JP2010016315A - 回転塗布装置の洗浄用治具および洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の一実施形態による洗浄用治具50は、容器内に回転可能に保持された基板の上に処理液を滴下し、該基板の回転により該基板上に処理液の膜を塗布する回転塗布装置において容器を洗浄するために使用することができる洗浄用治具であって、回転塗布装置において回転された際に、裏面に供給されて回転により案内される溶剤を保持し容器内へ飛散させ得るように形成された外周面500を備える。
【選択図】図6
Description
図3を参照すると、塗布ユニットCOTは、例えば直方体の筐体10を有しており、その内部に液処理が行われる処理空間10aが画成されている。塗布ユニットCOTは、筐体10内に処理対象であるウエハWを保持するスピンチャック11と、スピンチャック11に保持されるウエハWの表面にレジスト液を滴下する滴下ノズル15と、ウエハWの裏面に回り込んだレジスト等を除去するためのバックリンスノズル14と、ウエハWの周縁部に塗布されたレジスト液を除去するためのリンスノズル17(図4、図5)と、ウエハWの表面から飛散したレジスト液やレジスト液のミスト等を受けるためのカップ体2とを備えている。
筐体10には、処理空間10aへのウエハWの搬入出のため、ウエハW及び主搬送部25Aが通過することができる搬入出口10bが設けられている。
なお、インナーカップ2cの洗浄においても、実施例においては、比較例に比べて低い回転速度で短い時間で済む点にも注目すべきである。
<変形例1>
図10(a)は本発明の一の実施形態の変形例1による洗浄用治具を示す断面図であり、図10(b)は図10(a)におけるI−I線に沿った断面図である。図示のとおり、洗浄用治具51は、外周面510に円周方向に沿って形成された溝部511を有している。溝部511により、外周面510に保持される溶剤溜まりRの量を増加することができ、外周面510からカップ体2へ飛散する溶剤の量を増加することが可能となる。
図11(a)は本発明の一の実施形態の変形例2による洗浄用治具を示す斜視図であり、図11(b)は図11(a)におけるI−I線に沿った断面図である。図11(a)に示すように、洗浄用治具52は、環状部52bにおける***部52eの内周に沿って、所定の角度間隔で複数の貫通孔521が設けられている。貫通孔521は、図11(b)に示すように、バックリンスノズル14から環状部52bの裏面に沿って流れる溶剤が、環状部52bの表面に回り込むのを許容する。表面に回り込んだ溶剤は、***部52eを乗り越えて外周面520へ到達する。すなわち、***部52eの上から溶剤溜まりRへ溶剤を供給することができ、したがって、外周面520からカップ体2へ飛散する溶剤の量を増加することが可能となる。
図12(a)は本発明の一の実施形態の変形例2による洗浄用治具を示す斜視図であり、図12(b)は図12(a)におけるI−I線に沿った断面図である。図示のとおり、洗浄用治具53は、環状部53bの裏面から***部53eを貫通し、外周面530に開口する複数の貫通孔531を有している。複数の貫通孔531は、変形例2による洗浄用治具52の貫通孔521と同様に、所定の角度間隔で設けられている。この貫通孔531を通して、バックリンスノズル14からの溶剤を溶剤溜まりRへ供給することができるため、外周面530からカップ体2へ飛散する溶剤の量を増加することが可能となる。
例えば、上述した実施形態において、洗浄用治具50,51,52,53の表面外縁に***部50d,51d,52d,53dが設けられて外周面500が形成されたが、洗浄用治具50の全体(又は環状部50b)を厚くすることにより外周面500を形成しても良い。ただし、比較的薄い環状部50b等に***部50d等を設ける場合は、洗浄用治具50等を軽量化することができ、モータへの負荷を低減できる点で好ましい。
上記の実施形態および変形例におけるウエハWは半導体ウエハに限らず、FPD基板であって良いことは勿論である。また、本発明による洗浄用治具および洗浄方法は、基板の表面に膜を形成する塗布装置(塗布ユニット)に限らず、現像処理装置に対しても適用可能である。
2b アウターカップ
2c インナーカップ
11 スピンチャック
14 バックリンスノズル
10 塗布ユニット
20 塗布現像装置
50,51,52,53 洗浄用治具
500,510,520,530 外周面
Claims (12)
- 容器内に回転可能に保持された基板の上に処理液を滴下し、該基板の回転により該基板上に前記処理液の膜を塗布する回転塗布装置において前記容器の洗浄に使用することができる洗浄用治具であって、
前記回転塗布装置において回転された際に、裏面に供給されて回転により案内される溶剤を保持し前記容器内へ飛散させ得るように形成された外周面を備える洗浄用治具。 - 前記外周面が、当該洗浄用治具の外周縁に沿って形成される***部の外壁面を含む、請求項1に記載の洗浄用治具。
- 前記外周面の下端部が当該洗浄用治具の裏面と同じ高さにある、請求項1又は2に記載の洗浄用治具。
- 前記外周面の高さが2mmから7mmまでの範囲にある、請求項1から3のいずれか一項に記載の洗浄用治具。
- 前記外周面に周方向に延びる溝部を更に備える、請求項1から4のいずれか一項に記載の洗浄用治具。
- 前記外周面に凹部を更に備える、請求項1から4のいずれか一項に記載の洗浄用治具。
- 前記洗浄用治具の裏面から表面へ貫通する貫通孔を更に備え、該貫通孔は前記溶剤が前記裏面から前記表面を通って前記外周面へ到達するのを許容するように形成される、請求項1から6のいずれか一項に記載の洗浄用治具。
- 前記洗浄用治具の裏面から前記外周面へ貫通する貫通孔を更に備える、請求項1から7のいずれか一項に記載の洗浄用治具。
- 基板を保持するために前記回転塗布装置に設けられる基板保持部の大きさと同じか僅かに大きい大きさを有する板状部と、前記外周面を含み前記板状部と接続される環状部とにより構成される、請求項1から8のいずれか一項に記載の洗浄用治具。
- 前記板状部が前記環状部と着脱可能に構成される、請求項9に記載の洗浄用治具。
- 容器内に回転可能に保持された基板の上に処理液を滴下し、該基板の回転により該基板上に前記処理液の膜を塗布する回転塗布装置を請求項1から10のいずれか一項に記載の洗浄用治具を用いて洗浄する方法であって、
前記回転塗布装置に備わる回転保持部により前記洗浄用治具を回転するステップと、
前記回転塗布装置に備わる溶剤供給部から前記洗浄用治具の裏面へ溶剤を供給するステップと、
を有する方法。 - 前記洗浄用治具を回転する前記ステップが、前記洗浄用治具の回転速度を変化させるステップを含む、請求項11に記載の方法。
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