JP2007273959A - 光検出素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シリコンを母材としており、炭素を所定濃度で含有する半導体基板101と、半導体基板101上にシリコンを母材としてエピタキシャル成長されてなり、半導体基板101から所定距離だけ離間する領域に光検出部(主に104)を有するエピタキシャル層102とを備え、半導体基板101は、半導体基板101に含有される炭素が所定濃度になるようにシリコンを含有する材料と炭素を含有する材料とが溶融された原料融液から結晶成長されてなる。
【選択図】図2
Description
そこで、本発明は、ゲッタリング効果を向上させつつ、電気的特性のばらつきを低減することができる光検出素子、及びその製造方法を提供することを目的とする。
発明者は、電気的特性のばらつきを低減できる理由について、(1)電気的特性のばらつきは半導体基板中の第2の元素(例えば、炭素)の分布のばらつきに起因しており、(2)半導体基板の原料融液に第2の元素を添加しておくことで、第2の元素をイオン注入する方法よりも半導体基板中の第2の元素の分布のばらつきを低減することができたからであると推察している。
BMDは第2の元素の付近に発生する傾向がある。そのため、BMDの分布は、第2の元素の分布に応じてばらつく。BMDの分布のばらつきは半導体基板内の寄生容量や寄生抵抗等のばらつきを誘引する。そうすると、半導体基板内の電気的特性がばらつくことになると考えられる。
上記構成のように半導体基板の原料融液に第2の元素を添加しておけば、第2の元素は結晶成長の過程で半導体基板中に略一様に分布する。一方、イオン注入により第2の元素を添加した場合は、第2の元素を半導体基板中に略一様に分布させることが困難である。これは、主に、イオンビームが径方向にイオン密度の勾配を有していることと、イオンビームを半導体基板(ウェハ)の全域にスキャンするときに精度誤差が生じてしまうこととを原因としている。このことを考慮すれば、原料融液に第2の元素を添加しておく方法は、第2の元素をイオン注入する方法よりも半導体基板中の第2の元素の分布のばらつきを低減することができると考えられる。
上記構成によれば、シリコン基板中の炭素の濃度が1×1016atoms/cm3以上なので、ゲッタリングサイトとなるBMDを高密度に形成することができる。その結果、ゲッタリング効果を向上させることができる。また、シリコン基板中の炭素の濃度が2.5×1017atoms/cm3以下なので、過度にBMDを形成することがない。したがって、転位やスリップの発生による半導体基板の強度低下を防止することができる。
上記構成によれば、半導体基板の単位断面積あたりのBMDの個数が、5×105個/cm2以上なので、半導体基板中に存在する金属不純物及び結晶欠陥を強力にゲッタリングすることができる。また、半導体基板の単位断面積あたりのBMDの個数が、5×107個/cm2以下なので、転位やスリップの発生による半導体基板の強度低下を防止することができる。
上記構成によれば、BMDのサイズは、50nm以上なので、半導体基板中に存在する金属不純物及び結晶欠陥を強力にゲッタリングすることができる。また、BMDのサイズは、400nm以下なので、転位やスリップの発生による半導体基板の強度低下を防止することができる。
上記構成によれば、エピタキシャル層の電気的特性に半導体基板における不純物の濃度のばらつきが影響することを防止しつつ、電子シャッタ電圧の低電圧化を図ることができる。
上記構成によれば、電子シャッタ電圧の低電圧化を図りつつ、種々の電気的特性を満足する固体撮像素子を作成することができる。
本発明に係る光検出素子は、第1の元素を母材としており、当該第1の元素と同族の第2の元素を所定濃度で含有する半導体基板と、前記半導体基板上に第1の元素を母材としてエピタキシャル成長されてなり、前記半導体基板から所定距離だけ離間する領域に光検出部を有するエピタキシャル層とを備え、前記第2の元素は、前記半導体基板中の全域において略均一に分布している。
前記所定濃度は、1×1016乃至2.5×1017atoms/cm3の範囲に含まれていることとしてもよい。
上記構成によれば、BMDを高密度に形成しつつ、半導体基板の強度低下を防止することができる。この理由は、上述したとおりである。
上記構成によれば、最初の熱処理温度が摂氏600度以上700度以下であることから、酸素析出欠陥の析出核が十分なサイズに成長するために消滅せずに残留し、ゲッタリングサイトとなるBMDを高密度に形成することができる。その結果、ゲッタリング効果を向上させることができる。
