JP6543534B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の模式的平面図である。
図2は、主として図1の塗布処理部121、塗布現像処理部131および洗浄乾燥処理部161を示す基板処理装置100の模式的側面図である。
図3は、主として図1の熱処理部123,133および洗浄乾燥処理部162を示す基板処理装置100の模式的側面図である。図3に示すように、熱処理部123は、上方に設けられる上段熱処理部301および下方に設けられる下段熱処理部302を有する。上段熱処理部301および下段熱処理部302には、複数の熱処理ユニットPHP、複数の密着強化処理ユニットPAHPおよび複数の冷却ユニットCPが設けられる。
図4は、主として図1の搬送部122,132,163を示す側面図である。図4に示すように、搬送部122は、上段搬送室125および下段搬送室126を有する。搬送部132は、上段搬送室135および下段搬送室136を有する。上段搬送室125には搬送機構127が設けられ、下段搬送室126には搬送機構128が設けられる。また、上段搬送室135には搬送機構137が設けられ、下段搬送室136には搬送機構138が設けられる。
図1〜図4を参照しながら基板処理装置100の動作を説明する。インデクサブロック11のキャリア載置部111(図1)に、未処理の基板Wが収容されたキャリア113が載置される。搬送機構115は、キャリア113から基板載置部PASS1,PASS3(図4)に未処理の基板Wを搬送する。また、搬送機構115は、基板載置部PASS2,PASS4(図4)に載置された処理済の基板Wをキャリア113に搬送する。
本発明において、基板Wの上面とは上方に向けられた基板Wの面をいい、基板Wの下面とは下方に向けられた基板Wの面をいう。また、基板Wの表面とは、反射防止膜、レジスト膜およびレジストカバー膜が形成される面(主面)をいい、基板Wの裏面とは、その反対側の面をいう。本実施の形態に係る基板処理装置100の内部では、基板Wの表面が上方に向けられた状態で、基板Wに上記の各種処理が行われる。したがって、本実施の形態では、基板Wの表面が本発明の基板の上面に相当し、基板Wの裏面が本発明の基板の下面に相当する。
図8および図9は、飛散防止カップ810、収容部材820および排気空間形成部材880の構造を示す一部切り欠き斜視図である。図8では、飛散防止カップ810および収容部材820が互いに分離された状態で示される。図9では、飛散防止カップ810の下部が収容部材820に収容された状態が示される。
基板Wの洗浄処理を行う際の洗浄乾燥処理ユニットSD1の一連の動作について説明する。図10〜図17は、洗浄乾燥処理ユニットSD1による基板Wの洗浄処理について説明するための側面図である。以下の説明では、下部スピンチャック400の上端部よりも一定距離下方の高さを高さL1と呼ぶ。また、下部スピンチャック400と上部スピンチャック600との間の予め定められた高さを高さL2と呼ぶ。さらに、上部スピンチャック600により基板Wを保持可能な高さを高さL3と呼ぶ。
本発明者は、洗浄乾燥処理ユニットSD1において、下部スピンチャック400により基板Wが回転される際の内部空間の気体の流れをシミュレーションにより解析した。図18は、下部スピンチャック400により基板Wが回転される際の内部空間の気体の流れを示す模式図である。図18では、内部空間およびその近傍の空間のうち、それらの空間を流れる気体の速度が所定のしきい値よりも高い領域がドットパターンで示される。また、気体が流れる方向が太い実線の矢印で示される。
上記のように、飛散防止カップ810の環状板部材813においては、複数の連通孔814が分散的に配置されている。それにより、簡単な構成で、第1の内壁部材811aと第1の外壁部材812aとが連結されるとともに第1の環状空間810Sと第2の環状空間820Sとが連通する。
