JP2000326300A - 近視野光ヘッドおよびその製造方法とそれを用いた光記録再生装置 - Google Patents
近視野光ヘッドおよびその製造方法とそれを用いた光記録再生装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 微小開口の大きさが可変な近視野光ヘッドを
提供すること。 【解決手段】 近視野光ヘッド１０では、シリコン製の
基部１に逆錘状の穴２が形成されており、その穴２の頂
部が大きさａ１の微小開口３となっている。基部１上
に、アクチュエータ５を支持する支持部４が設けられて
いる。アクチュエータ５は、遮光膜６を、穴２の内部に
かつその遮光膜６の底面が微小開口３の底面と一致する
ように移動可能に支持する。アクチュエータ５によって
遮光膜６を移動して微小開口３の大きさを所望の大きさ
に変更する。
提供すること。 【解決手段】 近視野光ヘッド１０では、シリコン製の
基部１に逆錘状の穴２が形成されており、その穴２の頂
部が大きさａ１の微小開口３となっている。基部１上
に、アクチュエータ５を支持する支持部４が設けられて
いる。アクチュエータ５は、遮光膜６を、穴２の内部に
かつその遮光膜６の底面が微小開口３の底面と一致する
ように移動可能に支持する。アクチュエータ５によって
遮光膜６を移動して微小開口３の大きさを所望の大きさ
に変更する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、近視野光記録・再
生ヘッドまたは走査型近視野顕微鏡のプローブヘッドと
して応用される近視野光ヘッドとその製造方法に関し、
更に詳しくは、微小開口の大きさを変更することができ
る近視野光ヘッドとその製造方法に関するものである。
生ヘッドまたは走査型近視野顕微鏡のプローブヘッドと
して応用される近視野光ヘッドとその製造方法に関し、
更に詳しくは、微小開口の大きさを変更することができ
る近視野光ヘッドとその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来は、図１５に示すような近視野光ヘ
ッドが知られている。図１５（ａ）は近視野光ヘッド２
００の断面図であり、図１５（ｂ）は近視野光ヘッド２
００の上面図である。この近視野光ヘッド２００では、
シリコン基部２０１に逆錘状の穴２０２が形成されてお
り、その穴２０２の頂部が光の波長以下の大きさｂの微
小開口２０３となっている。前記微小開口２０３に伝播
光を照射すると、その微小開口２０３の大きさｂが光の
波長以下であることから、微小開口２０３の近傍でかつ
伝播光が照射された側の反対側に、近視野光が生成され
る。なお、前記伝播光は、例えばレーザ光である。
ッドが知られている。図１５（ａ）は近視野光ヘッド２
００の断面図であり、図１５（ｂ）は近視野光ヘッド２
００の上面図である。この近視野光ヘッド２００では、
シリコン基部２０１に逆錘状の穴２０２が形成されてお
り、その穴２０２の頂部が光の波長以下の大きさｂの微
小開口２０３となっている。前記微小開口２０３に伝播
光を照射すると、その微小開口２０３の大きさｂが光の
波長以下であることから、微小開口２０３の近傍でかつ
伝播光が照射された側の反対側に、近視野光が生成され
る。なお、前記伝播光は、例えばレーザ光である。
【０００３】前記近視野光ヘッド２００を近視野光記録
・再生ヘッドとして応用する場合は、微小開口２０３の
近傍に生成される近視野光を記録媒体に照射して、記録
媒体の表面構造または物質を局所的に変化させることに
よって情報を記録したり、記録媒体の表面構造または物
質の局所的な変化を検出して情報を再生する。一方、近
視野光ヘッド２００を走査型近視野顕微鏡用のプローブ
ヘッドとして応用する場合は、微小開口２０３の近傍に
生成される近視野光を試料表面に照射し、その近視野光
が散乱することで生成される伝播光を検出して試料表面
の光学特性や形状を測定する。
・再生ヘッドとして応用する場合は、微小開口２０３の
近傍に生成される近視野光を記録媒体に照射して、記録
媒体の表面構造または物質を局所的に変化させることに
よって情報を記録したり、記録媒体の表面構造または物
質の局所的な変化を検出して情報を再生する。一方、近
視野光ヘッド２００を走査型近視野顕微鏡用のプローブ
ヘッドとして応用する場合は、微小開口２０３の近傍に
生成される近視野光を試料表面に照射し、その近視野光
が散乱することで生成される伝播光を検出して試料表面
の光学特性や形状を測定する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記近
視野光ヘッド２００では、大きさが１００ｎｍ以下の微
小開口２０３を安定して形成することが困難であった。
また、微小開口２０３の大きさを変化させることができ
なかった。更に、近視野光ヘッド２００を近視野光記録
・再生ヘッドとして応用する場合は、信号再生時のトラ
ッキングの際に重いヘッド全体を移動させる必要がある
ため、高速かつ高精度な位置決めが困難であった。
視野光ヘッド２００では、大きさが１００ｎｍ以下の微
小開口２０３を安定して形成することが困難であった。
また、微小開口２０３の大きさを変化させることができ
なかった。更に、近視野光ヘッド２００を近視野光記録
・再生ヘッドとして応用する場合は、信号再生時のトラ
ッキングの際に重いヘッド全体を移動させる必要がある
ため、高速かつ高精度な位置決めが困難であった。
【０００５】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あって、微小開口の大きさが可変な近視野光ヘッドと、
このような近視野光ヘッドを製造するための製造方法を
提供することを目的とする。
あって、微小開口の大きさが可変な近視野光ヘッドと、
このような近視野光ヘッドを製造するための製造方法を
提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項１にかかる近視野光ヘッドは、基部に形成
された穴の頂部を微小開口とする近視野光ヘッドにおい
て、開口規制手段を前記穴の内部に位置させると共に、
その開口規制手段を移動させる移動手段を設け、前記開
口規制手段を移動することで前記微小開口の大きさを規
制することを特徴とするものである。
めに、請求項１にかかる近視野光ヘッドは、基部に形成
された穴の頂部を微小開口とする近視野光ヘッドにおい
て、開口規制手段を前記穴の内部に位置させると共に、
その開口規制手段を移動させる移動手段を設け、前記開
口規制手段を移動することで前記微小開口の大きさを規
制することを特徴とするものである。
【０００７】上記近視野光ヘッドでは、基部に形成され
た穴の内部に開口規制手段を位置させ、移動手段により
その開口規制手段を移動することで微小開口の大きさを
変更する。このため、微小開口の大きさを所望の大きさ
に変更することができる。
た穴の内部に開口規制手段を位置させ、移動手段により
その開口規制手段を移動することで微小開口の大きさを
変更する。このため、微小開口の大きさを所望の大きさ
に変更することができる。
【０００８】また、請求項２にかかる近視野光ヘッド
は、基部に形成された穴の頂部を微小開口とする近視野
光ヘッドにおいて、一対の開口規制手段を前記穴の内部
に位置させると共に、その一対の開口規制手段をそれぞ
れ移動させる移動手段を設け、前記開口規制手段を移動
することで前記微小開口の大きさを規制することを特徴
とするものである。
は、基部に形成された穴の頂部を微小開口とする近視野
光ヘッドにおいて、一対の開口規制手段を前記穴の内部
に位置させると共に、その一対の開口規制手段をそれぞ
れ移動させる移動手段を設け、前記開口規制手段を移動
することで前記微小開口の大きさを規制することを特徴
とするものである。
【０００９】上記近視野光ヘッドでは、基部に形成され
た穴の内部に、微小開口に対して対称な位置に一対の規
制手段を位置させ、それらの開口規制手段を対応する移
動手段により移動することで微小開口の大きさを変更す
る。このため、微小開口の大きさを所望の大きさに変更
することができる。また、一対の規制手段を同期させて
移動させることによって、微小開口の大きさを一定に保
ったまま記録媒体上に形成された記録トラック上を微小
開口が移動することが可能であるため、トラッキングを
行うことが可能となる。
た穴の内部に、微小開口に対して対称な位置に一対の規
制手段を位置させ、それらの開口規制手段を対応する移
動手段により移動することで微小開口の大きさを変更す
る。このため、微小開口の大きさを所望の大きさに変更
することができる。また、一対の規制手段を同期させて
移動させることによって、微小開口の大きさを一定に保
ったまま記録媒体上に形成された記録トラック上を微小
開口が移動することが可能であるため、トラッキングを
行うことが可能となる。
【００１０】また、請求項３にかかる近視野光ヘッド
は、前記開口規制手段は、その底面が前記微小開口の底
面と一致するように位置されていることを特徴とするも
のである。
は、前記開口規制手段は、その底面が前記微小開口の底
面と一致するように位置されていることを特徴とするも
のである。
【００１１】上記近視野光ヘッドでは、開口規制手段
は、その底面が微小開口の底面と一致するように位置さ
れている。このため、記録媒体または試料を微小開口に
近づけることができる。
は、その底面が微小開口の底面と一致するように位置さ
れている。このため、記録媒体または試料を微小開口に
近づけることができる。
【００１２】また、請求項４にかかる近視野光ヘッド
は、前記移動手段は、圧電アクチュエータまたは静電ア
クチュエータであることを特徴とするものである。
は、前記移動手段は、圧電アクチュエータまたは静電ア
クチュエータであることを特徴とするものである。
【００１３】上記近視野光ヘッドでは、圧電アクチュエ
ータまたは静電アクチュエータを用いて開口規制手段を
移動する。このため、微小開口の大きさを容易かつ正確
に所望の大きさに変更することができる。
ータまたは静電アクチュエータを用いて開口規制手段を
移動する。このため、微小開口の大きさを容易かつ正確
に所望の大きさに変更することができる。
【００１４】また、請求項５にかかる近視野光ヘッド
は、基部に形成された穴の頂部を微小開口とする近視野
光ヘッドにおいて、開口規制手段を前記穴の内部に位置
させると共に、その開口規制手段を加熱して膨張させる
ことで前記微小開口の大きさを規制することを特徴とす
るものである。
は、基部に形成された穴の頂部を微小開口とする近視野
光ヘッドにおいて、開口規制手段を前記穴の内部に位置
させると共に、その開口規制手段を加熱して膨張させる
ことで前記微小開口の大きさを規制することを特徴とす
るものである。
【００１５】上記近視野光ヘッドでは、基部に形成され
た穴の内部に、加熱したときに膨張する開口規制手段を
位置させる。膨張したときに開口規制手段が伝播光を遮
るので、開口規制手段を膨張させることで微小開口の大
きさを所望の大きさに変更することができる。なお、開
口規制手段は、例えば伝播光を照射することにより加熱
することができる。
た穴の内部に、加熱したときに膨張する開口規制手段を
位置させる。膨張したときに開口規制手段が伝播光を遮
るので、開口規制手段を膨張させることで微小開口の大
きさを所望の大きさに変更することができる。なお、開
口規制手段は、例えば伝播光を照射することにより加熱