上記構成によれば、酸素析出欠陥の析出核が十分に成長し、ゲッタリングサイトとなるBMDを高密度に形成することができる。その結果、ゲッタリング効果を向上させることができる。
上記構成によれば、エピタキシャル層の電気的特性に半導体基板における不純物の濃度のばらつきが影響することを防止しつつ、電子シャッタ電圧の低電圧化を図ることができる。
上記構成によれば、電子シャッタ電圧の低電圧化を図りつつ、種々の電気的特性を満足する固体撮像素子を作成することができる。
(実施の形態1)
<構成>
図1は、IT−CCD型の固体撮像素子の概略構成を示す図である。
固体撮像素子は、光検出部11、垂直転送部12、水平転送部13及び増幅部14を備える。
固体撮像素子は、半導体基板101、エピタキシャル層102、ゲート絶縁膜108、ゲート電極109、反射防止膜116、遮光膜118、層間絶縁膜117、表面保護膜119を備える。なお、図2では、固体撮像素子の1画素分のみが示されている。
半導体基板101は、シリコンを母材としており、炭素及びリンを含有している。炭素の濃度は、1×1016乃至2.5×1017atoms/cm3の範囲に含まれている。なお、炭素は、半導体基板101中に、面方向及び深さ方向に略均一に分布している。ここで、「略均一」とは、半導体基板101中の複数の領域で炭素の濃度を測定した場合、その下限値に対する上限値の比が10以内に収まることをいうものとする。
図3は、半導体基板及びエピタキシャル層内部の電位分布を示す図である。
図3中に示された符号A乃至Dは、図2中に示されたA点乃至D点とそれぞれ対応している。すなわち、符号Aは垂直転送部12に対応し、符号Bはp型領域114に対応し、符号Cは光検出部11に対応し、符号Dは半導体基板101に対応している。
<製造方法>
図4、図5、図6は、固体撮像素子の製造方法を示す図である。
シリコンを含有する材料23、炭素を含有する材料24、リンを含有する材料25を坩堝21に投入する(図4(a))。ここで、炭素を含有する材料24は、半導体基板101が1×1016乃至2.5×1017atoms/cm3の濃度範囲で炭素を含有することになるように投入される。炭素を含有する材料24としては、例えば、黒鉛やSiC結晶等が考えられる。なお、リンを含有する材料25は、半導体基板101が0.25乃至0.5Ωcmの抵抗率を有することになるように投入される。
半導体基板101を準備する(図5(a))。なお、図5(a)は、半導体基板101の断面の一部を示している。
準備した半導体基板101上にシリコンをエピタキシャル成長させてエピタキシャル層102を積層する(図5(b))。エピタキシャル層102の厚みは、6μm程度とし、抵抗率は10乃至15Ωcmとする。
次に、エピタキシャル層102の表面に形成されたシリコン酸化膜120及びシリコン窒化膜121を除去して、改めてエピタキシャル層102の表面にゲート絶縁膜108を形成する(図6(a))。
また、投入温度を摂氏600度とし、最高温度を摂氏1000度とし、保持時間を延べ180分とする熱処理工程を実施した場合には、単位断面積あたりのBMDの密度はおよそ5×106個/cm2となり、BMDのサイズはおよそ50nmとなる。
<性能評価>
発明者は、従来1、従来2及び本発明の3通りの製造方法により固体撮像素子を作成して、性能評価を実施した。
従来2に係る固体撮像素子は、特許文献1に係るゲッタリング技術が適用されている。すなわち、イオン注入により炭素をシリコン基板に添加し、BMDを発生させている。
性能評価は、固体撮像素子の白キズの個数とブルーミング抑制電圧(電気的特性の一種)とを測定し、測定結果を比較することにより実施した。固体撮像素子の画素数は500万画素であり、固体撮像素子のサンプル数はそれぞれ100個である。
白キズの個数の測定では、環境温度が摂氏60度のもとで遮光状態の固体撮像素子を4秒間電荷蓄積させたときに信号が閾値に達した画素を白キズとみなした。
図7では、従来2に係る固体撮像素子から得られた白キズ個数の平均値を基準として規格化して表示している。白キズの個数の平均値は、従来1が6.38、従来2が1、本発明が0.67である。この結果から、炭素が添加された従来2及び本発明は、炭素が不添加である従来1に比べて、白キズの個数を大幅に低減できることが分かる。さらに、本発明と従来2とを比べると、本発明は従来2よりも白キズの個数を3割程度低減できることが分かる。
ブルーミング抑制電圧の測定では、環境温度が摂氏35度のもとで強い光を照射しつつ基板電圧を変化させたときに、ブルーミングが発生しない基板電圧の下限値を、ブルーミング抑制電圧とみなした。