基板Wの洗浄および乾燥処理時には、環状開口810Aが基板Wの外周端部に対向するように、飛散防止カップ810がカップ昇降装置830により支持される。環状開口810Aが基板Wの外周端部に対向する状態で、環状開口810A、第1の環状空間810S、第2の環状空間820Sおよび排気空間形成部材880を通して、基板Wを含む内部空間の気体が排気管892により吸引される。それにより、回転される基板Wの外周端部から環状開口810Aに向かう気体の流れが形成される。このとき、基板Wの外周端部と環状開口810Aとの間を通って基板Wの下方に向かう気体の流れが遮断されるので、内部空間に乱流が発生することが防止される。
(12−1)上記実施の形態においては、洗浄乾燥処理ユニットSD1,SD2は、下部スピンチャック400および上部スピンチャック600を有するが、本発明はこれに限定されない。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各構成要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
(14)参考形態
(14−1)本参考形態に係る基板処理装置は、基板を保持しつつ鉛直軸の周りで回転させる基板保持装置と、基板保持装置により保持される基板に処理液を供給する処理液供給部と、回転される基板から周囲に飛散する処理液を受け止めるように構成された飛散防止部材と、飛散防止部材の下部を収容する収容部材と、飛散防止部材を収容部材に対して相対的に上下方向に移動させる駆動装置と、排気系とを備え、飛散防止部材は、基板保持装置により保持される基板および当該基板よりも下方の領域を含む内部空間を取り囲むように設けられる第1の内壁部材と、第1の内壁部材の外側を取り囲むように設けられる第1の外壁部材と、第1の内壁部材と第1の外壁部材との間に第1の環状空間が形成されるように第1の内壁部材と第1の外壁部材とを連結する連結部材と、第1の環状空間の上部を覆うように第1の外壁部材につながる環状の外側上部材とを含み、第1の内壁部材と外側上部材との間に基板保持装置により保持される基板の外周端部に対向可能な環状開口が形成され、収容部材は、内部空間を取り囲むように設けられる第2の内壁部材と、第2の内壁部材の外側を取り囲むように設けられる第2の外壁部材と、第2の内壁部材と第2の外壁部材との間に第2の環状空間が形成されるように第2の内壁部材と第2の外壁部材とを連結する底部材とを含み、飛散防止部材の第1の環状空間と第2の環状空間とが連通するように、飛散防止部材の下部が上下方向に移動可能に収容部材の第2の環状空間に収容され、排気系は、環状開口が基板保持装置により保持された基板の外周端部に対向する状態で、環状開口、第1の環状空間および第2の環状空間を通して内部空間の気体を吸引して第2の環状空間から排出するように設けられる。
その基板処理装置の飛散防止部材においては、連結部材が第1の内壁部材と第1の外壁部材とを連結することにより、第1の内壁部材と第1の外壁部材との間に第1の環状空間が形成される。第1の環状空間の上部は、第1の外壁部材につながる環状の外側上部材により覆われる。第1の内壁部材と外側上部材との間に基板保持装置により保持される基板の外周端部に対向可能な環状開口が形成される。
また、収容部材においては、底部材が第2の内壁部材と第2の外壁部材とを連結することにより、第2の内壁部材と第2の外壁部材との間に第2の環状空間が形成される。第1の環状空間と第2の環状空間とが連通するように飛散防止部材の下部が上下方向に移動可能に第2の環状空間に収容される。
