JP2001267355A - ワイヤボンディング方法およびこのワイヤボンディング方法を用いた弾性表面波装置 - Google Patents
ワイヤボンディング方法およびこのワイヤボンディング方法を用いた弾性表面波装置Info
- Publication number
- JP2001267355A JP2001267355A JP2000075287A JP2000075287A JP2001267355A JP 2001267355 A JP2001267355 A JP 2001267355A JP 2000075287 A JP2000075287 A JP 2000075287A JP 2000075287 A JP2000075287 A JP 2000075287A JP 2001267355 A JP2001267355 A JP 2001267355A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bonding
- wire
- electrode
- acoustic wave
- surface acoustic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 title claims description 28
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910018125 Al-Si Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910018520 Al—Si Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-pyrazole-3-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=NN1 WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021364 Al-Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K20/00—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
- B23K20/12—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating the heat being generated by friction; Friction welding
- B23K20/129—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating the heat being generated by friction; Friction welding specially adapted for particular articles or workpieces
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
- H03H3/007—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
- H03H3/08—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of resonators or networks using surface acoustic waves
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/04042—Bonding areas specifically adapted for wire connectors, e.g. wirebond pads
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05599—Material
- H01L2224/056—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05617—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
- H01L2224/05624—Aluminium [Al] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05599—Material
- H01L2224/056—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05638—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/05644—Gold [Au] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05599—Material
- H01L2224/056—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05638—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/05647—Copper [Cu] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/4501—Shape
- H01L2224/45012—Cross-sectional shape
- H01L2224/45015—Cross-sectional shape being circular
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45117—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
- H01L2224/45124—Aluminium (Al) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/485—Material
- H01L2224/48505—Material at the bonding interface
- H01L2224/48599—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au)