することができる。
【００１６】また、請求項６にかかる近視野光ヘッド
は、前記開口規制手段を加熱する加熱手段を設けたこと
を特徴とするものである。
は、前記開口規制手段を加熱する加熱手段を設けたこと
を特徴とするものである。
【００１７】上記近視野光ヘッドでは、開口規制手段を
加熱するための加熱手段を設ける。このため、開口規制
手段を容易かつ正確に膨張させることができ、微小開口
の大きさを所望の大きさに変更することができる。
加熱するための加熱手段を設ける。このため、開口規制
手段を容易かつ正確に膨張させることができ、微小開口
の大きさを所望の大きさに変更することができる。
【００１８】また、請求項７にかかる近視野光ヘッド
は、前記開口規制手段は、熱膨張率の高い高分子樹脂ま
たは、高分子樹脂中に気体を封入したものであることを
特徴とするものである。
は、前記開口規制手段は、熱膨張率の高い高分子樹脂ま
たは、高分子樹脂中に気体を封入したものであることを
特徴とするものである。
【００１９】上記近視野光ヘッドでは、開口規制手段
は、熱膨張率の高い高分子樹脂または、高分子樹脂中に
気体を封入したものである。このため、開口規制手段を
少ない熱で効率良く膨張させることができ、微小開口の
大きさを所望の大きさに変更することができる。
は、熱膨張率の高い高分子樹脂または、高分子樹脂中に
気体を封入したものである。このため、開口規制手段を
少ない熱で効率良く膨張させることができ、微小開口の
大きさを所望の大きさに変更することができる。
【００２０】また、上記の目的を達成するために、請求
項８にかかる近視野光ヘッドの製造方法は、基部に形成
された穴の頂部を微小開口とし、開口規制手段を前記穴
の内部に位置させると共に、その開口規制手段を移動さ
せる移動手段を設け、前記開口規制手段を移動すること
で前記微小開口の大きさを規制する近視野光ヘッドの製
造方法において、前記基部となる基板に、頂部を微小開
口とする穴を形成する穴形成工程と、前記微小開口の反
対側の面となる前記基板上に、前記移動手段を支持する
ための支持手段を堆積する支持部堆積工程と、前記基板
と前記支持手段上に犠牲膜を堆積する犠牲膜堆積工程
と、前記犠牲膜上に遮光膜を堆積すると共にその遮光膜
をパターニングして前記開口規制手段を形成する開口規
制手段形成工程と、前記支持手段を露出し、その支持手
段に、前記移動手段を形成する移動手段形成工程と、前
記犠牲膜を除去する犠牲膜除去工程と、を含むことを特
徴とする。
項８にかかる近視野光ヘッドの製造方法は、基部に形成
された穴の頂部を微小開口とし、開口規制手段を前記穴
の内部に位置させると共に、その開口規制手段を移動さ
せる移動手段を設け、前記開口規制手段を移動すること
で前記微小開口の大きさを規制する近視野光ヘッドの製
造方法において、前記基部となる基板に、頂部を微小開
口とする穴を形成する穴形成工程と、前記微小開口の反
対側の面となる前記基板上に、前記移動手段を支持する
ための支持手段を堆積する支持部堆積工程と、前記基板
と前記支持手段上に犠牲膜を堆積する犠牲膜堆積工程
と、前記犠牲膜上に遮光膜を堆積すると共にその遮光膜
をパターニングして前記開口規制手段を形成する開口規
制手段形成工程と、前記支持手段を露出し、その支持手
段に、前記移動手段を形成する移動手段形成工程と、前
記犠牲膜を除去する犠牲膜除去工程と、を含むことを特
徴とする。
【００２１】上記近視野光ヘッドの製造方法では、基板
に穴を形成し、基板上に支持手段を堆積させ、基板と支
持手段上に犠牲膜を堆積させ、その犠牲膜上に遮光膜を
堆積させ、その遮光膜をパターニングして開口規制手段
を形成し、支持手段を露出してその支持手段に移動手段
を形成し、最後に、犠牲膜を除去する。このため、穴の
内部に、移動手段により移動可能な開口規制手段を得る
ことができ、その開口規制手段を移動手段により移動す
ることで微小開口の大きさを所望の大きさに変更するこ
とができる。
に穴を形成し、基板上に支持手段を堆積させ、基板と支
持手段上に犠牲膜を堆積させ、その犠牲膜上に遮光膜を
堆積させ、その遮光膜をパターニングして開口規制手段
を形成し、支持手段を露出してその支持手段に移動手段
を形成し、最後に、犠牲膜を除去する。このため、穴の
内部に、移動手段により移動可能な開口規制手段を得る
ことができ、その開口規制手段を移動手段により移動す
ることで微小開口の大きさを所望の大きさに変更するこ
とができる。
【００２２】また、請求項９にかかる近視野光ヘッドの
製造方法は、前記移動手段は、圧電アクチュエータまた
は静電アクチュエータであることを特徴とする。
製造方法は、前記移動手段は、圧電アクチュエータまた
は静電アクチュエータであることを特徴とする。
【００２３】上記近視野光ヘッドの製造方法では、圧電
アクチュエータまたは静電アクチュエータを用いて開口
規制手段を移動する。このため、開口規制手段を容易か
つ正確に移動することができ、微小開口の大きさを所望
の大きさに変更することができる。
アクチュエータまたは静電アクチュエータを用いて開口
規制手段を移動する。このため、開口規制手段を容易か
つ正確に移動することができ、微小開口の大きさを所望
の大きさに変更することができる。
【００２４】また、請求項１０にかかる近視野光ヘッド
の製造方法は、基部に形成された穴の頂部を微小開口と
し、開口規制手段を前記穴の内部に位置させると共に、
前記開口規制手段を膨張させることで前記微小開口の大
きさを規制する近視野光ヘッドの製造方法において、前
記基部となる基板に、頂部を微小開口とする穴を形成す
る穴形成工程と、少なくとも前記穴の内部に、熱膨張率
の高い高分子樹脂の膜を堆積する熱膨張膜堆積工程と、
前記熱膨張率の高い高分子樹脂の膜をパターニングして
開口規制手段を形成する開口規制手段形成工程と、を含
むことを特徴とする。
の製造方法は、基部に形成された穴の頂部を微小開口と
し、開口規制手段を前記穴の内部に位置させると共に、
前記開口規制手段を膨張させることで前記微小開口の大
きさを規制する近視野光ヘッドの製造方法において、前
記基部となる基板に、頂部を微小開口とする穴を形成す
る穴形成工程と、少なくとも前記穴の内部に、熱膨張率
の高い高分子樹脂の膜を堆積する熱膨張膜堆積工程と、
前記熱膨張率の高い高分子樹脂の膜をパターニングして
開口規制手段を形成する開口規制手段形成工程と、を含
むことを特徴とする。
【００２５】上記近視野光ヘッドの製造方法では、基板
に穴を形成し、その穴の内部に熱膨張率の高い高分子樹
脂の膜を堆積させ、その熱膨張率の高い高分子樹脂の膜
をパターニングして開口規制手段を形成する。このた
め、加熱したときに膨張する開口規制手段を穴の内部に
形成することができ、微小開口の大きさを所望の大きさ
に変更することができる。
に穴を形成し、その穴の内部に熱膨張率の高い高分子樹
脂の膜を堆積させ、その熱膨張率の高い高分子樹脂の膜
をパターニングして開口規制手段を形成する。このた
め、加熱したときに膨張する開口規制手段を穴の内部に
形成することができ、微小開口の大きさを所望の大きさ
に変更することができる。
【００２６】また、請求項１１にかかる近視野光ヘッド
の製造方法は、近視野光ヘッドの製造方法において、基
部に形成された穴の頂部を微小開口とし、開口規制手段
を前記穴の内部に位置させると共に、前記開口規制手段
を膨張させることで前記微小開口の大きさを規制する近
視野光ヘッドの製造方法において、前記基部となる基板
に、頂部を微小開口とする穴を形成する穴形成工程と、
少なくとも前記穴の内部に、高分子樹脂の第１の膜を堆
積する第1高分子樹脂堆積工程と、前記高分子樹脂の第
１の膜上に犠牲膜を堆積すると共にその犠牲膜をパター
ニングする犠牲膜堆積工程と、前記犠牲膜上に高分子樹
脂の第２の膜を堆積する第２高分子樹脂堆積工程と、前
記高分子樹脂の第２の膜に穴をあけ、その穴を用いて前
記高分子樹脂の第１の膜と前記高分子樹脂の第２の膜の
間に挟まれている犠牲膜を除去して中空部を形成し、そ
の中空部に気体を注入して前記高分子樹脂の第２の膜の
穴に高分子樹脂を堆積することで開口規制手段を形成す
る開口規制手段形成工程と、を含むことを特徴とする。
の製造方法は、近視野光ヘッドの製造方法において、基
部に形成された穴の頂部を微小開口とし、開口規制手段
を前記穴の内部に位置させると共に、前記開口規制手段
を膨張させることで前記微小開口の大きさを規制する近
視野光ヘッドの製造方法において、前記基部となる基板
に、頂部を微小開口とする穴を形成する穴形成工程と、
少なくとも前記穴の内部に、高分子樹脂の第１の膜を堆
積する第1高分子樹脂堆積工程と、前記高分子樹脂の第
１の膜上に犠牲膜を堆積すると共にその犠牲膜をパター
ニングする犠牲膜堆積工程と、前記犠牲膜上に高分子樹
脂の第２の膜を堆積する第２高分子樹脂堆積工程と、前
記高分子樹脂の第２の膜に穴をあけ、その穴を用いて前
記高分子樹脂の第１の膜と前記高分子樹脂の第２の膜の
間に挟まれている犠牲膜を除去して中空部を形成し、そ
の中空部に気体を注入して前記高分子樹脂の第２の膜の
穴に高分子樹脂を堆積することで開口規制手段を形成す
る開口規制手段形成工程と、を含むことを特徴とする。
【００２７】上記近視野光ヘッドの製造方法では、基板
に穴を形成し、その穴の内部に高分子樹脂の第１の膜を
堆積させ、その第１の膜上に犠牲膜を堆積させ、その犠
牲膜をパターニングし、その犠牲膜上に高分子樹脂の第
２の膜を堆積させ、その第２の膜に穴をあけ、その穴を
用いて第１および第２の膜の間に挟まれている犠牲層を
除去して中空部を形成し、その中空部に気体を注入して
高分子樹脂を堆積して第２の膜の穴を閉じる。このた
め、中空部中に気体が封入され、加熱したときに膨張す
る開口規制手段を形成することができ、その開口規制手
段を膨張させることで微小開口の大きさを所望の大きさ
に変更することができる。
に穴を形成し、その穴の内部に高分子樹脂の第１の膜を
堆積させ、その第１の膜上に犠牲膜を堆積させ、その犠
牲膜をパターニングし、その犠牲膜上に高分子樹脂の第
２の膜を堆積させ、その第２の膜に穴をあけ、その穴を
用いて第１および第２の膜の間に挟まれている犠牲層を
除去して中空部を形成し、その中空部に気体を注入して
高分子樹脂を堆積して第２の膜の穴を閉じる。このた
め、中空部中に気体が封入され、加熱したときに膨張す
る開口規制手段を形成することができ、その開口規制手
段を膨張させることで微小開口の大きさを所望の大きさ
に変更することができる。
【００２８】また、請求項１２に記載に係る光記録再生
装置は、近視野光を利用して、記録媒体の情報の記録あ
るいは再生あるいはその両方を行い、基部に形成された
穴の頂部を微小開口とする近視野光ヘッドを有する光記
録再生装置であって、開口規制手段を前記穴の内部に位
置させると共に、その開口規制手段を移動させる移動手
段を設け、前記開口規制手段を移動することで前記微小
開口の大きさを規制する開口制御手段と前記記録媒体の
回転速度制御を行う回転速度制御手段と、データ転送速
度と記録密度の組み合わせを決定する動作モード制御手
段と、を有する事を特徴とする。この発明によれば、記
録するデータの用途に応じて記録再生速度、容量等が可
変でき、無駄の少ない記録再生を行う事が出来る。さら
には、記録装置としての消費電力なども考慮して設定す
る事ができるため、携帯性に優れた光記録再生装置が得
られる。また、本発明の請求項１３に係る光記録再生装