基板の処理時には、飛散防止部材が収容部材に対して上下方向に移動されることにより、環状開口が基板保持装置により保持される基板の外周端部に対向する。この状態で、鉛直軸の周りで回転される基板に処理液が供給される。このとき、内部空間の気体が、環状開口、第1の環状空間および第2の環状空間を通して排気系により吸引される。それにより、回転される基板の外周端部から環状開口に向かう気体の流れが形成される。このとき、基板の外周端部と環状開口との間を通って基板の下方に向かう気体の流れが遮断されるので、内部空間に乱流が発生することが防止される。回転される基板の外周端部から外方に飛散する処理液の飛沫およびミストが気体とともに環状開口から第1の環状空間内に引き込まれ、第2の環状空間を通して排気系に導かれる。この場合、内部空間が第1の内壁部材および第2の内壁部材により取り囲まれているので、排気系に導かれる気体ならびに処理液の飛沫およびミストが基板の下面側の空間に戻ることが防止される。さらに、第1の環状空間を形成する飛散防止部材の下部が第2の環状空間を形成する収容部材に収容された状態で飛散防止部材が上下方向に移動することができるので、第1の環状空間と第2の環状空間との境界部分から内部空間に気体ならびに処理液の飛沫およびミストが漏れ出ることが防止される。その結果、基板から飛散する処理液が基板の下面に再付着することが防止される。
(14−2)連結部材は、第1の内壁部材の下端と第1の外壁部材の下端とを連結する環状板部材を含み、環状板部材は、第1の環状空間と第2の環状空間とを連通させる一または複数の連通開口を有してもよい。
この場合、簡単な構成で第1の内壁部材と第1の外壁部材とを連結するとともに、第1の環状空間と第2の環状空間とを連通させることができる。
(14−3)一または複数の連通開口は、周方向に分散的に配置された複数の連通孔を含んでもよい。
この場合、第1の環状空間内の気体ならびに処理液の飛沫およびミストが第2の環状空間の全体にほぼ均一に導かれる。それにより、環状開口での気体の吸引力が周方向に分散される。その結果、基板の全周から飛散する処理液の飛沫およびミストが環状開口から第1の環状空間内に引き込まれる。
(14−4)排気系は、収容部材の一部分において第2の環状空間に連通するように設けられ、複数の連通孔は、隣り合う連通孔の間隔が収容部材の一部分から遠ざかるにつれて小さくなるように配置されてもよい。
この場合、第2の環状空間での排気系による吸引力は排気系から遠ざかるにつれて低下する。そこで、上記の構成では、排気系から遠ざかるにつれて隣り合う連通孔の間隔が小さくされる。それにより、排気系を複数個所に設けることなく、第1の環状空間から気体ならびに処理液の飛沫およびミストを第2の環状空間の全体にほぼ均一に導くことが可能となる。
(14−5)基板処理装置は、第2の外壁部材の外周面の一部領域に接する空間を排気空間として取り囲むように形成された排気空間形成部材と、排液系とをさらに備え、第2の外壁部材の一部領域に第2の環状空間と排気空間とを連通させる第1の開口が設けられ、排気空間形成部材に排気空間と排気系とを連通させる第2の開口が設けられ、第2の開口は第1の開口よりも高い位置にあり、収容部材の底部材に第2の環状空間と排液系とを連通させる排液口が設けられてもよい。
この場合、第2の環状空間に導かれた処理液の飛沫およびミストの大部分は、重力により収容部材の底部材の排液口に導かれる。一方、第2の環状空間に導かれた気体は、第1の開口を通して排気空間に導かれ、さらに第2の開口を通して排気系に導かれる。上記の構成では、第2の開口が第1の開口よりも高い位置にあるので、気体とともに排気系に導かれる処理液の飛沫およびミストの量が低減される。したがって、処理液を効率的に回収することができる。
(14−6)外側上部材は、第1の外壁部材の上端から、外方かつ上方に湾曲し、さらに内方に湾曲して第1の環状空間の上部を覆うとともに環状開口の上縁を形成してもよい。
この場合、環状開口から第1の環状空間に引き込まれる気体ならびに処理液の飛沫およびミストは、外側上部材の内周面に沿って下方に円滑に導かれる。また、環状開口に面する外側上部材の内周面が外方に膨らむように湾曲しているので、外側上部材の内周面に衝突した気体ならびに処理液の飛沫およびミストが環状開口に戻る方向に反射されることなく、湾曲した内周面で受け止められる。したがって、環状開口内に引き込まれた気体ならびに処理液の飛沫およびミストが環状開口から漏れ出ることが防止される。
