JP2006351813A - シリコン微細加工に用いる異方性エッチング剤組成物及びエッチング方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
無機アルカリ化合物およびヒドロキシルアミン類を含有することを特徴とするシリコン微細加工に用いるエッチング剤組成物、並びにこのエッチング剤組成物を用いるシリコンのエッチング方法。
【選択図】
なし
Description
佐藤、「シリコンエッチング技術」、表面技術、Vol.51、No.8、2000、P754〜759 江刺、「2003マイクロマシン/MEMS技術大全」、p.109〜114
また、必要に応じて、有機アルカリ化合物と組み合わせて使用することも可能である。
有機アルカリ化合物としては、第4級水酸化アンモニウム、コリン、エチレンジアミン等が挙げられる。
0.1重量%より低い濃度では、シリコンエッチング速度が非常に遅いか、もしくはエッチングがなされないし、65重量%より高い濃度ではエッチング剤組成物中での結晶の析出や固化などが生じる等好ましくない。
10%水酸化カリウムと5%ヒドロキシルアミンを含む水溶液をエッチング剤とし、評価サンプルをこのエッチング剤中に80℃で浸漬した。1時間浸漬後、評価サンプルをエッチング剤中より取り出しUPWリンスの後、乾燥した。
この薬液処理した評価サンプルからシリコン単結晶の面(100)方向、面(111)方向を測定したところ、面(100)方向のエッチング量は約178μmであった。また、面(111)方向へのエッチングは約3μmであった。
10%水酸化カリウムと5%硫酸ヒドロキシルアミンを含む水溶液をエッチング剤とし、実施例1と同様の処理を行いシリコンエッチング量の測定をしたところ、面(100)方向のエッチング量は約122μmであった。また、面(111)方向へのエッチングは約2μmであった。
10%水酸化カリウムと5%塩化ヒドロキシルアミンを含む水溶液をエッチング剤とし、実施例1と同様の処理を行いシリコンエッチング量の測定をしたところ、面(100)方向のエッチング量は約141μmであった。また、面(111)方向へのエッチングは約3μmであった。
10%水酸化カリウムと5%シュウ酸ヒドロキシルアミンを含む水溶液をエッチング剤とし、実施例1と同様の処理を行いシリコンエッチング量の測定をしたところ、面(100)方向のエッチング量は約131μmであった。また、面(111)方向へのエッチングは約2μmであった。
10%水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液をエッチング剤とし、実施例1と同様の処理を行いシリコンエッチング量の測定をしたところ、面(100)方向のエッチング量は約40μmであった。また、面(111)方向へのエッチングは約1μmであった。
20%ヒドロキシルアミン水溶液をエッチング剤とし、実施例1と同様の処理を行いシリコンエッチング量の測定をしたところ、面(100)方向のエッチング量は約1μm以下であった。また、面(111)方向へのエッチング量も約1μm以下であった。
0.05%水酸化テトラメチルアンモニウムと0.05%ヒドロキシルアミンを含む水溶液をエッチング剤とし、実施例1と同様の処理を行いシリコンエッチング量の測定をしたところ、面(100)方向のエッチング量は約1μm以下であった。また、面(111)方向へのエッチング量も約1μm以下であった。
0.005%水酸化カリウムと0.05%ヒドロキシルアミンを含む水溶液をエッチング剤とし、実施例1と同様の処理を行いシリコンエッチング量の測定をしたところ、面(100)方向のエッチング量は約1μm以下であった。また、面(111)方向へのエッチング量も約1μm以下であった。
10%水酸化カリウム水溶液をエッチング剤とし、実施例1と同様の処理を行いシリコンエッチング量の測定をしたところ、面(100)方向のエッチング量は約66μmであった。また、面(111)方向へのエッチングは約1μmであった。
10%水酸化テトラメチルアンモニウムと5%ヒドラジンを含む水溶液をエッチング剤とし、実施例1と同様の処理を行いシリコンエッチング量の測定をしたところ、面(100)方向のエッチング量は約55μmであった。また、面(111)方向へのエッチングは約3μmであった。
10%水酸化テトラメチルアンモニウムと5%次亜リン酸アンモニウムを含む水溶液をエッチング剤とし、実施例1と同様の処理を行いシリコンエッチング量の測定をしたところ、面(100)方向のエッチング量は約53μmであった。また、面(111)方向へのエッチングは約2μmであった。
Claims (8)
- 無機アルカリ化合物およびヒドロキシルアミン類を含有する水溶液であることを特徴とするシリコン微細加工に用いる異方性エッチング剤組成物。
- 無機アルカリ化合物が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、およびヒドラジンから選ばれる少なくとも1種である請求項1記載の異方性エッチング剤組成物。
- 無機アルカリ化合物が、水酸化カリウムとアンモニアの混合物である請求項1記載の異方性エッチング剤組成物。
- ヒドロキシルアミン類が、ヒドロキシルアミン、硫酸ヒドロキシルアミン、塩化ヒドロキシルアミン、シュウ酸ヒドロキシルアミン、ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩、及びリン酸ヒドロキシルアミンから選ばれる少なくとも1種である請求項1〜3何れか1項記載の異方性エッチング剤組成物。
- 無機アルカリ化合物が0.1〜65重量%、ヒドロキシルアミン類が0.1〜50重量%である請求項1〜4何れか1項記載の異方性エッチング剤組成物。
- 更に、アルコール、ピロカテコール、グリセリン及びグリセリン誘導体から選ばれる少なくとも1種を含有する請求項1〜5何れか1項記載の異方性エッチング剤組成物。
- 請求項1〜6記載の異方性エッチング剤組成物を用いるシリコンのエッチング方法。
- 請求項7記載のエッチング方法より加工されたシリコン基板を有する電子機器。
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