第４３１６６２２号、同第４３１６８７６
号、ヨーロッパ特許庁公開公報（ＥＰ−Ａ−）第０５８
９８３９号もしくは同第０５９１１０２号に記載されて
いるものまたは３−［４−（２−アセトキシエトキシ）
フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−
２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−
ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ
−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル
−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベ
ンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３
−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、
３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−
５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、３
−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニ
ル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オ
ン。
【００８１】項１４に記載されたベンゾフラノンを除い
て、補助安定剤が、安定化されるべき材料の全重量に基
づいて典型的には０．０１ないし１０重量％の濃度で加
えられる。
【００８２】他の好ましい組成物は、成分（ａ）の他
に、式Ｉの化合物、他の添加剤、好ましくはフェノール
系抗酸化剤、光安定剤および／もしくは加工安定剤より
なる。
【００８３】特に好ましい添加剤は、フェノール系抗酸
化剤（表中の項１）、立体障害性アミン（表の項２．
６）、ホスフィットおよびホスホナイト（表中の項４）
並びに過酸化スカベンジャー（表中の項８）である。
【００８４】特に好ましい他の添加剤（安定剤）はま
た、ベンゾフラノ−２−オン、例えば特に、ＵＳ−Ａ−
４３２５８６３、ＵＳ−Ａ−４３３８２４４、ＵＳ−Ａ
−５１７５３１２、ＵＳ−Ａ−５２１６０５２、ＵＳ−
Ａ−５２５２６４３、ＤＥ−Ａ−４３１６６１１、ＤＥ
−Ａ−４３１６６２２、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６、Ｅ
Ｐ−Ａ−０５８９８３９およびＥＰ−Ａ−０５９１１０
２に記載されたものである。
【００８５】ベンゾフラン−２−オンの具体例は次式
【化２６】 ［式中、Ｒ’11は未置換もしくは置換された炭素環式芳
香族または複素環式芳香族系を表し、Ｒ’12は水素原子
を表し、Ｒ’14は水素原子、１ないし１２個の炭素原子
を有するアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基もしくは塩素原子を表し、Ｒ’13はＲ’12もしくは
Ｒ’14の意味を有するかもしくは次式
【化２７】 で表される基を表し、式中、Ｒ’16は水素原子、１ない
し１８個の炭素原子を有するアルキル基、酸素原子もし
くは硫黄原子により中断された２ないし１８個の炭素原
子を有するアルキル基、全部で３ないし１６個の炭素原
子を有するジアルキルアミノアルキル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、フェニル基もしくは全部で多
くとも１８個の炭素原子を有する１ないし３個のアルキ
ル基により置換されたフェニル基を表し、ｓは０、１も
しくは２を表し、置換基Ｒ’17は互いに各々独立して水
素原子、１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル
基、全部で多くとも１６個の炭素原子を有する１もしく
は２個のアルキル基により置換されたフェニル基、−Ｃ
2 Ｈ4 ＯＨ、−Ｃ2 Ｈ4 −Ｏ−Ｃt Ｈ2t+1もしくは次式