(14−7)飛散防止部材は、第1の内壁部材から外方かつ上方に湾曲し、さらに内方に湾曲して環状開口の下縁を形成する内側上部材をさらに含んでもよい。
この場合、外側上部材および内側上部材により環状開口の上縁および下縁から基板と略平行に延びて第1の環状空間につながる通路が形成される。それにより、基板の外周端部から環状開口に向かうように基板に平行な気体の流れが容易に形成される。
(14−8)基板保持装置は、鉛直軸の周りで回転可能に構成されるとともに、基板の下面中央部を吸着する吸着保持部と、吸着保持部を回転させる第1の回転駆動部とを含んでもよい。
その構成によれば、基板の下面中央部が吸着により保持された状態で基板の上面に処理液が供給される場合に、基板の下面に処理液が再付着することを防止することができる。
(14−9)基板保持装置は、鉛直軸の周りで回転可能に構成された回転部材と、回転部材を回転させる第2の回転駆動部と、回転部材の下方に配置されるとともに基板の外周端部に当接することにより基板を保持する当接保持部とを含んでもよい。
その構成によれば、当接保持部が基板の外周端部に当接することにより回転部材の下方で基板が保持される状態で基板の下面に処理液が供給される場合に、基板の下面に処理液の飛沫が付着することを防止することができる。
12 第1の処理ブロック
13 第2の処理ブロック
14 インターフェイスブロック
14A 洗浄乾燥処理ブロック
14B 搬入搬出ブロック
15 露光装置
15a 基板搬入部
15b 基板搬出部
21,22,23,24,32,34 塗布処理室
25,35 スピンチャック
27,37 カップ
28 処理液ノズル
29 ノズル搬送機構
31,33 現像処理室
38 現像ノズル
39 移動機構
50,60 流体ボックス部
81,82,83,84,91,92,93,94,95 洗浄乾燥処理室
98 給気ユニット
99 排気ユニット
100 基板処理装置
111 キャリア載置部
112,122,132,163 搬送部
113 キャリア
114 制御部
115,127,128,137,138,141,142,146 搬送機構
116 ハンド
121 塗布処理部
123,133 熱処理部
125,135 上段搬送室
126,136 下段搬送室
129 塗布処理ユニット
131 塗布現像処理部
139 現像処理ユニット
161,162 洗浄乾燥処理部
301,303 上段熱処理部
302,304 下段熱処理部
400 下部スピンチャック
410,611 スピンモータ
420,611a 回転軸
430 吸着保持部
490 モータカバー
510 第1の裏面洗浄機構
511,721 昇降駆動部
512 昇降軸
513 ブラシモータ
514,524 ブラシ
514S,524S 洗浄面
515,525,544,545 ノズル
520 第2の裏面洗浄機構
521,541 昇降回転駆動部
522,542 昇降回転軸
523,543 アーム
540 表面洗浄機構
600 上部スピンチャック
610a 液供給管
612 スピンプレート
613 プレート支持部材
614 マグネットプレート
615 チャックピン
615a 軸部
615b ピン支持部
615c 保持部
616 マグネット
617 マグネット昇降装置
720 受渡機構
722 ピン支持部材
723 昇降ピン
810,910,920 飛散防止カップ
810A,910A 環状開口
810S 第1の環状空間
811a 第1の内壁部材
811b 内側上部材
811e,812e 上端部内縁
812a 第1の外壁部材
812b 外側上部材
813 環状板部材
814 連通孔
820 収容部材
820S 第2の環状空間
821 第2の内壁部材
822 第2の外壁部材
822P 第1の開口
823 底板
830 カップ昇降装置
880 排気空間形成部材
880S 排気空間
881 排液口
882 第2の開口
885 第1の板部材
886 第2の板部材
887 第3の板部材