- H01L2224/486—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/48617—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950 °C
- H01L2224/48624—Aluminium (Al) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/485—Material
- H01L2224/48505—Material at the bonding interface
- H01L2224/48599—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au)
- H01L2224/486—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/48638—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/48644—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/485—Material
- H01L2224/48505—Material at the bonding interface
- H01L2224/48599—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au)
- H01L2224/486—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/48638—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/48647—Copper (Cu) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/485—Material
- H01L2224/48505—Material at the bonding interface
- H01L2224/48699—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Aluminium (Al)
- H01L2224/487—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Aluminium (Al) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/48717—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Aluminium (Al) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950 °C
- H01L2224/48724—Aluminium (Al) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/485—Material
- H01L2224/48505—Material at the bonding interface
- H01L2224/48699—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Aluminium (Al)
- H01L2224/487—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Aluminium (Al) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/48738—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Aluminium (Al) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/48747—Copper (Cu) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/78—Apparatus for connecting with wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/852—Applying energy for connecting
- H01L2224/85201—Compression bonding
- H01L2224/85205—Ultrasonic bonding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/8538—Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
- H01L2224/85399—Material
- H01L2224/854—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/85417—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
- H01L2224/85424—Aluminium (Al) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/8538—Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
- H01L2224/85399—Material
- H01L2224/854—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/85438—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/85444—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/8538—Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
- H01L2224/85399—Material