【化２８】 で表される基またはそれらが結合する窒素原子と一緒に
なってピペリジンもしくはモルホリン基を形成し；ｔは
１ないし１８を表し、Ｒ’20は水素原子、１ないし２２
個の炭素原子を有するアルキル基もしくは５ないし１２
個の炭素原子を有するシクロアルキル基を表し、Ａは窒
素原子、酸素原子もしくは硫黄原子により中断された２
ないし２２個の炭素原子を有するアルキレン基を表し、
Ｒ’18は水素原子、１ないし１８個の炭素原子を有する
アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フ
ェニル基、全部で多くとも１６個の炭素原子を有する１
もしくは２個のアルキル基により置換されたフェニル
基、もしくはベンジル基を表し、Ｒ’19は１ないし１８
個の炭素原子を有するアルキル基を表し、Ｄは−Ｏ−、
−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2 −もしくは−Ｃ（Ｒ’21）
2 −を表し、置換基Ｒ’21は各々互いに独立して、水素
原子、炭素原子数１ないし１６のアルキル基を表すかま
たは２個のＲ’21が一緒になって１ないし１６個の炭素
原子を含有し、およびＲ’21はさらにフェニル基もしく
は次式
【化２９】 （式中、ｓ、Ｒ’16およびＲ’17は前記の意味を表
す。）で表される基を表し、Ｅは次式
【化３０】 （式中、Ｒ’11、Ｒ’12およびＲ’14は前記の意味を表
す。）で表される基を表し、およびＲ’15は水素原子、
１ないし２０個の炭素原子を有するアルキル基、シクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、塩素原子もしくは次式
【化３１】 （式中、Ｒ’16およびＲ’17は前記の意味を表す。）で
表される基を表すか、もしくはＲ’15とＲ’14は一緒に
なってテトラメチレン基を形成する。］で表される化合
物である。
【００８６】好ましいベンゾフラン−２−オンは、Ｒ’
13は水素原子、１ないし１２個の炭素原子を有するアル
キル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、塩素原
子もしくは次式
【化３２】 もしくは−Ｄ−Ｅ（式中、ｓは、Ｒ’16、Ｒ’17、Ｄお
よびＥは前記の意味を表す。）で表される基を表し、
Ｒ’16は好ましくは水素原子、１ないし１８個の炭素原
子を有するアルキル基、シクロペンチル基もしくはシク
ロヘキシル基を表すベンゾフラン−２−オンである。
【００８７】好ましいベンゾフラン−２−オンはまた、
Ｒ’11はフェニル基もしくは全部で多くとも１２個の炭
素原子を有する１もしくは２個のアルキル基により置換
されたフェニル基を表し、Ｒ’12は水素原子を表し、
Ｒ’14は水素原子もしくは１ないし１２個の炭素原子を
有するアルキル基を表し、Ｒ’13は水素原子、１ないし
１２個の炭素原子を有するアルキル基、次式
【化３３】 もしくは−Ｄ−Ｅを表し、Ｒ’15は水素原子もしくは１
ないし２０個の炭素原子を有するアルキル基、次式
【化３４】 を表すか、もしくはＲ’15およびＲ’14は一緒になって
テトラメチレン基を形成し、ｓ、Ｒ’16、Ｒ’1 7 、Ｄ
およびＥは前記の意味を表すベンゾフラン−２−オンで
ある。
【００８８】特に興味のあるベンゾフラン−２−オンは
また、Ｒ’13は水素原子、１ないし１２個の炭素原子を
有するアルキル基もしくは−Ｄ−Ｅを表し、Ｒ’12およ
びＲ’14は各々互いに独立して、水素原子もしくは１な
いし４個の炭素原子を有するアルキル基を表し、Ｒ’15
は１ないし２０個の炭素原子を有するアルキル基を表
し、並びにＤおよびＥは前記の意味を表すベンゾフラン
−２−オンである。
【００８９】最後にとりわけ興味のあるものは、Ｒ’13
は１ないし４個の炭素原子を有するアルキル基もしくは
−Ｄ−Ｅを表し、Ｒ’12およびＲ’14は水素原子を表
し、およびＲ’15は１ないし４個の炭素原子を有するア
ルキル基、シクロペンチル基もしくはシクロヘキシル基
を表し、Ｄは−Ｃ（Ｒ’2 1 ）2 −で表される基を表
し、およびＥは次式
【化３５】 で表される基を表し、置換基Ｒ’21は互いに同一もしく