891 排液管
892 排気管
910S 環状空間
911 内壁部材
912,921 外壁部材
B 磁力線
CP 冷却ユニット
EEW エッジ露光部
P−BF1,P−BF2 載置兼バッファ部
P−CP 載置兼冷却部
PAHP 密着強化処理ユニット
PASS1〜PASS9 基板載置部
PHP 熱処理ユニット
SD1,SD2 洗浄乾燥処理ユニット
W 基板
WC 回転中心
Claims (7)
- 基板を保持しつつ鉛直軸の周りで回転させる基板保持装置と、
前記基板保持装置により保持される基板に処理液を供給する処理液供給部と、
回転される基板から周囲に飛散する処理液を受け止めるように構成された飛散防止部材と、
前記飛散防止部材の下部を収容する収容部材と、
前記飛散防止部材を前記収容部材に対して相対的に上下方向に移動させる駆動装置と、
排気系とを備え、
前記飛散防止部材は、
前記基板保持装置により保持される基板および当該基板よりも下方の領域を含む内部空間を取り囲むように設けられる第1の内壁部材と、
前記第1の内壁部材の外側を取り囲むように設けられる第1の外壁部材と、
前記第1の内壁部材と前記第1の外壁部材との間に第1の環状空間が形成されるように前記第1の内壁部材と前記第1の外壁部材とを連結する連結部材と、
前記第1の環状空間の上部を覆うように前記第1の外壁部材につながる環状の外側上部材とを含み、
前記第1の内壁部材と前記外側上部材との間に前記基板保持装置により保持される基板の外周端部に対向可能な環状開口が形成され、
前記収容部材は、
前記内部空間を取り囲むように設けられる第2の内壁部材と、
前記第2の内壁部材の外側を取り囲むように設けられる第2の外壁部材と、
前記第2の内壁部材と前記第2の外壁部材との間に第2の環状空間が形成されるように前記第2の内壁部材と前記第2の外壁部材とを連結する底部材とを含み、
前記飛散防止部材の前記第1の環状空間と前記第2の環状空間とが連通するように、前記飛散防止部材の下部が上下方向に移動可能に前記収容部材の前記第2の環状空間に収容され、
前記排気系は、前記環状開口が前記基板保持装置により保持された基板の外周端部に対向する状態で、前記環状開口、前記第1の環状空間および前記第2の環状空間を通して前記内部空間の気体を吸引して前記第2の環状空間から排出するように設けられ、
前記連結部材は、前記第1の内壁部材の下端と前記第1の外壁部材の下端とを連結する環状板部材を含み、
前記環状板部材は、前記第1の環状空間と前記第2の環状空間とを連通させる複数の連通開口を有し、
前記複数の連通開口は、周方向に分散的に配置された複数の連通孔を含む、基板処理装置。 - 前記排気系は、前記収容部材の一部分において前記第2の環状空間に連通するように設けられ、
前記複数の連通孔は、隣り合う連通孔の間隔が前記収容部材の前記一部分から遠ざかるにつれて小さくなるように配置される、請求項1記載の基板処理装置。 - 基板処理装置であって、
基板を保持しつつ鉛直軸の周りで回転させる基板保持装置と、
前記基板保持装置により保持される基板に処理液を供給する処理液供給部と、
回転される基板から周囲に飛散する処理液を受け止めるように構成された飛散防止部材と、
前記飛散防止部材の下部を収容する収容部材と、
前記飛散防止部材を前記収容部材に対して相対的に上下方向に移動させる駆動装置と、
排気系とを備え、
前記飛散防止部材は、
前記基板保持装置により保持される基板および当該基板よりも下方の領域を含む内部空間を取り囲むように設けられる第1の内壁部材と、
前記第1の内壁部材の外側を取り囲むように設けられる第1の外壁部材と、
前記第1の内壁部材と前記第1の外壁部材との間に第1の環状空間が形成されるように前記第1の内壁部材と前記第1の外壁部材とを連結する連結部材と、
前記第1の環状空間の上部を覆うように前記第1の外壁部材につながる環状の外側上部材とを含み、
前記第1の内壁部材と前記外側上部材との間に前記基板保持装置により保持される基板の外周端部に対向可能な環状開口が形成され、