- H01L2224/854—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/85438—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/85447—Copper (Cu) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L24/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01013—Aluminum [Al]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01014—Silicon [Si]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01023—Vanadium [V]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01033—Arsenic [As]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01061—Promethium [Pm]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01073—Tantalum [Ta]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01082—Lead [Pb]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1204—Optical Diode
- H01L2924/12041—LED
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/161—Cap
- H01L2924/1615—Shape
- H01L2924/16195—Flat cap [not enclosing an internal cavity]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/20—Parameters
- H01L2924/207—Diameter ranges
- H01L2924/20753—Diameter ranges larger or equal to 30 microns less than 40 microns
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/42—Piezoelectric device making
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/49155—Manufacturing circuit on or in base
- Y10T29/49162—Manufacturing circuit on or in base by using wire as conductive path
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】電極面を構成するタンタル膜への接合性を向上
させ、タンタル膜上に追加の電極を設けなくても直接ボ
ンディングが可能なワイヤボンディング方法を提供す
る。 【解決手段】2つの接続電極間をワイヤで接続するワイ
ヤボンディング方法であって、少なくとも一方の接続電
極がタンタルで形成され、この接続電極に対して破断荷
重が21g以上または破断応力が290N/mm2 以上
の金属線よりなるボンディングワイヤで超音波ワイヤボ
ンディングを行なう。これにより、超音波エネルギーが
タンタル膜よりなる接続電極とボンディングワイヤとの
接合面に効果的に印加され、接合強度が大幅に向上す
る。
させ、タンタル膜上に追加の電極を設けなくても直接ボ
ンディングが可能なワイヤボンディング方法を提供す
る。 【解決手段】2つの接続電極間をワイヤで接続するワイ
ヤボンディング方法であって、少なくとも一方の接続電
極がタンタルで形成され、この接続電極に対して破断荷
重が21g以上または破断応力が290N/mm2 以上
の金属線よりなるボンディングワイヤで超音波ワイヤボ
ンディングを行なう。これにより、超音波エネルギーが
タンタル膜よりなる接続電極とボンディングワイヤとの
接合面に効果的に印加され、接合強度が大幅に向上す
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は2つの接続電極間を
ワイヤで接続するワイヤボンディング方法およびこのワ
イヤボンディング方法を用いた弾性表面波装置に関する
ものである。
ワイヤで接続するワイヤボンディング方法およびこのワ
イヤボンディング方法を用いた弾性表面波装置に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、離間した接続電極間を電気的
に接続する方法として、ワイヤボンディング方法が広く
使用されている。ボンディング電極の表面は酸化膜で覆
われているので、ボンディングワイヤを接合するために
は酸化膜を除去する必要がある。超音波ワイヤボンディ
ング法では、超音波振動がボンディングワイヤに与えら
れるため、ボンディングワイヤがボンディング電極上で
摺動することにより、表面酸化膜が破壊され、活性化さ
れた金属面が現れる。そして、塑性流動と摩擦熱による
温度上昇のために局部溶融、拡散などが生じて金属結合
による接合が行なわれる。
に接続する方法として、ワイヤボンディング方法が広く
使用されている。ボンディング電極の表面は酸化膜で覆
われているので、ボンディングワイヤを接合するために
は酸化膜を除去する必要がある。超音波ワイヤボンディ
ング法では、超音波振動がボンディングワイヤに与えら
れるため、ボンディングワイヤがボンディング電極上で
摺動することにより、表面酸化膜が破壊され、活性化さ
れた金属面が現れる。そして、塑性流動と摩擦熱による
温度上昇のために局部溶融、拡散などが生じて金属結合
による接合が行なわれる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】電極をタンタルのよう
に基板より比重の大きな電極材料で構成することによっ
て、SH型の表面波(ラブ波等)を用いた弾性表面波素
子が提案されている。ところが、ボンディング電極が硬
いタンタル膜で形成されている場合には、塑性流動が起
こりにくく、ボンディングワイヤの方が柔らかいため
に、超音波エネルギーがボンディングワイヤの塑性流動
(変形)に多く伝えられ、接触面にはあまり伝わらな
い。そのため、ボンディングワイヤの変形量が大きい
が、ボンディング電極との接合は不十分な状態となる。
その結果、ワイヤ不着やワイヤ引張り強度の低下などが
発生する問題があった。