置は、請求項１２に記載の光記録再生装置において、前
記データ転送速度と前記記録密度が、あらかじめ設定さ
れた上限値と下限値によって定義された範囲内に、連続
的に分布した値の中から選択できることを特徴とする。
この発明によれば、 記録するデータの用途に応じて記
録再生速度、容量等が連続的に可変できため、様々な用
途に対し最適な記録再生処理を行う事ができる。また、
本発明の請求項１４に係る光記録再生装置は、請求項１
２或いは請求項１３記載の光記録再生装置において、前
記開口規制手段と回転速度制御手段が、前記動作モード
制御手段によって決定されるデータ転送速度と記録密度
の組み合わせに基づいて動作する事を特徴とする。この
発明によれば、近視野光を用いた記録再生を行う上で重
要である近視野光開口サイズと記録再生速度を同時に可
変させる事ができるため、記録するデータの用途に応じ
て記録再生速度、容量等が可変でき、無駄の少ない記録
再生を行う事ができる。さらには、記録装置としての消
費電力なども考慮して設定する事ができるため、携帯性
に優れた光記録再生装置が得られる。
装置は、近視野光を利用して、記録媒体の情報の記録あ
るいは再生あるいはその両方を行い、基部に形成された
穴の頂部を微小開口とする近視野光ヘッドを有する光記
録再生装置であって、開口規制手段を前記穴の内部に位
置させると共に、その開口規制手段を移動させる移動手
段を設け、前記開口規制手段を移動することで前記微小
開口の大きさを規制する開口制御手段と前記記録媒体の
回転速度制御を行う回転速度制御手段と、データ転送速
度と記録密度の組み合わせを決定する動作モード制御手
段と、を有する事を特徴とする。この発明によれば、記
録するデータの用途に応じて記録再生速度、容量等が可
変でき、無駄の少ない記録再生を行う事が出来る。さら
には、記録装置としての消費電力なども考慮して設定す
る事ができるため、携帯性に優れた光記録再生装置が得
られる。また、本発明の請求項１３に係る光記録再生装
置は、請求項１２に記載の光記録再生装置において、前
記データ転送速度と前記記録密度が、あらかじめ設定さ
れた上限値と下限値によって定義された範囲内に、連続
的に分布した値の中から選択できることを特徴とする。
この発明によれば、 記録するデータの用途に応じて記
録再生速度、容量等が連続的に可変できため、様々な用
途に対し最適な記録再生処理を行う事ができる。また、
本発明の請求項１４に係る光記録再生装置は、請求項１
２或いは請求項１３記載の光記録再生装置において、前
記開口規制手段と回転速度制御手段が、前記動作モード
制御手段によって決定されるデータ転送速度と記録密度
の組み合わせに基づいて動作する事を特徴とする。この
発明によれば、近視野光を用いた記録再生を行う上で重
要である近視野光開口サイズと記録再生速度を同時に可
変させる事ができるため、記録するデータの用途に応じ
て記録再生速度、容量等が可変でき、無駄の少ない記録
再生を行う事ができる。さらには、記録装置としての消
費電力なども考慮して設定する事ができるため、携帯性
に優れた光記録再生装置が得られる。
【００２９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の近視野光ヘッドと
その製造方法について、添付の図面を参照して詳細に説
明する。 （実施の形態１）図１は、本発明の実施の形態１にかか
る近視野光ヘッドの構成図である。図１（ａ）は近視野
光ヘッド１０の断面図であり、図１（ｂ）は近視野光ヘ
ッド１０の上面図である。この近視野光ヘッド１０で
は、シリコン基部１に逆錘状の穴２が形成されており、
その穴２の頂部が大きさａ１の微小開口３となってい
る。基部１上に、アクチュエータ５を支持する支持部４
が設けられている。アクチュエータ５は、遮光膜６を、
穴２の内部にかつその遮光膜６の底面が微小開口３の底
面と一致するように移動可能に支持する。このアクチュ
エータ５によって遮光膜６を移動することができる。従
って、遮光膜６は開口規制手段として機能する。前記微
小開口３の大きさａ１は、例えば１μｍよりやや大き
い。前記遮光膜６は、例えばクロムやアルミやチタン、
または窒化シリコン上にクロムやアルミやチタンを堆積
したものなどからなる。前記アクチュエータ５は、ＰＺ
Ｔ，ＺｎＯなどの圧電アクチュエータや、静電アクチュ
エータであり、その最大移動量は例えば１μｍで、移動
分解能は例えば数１０ｎｍである。
その製造方法について、添付の図面を参照して詳細に説
明する。 （実施の形態１）図１は、本発明の実施の形態１にかか
る近視野光ヘッドの構成図である。図１（ａ）は近視野
光ヘッド１０の断面図であり、図１（ｂ）は近視野光ヘ
ッド１０の上面図である。この近視野光ヘッド１０で
は、シリコン基部１に逆錘状の穴２が形成されており、
その穴２の頂部が大きさａ１の微小開口３となってい
る。基部１上に、アクチュエータ５を支持する支持部４
が設けられている。アクチュエータ５は、遮光膜６を、
穴２の内部にかつその遮光膜６の底面が微小開口３の底
面と一致するように移動可能に支持する。このアクチュ
エータ５によって遮光膜６を移動することができる。従
って、遮光膜６は開口規制手段として機能する。前記微
小開口３の大きさａ１は、例えば１μｍよりやや大き
い。前記遮光膜６は、例えばクロムやアルミやチタン、
または窒化シリコン上にクロムやアルミやチタンを堆積
したものなどからなる。前記アクチュエータ５は、ＰＺ
Ｔ，ＺｎＯなどの圧電アクチュエータや、静電アクチュ
エータであり、その最大移動量は例えば１μｍで、移動
分解能は例えば数１０ｎｍである。
【００３０】次に、図２を用いて、近視野光ヘッド１０
の動作について説明する。まず、アクチュエータ５によ
り遮光膜６を図中の矢印の方向に移動させることで、微
小開口３を光の波長以下の大きさａ２（例えば、１００
ｎｍ）に変更する。この状態で微小開口３に伝播光を照
射すると、その微小開口３の大きさａ２が光の波長以下
であることから、微小開口３の近傍でかつ伝播光が照射
された側の反対側に、近視野光が生成される。なお、前
記伝播光は、例えばレーザ光である。
の動作について説明する。まず、アクチュエータ５によ
り遮光膜６を図中の矢印の方向に移動させることで、微
小開口３を光の波長以下の大きさａ２（例えば、１００
ｎｍ）に変更する。この状態で微小開口３に伝播光を照
射すると、その微小開口３の大きさａ２が光の波長以下
であることから、微小開口３の近傍でかつ伝播光が照射
された側の反対側に、近視野光が生成される。なお、前
記伝播光は、例えばレーザ光である。
【００３１】前記近視野光ヘッド１０を近視野光記録・
再生ヘッドとして応用する場合は、微小開口３の近傍に
生成される近視野光を記録媒体に照射して、記録媒体の
表面構造または物質を局所的に変化させることによって
情報を記録したり、記録媒体の表面構造または物質の局
所的な変化を検出して情報を再生する。なお、遮光膜６
の底面が微小開口３の底面と一致しているため、記録媒
体を微小開口３に近づけることができる。
再生ヘッドとして応用する場合は、微小開口３の近傍に
生成される近視野光を記録媒体に照射して、記録媒体の
表面構造または物質を局所的に変化させることによって
情報を記録したり、記録媒体の表面構造または物質の局
所的な変化を検出して情報を再生する。なお、遮光膜６
の底面が微小開口３の底面と一致しているため、記録媒
体を微小開口３に近づけることができる。
【００３２】前記近視野光ヘッド１０の微小開口３の大
きさを変更できるから、記録や再生のスピードを重視す
る場合は、生成される近視野光の強度を高めるために、
微小開口３の大きさを大きくし、記録の密度を重視する
場合は微小開口３の大きさを小さくすることができる。
また、記録時の開口より小さな微小開口３で再生を行う
ことによって、再生時にＳ／Ｎ比の大きな信号を得るこ
とができる。また、信号記録の際に、微小開口３の大き
さを大きくして強度の大きな近視野光を生成させてメデ
ィアを暖めておき、微小開口３の大きさを小さくして強
度の小さな近視野光を生成させて信号の記録を行うこと
により、記録を高速かつ高密度に行うことができる。
きさを変更できるから、記録や再生のスピードを重視す
る場合は、生成される近視野光の強度を高めるために、
微小開口３の大きさを大きくし、記録の密度を重視する
場合は微小開口３の大きさを小さくすることができる。
また、記録時の開口より小さな微小開口３で再生を行う
ことによって、再生時にＳ／Ｎ比の大きな信号を得るこ
とができる。また、信号記録の際に、微小開口３の大き
さを大きくして強度の大きな近視野光を生成させてメデ
ィアを暖めておき、微小開口３の大きさを小さくして強
度の小さな近視野光を生成させて信号の記録を行うこと
により、記録を高速かつ高密度に行うことができる。
【００３３】一方、前記近視野光ヘッド１０を走査型近
視野顕微鏡用のプローブヘッドとして応用する場合は、
前記微小開口３の近傍に生成される近視野光を試料表面
に照射し、その近視野光が散乱することで生成される伝
播光を検出して試料表面の光学特性や形状を測定する。
なお、遮光膜６の底面が微小開口３の底面と一致してい
るため、試料を微小開口３に近づけることができる。
視野顕微鏡用のプローブヘッドとして応用する場合は、
前記微小開口３の近傍に生成される近視野光を試料表面
に照射し、その近視野光が散乱することで生成される伝
播光を検出して試料表面の光学特性や形状を測定する。
なお、遮光膜６の底面が微小開口３の底面と一致してい
るため、試料を微小開口３に近づけることができる。
【００３４】前記近視野光ヘッド１０の微小開口３の大
きさを変更できるから、微小開口３の大きさを大きくし
て試料表面を低分解能で高速に観察したり、微小開口３
の大きさを小さくして試料表面の所定の範囲を高分解能
で観察することができる。また、大光量が必要な場合は
微小開口３の大きさを大きくし、高分解能の観察が必要
な場合は微小開口３の大きさを小さくして、観察対象に
応じて微小開口３の大きさを変更することができる。
きさを変更できるから、微小開口３の大きさを大きくし
て試料表面を低分解能で高速に観察したり、微小開口３
の大きさを小さくして試料表面の所定の範囲を高分解能
で観察することができる。また、大光量が必要な場合は
微小開口３の大きさを大きくし、高分解能の観察が必要
な場合は微小開口３の大きさを小さくして、観察対象に
応じて微小開口３の大きさを変更することができる。
【００３５】次に、図３および図４を用いて、上記近視
野光ヘッド１０の製造方法について説明する。まず、図
３（ａ）に示すように、シリコン製の基部（基板）１を
用意し、その基部１の一方側にマスク１０２、他方側に
酸化膜１０３を堆積する。なお、マスク１０２は、二酸
化ケイ素や窒化シリコンからなり、酸化膜１０３は二酸
化ケイ素からなる。次に、図３（ｂ）に示すように、水
酸化カリウム（ＫＯＨ）やテトラメチルアンモニウムハ
イドロオキサイド（ＴＭＡＨ）を用いた異方性エッチン
グで基部１に逆錘状の穴２を形成する。
野光ヘッド１０の製造方法について説明する。まず、図
３（ａ）に示すように、シリコン製の基部（基板）１を
用意し、その基部１の一方側にマスク１０２、他方側に
酸化膜１０３を堆積する。なお、マスク１０２は、二酸
化ケイ素や窒化シリコンからなり、酸化膜１０３は二酸
化ケイ素からなる。次に、図３（ｂ）に示すように、水
酸化カリウム（ＫＯＨ）やテトラメチルアンモニウムハ