図8では、従来2に係る固体撮像素子から得られたブルーミング抑制電圧の平均値を基準として規格化して表示している。ブルーミング抑制電圧のばらつき(最大値と最小値との差)は、従来1が0.09、従来2が0.4、本発明が0.12である。この結果から、本発明は従来2よりもブルーミング抑制電圧のばらつきを半減できることが分かる。
発明者は、このような効果が得られた原因について、(1)ブルーミング抑制電圧のばらつきは半導体基板中の炭素の分布のばらつきに起因しており、(2)半導体基板の原料融液に炭素を添加しておくことで、炭素をイオン注入する方法よりも半導体基板中の炭素の分布のばらつきを低減することができたからであると推察している。
BMDは炭素の付近に発生する傾向がある。そのため、BMDの分布は、炭素の分布に応じてばらつく。BMDの分布のばらつきは半導体基板101内の寄生容量や寄生抵抗等のばらつきを誘引する。そうすると、ブルーミング抑制電圧がばらつくことになると考えられる。
半導体基板の原料融液に炭素を添加しておけば、炭素は結晶成長の過程で半導体基板中に略一様に分布する。一方、イオン注入により炭素を添加した場合は、炭素を半導体基板中に略一様に分布させることが困難である。これは、主に、イオンビームが径方向にイオン密度の勾配を有していることと、イオンビームを半導体基板(ウェハ)の全域にスキャンするときに精度誤差が生じてしまうこととを原因としている。このことを考慮すれば、原料融液に炭素を添加しておく方法は、炭素をイオン注入する方法よりも半導体基板中の炭素の分布のばらつきを低減することができると考えられる。
図9は、ウェハの断面を模式的に示す図である。
図9(a)は本発明に係るウェハであり、図9(b)は従来2に係るウェハである。本発明に係る半導体基板101は、従来2に係る半導体基板201に比べて、BMDの分布のばらつきが小さい。これは、本発明に係る半導体基板101は従来2に係る半導体基板201に比べて炭素の分布のばらつきが小さいからである。なお、本発明に係る半導体基板101では、半導体基板全体にわたり略均一にBMDが発生している。一方、従来2に係る半導体基板201では、炭素がイオン注入された領域203で主にBMDが発生している。
図10(a)は本発明の製造方法により作成された固体撮像素子の電位分布であり、図10(b)は従来2の製造方法により作成された固体撮像素子の電位分布である。図10中に示された符号B乃至Dは、図2中に示されたB点乃至D点とそれぞれ対応している。すなわち、符号Bはp型領域114に対応し、符号Cは光検出部11に対応し、符号Dは半導体基板101に対応している。
図10(b)において、曲線33は、図9(b)のP領域に固体撮像素子を形成した場合の電位分布を示し、曲線34は、図9(b)のQ領域に固体撮像素子を形成した場合の電位分布を示す。
図14は、エピタキシャル層中の同一面内における抵抗率のばらつきの比較結果である。
ストリエーションは、半導体基板からエピタキシャル層に不純物が熱拡散することにより発生する。不純物の熱拡散は、格子点から格子間に移動したシリコン原子(いわゆる格子間シリコン)や、シリコン原子の移動により格子点に形成された原子空孔により促進される。本発明のゲッタリング技術では、シリコンを母材とする半導体基板に炭素が導入されているため、格子間シリコンや原子空孔は炭素にトラップされる。その結果、不純物の熱拡散が抑制され、ストリエーションの発生が抑制される。
なお固体撮像素子の消費電力を低減する有効な方法として、電子シャッタを機能させるときに半導体基板に印加される電圧(電子シャッタ電圧)を低電圧化することが挙げられる。電子シャッタ電圧を低電圧化するためには、エピタキシャル層の薄膜化が有効である。しかしながら、エピタキシャル層を薄膜化するほど、半導体基板における不純物の濃度のばらつきがエピタキシャル層の電気的特性に影響しやすくなり、ストリエーションが発生しやすくなる。本発明のゲッタリング技術によれば、ストリエーションの発生を抑制することができるので、その分だけエピタキシャル層を薄膜化することができる。したがって、固体撮像素子の消費電力を低減することができる。
(実施の形態2)
<構成>
図11は、FT−CCD型の固体撮像素子の概略構成を示す図である。
受光領域41は光検出部44を有する。光検出部44は、受光量に応じた量の電荷を生成するとともに、垂直転送部としての役割を果たす。蓄積領域42は蓄積部45を有する。蓄積部45は、光検出部44から転送された電荷を蓄積するとともに、垂直転送部としての役割を果たす。光検出部44、ならびに蓄積部45は、2次元的にマトリクス状に配列されており、図11では模式的にそれぞれ6行11列の66画素分が示されている。水平転送部43は、蓄積部45から転送された電荷をそれぞれ増幅部46にまで転送する。増幅部46は、水平転送部43から転送された電荷をそれぞれ電圧に変換し、増幅する。