に基板より比重の大きな電極材料で構成することによっ
て、SH型の表面波(ラブ波等)を用いた弾性表面波素
子が提案されている。ところが、ボンディング電極が硬
いタンタル膜で形成されている場合には、塑性流動が起
こりにくく、ボンディングワイヤの方が柔らかいため
に、超音波エネルギーがボンディングワイヤの塑性流動
(変形)に多く伝えられ、接触面にはあまり伝わらな
い。そのため、ボンディングワイヤの変形量が大きい
が、ボンディング電極との接合は不十分な状態となる。
その結果、ワイヤ不着やワイヤ引張り強度の低下などが
発生する問題があった。
【0004】その対策として、タンタル膜上にAuやA
l(Al合金を含む)の電極を設け、この電極上にワイ
ヤボンディングを行なう方法が提案されている。しか
し、この方法では、追加の電極膜を形成する必要がある
ため、工程数の増加およびコスト上昇を招く欠点があっ
た。
l(Al合金を含む)の電極を設け、この電極上にワイ
ヤボンディングを行なう方法が提案されている。しか
し、この方法では、追加の電極膜を形成する必要がある
ため、工程数の増加およびコスト上昇を招く欠点があっ
た。
【0005】そこで、本発明の目的は、電極面を構成す
るタンタル膜への接合性を向上させ、タンタル膜上に追
加の電極を設けなくても直接ボンディングが可能なワイ
ヤボンディング方法を提供することにある。他の目的
は、上記ワイヤボンディング方法を用いて接合力が高
く、電気的信頼性の高い弾性表面波装置を提供すること
にある。
るタンタル膜への接合性を向上させ、タンタル膜上に追
加の電極を設けなくても直接ボンディングが可能なワイ
ヤボンディング方法を提供することにある。他の目的
は、上記ワイヤボンディング方法を用いて接合力が高
く、電気的信頼性の高い弾性表面波装置を提供すること
にある。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明は、2つの接続電極間をワイ
ヤで接続する超音波ワイヤボンディング方法において、
少なくとも一方の接続電極がタンタルで形成され、前記
ワイヤとして破断荷重が21g以上の金属線、または破
断応力が290N/mm2 以上の金属線を用いることを
特徴とするワイヤボンディング方法を提供する。
め、請求項1に記載の発明は、2つの接続電極間をワイ
ヤで接続する超音波ワイヤボンディング方法において、
少なくとも一方の接続電極がタンタルで形成され、前記
ワイヤとして破断荷重が21g以上の金属線、または破
断応力が290N/mm2 以上の金属線を用いることを
特徴とするワイヤボンディング方法を提供する。
【0007】本発明では、ボンディングワイヤに高強度
な(破断応力が大きい)ワイヤを使用することで、塑性
変形を抑え、超音波エネルギーをタンタル膜との接合面
に効果的に印加することができる。そのため、ボンディ
ングワイヤとタンタル膜との金属結合による強い接合が
行なわれ、ボンディングワイヤをタンタル膜へ直接接合
することができる。
な(破断応力が大きい)ワイヤを使用することで、塑性
変形を抑え、超音波エネルギーをタンタル膜との接合面
に効果的に印加することができる。そのため、ボンディ
ングワイヤとタンタル膜との金属結合による強い接合が
行なわれ、ボンディングワイヤをタンタル膜へ直接接合
することができる。
【0008】ボンディングワイヤとしては、破断荷重が
アルミニウム合金線、特にAl−Siワイヤを用いるの
が望ましい。アルミニウムに微量のSiを添加すること
で、破断荷重を大幅に向上させることができる。
アルミニウム合金線、特にAl−Siワイヤを用いるの
が望ましい。アルミニウムに微量のSiを添加すること
で、破断荷重を大幅に向上させることができる。
【0009】本発明のワイヤボンディング方法を弾性表
面波装置に適用するのが望ましい。すなわち、素子載置
面を有するパッケージと、前記パッケージの素子載置面
に固定された弾性表面波素子とを備え、弾性表面波素子
が圧電基板と、圧電基板の上面側に形成されたIDT電
極およびボンディング電極とを有し、弾性表面波素子の
ボンディング電極とパッケージの外部接続用電極とが超
音波ワイヤボンディング法により接続された弾性表面波
装置である。弾性表面波素子のIDT電極およびボンデ
ィング電極がタンタルで構成され、ボンディングワイヤ
として破断荷重が21g以上の金属線または破断応力が
290N/mm2 以上の金属線を使用する。これによ
り、ボンディングワイヤとタンタル膜よりなるボンディ
ング電極との高い接合強度を得ることができ、落下衝撃
などが作用しても、ボンディングワイヤがボンディング
電極から外れるのを防止できる。
面波装置に適用するのが望ましい。すなわち、素子載置
面を有するパッケージと、前記パッケージの素子載置面
に固定された弾性表面波素子とを備え、弾性表面波素子
が圧電基板と、圧電基板の上面側に形成されたIDT電
極およびボンディング電極とを有し、弾性表面波素子の
ボンディング電極とパッケージの外部接続用電極とが超
音波ワイヤボンディング法により接続された弾性表面波
装置である。弾性表面波素子のIDT電極およびボンデ
ィング電極がタンタルで構成され、ボンディングワイヤ
として破断荷重が21g以上の金属線または破断応力が
290N/mm2 以上の金属線を使用する。これによ
り、ボンディングワイヤとタンタル膜よりなるボンディ
ング電極との高い接合強度を得ることができ、落下衝撃
などが作用しても、ボンディングワイヤがボンディング
電極から外れるのを防止できる。
【0010】
【発明の実施の形態】図1は本発明にかかるワイヤボン
ディング方法を用いた弾性表面波装置の一例を示す。こ
の弾性表面波装置は、素子載置面2aを有するパッケー
ジ1と、パッケージ1の素子載置面2aに固定された弾
性表面波素子10とを備えている。パッケージ1は、セ
ラミック等の底板2および側壁部4,5,6を積層する
ことによりキャビティ形状に形成したものであり、その
内部から外部へ延びるように外部接続用電極7,8が形
成されている。この実施例では、外部接続用電極7,8
はAu,Cu,Alなどよりなり、外部接続用電極7,
8の電極パッド7a,8aが側壁部4の上面に形成され
ている。側壁部6の上面にはセラミックや金属などの蓋
板9が、接着、シーム溶接、ロウ付などによって固定さ
れ、内部が気密封止されている。なお、パッケージ1は
キャビティ形状に限るものではなく、平板状の基板の上
に弾性表面波素子10を固定し、素子を覆うようにキャ
ップを基板上に接着することにより、内部を気密封止し
てもよい。
ディング方法を用いた弾性表面波装置の一例を示す。こ