イドロオキサイド（ＴＭＡＨ）を用いた異方性エッチン
グで基部１に逆錘状の穴２を形成する。
【００３６】次に、図３（ｃ）に示すように、マスク１
０２を除去して、基部１上に支持部４を形成する。支持
部４は、窒化シリコンや，アモルファスシリコンや，ア
ルミニウムなどをＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏ
ｕｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）やスパッタで堆積し、フ
ォトリソグラフィでパターニングすることで形成する。
次に、図３（ｄ）に示すように、基部１および支持部４
上に、二酸化ケイ素や，アルミニウムや，クロムなどを
ＣＶＤやスパッタで堆積して犠牲膜１０５を形成する。
次に、図３（ｅ）に示すように、犠牲膜１０５をパター
ニングして不用の犠牲膜１０５を除去する。
０２を除去して、基部１上に支持部４を形成する。支持
部４は、窒化シリコンや，アモルファスシリコンや，ア
ルミニウムなどをＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏ
ｕｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）やスパッタで堆積し、フ
ォトリソグラフィでパターニングすることで形成する。
次に、図３（ｄ）に示すように、基部１および支持部４
上に、二酸化ケイ素や，アルミニウムや，クロムなどを
ＣＶＤやスパッタで堆積して犠牲膜１０５を形成する。
次に、図３（ｅ）に示すように、犠牲膜１０５をパター
ニングして不用の犠牲膜１０５を除去する。
【００３７】次に、図４（ｆ）に示すように、基部１お
よび犠牲膜１０５上に、クロムや，アルミや，チタン、
窒化シリコン上にクロムやアルミなどの金属を堆積した
ものをＣＶＤやスパッタで堆積して遮光膜６を形成す
る。次に、図４（ｇ）に示すように、遮光膜６をパター
ニングして不用の遮光膜６を除去する。次に、図４
（ｈ）に示すように、支持部４上の犠牲膜１０５をエッ
チングで除去して支持部４を露出する。
よび犠牲膜１０５上に、クロムや，アルミや，チタン、
窒化シリコン上にクロムやアルミなどの金属を堆積した
ものをＣＶＤやスパッタで堆積して遮光膜６を形成す
る。次に、図４（ｇ）に示すように、遮光膜６をパター
ニングして不用の遮光膜６を除去する。次に、図４
（ｈ）に示すように、支持部４上の犠牲膜１０５をエッ
チングで除去して支持部４を露出する。
【００３８】次に、図４（ｉ）に示すように、アクチュ
エータ５を形成する。なお、圧電アクチュエータを形成
する場合は、例えば、ＰＺＴを接着剤で支持部４と遮光
膜６に貼り付ける。または、スパッタによりＰＺＴを成
膜し、ＰＺＴをフォトリソグラフィでパターニングし、
最後にＰＺＴに圧電性を持たせる。一方、静電アクチュ
エータを形成する場合は、例えば、窒化シリコンや，ア
モルファスシリコンを堆積させ、そして電極が向かい合
うようにフォトリソグラフィでパターニングする。
エータ５を形成する。なお、圧電アクチュエータを形成
する場合は、例えば、ＰＺＴを接着剤で支持部４と遮光
膜６に貼り付ける。または、スパッタによりＰＺＴを成
膜し、ＰＺＴをフォトリソグラフィでパターニングし、
最後にＰＺＴに圧電性を持たせる。一方、静電アクチュ
エータを形成する場合は、例えば、窒化シリコンや，ア
モルファスシリコンを堆積させ、そして電極が向かい合
うようにフォトリソグラフィでパターニングする。
【００３９】最後に、図４（ｊ）に示すように、基部１
と遮光膜６の間の犠牲膜１０５をウェットエッチングで
除去すると共に、酸化膜１０３を緩衝弗化水素酸水溶液
（以下、ＢＨＦ）によるウェットエッチングで除去す
る。これにより、大きさが可変な微小開口３を有する近
視野光ヘッド１０が得られる。
と遮光膜６の間の犠牲膜１０５をウェットエッチングで
除去すると共に、酸化膜１０３を緩衝弗化水素酸水溶液
（以下、ＢＨＦ）によるウェットエッチングで除去す
る。これにより、大きさが可変な微小開口３を有する近
視野光ヘッド１０が得られる。
【００４０】このように、上記実施の形態１による近視
野光ヘッド１０によれば、アクチュエータ５を用いて遮
光膜６を移動することで微小開口３の大きさを所望の大
きさに変更することができる。このため、近視野光ヘッ
ド１０を近視野光記録・再生ヘッドとして応用する場合
において、一つのヘッドで、微小開口３の大きさを大き
くして記録や再生のスピードを重視した記録・再生方法
や、微小開口３の大きさを小さくして記録の密度を重視
した記録方法を実現することが可能となる。一方、近視
野光ヘッド１０を走査型近視野顕微鏡用のプローブヘッ
ドとして応用する場合において、一つのヘッドで、微小
開口３の大きさを大きくして試料表面を低分解能で観察
したり、微小開口３の大きさを小さくして試料表面を高
分解能で観察することが可能となる。
野光ヘッド１０によれば、アクチュエータ５を用いて遮
光膜６を移動することで微小開口３の大きさを所望の大
きさに変更することができる。このため、近視野光ヘッ
ド１０を近視野光記録・再生ヘッドとして応用する場合
において、一つのヘッドで、微小開口３の大きさを大き
くして記録や再生のスピードを重視した記録・再生方法
や、微小開口３の大きさを小さくして記録の密度を重視
した記録方法を実現することが可能となる。一方、近視
野光ヘッド１０を走査型近視野顕微鏡用のプローブヘッ
ドとして応用する場合において、一つのヘッドで、微小
開口３の大きさを大きくして試料表面を低分解能で観察
したり、微小開口３の大きさを小さくして試料表面を高
分解能で観察することが可能となる。
【００４１】また、上記実施の形態１による近視野光ヘ
ッドの製造方法によれば、アクチュエータ５を用いて遮
光膜６を移動することで微小開口３の大きさを所望の大
きさに変更することができる近視野光ヘッド１０を容易
に製造することが可能となる。
ッドの製造方法によれば、アクチュエータ５を用いて遮
光膜６を移動することで微小開口３の大きさを所望の大
きさに変更することができる近視野光ヘッド１０を容易
に製造することが可能となる。
【００４２】（実施の形態２）図５は、本発明の実施の
形態２にかかる近視野光ヘッドの断面図である。この近
視野光ヘッド２０では、微小開口３を中心とする対称の
位置に遮光膜６と遮光膜９とが設けられている。前記遮
光膜６は支持部４とアクチュエータ５により移動可能に
支持され、前記遮光膜９は支持部７とアクチュエータ８
により移動可能に支持される。従って、遮光膜６および
遮光膜９は開口規制手段として機能する。なお、近視野
光ヘッド２０の製造方法は、実施の形態１で説明した近
視野光ヘッド１０の製造方法と同じとなるので、その説
明は省略する。
形態２にかかる近視野光ヘッドの断面図である。この近
視野光ヘッド２０では、微小開口３を中心とする対称の
位置に遮光膜６と遮光膜９とが設けられている。前記遮
光膜６は支持部４とアクチュエータ５により移動可能に
支持され、前記遮光膜９は支持部７とアクチュエータ８
により移動可能に支持される。従って、遮光膜６および
遮光膜９は開口規制手段として機能する。なお、近視野
光ヘッド２０の製造方法は、実施の形態１で説明した近
視野光ヘッド１０の製造方法と同じとなるので、その説
明は省略する。
【００４３】次に、図６を用いて、近視野光ヘッド２０
の動作について説明する。まず、アクチュエータ５によ
り遮光膜６、アクチュエータ８により遮光膜９を互いに
近づくように移動することで、微小開口３を光の波長以
下の大きさａ２（例えば、１００ｎｍ）に変更する。こ
の状態で微小開口３に伝播光を照射すると、その微小開
口３の大きさａ２が光の波長以下であることから、微小
開口３の近傍でかつ伝播光が照射された側の反対側に、
近視野光が生成される。この近視野光ヘッド２０も実施
の形態１の近視野光ヘッド１０と同様に、近視野光記録
・再生ヘッドまたは走査型近視野顕微鏡用のプローブヘ
ッドとして応用することができる。
の動作について説明する。まず、アクチュエータ５によ
り遮光膜６、アクチュエータ８により遮光膜９を互いに
近づくように移動することで、微小開口３を光の波長以
下の大きさａ２（例えば、１００ｎｍ）に変更する。こ
の状態で微小開口３に伝播光を照射すると、その微小開
口３の大きさａ２が光の波長以下であることから、微小
開口３の近傍でかつ伝播光が照射された側の反対側に、
近視野光が生成される。この近視野光ヘッド２０も実施
の形態１の近視野光ヘッド１０と同様に、近視野光記録
・再生ヘッドまたは走査型近視野顕微鏡用のプローブヘ
ッドとして応用することができる。
【００４４】このように、上記実施の形態２による近視
野光ヘッド２０によれば、アクチュエータ５により遮光
膜６を移動し、アクチュエータ８により遮光膜９を移動
することで微小開口３の大きさを所望の大きさに変更す
ることができる。また、２つの遮光膜６および遮光膜９
の間隔を保ったままアクチュエータ５およびアクチュエ
ータ8を同期させて駆動することによって、ヘッドを移
動させることなく微小開口を移動させることができ、ト
ラッキングを行うことができる。したがって、信号再生
の際に重いヘッド全体を移動させる必要がなくなるた
め、高速かつ高精度な位置決めを行うことができる。
野光ヘッド２０によれば、アクチュエータ５により遮光
膜６を移動し、アクチュエータ８により遮光膜９を移動
することで微小開口３の大きさを所望の大きさに変更す
ることができる。また、２つの遮光膜６および遮光膜９
の間隔を保ったままアクチュエータ５およびアクチュエ
ータ8を同期させて駆動することによって、ヘッドを移
動させることなく微小開口を移動させることができ、ト
ラッキングを行うことができる。したがって、信号再生
の際に重いヘッド全体を移動させる必要がなくなるた
め、高速かつ高精度な位置決めを行うことができる。
【００４５】（実施の形態３）図７は、本発明の実施の
形態３にかかる近視野光ヘッドの断面図である。この近
視野光ヘッド３０では、シリコン基部３１に逆錘状の穴
３２が形成されており、その穴３２の頂部が大きさａ１
の微小開口３３となっている。前記穴３２の内部に熱膨
張体３４が堆積されている。熱膨張体３４は、例えばポ
リイミドやテフロン（登録商標）のように熱膨張率の高
い材料からなり、加熱したときに膨張する。従って、熱
膨張体３４は開口規制手段として機能する。
形態３にかかる近視野光ヘッドの断面図である。この近
視野光ヘッド３０では、シリコン基部３１に逆錘状の穴
３２が形成されており、その穴３２の頂部が大きさａ１
の微小開口３３となっている。前記穴３２の内部に熱膨
張体３４が堆積されている。熱膨張体３４は、例えばポ
リイミドやテフロン（登録商標）のように熱膨張率の高
い材料からなり、加熱したときに膨張する。従って、熱
膨張体３４は開口規制手段として機能する。
【００４６】次に、図８を用いて、近視野光ヘッド３０
の動作について説明する。まず、熱膨張体３４を加熱し
て膨張させることで、微小開口３３を光の波長以下の大
きさａ２（例えば、１００ｎｍ）に変更する。なお、伝
播光を照射することで熱膨張体３４を加熱することがで
きる。または、図９に示すように、熱膨張体３４と基部
３１の間に形成された電気抵抗体３５に電圧を印加する
ことで電気抵抗体３５に電気抵抗熱を生じさせることが
できる。この状態で微小開口３３に伝播光を照射する