固体撮像素子は、半導体基板301、エピタキシャル層302、ゲート絶縁膜308、透明電極309、平坦化膜330を備える。なお、図12では、固体撮像素子の2画素分のみが示されている。
半導体基板301は、シリコンを母材としており、炭素及びリンを含有している。炭素は、半導体基板301中に、面方向及び深さ方向に略一様に分布している。炭素の濃度は、5×1016atoms/cm3である。
<製造方法>
実施の形態2の製造方法は、実施の形態1の製造方法に比べて、主に、熱処理の温度が異なる。したがって、熱処理に関する事項のみを説明する。
(実施の形態3)
<構成>
図13は、フォトカプラ用の受光素子の断面図である。
半導体基板401は、シリコンを母材としており、炭素及びリンを含有している。炭素は、半導体基板401中に、面方向及び深さ方向に略一様に分布している。炭素の濃度は、1×1016乃至2.5×1017atoms/cm3の範囲に含まれている。
以上、本発明に係る光検出装置について、実施の形態に基づいて説明したが、本発明はこれらの実施の形態に限られない。例えば、以下のような変形例が考えられる。
(1)実施の形態では、CZ法による引き上げで単結晶インゴットを育成しているが、これに限らず、単結晶を育成する際に磁場を印加するMCZ法を用いてもよい。
(2)実施の形態では、IT−CCD型、FT−CCD型の固体撮像素子を例に挙げているが、本発明は、これに限らず、MOS型固体撮像素子にも適用可能である。また、実施の形態では、フォトカプラ用の受光素子を例に挙げているが、本発明は、これに限らず、光通信用、光ピックアップ用等の受光素子にも適用可能である。
(3)実施の形態では、炭素を添加する例を挙げているが、本発明は、シリコンと同族の元素であれば、これに限られない。例えば、ゲルマニウム、スズ、鉛などが考えられる。
(4)実施の形態では、半導体基板の導電型をN型にするために、リンを添加しているが、本発明は、これに限らない。
12 垂直転送部
13、43 水平転送部
14、46 増幅部
21 坩堝
22 ヒータ
23 シリコンを含有する材料
24 炭素を含有する材料
25 リンを含有する材料
26 原料融液
27 支持具
28 種結晶
29 単結晶インゴット
41 受光領域
42 蓄積領域
45 蓄積部
101、201、301、401 半導体基板
102、202、302、402 エピタキシャル層
103、303、403 p型ウェル領域
104、304、404 n型領域
106 n型領域
107 p型領域
108、308 ゲート絶縁膜
109 ゲート電極
112、312 p型領域
114 p型領域
115 p型領域
116、416 反射防止膜
117 層間絶縁膜
118 遮光膜
119 表面保護膜
120 シリコン酸化膜
121 シリコン窒化膜
203 炭素がイオン注入された領域
309、409 透明電極
330 平坦化膜
408 絶縁膜
Claims (18)
- 第1の元素を母材としており、当該第1の元素と同族の第2の元素を所定濃度で含有する半導体基板と、
前記半導体基板上に第1の元素を母材としてエピタキシャル成長されてなり、前記半導体基板から所定距離だけ離間する領域に光検出部を有するエピタキシャル層とを備え、
前記半導体基板は、当該半導体基板に含有される第2の元素が前記所定濃度になるように第1の元素を含有する材料と第2の元素を含有する材料とが溶融された原料融液から結晶成長されてなること
を特徴とする光検出素子。 - 前記第1の元素はシリコンであり、前記第2の元素は炭素であり、
前記所定濃度は、1×1016乃至2.5×1017atoms/cm3の範囲に含まれていること
を特徴とする請求項1に記載の光検出素子。 - 前記半導体基板が有する単位断面積あたりのBMDの個数は、5×105乃至5×107個/cm2の範囲に含まれていること
を特徴とする請求項1に記載の光検出素子。 - 前記半導体基板が有するBMDのサイズは、50乃至400nmの範囲に含まれていること
を特徴とする請求項1に記載の光検出素子。 - 前記エピタキシャル層の厚みは4μm以上6μm以下の範囲に含まれること
を特徴とする請求項1に記載の光検出素子。 - 前記半導体基板の抵抗率ρ1と前記エピタキシャル層の抵抗率ρ2との比ρ2/ρ1は、20以上200以下の範囲に含まれること
を特徴とする請求項1に記載の光検出素子。 - 第1の元素を母材としており、当該第1の元素と同族の第2の元素を所定濃度で含有する半導体基板と、
前記半導体基板上に第1の元素を母材としてエピタキシャル成長されてなり、前記半導体基板から所定距離だけ離間する領域に光検出部を有するエピタキシャル層とを備え、