は異なりかつ各々１ないし４個の炭素原子を有するアル
キル基を表し、およびＲ’11、Ｒ’12、Ｒ’14および
Ｒ’15は前記の意味を表すところのベンゾフラン−２−
オンである。
【００９０】付加的に使用されるベンゾフラン−２−オ
ンの量は、幅広く変化させ得る。新規な組成物は典型的
には、それを０．０００１ないし５重量％、好ましくは
０．００１ないし２重量％、最も好ましくは０．０１な
いし２重量％含有する。
【００９１】成分（ｂ）および（ｃ）および他の添加剤
は、典型的には成形前もしくは成形中に知られている方
法により、または溶解もしくは分散した成分（ａ）およ
び（ｂ）を成分（ａ）に塗布し、続いて溶媒を蒸発する
ことにより成分（ａ）［ポリアミド、ポリエステルもし
くはポリケトン］中に混和される。成分（ｂ）および
（ｃ）はまたそれらの化合物を典型的には２．５ないし
２５重量％の濃度で含有するマスターバッチの形態にお
いて、安定化されるべき材料に加えられる。成分（ｂ）
および（ｃ）はまた重合前もしくは重合中、または架橋
の前に添加できる。
【００９２】成分（ｂ）および（ｃ）は純粋な形態また
はワックス、油もしくはポリマー中に封入された形態で
安定化されるべき成分（ａ）中に混和できる。
【００９３】成分（ｂ）および（ｃ）はまた安定化され
るべき成分（ａ）上に噴霧され得る。それらは他の添加
剤（例えば、上記の慣用の添加剤）もしくはそれらの溶
融体を希釈し得るので、安定化されるべき成分（ａ）上
にこれらの添加剤と共に噴霧され得る。重合触媒の失活
中における噴霧による塗布が特に有利であり、その場合
失活のために使用された蒸気を噴霧に使用することも可
能である。
【００９４】この方法により安定化されたポリアミド、
ポリエステルおよびポリケトンは広範囲の形態におい
て、典型的にはフィルム、繊維、フィラメント、成形物
品、形材もしくはペイント用のバインダー、接着剤もし
くはセメントの結合剤として使用される。
【００９５】成分（ｂ）および（ｃ）は加工安定剤（熱
安定剤）として特に適している。この目的のために、そ
れらはその加工前もしくは最中に成分（ａ）に加えられ
る。
【００９６】従って、本発明の好ましい態様は、酸化
的、熱的もしくは光に誘発される崩壊に対するポリアミ
ド、ポリエステルもしくはポリケトンのための安定剤と
して、好ましくは加工安定剤（熱安定剤）としての式Ｉ
のホスフィットおよび少なくとも１種の式ＩＩの化合物
の使用である。
【００９７】成分（ｂ）および（ｃ）は、それらの都合
のよい色彩挙動、即ち加工中のポリアミド、ポリエステ
ルおよびポリケトンの変色が少ないことに特徴がある。
【００９８】従って、本発明は、酸化的、熱的もしくは
光に誘発される崩壊に対するポリアミド、ポリエステル
もしくはポリケトンを安定化する方法に関し、それは式
Ｉのホスフィットおよび少なくとも１種の式ＩＩの化合
物をそれらの中に混和するか、もしくはそれらの上に適
用することよりなる。
【００９９】本発明はまた（ｉ）式Ｉのホスフィットお
よび（ｉｉ）少なくとも１種の式ＩＩの化合物を含む安
定剤混合物に関する。
【０１００】好ましい安定剤混合物は、成分（ｉ）：
（ｉｉ）の重量比が１０：１ないし１：１０、好ましく
は５：１ないし１：５、典型的には４：１ないし１：２
であるものである。
【０１０１】安定剤としての使用、安定化方法、および
安定剤混合物のための、好ましい式ＩＩの化合物は、ポ
リアミド、ポリエステルもしくはポリケトンとの組成物
のために記載されたものと同じものである。
【０１０２】成分（ｉ）および（ｉｉ）の安定剤混合物
はＬＣブレンド（低色ブレンド）といわれる。それらは
良好な貯蔵安定性、低い揮発性および優れた流動特性に
特徴がある。表１に挙げられるＬＣブレンドが特に好ま
しい。
【表１】 ａ）登録商標Irgafos 12は式Ｉの化合物と一致する。 ｂ）登録商標Irganox 1010は式ＩＩｃの化合物と一致す
る。 ｃ）登録商標Irganox 3114は式ＩＩｇの化合物と一致す
る。 ｄ）登録商標Irganox 1098は式ＩＩａの化合物と一致す
る。 ｅ）登録商標Irganox 1076は式ＩＩｂの化合物と一致す
る。
【０１０３】本発明はさらに以下の実施例により詳細に
