JP2017044533A - 時計部品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】積層基板314のデバイス層313に酸化膜401を形成し、酸化膜401の表側面に第1のレジストパタンを形成した後、酸化膜401およびデバイス層313に対して、第1のレジストパタン部分を残して残余を除去する第1のエッチング工程をおこなう。つぎに、支持層311の裏側面に、第2のレジストパタンを形成し、この支持層311に対して第2のレジストパタン部分を残して残余を除去する支持層エッチングをおこない、その後、所定領域内における中間層312および酸化膜401を除去することにより時計部品を製造する。
【選択図】図12
Description
図2は、ひげぜんまい108の構造を示す説明図である。図2においては、ひげぜんまい108を図1における矢印X方向から見た平面図と、当該平面図におけるA−A断面と、を示している。図2において、ひげぜんまい108は、細いコイル形状のぜんまい部201を備えている。また、ひげぜんまい108は、細いコイル形状のぜんまい部201における、内周側の端部に設けられたひげ玉202を備えている。
つぎに、この発明にかかる実施の形態の、機械式時計の駆動機構101を構成する時計部品の製造方法について説明する。実施の形態においては、機械式時計の駆動機構101を構成する時計部品として、ひげぜんまい108の製造方法について説明する。図3〜図8および図10〜図13は、この発明にかかる実施の形態の、機械式時計の駆動機構101を構成するひげぜんまい108の製造方法を示す説明図である。
図14は、第2のレジストパタン1001の形状の一例を示す説明図である。図14において、第2のレジストパタン1001は、外枠部1401と、外枠部1401内に設けられたパタン部1402と、からなる。外枠部1401とパタン部1402との間には、外枠部1401とパタン部1402との境界位置を開放する開放部1403が設けられている。開放部1403は、外枠部1401とパタン部1402との間に設けられたスリット状の隙間であり、第2のレジストパタン1001の膜厚方向に当該第2のレジストパタン1001を貫通している。
102 香箱
103 脱進機
104 調速機構(てんぷ)
105 輪列
106 がんぎ車
107 アンクル
108 ひげぜんまい
109 てん輪
110 二番車
111 三番車
112 四番車
311 支持層
312 中間層
313 デバイス層
314 積層基板
501 第1のレジストパタン
901 部品部
902 接続部
903 部品外枠部
1001 第2のレジストパタン
1401 外枠部
1402 パタン部
1403 開放部
Claims (4)
- 二酸化珪素からなる中間層を介して、シリコンからなる支持層とシリコンからなるデバイス層とが積層された積層基板の前記デバイス層に、酸化膜を形成する酸化膜形成工程と、
前記酸化膜形成工程において形成された酸化膜の表側面に、時計の駆動機構を構成する時計部品の形状に基づく第1のパタンの第1のレジストパタンを形成する第1のパタン形成工程と、
前記酸化膜および前記デバイス層に対して、前記第1のパタン形成工程において形成された第1のレジストパタン部分を残して残余を除去するエッチング加工をおこなう第1のエッチング工程と、
前記支持層の裏側面に、当該支持層の厚さ方向において前記第1のパタンと一部が重複し当該第1のパタンを含む所定領域の内側に配置され、当該支持層の厚さ方向に貫通する複数の貫通孔または溝を含む第2のパタンの第2のレジストパタンを形成する第2のパタン形成工程と、
前記支持層に対して、前記第2のパタン形成工程において形成された第2のレジストパタン部分を残して残余を除去するエッチング加工をおこなう第2のエッチング工程と、
前記所定領域の内側における前記中間層および前記酸化膜を除去する除去工程と、
を含むことを特徴とする時計部品の製造方法。 - 前記第2のレジストパタンは、前記所定領域の外側の部分を覆う外枠部と、前記複数の貫通孔または溝の位置を避けて前記所定領域の内側を覆うパタン部と、前記外枠部と前記パタン部との境界位置を開放する開放部と、からなることを特徴とする請求項1に記載の時計部品の製造方法。
- 前記開放部は、前記外枠部と前記パタン部とを接続する接続部を含むことを特徴とする請求項2に記載の時計部品の製造方法。
- 前記第1のレジストパタンは、前記所定領域の外側の部分を覆う部品外枠部と、前記時計部品の形状をなす部品形状部と、当該部品形状部と前記部品外枠部とを接続する部品接続部と、からなることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の時計部品の製造方法。
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