の弾性表面波装置は、素子載置面2aを有するパッケー
ジ1と、パッケージ1の素子載置面2aに固定された弾
性表面波素子10とを備えている。パッケージ1は、セ
ラミック等の底板2および側壁部4,5,6を積層する
ことによりキャビティ形状に形成したものであり、その
内部から外部へ延びるように外部接続用電極7,8が形
成されている。この実施例では、外部接続用電極7,8
はAu,Cu,Alなどよりなり、外部接続用電極7,
8の電極パッド7a,8aが側壁部4の上面に形成され
ている。側壁部6の上面にはセラミックや金属などの蓋
板9が、接着、シーム溶接、ロウ付などによって固定さ
れ、内部が気密封止されている。なお、パッケージ1は
キャビティ形状に限るものではなく、平板状の基板の上
に弾性表面波素子10を固定し、素子を覆うようにキャ
ップを基板上に接着することにより、内部を気密封止し
てもよい。
【0011】弾性表面波素子10は、接着剤3を介して
パッケージ1の素子載置面2aに固定されている。弾性
表面波素子10はSH型表面波を用いたものであり、タ
ンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム、水晶などの圧電
材料よりなる圧電基板11と、その上面に形成されたタ
ンタル膜よりなるIDT電極12およびボンディング電
極13,14とで構成されている。ボンディング電極1
3,14とパッケージ1の電極パッド7a,8aとが、
ボンディングワイヤ20,21を介して超音波ワイヤボ
ンディング法によって接続されている。ボンディングワ
イヤ20,21は、破断荷重が21g以上の金属線より
なり、この実施例では直径30μmのAl−Si合金製
のワイヤを用いた。
パッケージ1の素子載置面2aに固定されている。弾性
表面波素子10はSH型表面波を用いたものであり、タ
ンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム、水晶などの圧電
材料よりなる圧電基板11と、その上面に形成されたタ
ンタル膜よりなるIDT電極12およびボンディング電
極13,14とで構成されている。ボンディング電極1
3,14とパッケージ1の電極パッド7a,8aとが、
ボンディングワイヤ20,21を介して超音波ワイヤボ
ンディング法によって接続されている。ボンディングワ
イヤ20,21は、破断荷重が21g以上の金属線より
なり、この実施例では直径30μmのAl−Si合金製
のワイヤを用いた。
【0012】なお、ボンディングワイヤの直径が30μ
mで破断荷重が21g以上とすると、その破断応力は次
のようになる。すなわち、直径が30μmのワイヤの断
面積Sは、 S=π×(0.03)2 /4mm2 であるから、 破断応力=21/S ≒290N/mm2 となる。したがって、290N/mm2 以上の破断応力
を有する金属材料であれば、たとえ直径30μmより細
いワイヤを使用しても、適切なワイヤボンディングを行
なうことができる。
mで破断荷重が21g以上とすると、その破断応力は次
のようになる。すなわち、直径が30μmのワイヤの断
面積Sは、 S=π×(0.03)2 /4mm2 であるから、 破断応力=21/S ≒290N/mm2 となる。したがって、290N/mm2 以上の破断応力
を有する金属材料であれば、たとえ直径30μmより細
いワイヤを使用しても、適切なワイヤボンディングを行
なうことができる。
【0013】上記構成よりなる弾性表面波装置における
ワイヤボンディング方法について説明する。この実施例
では、1次ボンディングを弾性表面波素子10のボンデ
ィング電極13,14に対して行い、2次ボンディング
をパッケージ1の電極パッド7a,8aに対して行な
う。ボンディングワイヤ20,21を1次ボンディング
する際、ボンディング電極13,14がタンタル膜より
なるため、ボンディング電極13,14とボンディング
ワイヤ20,21との強い接合力が得られない場合があ
る。すなわち、ボンディング電極13,14は硬いタン
タル膜で形成されているので、Auワイヤのような柔ら
かなボンディングワイヤを用いたのでは、ボンディング
ワイヤの塑性変形のみが起こり、ボンディング電極1
3,14との接合面に超音波エネルギーが効率よく伝わ
らず、十分な接合力が得られない。ところが、本発明で
は、破断荷重が21g以上の高強度のボンディングワイ
ヤ20,21を使用したので、ボンディングワイヤ2
0,21の塑性変形が抑制され、超音波エネルギーがボ
ンディングワイヤ20,21とボンディング電極13,
14との接合面に効果的に作用する。そのため、ボンデ
ィングワイヤ20,21とボンディング電極13,14
との間で超音波振動による摺動が起こり、その摩擦熱に
よって局部溶融、拡散などが生じ、金属結合による強い
接合が行なわれる。なお、上記実施例では、1次ボンデ
ィングを弾性表面波素子10のボンディング電極13,
14に対して行い、2次ボンディングをパッケージ1の
電極パッド7a,8aに対して行なったが、これとは逆
に、1次ボンディングを電極パッド7a,8aに対して
行い、2次ボンディングをボンディング電極13,14
に対して行なってもよい。
ワイヤボンディング方法について説明する。この実施例
では、1次ボンディングを弾性表面波素子10のボンデ
ィング電極13,14に対して行い、2次ボンディング
をパッケージ1の電極パッド7a,8aに対して行な
う。ボンディングワイヤ20,21を1次ボンディング
する際、ボンディング電極13,14がタンタル膜より
なるため、ボンディング電極13,14とボンディング
ワイヤ20,21との強い接合力が得られない場合があ
る。すなわち、ボンディング電極13,14は硬いタン
タル膜で形成されているので、Auワイヤのような柔ら
かなボンディングワイヤを用いたのでは、ボンディング
ワイヤの塑性変形のみが起こり、ボンディング電極1
3,14との接合面に超音波エネルギーが効率よく伝わ
らず、十分な接合力が得られない。ところが、本発明で
は、破断荷重が21g以上の高強度のボンディングワイ
ヤ20,21を使用したので、ボンディングワイヤ2
0,21の塑性変形が抑制され、超音波エネルギーがボ
ンディングワイヤ20,21とボンディング電極13,
14との接合面に効果的に作用する。そのため、ボンデ
ィングワイヤ20,21とボンディング電極13,14
との間で超音波振動による摺動が起こり、その摩擦熱に
よって局部溶融、拡散などが生じ、金属結合による強い
接合が行なわれる。なお、上記実施例では、1次ボンデ
ィングを弾性表面波素子10のボンディング電極13,
14に対して行い、2次ボンディングをパッケージ1の