前記第2の元素は、前記半導体基板中の全域において略均一に分布していること
を特徴とする光検出素子。 - 前記第1の元素はシリコンであり、前記第2の元素は炭素であり、
前記所定濃度は、1×1016乃至2.5×1017atoms/cm3の範囲に含まれていること
を特徴とする請求項7に記載の光検出素子。 - 前記半導体基板が有する単位断面積あたりのBMDの個数は、5×105乃至5×107個/cm2の範囲に含まれていること
を特徴とする請求項7に記載の光検出素子。 - 前記半導体基板が有するBMDのサイズは、50乃至400nmの範囲に含まれていること
を特徴とする請求項7に記載の光検出素子。 - 前記エピタキシャル層の厚みは4μm以上6μm以下の範囲に含まれること
を特徴とする請求項7に記載の光検出素子。 - 前記半導体基板の抵抗率ρ1と前記エピタキシャル層の抵抗率ρ2との比ρ2/ρ1は、20以上200以下の範囲に含まれること
を特徴とする請求項7に記載の光検出素子。 - 第1の元素を母材としており、当該第1の元素と同族の第2の元素を所定濃度で含有する半導体基板を準備する準備工程と、
前記準備工程により準備された半導体基板上に、第1の元素を母材とするエピタキシャル層を積層する積層工程と、
前記積層工程により積層されたエピタキシャル層の前記半導体基板から所定距離だけ離間する領域に光検出部を形成する形成工程とを含み、
前記準備工程において準備される半導体基板は、当該半導体基板に含有される第2の元素が前記所定濃度になるように第1の元素を含有する材料と第2の元素を含有する材料とが溶融された原料融液から結晶成長されてなること
を特徴とする光検出素子の製造方法。 - 前記第1の元素はシリコンであり、前記第2の元素は炭素であり、
前記所定濃度は、1×1016乃至2.5×1017atoms/cm3の範囲に含まれていること
を特徴とする請求項13に記載の光検出素子の製造方法。 - 前記光検出素子の製造方法は、さらに、
前記成長工程の後に、前記半導体基板に繰り返し熱処理を施す熱処理工程を含み、
前記半導体基板に最初に熱処理を施すときの投入温度は、摂氏600度以上700度以下であること
を特徴とする請求項13に記載の光検出素子の製造方法。 - 前記光検出素子の製造方法は、さらに、
前記半導体基板上にゲート絶縁膜を形成するまでに前記半導体基板に熱処理を施す熱処理工程を含み、
当該熱処理は、最高温度が摂氏1000度乃至1100度の範囲に含まれ、処理時間が60分乃至600分の範囲に含まれること
を特徴とする請求項13に記載の光検出素子の製造方法。 - 前記エピタキシャル層の厚みは4μm以上6μm以下の範囲に含まれること
を特徴とする請求項13に記載の光検出素子の製造方法。 - 前記半導体基板の抵抗率ρ1と前記エピタキシャル層の抵抗率ρ2との比ρ2/ρ1は、20以上200以下の範囲に含まれること
を特徴とする請求項13に記載の光検出素子の製造方法。
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009075288A1 (ja) * | 2007-12-11 | 2009-06-18 | Sumco Corporation | シリコン基板とその製造方法 |
WO2009075257A1 (ja) * | 2007-12-11 | 2009-06-18 | Sumco Corporation | シリコン基板とその製造方法 |
JP2009212351A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Sumco Corp | シリコン基板とその製造方法 |
JP2009212353A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Sumco Corp | シリコン基板とその製造方法 |
JP2009212352A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Sumco Corp | シリコン基板とその製造方法 |
JP2009274901A (ja) * | 2008-05-14 | 2009-11-26 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | シリコン単結晶の育成方法 |
JPWO2008029918A1 (ja) * | 2006-09-07 | 2010-01-21 | 株式会社Sumco | 固体撮像素子用半導体基板および固体撮像素子ならびにそれらの製造方法 |