と、その微小開口３３の大きさａ２が光の波長以下であ
ることから、微小開口３３の近傍でかつ伝播光が照射さ
れた側の反対側に、近視野光が生成される。この近視野
光ヘッド３０も実施の形態１の近視野光ヘッド１０と同
様に、近視野光記録・再生ヘッドまたは走査型近視野顕
微鏡用のプローブヘッドとして応用することができる。
の動作について説明する。まず、熱膨張体３４を加熱し
て膨張させることで、微小開口３３を光の波長以下の大
きさａ２（例えば、１００ｎｍ）に変更する。なお、伝
播光を照射することで熱膨張体３４を加熱することがで
きる。または、図９に示すように、熱膨張体３４と基部
３１の間に形成された電気抵抗体３５に電圧を印加する
ことで電気抵抗体３５に電気抵抗熱を生じさせることが
できる。この状態で微小開口３３に伝播光を照射する
と、その微小開口３３の大きさａ２が光の波長以下であ
ることから、微小開口３３の近傍でかつ伝播光が照射さ
れた側の反対側に、近視野光が生成される。この近視野
光ヘッド３０も実施の形態１の近視野光ヘッド１０と同
様に、近視野光記録・再生ヘッドまたは走査型近視野顕
微鏡用のプローブヘッドとして応用することができる。
【００４７】次に、図１０を用いて、上記近視野光ヘッ
ド３０の製造方法について説明する。まず、図１０
（ａ）に示すように、シリコン製の基部３１を用意し、
その基部３１の一方側に酸化膜１２２を堆積し、その反
対側にマスク１２１を形成する。そしてＫＯＨやＴＭＡ
Ｈを用いた異方性エッチングで基部１に逆錘状の穴３２
を形成する。なお、酸化膜１２２は、二酸化ケイ素であ
り、マスク１２１は二酸化ケイ素や窒化シリコンからな
る。次に、マスク１２１を除去した後、図１０（ｂ）に
示すように、基部３１上に、スピンコートやスプレーコ
ートでポリイミドやテフロンなどの熱膨張体３４を堆積
する。
ド３０の製造方法について説明する。まず、図１０
（ａ）に示すように、シリコン製の基部３１を用意し、
その基部３１の一方側に酸化膜１２２を堆積し、その反
対側にマスク１２１を形成する。そしてＫＯＨやＴＭＡ
Ｈを用いた異方性エッチングで基部１に逆錘状の穴３２
を形成する。なお、酸化膜１２２は、二酸化ケイ素であ
り、マスク１２１は二酸化ケイ素や窒化シリコンからな
る。次に、マスク１２１を除去した後、図１０（ｂ）に
示すように、基部３１上に、スピンコートやスプレーコ
ートでポリイミドやテフロンなどの熱膨張体３４を堆積
する。
【００４８】次に、図１０（ｃ）に示すように、熱膨張
体３４をパターニングし、穴３２の内部の熱膨張体３４
を残してそれ以外の熱膨張体３４を除去する。最後に、
図１０（ｄ）に示すように、酸化膜１２２をＢＨＦによ
るウェットエッチングで除去する。これにより、大きさ
が可変な微小開口３３を有する近視野光ヘッド３０が得
られる。
体３４をパターニングし、穴３２の内部の熱膨張体３４
を残してそれ以外の熱膨張体３４を除去する。最後に、
図１０（ｄ）に示すように、酸化膜１２２をＢＨＦによ
るウェットエッチングで除去する。これにより、大きさ
が可変な微小開口３３を有する近視野光ヘッド３０が得
られる。
【００４９】このように、上記実施の形態３による近視
野光ヘッド３０によれば、穴３２の内部の熱膨張体３４
を加熱して膨張させることで微小開口３３の大きさを所
望の大きさに変更することができ、実施の形態１による
近視野光ヘッド１０と同様の効果を簡単な構成で得るこ
とができる。
野光ヘッド３０によれば、穴３２の内部の熱膨張体３４
を加熱して膨張させることで微小開口３３の大きさを所
望の大きさに変更することができ、実施の形態１による
近視野光ヘッド１０と同様の効果を簡単な構成で得るこ
とができる。
【００５０】また、上記実施の形態３による近視野光ヘ
ッドの製造方法によれば、穴３２の内部の熱膨張体３４
を加熱して膨張させることで微小開口３３の大きさを所
望の大きさに変更することができる近視野光ヘッド３０
を容易に製造することが可能となる。
ッドの製造方法によれば、穴３２の内部の熱膨張体３４
を加熱して膨張させることで微小開口３３の大きさを所
望の大きさに変更することができる近視野光ヘッド３０
を容易に製造することが可能となる。
【００５１】（実施の形態４）図１１は、本発明の実施
の形態４にかかる近視野光ヘッドの断面図である。この
近視野光ヘッド４０では、逆錘状の穴３２の内部に熱膨
張体４４が堆積されている。熱膨張体４４は、例えばポ
リイミドやテフロン（登録商標）のように熱膨張率の高
い材料からなり、内部に中空部を有し、その中空部には
空気，窒素またはアルゴンなどの気体が封入されてい
る。この熱膨張体４４を加熱したときに、中空部の気体
が膨張する。従って、熱膨張体４４は開口規制手段とし
て機能する。なお、実施の形態３で説明した方法と同様
な方法により熱膨張体４４を加熱することができる。
の形態４にかかる近視野光ヘッドの断面図である。この
近視野光ヘッド４０では、逆錘状の穴３２の内部に熱膨
張体４４が堆積されている。熱膨張体４４は、例えばポ
リイミドやテフロン（登録商標）のように熱膨張率の高
い材料からなり、内部に中空部を有し、その中空部には
空気，窒素またはアルゴンなどの気体が封入されてい
る。この熱膨張体４４を加熱したときに、中空部の気体
が膨張する。従って、熱膨張体４４は開口規制手段とし
て機能する。なお、実施の形態３で説明した方法と同様
な方法により熱膨張体４４を加熱することができる。
【００５２】次に、図１２を用いて、近視野光ヘッド４
０の動作について説明する。まず、熱膨張体４４を加熱
して膨張させることで、微小開口３３を光の波長以下の
大きさａ２（例えば、１００ｎｍ）に変更する。この状
態で微小開口３３に伝播光を照射すると、その微小開口
３３の大きさａ２が光の波長以下であることから、微小
開口３３の近傍でかつ伝播光が照射された側の反対側
に、近視野光が生成される。この近視野光ヘッド４０も
実施の形態１の近視野光ヘッド１０と同様に、近視野光
記録・再生ヘッドまたは走査型近視野顕微鏡用のプロー
ブヘッドとして応用することができる。
０の動作について説明する。まず、熱膨張体４４を加熱
して膨張させることで、微小開口３３を光の波長以下の
大きさａ２（例えば、１００ｎｍ）に変更する。この状
態で微小開口３３に伝播光を照射すると、その微小開口
３３の大きさａ２が光の波長以下であることから、微小
開口３３の近傍でかつ伝播光が照射された側の反対側
に、近視野光が生成される。この近視野光ヘッド４０も
実施の形態１の近視野光ヘッド１０と同様に、近視野光
記録・再生ヘッドまたは走査型近視野顕微鏡用のプロー
ブヘッドとして応用することができる。
【００５３】次に、図１３および図１４を用いて、上記
近視野光ヘッド４０の製造方法について説明する。ま
ず、図１３（ａ）に示すように、シリコン製の基部３１
を用意し、その基部３１の一方側に酸化膜１２２を堆積
し、その反対側にマスク１２１を形成する。そしてＫＯ
ＨやＴＭＡＨを用いた異方性エッチングで基部１に逆錘
状の穴３２を形成する。なお、酸化膜１２２は、二酸化
ケイ素であり、マスク１２１は二酸化ケイ素や窒化シリ
コンからなる。次に、マスク１２１を除去した後、図１
３（ｂ）に示すように、基部３１上に、スピンコートや
スプレーコートでポリイミドやテフロンなどの熱膨張体
１２３を堆積する。
近視野光ヘッド４０の製造方法について説明する。ま
ず、図１３（ａ）に示すように、シリコン製の基部３１
を用意し、その基部３１の一方側に酸化膜１２２を堆積
し、その反対側にマスク１２１を形成する。そしてＫＯ
ＨやＴＭＡＨを用いた異方性エッチングで基部１に逆錘
状の穴３２を形成する。なお、酸化膜１２２は、二酸化
ケイ素であり、マスク１２１は二酸化ケイ素や窒化シリ
コンからなる。次に、マスク１２１を除去した後、図１
３（ｂ）に示すように、基部３１上に、スピンコートや
スプレーコートでポリイミドやテフロンなどの熱膨張体
１２３を堆積する。
【００５４】次に、図１３（ｃ）に示すように、熱膨張
体１２３上に、二酸化ケイ素や，アルミニウムや，クロ
ムなどをＣＶＤやスパッタで堆積して犠牲膜１２４を形
成する。次に、図１３（ｄ）に示すように、犠牲膜１２
４をパターニングし、穴３２の内部の犠牲膜１２４を残
してそれ以外の犠牲膜１２４を除去する。次に、図１３
（ｅ）に示すように、熱膨張体１２３および犠牲膜１２
４上に、スピンコートやスプレーコートでポリイミドや
テフロンなどの熱膨張体１２５を堆積する。次に、図１
３（ｆ）に示すように、熱膨張体１２５をパターニング
し、犠牲膜１２４上の熱膨張体１２５を残してそれ以外
の熱膨張体１２５を除去する。
体１２３上に、二酸化ケイ素や，アルミニウムや，クロ
ムなどをＣＶＤやスパッタで堆積して犠牲膜１２４を形
成する。次に、図１３（ｄ）に示すように、犠牲膜１２
４をパターニングし、穴３２の内部の犠牲膜１２４を残
してそれ以外の犠牲膜１２４を除去する。次に、図１３
（ｅ）に示すように、熱膨張体１２３および犠牲膜１２
４上に、スピンコートやスプレーコートでポリイミドや
テフロンなどの熱膨張体１２５を堆積する。次に、図１
３（ｆ）に示すように、熱膨張体１２５をパターニング
し、犠牲膜１２４上の熱膨張体１２５を残してそれ以外
の熱膨張体１２５を除去する。
【００５５】次に、図１４（ｇ）に示すように、熱膨張
体１２３と熱膨張体１２５と犠牲膜１２４をウエットエ
ッチングまたはドライエッチングで除去すると共に、酸
化膜１２２をＢＨＦによるウェットエッチングで除去す
ることにより微小開口３３を形成する。次に、図１４
（ｈ）に示すように、犠牲膜１２４を覆っている熱膨張
体１２５に、ドライエッチングやレーザ加工などで穴１
２６をあける。
体１２３と熱膨張体１２５と犠牲膜１２４をウエットエ
ッチングまたはドライエッチングで除去すると共に、酸
化膜１２２をＢＨＦによるウェットエッチングで除去す
ることにより微小開口３３を形成する。次に、図１４
（ｈ）に示すように、犠牲膜１２４を覆っている熱膨張
体１２５に、ドライエッチングやレーザ加工などで穴１
２６をあける。
【００５６】次に、図１４（ｉ）に示すように、穴１２
６を利用し、ウェットエッチングで犠牲膜１２４を除去
して、中空部１２７を形成する。次に、空気，窒素また
はアルゴンなどの気体雰囲気中において、図１４（ｊ）
に示すように、熱膨張体１２８をディッピングなどによ
り堆積することで穴１２６をふさぐ。この工程によっ
て、中空部１２７に空気、窒素またはアルゴンなどの気
体を封入する。最後に、図１４（ｋ）に示すように、不
要な熱膨張体１２８を除去することで、中空部に熱膨張
率の高い気体が封入されている熱膨張体４４を形成す
る。これにより、大きさが可変な微小開口３３を有する
近視野光ヘッド４０が得られる。
６を利用し、ウェットエッチングで犠牲膜１２４を除去
して、中空部１２７を形成する。次に、空気，窒素また
はアルゴンなどの気体雰囲気中において、図１４（ｊ）
に示すように、熱膨張体１２８をディッピングなどによ
り堆積することで穴１２６をふさぐ。この工程によっ
て、中空部１２７に空気、窒素またはアルゴンなどの気
体を封入する。最後に、図１４（ｋ）に示すように、不
要な熱膨張体１２８を除去することで、中空部に熱膨張
率の高い気体が封入されている熱膨張体４４を形成す
る。これにより、大きさが可変な微小開口３３を有する
近視野光ヘッド４０が得られる。
【００５７】このように、上記実施の形態４による近視
野光ヘッド４０によれば、穴３２の内部の熱膨張体４４