前記収容部材は、
前記内部空間を取り囲むように設けられる第2の内壁部材と、
前記第2の内壁部材の外側を取り囲むように設けられる第2の外壁部材と、
前記第2の内壁部材と前記第2の外壁部材との間に第2の環状空間が形成されるように前記第2の内壁部材と前記第2の外壁部材とを連結する底部材とを含み、
前記飛散防止部材の前記第1の環状空間と前記第2の環状空間とが連通するように、前記飛散防止部材の下部が上下方向に移動可能に前記収容部材の前記第2の環状空間に収容され、
前記排気系は、前記環状開口が前記基板保持装置により保持された基板の外周端部に対向する状態で、前記環状開口、前記第1の環状空間および前記第2の環状空間を通して前記内部空間の気体を吸引して前記第2の環状空間から排出するように設けられ、
前記基板処理装置は、
前記第2の外壁部材の外周面の一部領域に接する空間を排気空間として取り囲むように形成された排気空間形成部材と、
排液系とをさらに備え、
前記第2の外壁部材の前記一部領域に前記第2の環状空間と前記排気空間とを連通させる第1の開口が設けられ、
前記排気空間形成部材に前記排気空間と前記排気系とを連通させる第2の開口が設けられ、
前記第2の開口は前記第1の開口よりも高い位置にあり、
前記収容部材の前記底部材に前記第2の環状空間と前記排液系とを連通させる排液口が設けられる、基板処理装置。 - 基板を保持しつつ鉛直軸の周りで回転させる基板保持装置と、
前記基板保持装置により保持される基板に処理液を供給する処理液供給部と、
回転される基板から周囲に飛散する処理液を受け止めるように構成された飛散防止部材と、
前記飛散防止部材の下部を収容する収容部材と、
前記飛散防止部材を前記収容部材に対して相対的に上下方向に移動させる駆動装置と、
排気系とを備え、
前記飛散防止部材は、
前記基板保持装置により保持される基板および当該基板よりも下方の領域を含む内部空間を取り囲むように設けられる第1の内壁部材と、
前記第1の内壁部材の外側を取り囲むように設けられる第1の外壁部材と、
前記第1の内壁部材と前記第1の外壁部材との間に第1の環状空間が形成されるように前記第1の内壁部材と前記第1の外壁部材とを連結する連結部材と、
前記第1の環状空間の上部を覆うように前記第1の外壁部材につながる環状の外側上部材とを含み、
前記第1の内壁部材と前記外側上部材との間に前記基板保持装置により保持される基板の外周端部に対向可能な環状開口が形成され、
前記収容部材は、
前記内部空間を取り囲むように設けられる第2の内壁部材と、
前記第2の内壁部材の外側を取り囲むように設けられる第2の外壁部材と、
前記第2の内壁部材と前記第2の外壁部材との間に第2の環状空間が形成されるように前記第2の内壁部材と前記第2の外壁部材とを連結する底部材とを含み、
前記飛散防止部材の前記第1の環状空間と前記第2の環状空間とが連通するように、前記飛散防止部材の下部が上下方向に移動可能に前記収容部材の前記第2の環状空間に収容され、
前記排気系は、前記環状開口が前記基板保持装置により保持された基板の外周端部に対向する状態で、前記環状開口、前記第1の環状空間および前記第2の環状空間を通して前記内部空間の気体を吸引して前記第2の環状空間から排出するように設けられ、
前記外側上部材は、前記第1の外壁部材の上端から、外方かつ上方に湾曲し、さらに内方に湾曲して前記第1の環状空間の上部を覆うとともに前記環状開口の上縁を形成する、基板処理装置。 - 前記飛散防止部材は、前記第1の内壁部材から外方かつ上方に湾曲し、さらに内方に湾曲して前記環状開口の下縁を形成する内側上部材をさらに含む、請求項4記載の基板処理装置。
- 基板を保持しつつ鉛直軸の周りで回転させる基板保持装置と、
前記基板保持装置により保持される基板に処理液を供給する処理液供給部と、
回転される基板から周囲に飛散する処理液を受け止めるように構成された飛散防止部材と、
前記飛散防止部材の下部を収容する収容部材と、