説明される。部および百分率は重量当りを表す。
【０１０４】実施例１：ポリアミド６の安定化 安定化されていないポリアミド６顆粒（ＢＡＳＦより提
供される登録商標Ultramide B3) １００部を、極低温粉
砕(cryogenic griding) により粉砕することにより粉末
にしそして表２の安定剤を加えた。該混合物をヘンセル
ミキサー(Henschel mixer ) を用いて２時間混合した。
そのようにして得られた粉末を８０℃において６時間乾
燥させ、押出し機（ベルストフ型) 中で最高２４０℃に
おいて押出しそして顆粒にした。そのようにして得られ
た顆粒を最高２４０℃において射出成形機上で成形して
１．０ｍｍ厚のダンベルおよび２．０ｍｍ厚のプレート
を得た。
【０１０５】ダンベルを空気循環炉中１４０℃において
老化させた。老化の進行を１ないし３日の間隔で強制伸
びダイアグラムを作成しながら観察した。終了点を残留
歪が、初期値の５０％に下がるまでの時間として定義し
た。時間が長くなるほど、安定化が良好であることを示
す。結果を表２にまとめた。
【０１０６】プレートは空気循環炉中８０℃において１
５００時間にわたって老化させた。これらのプレートの
黄色度指数（ＹＩ）をＡＳＴＭ Ｄ １９２５−７０に
従って測定した。黄色度指数が低いことは変色が少なか
ったことを示し、黄色度指数が高いことは試料の変色が
大きかったことを示す。変色が少ないほど、より効果的
な安定剤混合物である。結果を表２にまとめた。
【表２】 ａ）登録商標Irgafos168（チバガイギー社製）は、トリ
ス（２，４−ジ−第三−ブチルフェニル）ホスフィット
である。 ｂ）登録商標Irganox1098(チバガイギー社製）は、次式
ＩＩａ
【化３６】 で表されるＮ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三−ブチル
−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレ
ンジアミン（式ＩＩａの化合物）である。 ｃ）登録商標Irgafos12(チバガイギー社製）は、次式Ｉ
【化３７】 で表される２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−
トリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−
１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィッ
ト］である。ケミカルアブストラクト登録番号：８０４
１０−３３−９でありまた次式Ｉで表される化合物であ
る。
【化３８】表２の結果より、新規な安定剤混合物（実施
例１ｃ）は、知られている安定剤混合物（実施例１ｂ）
より、市場的により効果的である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｋ 5/527 Ｃ０８Ｋ 5/527 Ｃ０８Ｌ 67/00 Ｃ０８Ｌ 67/00 67/02 67/02 73/00 73/00 77/02 77/02 77/06 77/06 Ｃ０９Ｋ 15/32 Ｃ０９Ｋ 15/32 Ｄ // Ｃ０７Ｃ 235/44 9547−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 235/44 Ｃ０７Ｄ 251/34 Ｃ０７Ｄ 251/34 Ｇ

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ａ）酸化的、熱的もしくは光に誘発され
    る崩壊を受けやすいポリアミド、ポリエステルまたはポ
    リケトン ｂ）次式Ｉ 【化１】 で表されるホスフィットおよび ｃ）少なくとも１種の次式ＩＩ 【化２】 （式中、Ｒ1 は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表
    し、ｎは１、２、３もしくは４を表し、Ｘはメチレン
    基、次式 【化３】 を表し、Ｙは酸素原子もしくは−ＮＨ−を表し、および
    ｎ＝１の場合 Ｘは次式 【化４】 を表し、ＹはＲ2 に結合しており、およびＲ2 は炭素原