を加熱して膨張させることで微小開口３３の大きさを所
望の大きさに変更することができ、実施の形態１による
近視野光ヘッド１０と同様の効果を簡単な構成で得るこ
とができる。また、上記実施の形態４による近視野光ヘ
ッドの製造方法によれば、穴３２の内部の熱膨張体４４
を加熱して膨張させることで微小開口３３の大きさを所
望の大きさに変更することができる近視野光ヘッド４０
を容易に製造することが可能となる。
野光ヘッド４０によれば、穴３２の内部の熱膨張体４４
を加熱して膨張させることで微小開口３３の大きさを所
望の大きさに変更することができ、実施の形態１による
近視野光ヘッド１０と同様の効果を簡単な構成で得るこ
とができる。また、上記実施の形態４による近視野光ヘ
ッドの製造方法によれば、穴３２の内部の熱膨張体４４
を加熱して膨張させることで微小開口３３の大きさを所
望の大きさに変更することができる近視野光ヘッド４０
を容易に製造することが可能となる。
【００５８】（実施の形態５）図１６に本発明の実施の
形態５に係る光記録再生装置のブロック構成図を示す。
従来の磁気ディスク装置と基本構成は類似であり、記録
媒体３１４と、前記記録媒体３１４を回転させるスピン
ドルモータ３１２と、記録再生ヘッド（図示なし）から
構成されている。本発明においては記録再生ヘッドは、
実施の形態１から形態４に記載の近視野光ヘッドを用い
る。図１６には記載していないが外部ユーザーによって
ＰＣなどのマイコンを介して記録するデータの容量、デ
ータの転送速度や消費電力などが使用環境となる。この
時の使用環境とは、例えば記録容量は少なくても良いが
高速にデータ記録再生を行う場合や、データ記録再生速
度は遅くても記録容量を重視したい場合、或いは記録速
度や容量より消費電力を重視したい場合などの様々な場
合がある。与えられた使用環境を基に動作モード制御回
路３０１は、近視野光ヘッド上の微小開口の大きさを決
めると共に、記録媒体の回転速度を最適になるよう動作
する。この時の最適とは、記録や再生のスピードを重視
する場合は、生成される近視野光の強度を高めるため
に、微小開口の大きさを大きくし、記録の密度を重視す
る場合は微小開口の大きさを小さくすることができる。
微小開口の大きさは大小２種類に限る必要はなく、連続
的に分布した値から最適値を選択することができる。ま
た、記録時の開口サイズより小さな微小開口で再生を行
うことによって、再生時にＳ／Ｎ比の大きな信号を得る
ことができる。その決定された開口サイズ及び回転速度
情報はそれぞれ開口制御回路３０３、回転制御回路３０
４に送られる。開口制御回路３０３は開口規制手段３０
６によって開口の大きさを変える。回転制御回路３０４
は、公知であるスピンドルモータ３１２に対し入力信号
を与えるように動作する。また、レーザー発振回路３０
２では、近視野光ヘッド上の微小開口３１３に入射光を
入射するための光源であるＬＤ３０５を制御し、近視野
光の光量を安定的に制御する。また動作モードによって
は光量を可変にする事も可能である。このＬＤ３０５と
は公知である半導体レーザーなどを用い構成する事がで
きる。ＬＤ３０５から照射された入射光３１５は近視野
光ヘッド上の微小開口３１３に入射され微小開口３１３
からは近視野光３１６が生成され、記録媒体３１４上の
データピットを透過した散乱光３１７が、光電変換素子
であるＰＤ３１１によって再生信号として電気信号に変
換される。ここでのＰＤ３１１は公知であるｐｉｎダイ
オードやＡＰＤ等の半導体の光電変換素子を用いた。さ
らにＰＤ３１１で変換された再生信号は電流信号である
ため、Ｉ／Ｖ３１０で電圧信号に変換された後、Ａ／Ｄ
３０８でデジタル信号へと変換される。デジタル化され
た再生信号は、一旦動作モード制御回路へ戻され、レー
ザー発振回路３０２、開口制御回路３０３、回転速度制
御３０４への制御信号にフィードバックされる。また、
図示していないが再生信号は外部のホストコンピュータ
に送るためＩ／Ｆ回路へ送られることは言うまでもな
い。更に、図１７に示すようにＩ／Ｖ３１０とＡ／Ｄ３
０８の間に、動作モード制御回路３０１が制御するＰＧ
Ａ（プログラマブル・ゲイン・アンプ）３０９を加える
事で、再生信号に対し最適な信号増幅を得る事ができ
る。また、リムーバブル記録装置などの可搬型記録媒体
を想定した場合は、記録媒体毎にデータの容量やデータ
転送速度をあらかじめ決めておき、データ領域の一部に
その情報を持たせるなどの、何らかの手段により動作モ
ード制御手段３０１に認識できるようにしておけば、用
途に合った記録再生を行う事が可能である。
形態５に係る光記録再生装置のブロック構成図を示す。
従来の磁気ディスク装置と基本構成は類似であり、記録
媒体３１４と、前記記録媒体３１４を回転させるスピン
ドルモータ３１２と、記録再生ヘッド（図示なし）から
構成されている。本発明においては記録再生ヘッドは、
実施の形態１から形態４に記載の近視野光ヘッドを用い
る。図１６には記載していないが外部ユーザーによって
ＰＣなどのマイコンを介して記録するデータの容量、デ
ータの転送速度や消費電力などが使用環境となる。この
時の使用環境とは、例えば記録容量は少なくても良いが
高速にデータ記録再生を行う場合や、データ記録再生速
度は遅くても記録容量を重視したい場合、或いは記録速
度や容量より消費電力を重視したい場合などの様々な場
合がある。与えられた使用環境を基に動作モード制御回
路３０１は、近視野光ヘッド上の微小開口の大きさを決
めると共に、記録媒体の回転速度を最適になるよう動作
する。この時の最適とは、記録や再生のスピードを重視
する場合は、生成される近視野光の強度を高めるため
に、微小開口の大きさを大きくし、記録の密度を重視す
る場合は微小開口の大きさを小さくすることができる。
微小開口の大きさは大小２種類に限る必要はなく、連続
的に分布した値から最適値を選択することができる。ま
た、記録時の開口サイズより小さな微小開口で再生を行
うことによって、再生時にＳ／Ｎ比の大きな信号を得る
ことができる。その決定された開口サイズ及び回転速度
情報はそれぞれ開口制御回路３０３、回転制御回路３０
４に送られる。開口制御回路３０３は開口規制手段３０
６によって開口の大きさを変える。回転制御回路３０４
は、公知であるスピンドルモータ３１２に対し入力信号
を与えるように動作する。また、レーザー発振回路３０
２では、近視野光ヘッド上の微小開口３１３に入射光を
入射するための光源であるＬＤ３０５を制御し、近視野
光の光量を安定的に制御する。また動作モードによって
は光量を可変にする事も可能である。このＬＤ３０５と
は公知である半導体レーザーなどを用い構成する事がで
きる。ＬＤ３０５から照射された入射光３１５は近視野
光ヘッド上の微小開口３１３に入射され微小開口３１３
からは近視野光３１６が生成され、記録媒体３１４上の
データピットを透過した散乱光３１７が、光電変換素子
であるＰＤ３１１によって再生信号として電気信号に変
換される。ここでのＰＤ３１１は公知であるｐｉｎダイ
オードやＡＰＤ等の半導体の光電変換素子を用いた。さ
らにＰＤ３１１で変換された再生信号は電流信号である
ため、Ｉ／Ｖ３１０で電圧信号に変換された後、Ａ／Ｄ
３０８でデジタル信号へと変換される。デジタル化され
た再生信号は、一旦動作モード制御回路へ戻され、レー
ザー発振回路３０２、開口制御回路３０３、回転速度制
御３０４への制御信号にフィードバックされる。また、
図示していないが再生信号は外部のホストコンピュータ
に送るためＩ／Ｆ回路へ送られることは言うまでもな
い。更に、図１７に示すようにＩ／Ｖ３１０とＡ／Ｄ３
０８の間に、動作モード制御回路３０１が制御するＰＧ
Ａ（プログラマブル・ゲイン・アンプ）３０９を加える
事で、再生信号に対し最適な信号増幅を得る事ができ
る。また、リムーバブル記録装置などの可搬型記録媒体
を想定した場合は、記録媒体毎にデータの容量やデータ
転送速度をあらかじめ決めておき、データ領域の一部に
その情報を持たせるなどの、何らかの手段により動作モ
ード制御手段３０１に認識できるようにしておけば、用
途に合った記録再生を行う事が可能である。
【００５９】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１にかかる
近視野光ヘッドよれば、基部に形成された穴の内部に位
置させ、その開口規制手段を移動して微小開口の大きさ
を規制するため、微小開口の大きさを所望の大きさに変
更することができる。この結果、近視野光ヘッドを近視
野光記録・再生ヘッドとして応用する場合において、一
つのヘッドで、記録や再生のスピードを重視した記録・
再生方法や、記録の密度を重視した記録・再生方法を実
現することが可能となる。また、近視野光ヘッドを走査
型近視野顕微鏡用のプローブヘッドとして応用する場合
において、一つのヘッドで、試料表面を低分解能や高分
解能で観察することが可能となる。
近視野光ヘッドよれば、基部に形成された穴の内部に位
置させ、その開口規制手段を移動して微小開口の大きさ
を規制するため、微小開口の大きさを所望の大きさに変
更することができる。この結果、近視野光ヘッドを近視
野光記録・再生ヘッドとして応用する場合において、一
つのヘッドで、記録や再生のスピードを重視した記録・
再生方法や、記録の密度を重視した記録・再生方法を実
現することが可能となる。また、近視野光ヘッドを走査
型近視野顕微鏡用のプローブヘッドとして応用する場合
において、一つのヘッドで、試料表面を低分解能や高分
解能で観察することが可能となる。
【００６０】また、請求項２にかかる近視野光ヘッドよ
れば、基部に形成された穴の内部に、微小開口に対して
一対の規制手段を設けているため、それらの開口規制手
段を対応する移動手段により移動することで微小開口の
大きさを所望の大きさに変更することができる。また、
一対の開口規制手段の間隔を保ったままアクチュエータ
を同期させて駆動することによって、ヘッドを移動させ
ることなく微小開口を移動させることができ、トラッキ
ングを行うことができる。したがって、信号再生の際に
重いヘッド全体を移動させる必要がなくなるため、高速
かつ高精度な位置決めを行うことができる。
れば、基部に形成された穴の内部に、微小開口に対して
一対の規制手段を設けているため、それらの開口規制手
段を対応する移動手段により移動することで微小開口の
大きさを所望の大きさに変更することができる。また、
一対の開口規制手段の間隔を保ったままアクチュエータ
を同期させて駆動することによって、ヘッドを移動させ
ることなく微小開口を移動させることができ、トラッキ
ングを行うことができる。したがって、信号再生の際に
重いヘッド全体を移動させる必要がなくなるため、高速
かつ高精度な位置決めを行うことができる。
【００６１】また、請求項３にかかる近視野光ヘッドに
よれば、開口規制手段の底面が微小開口の底面と一致す
るため、記録媒体または試料を微小開口に近づけること
ができ、記録媒体または試料に照射される近視野光の強
度が大きくなる。
よれば、開口規制手段の底面が微小開口の底面と一致す
るため、記録媒体または試料を微小開口に近づけること
ができ、記録媒体または試料に照射される近視野光の強
度が大きくなる。
【００６２】また、請求項４にかかる近視野光ヘッドに
よれば、開口規制手段を移動するために圧電アクチュエ
ータまたは静電アクチュエータを用いているため、微小
開口の大きさを容易かつ正確に所望の大きさに変更する
ことができる。