JP2013125885A (ja) * | 2011-12-15 | 2013-06-24 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体基板の評価方法および半導体基板の製造方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59150431A (ja) * | 1983-02-16 | 1984-08-28 | Matsushita Electronics Corp | 半導体装置の製造方法 |
JPH06163410A (ja) * | 1992-09-25 | 1994-06-10 | Sony Corp | エピタキシャルウェハ及びその製造方法 |
JPH08321509A (ja) * | 1995-05-24 | 1996-12-03 | Sony Corp | 半導体装置と、半導体装置およびその半導体基板の製法 |
JPH1050715A (ja) * | 1996-07-29 | 1998-02-20 | Sumitomo Sitix Corp | シリコンウェーハとその製造方法 |
JP2003151984A (ja) * | 2001-11-19 | 2003-05-23 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | シリコンエピタキシャルウェーハ及びその製造方法 |
JP2004221491A (ja) * | 2003-01-17 | 2004-08-05 | Nikon Corp | 固体撮像装置,およびその製造方法 |
JP2005051040A (ja) * | 2003-07-29 | 2005-02-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法及び半導体基板 |
JP2006073580A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Sumco Corp | シリコンエピタキシャルウェーハ及びその製造方法 |
WO2008029918A1 (fr) * | 2006-09-07 | 2008-03-13 | Sumco Corporation | Substrat à semi-conducteurs pour dispositif de formation d'image à semi-conducteurs, dispositif de formation d'image à semi-conducteurs et procédé pour les fabriquer |
-
2007
- 2007-02-14 JP JP2007033363A patent/JP2007273959A/ja active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59150431A (ja) * | 1983-02-16 | 1984-08-28 | Matsushita Electronics Corp | 半導体装置の製造方法 |
JPH06163410A (ja) * | 1992-09-25 | 1994-06-10 | Sony Corp | エピタキシャルウェハ及びその製造方法 |
JPH08321509A (ja) * | 1995-05-24 | 1996-12-03 | Sony Corp | 半導体装置と、半導体装置およびその半導体基板の製法 |
JPH1050715A (ja) * | 1996-07-29 | 1998-02-20 | Sumitomo Sitix Corp | シリコンウェーハとその製造方法 |
JP2003151984A (ja) * | 2001-11-19 | 2003-05-23 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | シリコンエピタキシャルウェーハ及びその製造方法 |
JP2004221491A (ja) * | 2003-01-17 | 2004-08-05 | Nikon Corp | 固体撮像装置,およびその製造方法 |
JP2005051040A (ja) * | 2003-07-29 | 2005-02-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法及び半導体基板 |
JP2006073580A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Sumco Corp | シリコンエピタキシャルウェーハ及びその製造方法 |