    子数１ないし２５のアルキル基を表し、およびｎ＝２の
    場合 Ｘは次式 【化５】 を表し、ＹはＲ2 に結合しており、およびＲ2 は炭素原
    子数２ないし１２のアルキレン基、酸素原子もしくは硫
    黄原子により中断された炭素原子数４ないし１２のアル
    キレン基を表すか、またはＹが−ＮＨ−を表す場合、Ｒ
    2 はさらに直接結合を表し、およびｎ＝３の場合 Ｘはメチレン基もしくは次式 【化６】 を表し、該式中のエチレン基はＲ2 に結合しており、お
    よびＲ2 は次式 【化７】 を表し、およびｎ＝４の場合 Ｘは次式 【化８】 を表し、ＹはＲ2 に結合しており、およびＲ2 は炭素原
    子数４ないし１０のアルカンテトライル基を表す。）で
    表される化合物を含む組成物。
  2. 【請求項２】 成分（ｃ）が少なくとも１種の式ＩＩの
    化合物（式中、ｎ＝１の場合、Ｒ2 は炭素原子数１ない
    し２０のアルキル基を表す。）である請求項１記載の組
    成物。
  3. 【請求項３】 成分（ｃ）が少なくとも１種の式ＩＩの
    化合物（式中、ｎ＝２の場合、Ｒ2 は炭素原子数２ない
    し８のアルキレン基、酸素原子もしくは硫黄原子により
    中断された炭素原子数４ないし８のアルキレン基を表す
    か、またはＹが−ＮＨ−を表す場合、Ｒ2 はさらに直接
    結合を表し、ｎ＝４の場合、Ｒ2 は炭素原子数４ないし
    ８のアルカンテトライル基を表す。）である請求項１記
    載の組成物。
  4. 【請求項４】 成分（ｃ）が少なくとも１種の式ＩＩの
    化合物（式中、Ｒ1 はメチル基もしくは第三−ブチル基
    を表し、ｎは１、２もしくは４を表し、Ｘは次式 【化９】 を表し、Ｙは酸素原子もしくは−ＮＨ−を表し、および
    ｎ＝１の場合、Ｒ2 は炭素原子数１４ないし１８のアル
    キル基を表し、およびｎ＝２の場合、Ｒ2 は炭素原子数
    ４ないし６のアルキレン基、もしくは酸素原子により中
    断された炭素原子数４ないし６のアルキレン基を表し、
    およびｎ＝４の場合、Ｒ2 は炭素原子数４ないし６のア
    ルカンテトライル基を表す。）である請求項１記載の組
    成物。
  5. 【請求項５】 成分（ｃ）は、次式ＩＩａ、ＩＩｂ、Ｉ
    ＩｃもしくはＩＩｄ 【化１０】 【化１１】 で表される少なくとも１種の化合物である請求項１記載
    の組成物。
  6. 【請求項６】 成分（ｃ）は、式ＩＩａ、ＩＩｂもしく
    はＩＩｃの化合物である請求項５記載の組成物。
  7. 【請求項７】 ポリアミドはポリアミド６、ポリアミド
    ６．６、ポリアミド１１もしくはポリアミド１２、もし
    くはそれらのコポリマーである請求項１記載の組成物。
  8. 【請求項８】 ポリエステルはＰＥＴ、ＰＥＴＧもしく
    はＰＢＴ、もしくはそれらのコポリマーである請求項１
    記載の組成物。
  9. 【請求項９】 成分（ｂ）および（ｃ）は成分（ａ）の
    重量に基づいて０．０５ないし５％の量でともに存在す
    る請求項１記載の組成物。
  10. 【請求項１０】 成分（ｂ）：（ｃ）の重量比は１０：
    １ないし１：１０である請求項１記載の組成物。
  11. 【請求項１１】 成分（ｂ）および（ｃ）の他に、付加
    的に別の添加剤を含む請求項１記載の組成物。
  12. 【請求項１２】 付加的な添加剤として、フェノール系
    抗酸化剤、光安定剤および／もしくは加工安定剤を含む
    請求項１１記載の組成物。
  13. 【請求項１３】 付加的な添加剤として、少なくとも１
    種のベンゾフラン−２−オン型の化合物を含む請求項１
    １記載の組成物。
  14. 【請求項１４】 請求項１記載の（ｉ）式Ｉのホスフィ
    ットおよび（ｉｉ）少なくとも一種の式ＩＩの化合物を
    含む安定剤混合物。
  15. 【請求項１５】 成分（ｉ）：（ｉｉ）の重量比が１
    ０：１ないし１：１０である請求項１４記載の安定剤混
    合物。
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