電極パッド7a,8aに対して行なったが、これとは逆
に、1次ボンディングを電極パッド7a,8aに対して
行い、2次ボンディングをボンディング電極13,14
に対して行なってもよい。
【0014】図2はボンディングワイヤの硬さを変えて
接合性を評価したものである。接合強度にはワイヤ引張
り試験を採用し、その引張り強度とワイヤ破断モードと
を調査した。破断モード剥がれ(ボンディング電極とボ
ンディングワイヤとの界面で破断したもの)の発生率が
高いほど、接合状態が悪いことを示している。図2から
判るように、ワイヤ破断荷重が21g以上になると、破
断モード剥がれの発生がなくなり、引張り強度も高くな
っている。このことから、接合状態が良好であることが
判る。なお、この評価では、ボンディングワイヤとして
直径30μmのAl−1%Siワイヤを使用し、ボンデ
ィングツールはインライングルーブ形状のものを使用し
た。
接合性を評価したものである。接合強度にはワイヤ引張
り試験を採用し、その引張り強度とワイヤ破断モードと
を調査した。破断モード剥がれ(ボンディング電極とボ
ンディングワイヤとの界面で破断したもの)の発生率が
高いほど、接合状態が悪いことを示している。図2から
判るように、ワイヤ破断荷重が21g以上になると、破
断モード剥がれの発生がなくなり、引張り強度も高くな
っている。このことから、接合状態が良好であることが
判る。なお、この評価では、ボンディングワイヤとして
直径30μmのAl−1%Siワイヤを使用し、ボンデ
ィングツールはインライングルーブ形状のものを使用し
た。
【0015】上記実施例では、本発明のワイヤボンディ
ング方法を弾性表面波装置に適用したが、タンタル膜よ
りなる接続電極を備えた電子部品であれば、適用可能で
あることは勿論である。タンタル膜よりなる接続電極
は、電子部品素子側に限らず、パッケージ側に設けても
よい。また、タンタル膜よりなる接続電極は1次側ある
いは2次側のいずれであってもよいが、1次側に本発明
のボンディング方法を適用すれば、超音波エネルギーを
十分に印加できるので、望ましい。
ング方法を弾性表面波装置に適用したが、タンタル膜よ
りなる接続電極を備えた電子部品であれば、適用可能で
あることは勿論である。タンタル膜よりなる接続電極
は、電子部品素子側に限らず、パッケージ側に設けても
よい。また、タンタル膜よりなる接続電極は1次側ある
いは2次側のいずれであってもよいが、1次側に本発明
のボンディング方法を適用すれば、超音波エネルギーを
十分に印加できるので、望ましい。
【0016】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、タンタル膜よりなる接続電極に対して、破断荷
重が21g以上または破断応力が290N/mm2 以上
の高強度のボンディングワイヤを用いて超音波ワイヤボ
ンディングするようにしたので、ボンディングワイヤの
塑性変形を抑え、超音波エネルギーを接続電極とボンデ
ィングワイヤとの接合面に効果的に印加でき、接合力を
高めることができる。また、タンタル膜上にAuやAl
などの追加的な電極を形成する必要がなく、工程数を削
減でき、コストを低減できるという効果を有する。
よれば、タンタル膜よりなる接続電極に対して、破断荷
重が21g以上または破断応力が290N/mm2 以上
の高強度のボンディングワイヤを用いて超音波ワイヤボ
ンディングするようにしたので、ボンディングワイヤの
塑性変形を抑え、超音波エネルギーを接続電極とボンデ
ィングワイヤとの接合面に効果的に印加でき、接合力を
高めることができる。また、タンタル膜上にAuやAl
などの追加的な電極を形成する必要がなく、工程数を削
減でき、コストを低減できるという効果を有する。
【図1】本発明にかかるワイヤボンディング方法を用い
た弾性表面波装置の一例の断面図である。
た弾性表面波装置の一例の断面図である。
【図2】ワイヤ破断荷重に対する引張り強度と破断モー
ド剥がれの発生率との関係を示す図である。
ド剥がれの発生率との関係を示す図である。
1 パッケージ 7,8 外部接続用電極 7a,8a 電極パッド 10 弾性表面波素子 12 IDT電極 13,14 ボンディング電極 20,21 ボンディングワイヤ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩佐 進吾 京都府長岡京市天神2丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 Fターム(参考) 5F044 AA07 EE04 FF03 FF05 5J097 AA24 AA32 FF03 GG07 HA04 JJ01 KK01 KK10
Claims (6)
- 【請求項1】2つの接続電極間をワイヤで接続する超音
波ワイヤボンディング方法において、少なくとも一方の
接続電極がタンタルで形成され、前記ワイヤとして破断
荷重が21g以上の金属線、または破断応力が290N
/mm2 以上の金属線を用いることを特徴とするワイヤ
ボンディング方法。 - 【請求項2】前記ワイヤは破断荷重がアルミニウム合金
線であることを特徴とする請求項1に記載のワイヤボン
ディング方法。 - 【請求項3】前記ワイヤはAl−Siワイヤであること
を特徴とする請求項2に記載のワイヤボンディング方
法。 - 【請求項4】素子載置面を有するパッケージと、前記パ
ッケージの素子載置面に固定された弾性表面波素子とを
備え、前記弾性表面波素子が圧電基板と、圧電基板の上
面側に形成されたIDT電極およびボンディング電極と
を有し、弾性表面波素子のボンディング電極とパッケー
ジの外部接続用電極とが超音波ワイヤボンディング法に
より接続された弾性表面波装置において、前記弾性表面
波素子のIDT電極およびボンディング電極はタンタル
からなり、ボンディングワイヤとして破断荷重が21g
以上の金属線、または破断応力が290N/mm2 以上
の金属線を使用したことを特徴とする弾性表面波装置。 - 【請求項5】前記ボンディングワイヤはアルミニウム合
金線であることを特徴とする請求項4に記載の弾性表面
波装置。 - 【請求項6】前記ボンディングワイヤはAl−Siワイ
ヤであることを特徴とする請求項5に記載の弾性表面波
装置。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000075287A JP2001267355A (ja) | 2000-03-17 | 2000-03-17 | ワイヤボンディング方法およびこのワイヤボンディング方法を用いた弾性表面波装置 |