WO2008029918A1 (fr) * | 2006-09-07 | 2008-03-13 | Sumco Corporation | Substrat à semi-conducteurs pour dispositif de formation d'image à semi-conducteurs, dispositif de formation d'image à semi-conducteurs et procédé pour les fabriquer |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8063466B2 (en) | 2006-09-07 | 2011-11-22 | Sumco Corporation | Semiconductor substrate for solid-state image sensing device as well as solid-state image sensing device and method for producing the same |
JPWO2008029918A1 (ja) * | 2006-09-07 | 2010-01-21 | 株式会社Sumco | 固体撮像素子用半導体基板および固体撮像素子ならびにそれらの製造方法 |
US8492193B2 (en) | 2006-09-07 | 2013-07-23 | Sumco Corporation | Semiconductor substrate for solid-state imaging sensing device as well as solid-state image sensing device and method for producing the same |
JP4650584B2 (ja) * | 2006-09-07 | 2011-03-16 | 株式会社Sumco | 固体撮像素子およびその製造方法 |
JP4650493B2 (ja) * | 2006-09-07 | 2011-03-16 | 株式会社Sumco | 固体撮像素子用半導体基板およびその製造方法 |
JP2010109382A (ja) * | 2006-09-07 | 2010-05-13 | Sumco Corp | 固体撮像素子およびその製造方法 |
WO2009075257A1 (ja) * | 2007-12-11 | 2009-06-18 | Sumco Corporation | シリコン基板とその製造方法 |
JPWO2009075288A1 (ja) * | 2007-12-11 | 2011-04-28 | 株式会社Sumco | シリコン基板とその製造方法 |
JPWO2009075257A1 (ja) * | 2007-12-11 | 2011-04-28 | 株式会社Sumco | シリコン基板とその製造方法 |
WO2009075288A1 (ja) * | 2007-12-11 | 2009-06-18 | Sumco Corporation | シリコン基板とその製造方法 |
JP2009212352A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Sumco Corp | シリコン基板とその製造方法 |
JP2009212353A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Sumco Corp | シリコン基板とその製造方法 |
JP2009212351A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Sumco Corp | シリコン基板とその製造方法 |
US8864907B2 (en) | 2008-03-05 | 2014-10-21 | Sumco Corporation | Silicon substrate and manufacturing method of the same |
JP2009274901A (ja) * | 2008-05-14 | 2009-11-26 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | シリコン単結晶の育成方法 |
JP2013125885A (ja) * | 2011-12-15 | 2013-06-24 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体基板の評価方法および半導体基板の製造方法 |
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