よれば、開口規制手段を移動するために圧電アクチュエ
ータまたは静電アクチュエータを用いているため、微小
開口の大きさを容易かつ正確に所望の大きさに変更する
ことができる。
【００６３】また、請求項５にかかる近視野光ヘッドに
よれば、基部に形成された穴の内部に、加熱したときに
膨張する開口規制手段を位置させるため、その開口規制
手段を膨張させることで微小開口の大きさを所望の大き
さに変更することができる。
よれば、基部に形成された穴の内部に、加熱したときに
膨張する開口規制手段を位置させるため、その開口規制
手段を膨張させることで微小開口の大きさを所望の大き
さに変更することができる。
【００６４】また、請求項６にかかる近視野光ヘッドに
よれば、開口規制手段を加熱するための加熱手段を設け
ているため、開口規制手段を容易かつ正確に膨張させる
ことができ、微小開口の大きさを所望の大きさに変更す
ることができる。
よれば、開口規制手段を加熱するための加熱手段を設け
ているため、開口規制手段を容易かつ正確に膨張させる
ことができ、微小開口の大きさを所望の大きさに変更す
ることができる。
【００６５】また、請求項７にかかる近視野光ヘッドに
よれば、開口規制手段は熱膨張率の高い高分子樹脂また
は、高分子樹脂中に気体を封入したものであるため、開
口規制手段を少ない熱で効率良く膨張させることがで
き、微小開口の大きさを所望の大きさに変更することが
できる。
よれば、開口規制手段は熱膨張率の高い高分子樹脂また
は、高分子樹脂中に気体を封入したものであるため、開
口規制手段を少ない熱で効率良く膨張させることがで
き、微小開口の大きさを所望の大きさに変更することが
できる。
【００６６】また、請求項８にかかる近視野光ヘッドの
製造方法によれば、基部に穴を形成し、基部上に支持手
段を堆積させ、基部と支持手段上に犠牲膜を堆積させ、
その犠牲膜上に遮光膜を堆積させ、その遮光膜をパター
ニングして開口規制手段を形成し、支持手段を露出して
その支持手段に移動手段を形成し、最後に、犠牲膜を除
去するため、穴の内部に移動手段により移動可能な開口
規制手段を得ることができ、その開口規制手段を移動手
段により移動することで微小開口の大きさを所望の大き
さに変更することができる。
製造方法によれば、基部に穴を形成し、基部上に支持手
段を堆積させ、基部と支持手段上に犠牲膜を堆積させ、
その犠牲膜上に遮光膜を堆積させ、その遮光膜をパター
ニングして開口規制手段を形成し、支持手段を露出して
その支持手段に移動手段を形成し、最後に、犠牲膜を除
去するため、穴の内部に移動手段により移動可能な開口
規制手段を得ることができ、その開口規制手段を移動手
段により移動することで微小開口の大きさを所望の大き
さに変更することができる。
【００６７】また、請求項９にかかる近視野光ヘッドの
製造方法によれば、圧電アクチュエータまたは静電アク
チュエータを用いて開口規制手段を移動するため、開口
規制手段を容易かつ正確に移動することができ、微小開
口の大きさを所望の大きさに変更することができる。
製造方法によれば、圧電アクチュエータまたは静電アク
チュエータを用いて開口規制手段を移動するため、開口
規制手段を容易かつ正確に移動することができ、微小開
口の大きさを所望の大きさに変更することができる。
【００６８】また、請求項１０にかかる近視野光ヘッド
の製造方法によれば、基部に穴を形成し、その穴の内部
に熱膨張率の高い高分子樹脂の膜を堆積させ、その熱膨
張率の高い高分子樹脂の膜をパターニングして開口規制
手段を形成するため、加熱したときに膨張する開口規制
手段を穴の内部に形成することができ、その開口規制手
段を膨張させることで微小開口の大きさを所望の大きさ
に変更することができる。
の製造方法によれば、基部に穴を形成し、その穴の内部
に熱膨張率の高い高分子樹脂の膜を堆積させ、その熱膨
張率の高い高分子樹脂の膜をパターニングして開口規制
手段を形成するため、加熱したときに膨張する開口規制
手段を穴の内部に形成することができ、その開口規制手
段を膨張させることで微小開口の大きさを所望の大きさ
に変更することができる。
【００６９】また、請求項１１にかかる近視野光ヘッド
の製造方法によれば、基部に穴を形成し、その穴の内部
に高分子樹脂の第１の膜を堆積させ、その第１の膜上に
犠牲膜を堆積させ、その犠牲膜をパターニングし、その
犠牲膜上に高分子樹脂の第２の膜を堆積させ、その第２
の膜に穴をあけ、その穴を用いて第１および第２の膜の
間に挟まれている犠牲層を除去して中空部を形成し、そ
の中空部に気体を注入して高分子樹脂を堆積して第２の
膜の穴を閉じるため、中空部中に気体が封入され、加熱
したときに膨張する開口規制手段を形成することがで
き、その開口規制手段を膨張させることで微小開口の大
きさを所望の大きさに変更することができる。
の製造方法によれば、基部に穴を形成し、その穴の内部
に高分子樹脂の第１の膜を堆積させ、その第１の膜上に
犠牲膜を堆積させ、その犠牲膜をパターニングし、その
犠牲膜上に高分子樹脂の第２の膜を堆積させ、その第２
の膜に穴をあけ、その穴を用いて第１および第２の膜の
間に挟まれている犠牲層を除去して中空部を形成し、そ
の中空部に気体を注入して高分子樹脂を堆積して第２の
膜の穴を閉じるため、中空部中に気体が封入され、加熱
したときに膨張する開口規制手段を形成することがで
き、その開口規制手段を膨張させることで微小開口の大
きさを所望の大きさに変更することができる。
【００７０】また、本発明の請求項１２に係る光記録再
生装置では、近視野光を利用して、記録媒体の情報の記
録あるいは再生あるいはその両方を行い、基部に形成さ
れた穴の頂部を微小開口とする近視野光ヘッドを有する
光記録再生装置であって、開口規制手段を前記穴の内部
に位置させると共に、その開口規制手段を移動させる移
動手段を設け、前記開口規制手段を移動することで前記
微小開口の大きさを規制する開口制御手段と前記記録媒
体の回転速度制御を行う回転速度制御手段と、データ転
送速度と記録密度の組み合わせを決定する動作モード制
御手段と、を有する事を特徴としているので、記録する
データの用途に応じて記録再生速度、容量等が可変で
き、無駄の少ない記録再生を行う事ができる。さらに
は、記録装置としての消費電力なども考慮して設定する
事ができるため、携帯性に優れた光記録再生装置が得ら
れる。
生装置では、近視野光を利用して、記録媒体の情報の記
録あるいは再生あるいはその両方を行い、基部に形成さ
れた穴の頂部を微小開口とする近視野光ヘッドを有する
光記録再生装置であって、開口規制手段を前記穴の内部
に位置させると共に、その開口規制手段を移動させる移
動手段を設け、前記開口規制手段を移動することで前記
微小開口の大きさを規制する開口制御手段と前記記録媒
体の回転速度制御を行う回転速度制御手段と、データ転
送速度と記録密度の組み合わせを決定する動作モード制
御手段と、を有する事を特徴としているので、記録する
データの用途に応じて記録再生速度、容量等が可変で
き、無駄の少ない記録再生を行う事ができる。さらに
は、記録装置としての消費電力なども考慮して設定する
事ができるため、携帯性に優れた光記録再生装置が得ら
れる。
【００７１】また、本発明の請求項１３に係る光記録再
生装置は、請求項１２に記載の光記録再生装置におい
て、前記データ転送速度と前記記録密度が、あらかじめ
設定された上限値と下限値によって定義された範囲内
に、連続的に分布した値の中から選択できることを特徴
としているので、記録するデータの用途に応じて記録再
生速度、容量等が連続的に可変できため、様々な用途に
対し最適な記録再生処理を行う事ができる。
生装置は、請求項１２に記載の光記録再生装置におい
て、前記データ転送速度と前記記録密度が、あらかじめ
設定された上限値と下限値によって定義された範囲内
に、連続的に分布した値の中から選択できることを特徴
としているので、記録するデータの用途に応じて記録再
生速度、容量等が連続的に可変できため、様々な用途に
対し最適な記録再生処理を行う事ができる。
【００７２】また、本発明の請求項１４に係る光記録再
生装置は、請求項１２或いは請求項１３記載の光記録再
生装置において、前記開口規制手段と回転速度制御手段
が前記動作モード制御手段によって決定されるデータ転
送速度と記録密度の組み合わせに基づいて動作する事を
特徴としているので、記録再生を行う上で重要である近
視野光開口サイズと記録再生速度を同時に変える事がで
きるため、記録するデータの用途に応じて記録再生速
度、容量等が可変で、無駄の少ない記録再生を行う事が
できる。さらには、記録装置としての消費電力なども考
慮して設定する事ができるため、携帯性に優れた光記録
再生装置が得られる。
生装置は、請求項１２或いは請求項１３記載の光記録再
生装置において、前記開口規制手段と回転速度制御手段
が前記動作モード制御手段によって決定されるデータ転
送速度と記録密度の組み合わせに基づいて動作する事を
特徴としているので、記録再生を行う上で重要である近
視野光開口サイズと記録再生速度を同時に変える事がで
きるため、記録するデータの用途に応じて記録再生速
度、容量等が可変で、無駄の少ない記録再生を行う事が
できる。さらには、記録装置としての消費電力なども考
慮して設定する事ができるため、携帯性に優れた光記録
再生装置が得られる。
【図１】本発明の実施の形態１にかかわる近視野光ヘッ
ドを示す構成図である。
ドを示す構成図である。
【図２】図1の近視野光ヘッドの微小開口の大きさを変
更した場合を示す説明図である。
更した場合を示す説明図である。
【図３】図1の近視野光ヘッドの製造工程を示す説明図
である。
である。
【図４】図1の近視野光ヘッドの製造工程を示す説明図
である。
である。
【図５】本発明の実施の形態２にかかわる近視野光ヘッ
ドを示す断面図である。
ドを示す断面図である。
【図６】図５の近視野光ヘッドの微小開口の大きさを変
更した場合を示す説明図である。
更した場合を示す説明図である。
【図７】本発明の実施の形態３にかかわる近視野光ヘッ
ドを示す断面図である。
ドを示す断面図である。
【図８】図７の近視野光ヘッドの微小開口の大きさを変
更した場合を示す説明図である。
更した場合を示す説明図である。
【図９】図７の近視野光ヘッドに電気抵抗体を設けた場
合を示す断面図である。
合を示す断面図である。
【図１０】図７の近視野光ヘッドの製造工程を示す説明
図である。
図である。
【図１１】本発明の実施の形態４にかかわる近視野光ヘ
ッドを示す断面図である。
ッドを示す断面図である。
【図１２】図１１の近視野光ヘッドの微小開口の大きさ
を変更した場合を示す説明図である。
を変更した場合を示す説明図である。
【図１３】図１１の近視野光ヘッドの製造工程を示す説
明図である。
明図である。
【図１４】図１１の近視野光ヘッドの製造工程を示す説
明図である。
明図である。
【図１５】従来の一例の近視野光ヘッドを示す構成図で
ある。
ある。
【図１６】本発明の実施の形態５に係る光記録再生装置
を示すブロック構成図である。
を示すブロック構成図である。
【図１７】本発明の実施の形態５に係る光記録再生装置
を示すブロック構成図である。
を示すブロック構成図である。
１０ 近視野光ヘッド １ 基部 ２ 穴 ３ 微小開口 ４ 支持部 ５ アクチュエータ ６ 遮光膜 ａ１，ａ２ 微小開口の大きさ ３０１ 動作モード制御回路 ３０２ レーザー発振回路 ３０３ 開口制御回路 ３０４ 回転制御回路 ３０５ ＬＤ ３０６ 開口規制手段 ３０８ Ａ／Ｄ ３０９ ＰＧＡ（プログラマブル・ゲイン・アン