TW090105149A TW503616B (en) | 2000-03-17 | 2001-03-06 | Wire bonding method, surface acoustic wave apparatus and method for producing surface acoustic wave apparatus |
GB0105752A GB2361888B (en) | 2000-03-17 | 2001-03-08 | Wire bonding method, surface acoustic wave apparatus and method for producing surface acoustic wave apparatus |
US09/801,384 US6757946B2 (en) | 2000-03-17 | 2001-03-08 | Wire bonding method |
KR1020010013143A KR20010092326A (ko) | 2000-03-17 | 2001-03-14 | 와이어 본딩 방법, 탄성표면파 장치 및 탄성표면파 장치의제조 방법 |
FR0103623A FR2808233B1 (fr) | 2000-03-17 | 2001-03-16 | Procede de liaison par fils, et appareil a ondes acoustiques de surface |
CNB011117508A CN1167116C (zh) | 2000-03-17 | 2001-03-19 | 引线接合法、声表面波设备和声表面波设备的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000075287A JP2001267355A (ja) | 2000-03-17 | 2000-03-17 | ワイヤボンディング方法およびこのワイヤボンディング方法を用いた弾性表面波装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001267355A true JP2001267355A (ja) | 2001-09-28 |
Family
ID=18593201
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000075287A Pending JP2001267355A (ja) | 2000-03-17 | 2000-03-17 | ワイヤボンディング方法およびこのワイヤボンディング方法を用いた弾性表面波装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6757946B2 (ja) |
JP (1) | JP2001267355A (ja) |
KR (1) | KR20010092326A (ja) |
CN (1) | CN1167116C (ja) |
FR (1) | FR2808233B1 (ja) |
GB (1) | GB2361888B (ja) |
TW (1) | TW503616B (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001267355A (ja) * | 2000-03-17 | 2001-09-28 | Murata Mfg Co Ltd | ワイヤボンディング方法およびこのワイヤボンディング方法を用いた弾性表面波装置 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3507033A (en) * | 1965-01-06 | 1970-04-21 | Western Electric Co | Ultrasonic bonding method |
US3959747A (en) * | 1975-04-30 | 1976-05-25 | Rca Corporation | Metallized lithium niobate and method of making |
JPS6159760A (ja) | 1984-08-30 | 1986-03-27 | Mitsubishi Metal Corp | 半導体装置の結線用Al合金極細線 |
GB2177639B (en) * | 1985-07-08 | 1988-12-29 | Philips Electronic Associated | Ultrasonic wire bonder and method of manufacturing a semiconductor device therewith |
US5221449A (en) * | 1990-10-26 | 1993-06-22 | International Business Machines Corporation | Method of making Alpha-Ta thin films |
FR2714200B1 (fr) * | 1993-11-25 | 1996-12-27 | Fujitsu Ltd | Dispositif à onde acoustique de surface et son procédé de fabrication. |
US5492263A (en) * | 1994-05-26 | 1996-02-20 | Delco Electronics Corp. | Method for wire bonding an aluminum wire to a lead of an electronics package |
JP3173300B2 (ja) * | 1994-10-19 | 2001-06-04 | 株式会社村田製作所 | ラブ波デバイス |
JPH08124973A (ja) | 1994-10-26 | 1996-05-17 | Fuji Electric Co Ltd | 超音波ワイヤボンディング方法 |
JP3301262B2 (ja) * | 1995-03-28 | 2002-07-15 | 松下電器産業株式会社 | 弾性表面波装置 |
JP3308759B2 (ja) * | 1995-04-10 | 2002-07-29 | 日本電気株式会社 | 弾性表面波装置 |
JPH09298442A (ja) * | 1996-03-08 | 1997-11-18 | Tdk Corp | 弾性表面波装置及びその製造方法 |