前記飛散防止部材を前記収容部材に対して相対的に上下方向に移動させる駆動装置と、
排気系とを備え、
前記飛散防止部材は、
前記基板保持装置により保持される基板および当該基板よりも下方の領域を含む内部空間を取り囲むように設けられる第1の内壁部材と、
前記第1の内壁部材の外側を取り囲むように設けられる第1の外壁部材と、
前記第1の内壁部材と前記第1の外壁部材との間に第1の環状空間が形成されるように前記第1の内壁部材と前記第1の外壁部材とを連結する連結部材と、
前記第1の環状空間の上部を覆うように前記第1の外壁部材につながる環状の外側上部材とを含み、
前記第1の内壁部材と前記外側上部材との間に前記基板保持装置により保持される基板の外周端部に対向可能な環状開口が形成され、
前記収容部材は、
前記内部空間を取り囲むように設けられる第2の内壁部材と、
前記第2の内壁部材の外側を取り囲むように設けられる第2の外壁部材と、
前記第2の内壁部材と前記第2の外壁部材との間に第2の環状空間が形成されるように前記第2の内壁部材と前記第2の外壁部材とを連結する底部材とを含み、
前記飛散防止部材の前記第1の環状空間と前記第2の環状空間とが連通するように、前記飛散防止部材の下部が上下方向に移動可能に前記収容部材の前記第2の環状空間に収容され、
前記排気系は、前記環状開口が前記基板保持装置により保持された基板の外周端部に対向する状態で、前記環状開口、前記第1の環状空間および前記第2の環状空間を通して前記内部空間の気体を吸引して前記第2の環状空間から排出するように設けられ、
前記基板保持装置は、
前記鉛直軸の周りで回転可能に構成されるとともに、基板の下面中央部を吸着する吸着保持部と、
前記吸着保持部を回転させる第1の回転駆動部とを含む、基板処理装置。 - 基板を保持しつつ鉛直軸の周りで回転させる基板保持装置と、
前記基板保持装置により保持される基板に処理液を供給する処理液供給部と、
回転される基板から周囲に飛散する処理液を受け止めるように構成された飛散防止部材と、
前記飛散防止部材の下部を収容する収容部材と、
前記飛散防止部材を前記収容部材に対して相対的に上下方向に移動させる駆動装置と、
排気系とを備え、
前記飛散防止部材は、
前記基板保持装置により保持される基板および当該基板よりも下方の領域を含む内部空間を取り囲むように設けられる第1の内壁部材と、
前記第1の内壁部材の外側を取り囲むように設けられる第1の外壁部材と、
前記第1の内壁部材と前記第1の外壁部材との間に第1の環状空間が形成されるように前記第1の内壁部材と前記第1の外壁部材とを連結する連結部材と、
前記第1の環状空間の上部を覆うように前記第1の外壁部材につながる環状の外側上部材とを含み、
前記第1の内壁部材と前記外側上部材との間に前記基板保持装置により保持される基板の外周端部に対向可能な環状開口が形成され、
前記収容部材は、
前記内部空間を取り囲むように設けられる第2の内壁部材と、
前記第2の内壁部材の外側を取り囲むように設けられる第2の外壁部材と、
前記第2の内壁部材と前記第2の外壁部材との間に第2の環状空間が形成されるように前記第2の内壁部材と前記第2の外壁部材とを連結する底部材とを含み、
前記飛散防止部材の前記第1の環状空間と前記第2の環状空間とが連通するように、前記飛散防止部材の下部が上下方向に移動可能に前記収容部材の前記第2の環状空間に収容され、
前記排気系は、前記環状開口が前記基板保持装置により保持された基板の外周端部に対向する状態で、前記環状開口、前記第1の環状空間および前記第2の環状空間を通して前記内部空間の気体を吸引して前記第2の環状空間から排出するように設けられ、
前記基板保持装置は、
前記鉛直軸の周りで回転可能に構成された回転部材と、
前記回転部材を回転させる第2の回転駆動部と、
前記回転部材の下方に配置されるとともに基板の外周端部に当接することにより基板を保持する当接保持部とを含む、基板処理装置。
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