プ） ３１０ Ｉ／Ｖ ３１１ ＰＤ ３１２ スピンドルモータ ３１３ 微小開口 ３１４ 記録媒体 ３１５ 入射光 ３１６ 近視野光 ３１７ 散乱光
プ） ３１０ Ｉ／Ｖ ３１１ ＰＤ ３１２ スピンドルモータ ３１３ 微小開口 ３１４ 記録媒体 ３１５ 入射光 ３１６ 近視野光 ３１７ 散乱光
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 7/22 Ｇ１１Ｂ 7/22 Ｇ１２Ｂ 21/06 Ｇ１２Ｂ 1/00 ６０１Ｃ (72)発明者 光岡 靖幸 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 株 式会社エスアイアイ・アールディセンター 内 (72)発明者 笠間 宣行 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 株 式会社エスアイアイ・アールディセンター 内 (72)発明者 大海 学 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 株 式会社エスアイアイ・アールディセンター 内 (72)発明者 加藤 健二 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 株 式会社エスアイアイ・アールディセンター 内 (72)発明者 千葉 徳男 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 市原 進 千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地 株 式会社エスアイアイ・アールディセンター 内
Claims (14)
- 【請求項１】 基部に形成された穴の頂部を微小開口と
する近視野光ヘッドにおいて、 開口規制手段を前記穴の内部に位置させると共に、その
開口規制手段を移動させる移動手段を設け、前記開口規
制手段を移動することで前記微小開口の大きさを規制す
ることを特徴とする近視野光ヘッド。 - 【請求項２】 基部に形成された穴の頂部を微小開口と
する近視野光ヘッドにおいて、 一対の開口規制手段を前記穴の内部に位置させると共
に、その一対の開口規制手段をそれぞれ移動させる移動
手段を設け、前記開口規制手段を移動することで前記微
小開口の大きさを規制することを特徴とする近視野光ヘ
ッド。 - 【請求項３】 前記開口規制手段は、その底面が前記微
小開口の底面と一致するように位置されていることを特
徴とする請求項１または請求項２に記載の近視野光ヘッ
ド。 - 【請求項４】 前記移動手段は、圧電アクチュエータま
たは静電アクチュエータであることを特徴とする請求項
１から請求項３のいずれか１つに記載の近視野光ヘッ
ド。 - 【請求項５】 基部に形成された穴の頂部を微小開口と
する近視野光ヘッドにおいて、 開口規制手段を前記穴の内部に位置させると共に、その
開口規制手段を加熱して膨張させることで前記微小開口
の大きさを規制することを特徴とする近視野光ヘッド。 - 【請求項６】 前記開口規制手段を加熱する加熱手段を
設けたことを特徴とする請求項５に記載の近視野光ヘッ
ド。 - 【請求項７】 前記開口規制手段は、熱膨張率の高い高
分子樹脂または、高分子樹脂中に気体を封入したもので
あることを特徴とする請求項５または請求項６に記載の
近視野光ヘッド。 - 【請求項８】 基部に形成された穴の頂部を微小開口と
し、開口規制手段を前記穴の内部に位置させると共に、
その開口規制手段を移動させる移動手段を設け、前記開
口規制手段を移動することで前記微小開口の大きさを規
制する近視野光ヘッドの製造方法において、 前記基部となる基板に、頂部を微小開口とする穴を形成
する穴形成工程と、 前記微小開口の反対側の面となる前記基板上に、前記移
動手段を支持するための支持手段を堆積する支持部堆積
工程と、 前記基板と前記支持手段上に犠牲膜を堆積する犠牲膜堆
積工程と、 前記犠牲膜上に遮光膜を堆積すると共にその遮光膜をパ
ターニングして前記開口規制手段を形成する開口規制手
段形成工程と、 前記支持手段を露出し、その支持手段に、前記移動手段
を形成する移動手段形成工程と、 前記犠牲膜を除去する犠牲膜除去工程と、を含むことを
特徴とする近視野光ヘッドの製造方法。 - 【請求項９】 前記移動手段は、圧電アクチュエータま
たは静電アクチュエータであることを特徴とする請求項
８に記載の近視野光ヘッドの製造方法。 - 【請求項１０】 基部に形成された穴の頂部を微小開口
とし、開口規制手段を前記穴の内部に位置させると共
に、前記開口規制手段を膨張させることで前記微小開口
の大きさを規制する近視野光ヘッドの製造方法におい
て、 前記基部となる基板に、頂部を微小開口とする穴を形成
する穴形成工程と、 少なくとも前記穴の内部に、熱膨張率の高い高分子樹脂
の膜を堆積する高分子樹脂堆積工程と、前記熱膨張率の
高い高分子樹脂の膜をパターニングして開口規制手段を
形成する開口規制手段形成工程と、を含むことを特徴と
する近視野光ヘッドの製造方法。 - 【請求項１１】 基部に形成された穴の頂部を微小開口
とし、開口規制手段を前記穴の内部に位置させると共
に、前記開口規制手段を膨張させることで前記微小開口
の大きさを規制する近視野光ヘッドの製造方法におい
て、 前記基部となる基板に、頂部を微小開口とする穴を形成
する穴形成工程と、 少なくとも前記穴の内部に、高分子樹脂の第１の膜を堆
積する第1高分子樹脂堆積工程と、 前記高分子樹脂の第１の膜上に犠牲膜を堆積すると共に
その犠牲膜をパターニングする犠牲膜堆積工程と、 前記犠牲膜上に高分子樹脂の第２の膜を堆積する第２高
分子樹脂堆積工程と、前記高分子樹脂の第２の膜に穴を
あけ、その穴を用いて前記高分子樹脂の第１の膜と前記
高分子樹脂の第２の膜の間に挟まれている犠牲膜を除去
して中空部を形成し、その中空部に気体を注入して前記
高分子樹脂の第２の膜の穴に高分子樹脂を堆積すること
で開口規制手段を形成する開口規制手段形成工程と、を
含むことを特徴とする近視野光ヘッドの製造方法。 - 【請求項１２】 近視野光を利用して、記録媒体の情報
の記録あるいは再生あるいはその両方を行い、基部に形
成された穴の頂部を微小開口とする近視野光ヘッドを有
する光記録再生装置であって、 開口規制手段を前記穴の内部に位置させると共に、その
開口規制手段を移動させる移動手段を設け、前記開口規
制手段を移動することで前記微小開口の大きさを規制す
る開口制御手段と、 前記記録媒体の回転速度制御を行う回転速度制御手段
と、 データ転送速度と記録密度の組み合わせを決定する動作
モード制御手段と、を有する事を特徴とする光記録再生
装置。 - 【請求項１３】 前記データ転送速度と前記記録密度
が、あらかじめ設定された上限値と下限値によって定義
された範囲内に、連続的に分布した値の中から選択でき
ることを特徴とする請求項１２記載の光記録再生装置。 - 【請求項１４】 前記開口規制手段と回転速度制御手段
が、前記動作モード制御手段によって決定されるデータ
転送速度と記録密度の組み合わせに基づいて動作する事
を特徴とする請求項１２或いは請求項１３記載の光記録
再生装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000061017A JP2000326300A (ja) | 1999-03-17 | 2000-03-06 | 近視野光ヘッドおよびその製造方法とそれを用いた光記録再生装置 |
| US09/527,093 US6738338B1 (en) | 1999-03-17 | 2000-03-16 | Near-field optical head, method of fabricating same, and optical drive using same |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7221599 | 1999-03-17 | ||
| JP11-72215 | 1999-03-17 | ||
| JP2000061017A JP2000326300A (ja) | 1999-03-17 | 2000-03-06 | 近視野光ヘッドおよびその製造方法とそれを用いた光記録再生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000326300A true JP2000326300A (ja) | 2000-11-28 |
Family
ID=26413347
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000061017A Pending JP2000326300A (ja) | 1999-03-17 | 2000-03-06 | 近視野光ヘッドおよびその製造方法とそれを用いた光記録再生装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6738338B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000326300A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002365195A (ja) * | 2001-06-05 | 2002-12-18 | Japan Science & Technology Corp | プローブ及びその製造方法 |
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| JP4095623B2 (ja) * | 2005-04-05 | 2008-06-04 | 株式会社日立製作所 | 磁気光融合記録装置用ヘッド及びその製造方法 |
| US20060239173A1 (en) * | 2005-04-25 | 2006-10-26 | Yi Zhang | Optical storage with direct digital optical detection |
| KR100803215B1 (ko) | 2006-08-31 | 2008-02-14 | 삼성전자주식회사 | 개구 구비 금속막과 그 형성방법, 개구 구비 금속막을포함하는 광 전송모듈 및 이를 포함하는 열보조자기기록헤드 |
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-
2000
- 2000-03-06 JP JP2000061017A patent/JP2000326300A/ja active Pending
- 2000-03-16 US US09/527,093 patent/US6738338B1/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6738338B1 (en) | 2004-05-18 |
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|---|---|---|---|
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