DE69718693T2 (de) * | 1996-03-08 | 2003-11-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Elektronisches Bauteil und Herstellungsverfahren |
JP3464106B2 (ja) | 1996-11-28 | 2003-11-05 | 京セラ株式会社 | 弾性表面波装置 |
JP3339350B2 (ja) * | 1997-02-20 | 2002-10-28 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置 |
KR100502776B1 (ko) * | 1997-08-04 | 2005-07-25 | 후고벤스 알루미늄 발츠프로두크테 게엠베하 | 브레이징 용도 및 용접 구조체용 고강도 알루미늄-마그네슘-아연-실리콘 합금, 그 용접 구조체와 브레이징 구조체 및 그 사용방법 |
JPH1168504A (ja) * | 1997-08-11 | 1999-03-09 | Murata Mfg Co Ltd | 表面波装置 |
JP2001267355A (ja) * | 2000-03-17 | 2001-09-28 | Murata Mfg Co Ltd | ワイヤボンディング方法およびこのワイヤボンディング方法を用いた弾性表面波装置 |
-
2000
- 2000-03-17 JP JP2000075287A patent/JP2001267355A/ja active Pending
-
2001
- 2001-03-06 TW TW090105149A patent/TW503616B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-03-08 US US09/801,384 patent/US6757946B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-08 GB GB0105752A patent/GB2361888B/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-14 KR KR1020010013143A patent/KR20010092326A/ko not_active IP Right Cessation
- 2001-03-16 FR FR0103623A patent/FR2808233B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 2001-03-19 CN CNB011117508A patent/CN1167116C/zh not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2808233A1 (fr) | 2001-11-02 |
GB2361888A (en) | 2001-11-07 |
FR2808233B1 (fr) | 2006-05-19 |
CN1167116C (zh) | 2004-09-15 |
GB0105752D0 (en) | 2001-04-25 |
GB2361888B (en) | 2002-04-24 |
US6757946B2 (en) | 2004-07-06 |
US20010022484A1 (en) | 2001-09-20 |
CN1317876A (zh) | 2001-10-17 |
KR20010092326A (ko) | 2001-10-24 |
TW503616B (en) | 2002-09-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2005054157A (ja) | 導電性接着剤及びそれを用いて圧電素子を実装した圧電デバイス | |
JP3726998B2 (ja) | 表面波装置 | |
JPS58169942A (ja) | 半導体装置 | |
JP2001267355A (ja) | ワイヤボンディング方法およびこのワイヤボンディング方法を用いた弾性表面波装置 | |
JP2007096597A (ja) | 弾性表面波デバイスおよびその製造方法 | |
JP2000114916A (ja) | 表面弾性波デバイス及びその製造方法 | |
US8093101B2 (en) | Electronic device and method of fabricating the same | |
JPH104152A (ja) | 電子部品 | |
JP2005045414A (ja) | 弾性表面波デバイス | |
JP2000232189A (ja) | 半導体装置 | |
JP2005033496A (ja) | 圧電デバイス | |
JP2001257236A (ja) | 電子デバイスの製造方法 | |
JPH06232289A (ja) | チップキャリア及びその製造方法 | |
JP2011071693A (ja) | 弾性表面波デバイス、および圧電素子の固定方法 | |
JP2998510B2 (ja) | 電子部品とその製造方法 | |
JP2002334943A (ja) | 電子部品 | |
JP2003338514A (ja) | 超音波接合構造及び方法、並びにそれを用いた電子部品及びその製造方法 | |
JP3928913B2 (ja) | 水晶発振器 | |
JP2003218251A (ja) | 電子デバイスおよびその製造方法 | |
JP4068239B2 (ja) | 超音波送受波器 | |
JP2010161609A (ja) | パッケージ、これを用いた圧電振動子、および圧電デバイス | |
JP2015126481A (ja) | 弾性表面波デバイスの製造方法及び弾性表面波デバイス | |
JP2004039780A (ja) | 電極部接合方法 | |
JP2004242044A (ja) | 弾性表面波フィルタ | |
JPH0855926A (ja) | 集積回路パッケージおよびその実装方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20031202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040106 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040226 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050118 |